JPH1185057A - Color liquid crystal panel and its production - Google Patents

Color liquid crystal panel and its production

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JPH1185057A
JPH1185057A JP24235097A JP24235097A JPH1185057A JP H1185057 A JPH1185057 A JP H1185057A JP 24235097 A JP24235097 A JP 24235097A JP 24235097 A JP24235097 A JP 24235097A JP H1185057 A JPH1185057 A JP H1185057A
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liquid crystal
active matrix
matrix substrate
sealing material
crystal panel
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color liquid crystal panel with which improvement in the bonding accuracy for embodying the liquid crystal panel of a high aperture ratio may be attained and a process for producing the same. SOLUTION: Electrode wires including scanning lines 11 and signal lines intersecting with a sealing material 24 for sealing of liquid crystal have apertures 30 in the parts intersecting with this sealing material 24. The electrode wires are otherwise formed of transparent conductive layers in the parts where the electrode wires intersect with the sealing material 24. Or the electrode wires have the apertures in the parts where the electrode wires intersect with the sealing material 24 and the transparent conductive layers are laminated in the regions inclusive of the apertures. The sealing resin is nearly completely cured by irradiation with UV rays from the outside surface of an active matrix substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー画像表示機
能を有する液晶パネル及びその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal panel having a color image display function and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の微細加工技術、液晶材料技術及び
実装技術等の進歩により、5〜50cm対角の液晶パネ
ルで実用上支障の無いテレビジョン画像や各種の画像表
示が商用ベースで提供されている。また、液晶パネルを
構成する2枚のガラス基板の一方にRGBの着色層を形
成しておくことにより、カラー表示も容易に実現してい
る。特にスイッチング素子を画素毎に内蔵させたアクテ
ィブマトリクス型の液晶パネルは、クロストークが少な
く、高速応答で、しかも高いコントラスト比を有する画
像を保証している。このような液晶パネルのマトリクス
構成は、走査線数100〜1000本、信号線数200
〜2000本程度が一般的であるが、最近では大画面化
と高精細化が同時に進行している。
2. Description of the Related Art Recent advances in microfabrication technology, liquid crystal material technology, packaging technology, and the like have provided television images and various types of image displays on a commercial basis with practically no problem using a liquid crystal panel of 5 to 50 cm diagonal. ing. Further, by forming an RGB colored layer on one of the two glass substrates constituting the liquid crystal panel, color display is easily realized. In particular, an active matrix type liquid crystal panel in which a switching element is built in each pixel guarantees an image having little crosstalk, a high-speed response, and a high contrast ratio. The matrix configuration of such a liquid crystal panel has 100 to 1000 scanning lines and 200 signal lines.
In general, about 2,000 lines are used, but recently, the enlargement of the screen and the increase in the definition have been progressing simultaneously.

【0003】図6は、液晶パネルの概略構造を示す概念
図である。液晶パネル1を構成する一方の透明絶縁基
板、例えばガラス基板2上に走査線の電極端子群6が形
成されている。駆動信号から操作信号を生成する半導体
集積回路チップ3がガラス基板2上に搭載されたCOG
(Chip-On-Glass)方式もある。図6には両方の実装方式
が図示されているが、実際にはいずれか一方の方式が選
択される。
FIG. 6 is a conceptual diagram showing a schematic structure of a liquid crystal panel. A scanning line electrode terminal group 6 is formed on one of the transparent insulating substrates constituting the liquid crystal panel 1, for example, a glass substrate 2. A COG in which a semiconductor integrated circuit chip 3 for generating an operation signal from a drive signal is mounted on a glass substrate 2
There is also a (Chip-On-Glass) method. Although both mounting methods are shown in FIG. 6, either one method is actually selected.

【0004】信号電極に関しては、信号線端子群5がガ
ラス基板2上に形成され、例えばポリイミド系樹脂薄膜
のベースに銅線と金メッキ端子が形成された接続フィル
ム4が導電性接着剤を介して信号線端子群5に接続さ
れ、固定されている(TCP方式)。この信号電極につ
いても、上記のCOG方式を採用できる。このようにし
て、走査信号及び表示データ信号が画像表示部に供給さ
れる。図6において、液晶パネル1の画像表示部と信号
線及び走査線の電極端子群5,6との間を接続する配線
路7、8は、必ずしも電極端子群5,6と同一の材料で
形成する必要はない。
With respect to the signal electrodes, a signal line terminal group 5 is formed on the glass substrate 2, and a connection film 4 in which, for example, a copper wire and a gold plated terminal are formed on a base of a polyimide resin thin film is formed via a conductive adhesive. It is connected to and fixed to the signal line terminal group 5 (TCP method). This signal electrode can also adopt the above-mentioned COG method. Thus, the scanning signal and the display data signal are supplied to the image display unit. In FIG. 6, wiring paths 7 and 8 connecting the image display section of the liquid crystal panel 1 to the electrode terminals 5 and 6 for the signal lines and the scanning lines are not necessarily formed of the same material as the electrode terminals 5 and 6. do not have to.

【0005】また、ガラス基板2と平行に配置された透
明絶縁基板であるガラス基板9は、全ての液晶セルに共
通の透明導電性の対向電極を有する。液晶パネル1を構
成する2枚のガラス基板2,9は樹脂性のファイバやビ
ーズ等のスペーサ材によって数μm程度の距離を隔てて
平行に配置され、その間隙(ギャップ)は、小さいほう
のガラス基板9の周縁部において、有機性樹脂からなる
シール材と封口材とで封止され、閉空間が形成される。
この閉空間に液晶が充填されている。
A glass substrate 9 which is a transparent insulating substrate disposed in parallel with the glass substrate 2 has a transparent conductive counter electrode common to all liquid crystal cells. The two glass substrates 2 and 9 constituting the liquid crystal panel 1 are arranged in parallel at a distance of about several μm by a spacer material such as resin fibers or beads, and the gap (gap) is smaller. At the periphery of the substrate 9, the substrate 9 is sealed with a sealing material made of an organic resin and a sealing material to form a closed space.
This closed space is filled with liquid crystal.

【0006】カラー表示を行う液晶表示パネルでは、ガ
ラス基板9の閉空間側に染料及び顔料のいずれか又は両
方を含む厚さ1〜2μm程度の有機薄膜が形成されてい
る。この有機薄膜は着色層と称され、着色層を含むガラ
ス基板9はカラーフィルタ基板と呼ばれる。また、液晶
材料の種類(性質)によってはガラス基板9の上面及び
ガラス基板2の下面のいずれか一方又は両方に偏光板が
貼付される。
In a liquid crystal display panel for performing color display, an organic thin film having a thickness of about 1 to 2 μm containing one or both of a dye and a pigment is formed on the closed space side of the glass substrate 9. This organic thin film is called a coloring layer, and the glass substrate 9 including the coloring layer is called a color filter substrate. Further, depending on the type (property) of the liquid crystal material, a polarizing plate is attached to one or both of the upper surface of the glass substrate 9 and the lower surface of the glass substrate 2.

【0007】図7は、スイッチング素子である絶縁ゲー
ト型の薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を画素
毎に配置したアクティブマトリクス型液晶パネルの等価
回路図である。実線で描かれた素子及び配線は一方のガ
ラス基板(アクティブマトリクス基板)2上に配置さ
れ、破線で描かれた素子で及び配線は他方のガラス基板
(カラーフィルタ基板)9上に形成されている。TFT
10は、例えば非晶質シリコンを半導体層とし、シリコ
ン窒化層をゲート絶縁層として、アクティブマトリクス
基板2上に形成され、同時に走査線11及び信号線12
もアクティブマトリクス基板2上に形成される。
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of an active matrix liquid crystal panel in which insulated gate thin film transistors (hereinafter, referred to as TFTs) as switching elements are arranged for each pixel. Elements and wiring drawn by solid lines are arranged on one glass substrate (active matrix substrate) 2, and elements and wiring drawn by broken lines are formed on the other glass substrate (color filter substrate) 9. . TFT
Numeral 10 is formed on the active matrix substrate 2 using, for example, amorphous silicon as a semiconductor layer and a silicon nitride layer as a gate insulating layer.
Are also formed on the active matrix substrate 2.

【0008】液晶セル13はアクティブマトリクス基板
2上に形成された透明導電性の画素電極14と、カラー
フィルタ基板9上に形成された透明導電性の対向電極1
5と、2枚のガラス基板2,9で挟まれた閉空間を満た
す液晶16とで構成され、所定の静電容量(画素容量)
を有する。液晶セル13の時定数を大きくするために画
素容量に付加される蓄積容量(補助容量)の構成にはい
くつかのバリエーションがある。図7の例では、全画素
に共通の共通電極18と各画素電極14とがTFTのゲ
ート絶縁層等の絶縁層を介して対向する部分に蓄積容量
17が形成される。
The liquid crystal cell 13 includes a transparent conductive pixel electrode 14 formed on the active matrix substrate 2 and a transparent conductive counter electrode 1 formed on the color filter substrate 9.
5 and a liquid crystal 16 that fills a closed space sandwiched between the two glass substrates 2 and 9 and has a predetermined capacitance (pixel capacitance).
Having. There are several variations in the configuration of the storage capacitance (auxiliary capacitance) added to the pixel capacitance to increase the time constant of the liquid crystal cell 13. In the example of FIG. 7, a storage capacitor 17 is formed in a portion where a common electrode 18 common to all pixels and each pixel electrode 14 face each other via an insulating layer such as a gate insulating layer of a TFT.

【0009】最近開発された広視野角のIPS(In-Plai
n-Switching)方式の液晶パネルにあっては、図8に示す
ように、液晶セルを構成する画素電極42及び対向電極
41がアクティブマトリクス基板2上に所定の間隔で配
置されている。通常、画素電極42及び対向電極41は
一対の櫛形状に形成される。画素電極42を絶縁ゲート
型トランジスタのドレインに接続してアクティブマトリ
クス化することができるが、詳細は省略する。43は液
晶セル内の液晶分子の配列状態を示しており、図8
(a)は画素電極42と対向電極41との間に電圧が印
加されていない状態、図8(b)は電圧が印加されてい
る状態をそれぞれ示す。
A recently developed IPS (In-Plai) having a wide viewing angle has been developed.
In an n-switching type liquid crystal panel, as shown in FIG. 8, a pixel electrode 42 and a counter electrode 41 constituting a liquid crystal cell are arranged on the active matrix substrate 2 at predetermined intervals. Usually, the pixel electrode 42 and the counter electrode 41 are formed in a pair of comb shapes. The pixel electrode 42 can be connected to the drain of the insulated gate transistor to form an active matrix, but the details are omitted. Reference numeral 43 denotes an arrangement state of liquid crystal molecules in the liquid crystal cell.
8A shows a state where no voltage is applied between the pixel electrode 42 and the counter electrode 41, and FIG. 8B shows a state where a voltage is applied.

【0010】図9はカラー表示用液晶パネルの要部断面
図である。染色された感光性ゼラチン又は着色感光性樹
脂等からなる着色層19は、画素電極14に対応するよ
うに、RGB三原色の所定の配列にしたがってカラーフ
ィルタ基板9の閉空間側に配置されている。全ての画素
電極14に共通の対向電極15は、着色層19の介在に
よる液晶セル内での電圧配分損失を回避するために着色
層19上に形成される。液晶16に接するように2枚の
ガラス基板2,9上に配向膜20が形成されている。こ
れは、例えば0.1μm程度の膜厚のポリイミド系樹脂
層であり、液晶分子を所定の方向に揃える働きを有す
る。また、液晶16としてツイスト・ネマティック(T
N)型のものを用いる場合は上下2枚の偏光板21を必
要とする。
FIG. 9 is a sectional view of a main part of a liquid crystal panel for color display. The colored layer 19 made of dyed photosensitive gelatin or colored photosensitive resin is arranged on the closed space side of the color filter substrate 9 according to a predetermined arrangement of the three primary colors of RGB so as to correspond to the pixel electrodes 14. The counter electrode 15 common to all the pixel electrodes 14 is formed on the coloring layer 19 in order to avoid a voltage distribution loss in the liquid crystal cell due to the interposition of the coloring layer 19. An alignment film 20 is formed on the two glass substrates 2 and 9 so as to be in contact with the liquid crystal 16. This is a polyimide resin layer having a thickness of, for example, about 0.1 μm, and has a function of aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction. In addition, a twisted nematic (T
When the N) type is used, two upper and lower polarizing plates 21 are required.

【0011】RGBの着色層19の境界に、ブラックマ
トリクス(BM)と呼ばれる光を反射させにくい不透明
膜22が配置されている。このブラックマトリクス22
は、アクティブマトリクス基板2上の信号線12等の配
線層からの反射光を遮って画像のコントラストを向上す
ると共に、スイッチング素子であるTFTの外部光によ
るリーク電流の増大を防いで強い外光の下でも液晶パネ
ルを動作させることを可能とする働きを有する。
An opaque film 22, called a black matrix (BM), which hardly reflects light is disposed on the boundary between the RGB colored layers 19. This black matrix 22
Is to improve the contrast of an image by blocking reflected light from a wiring layer such as the signal line 12 on the active matrix substrate 2 and to prevent an increase in leak current due to external light of a TFT serving as a switching element to prevent strong external light. It has the function of enabling the liquid crystal panel to operate even below.

【0012】ブラックマトリクスは種々の構成がある
が、隣り合う着色層の境界における段差の発生と光の透
過率を考慮すると、コスト面では不利であるが、0.1
μm程度の膜厚のCr薄膜を用いるのが簡便かつ合理的
である。
Although the black matrix has various configurations, it is disadvantageous in terms of cost in consideration of the occurrence of a step at the boundary between adjacent colored layers and light transmittance, but it is disadvantageous in terms of cost.
It is convenient and reasonable to use a Cr thin film having a thickness of about μm.

【0013】なお、図9において、TFT、走査線、蓄
積容量、裏面光源、スペーサ等の構成要素については図
示を省略している。23は画素電極14とTFT10の
ドレインとを接続するための導電性薄膜であり、通常は
信号線12と同一材料で同時に形成されドレイン配線と
称される。対向電極15は画像表示部の外で導電性ペー
ストを介してアクティブマトリクス基板2上の適当な導
電性パターンに接続され、図6の電極端子群5,6の一
つに接続されている。
In FIG. 9, components such as a TFT, a scanning line, a storage capacitor, a back light source, and a spacer are not shown. Reference numeral 23 denotes a conductive thin film for connecting the pixel electrode 14 and the drain of the TFT 10, and is usually formed simultaneously with the same material as the signal line 12 and is called a drain wiring. The counter electrode 15 is connected to an appropriate conductive pattern on the active matrix substrate 2 via a conductive paste outside the image display unit, and is connected to one of the electrode terminal groups 5 and 6 in FIG.

【0014】図10は液晶パネルの周縁部における走査
線の端部周辺の平面図(ガラスパネル2側から見た図)
を示す。また、図10のA−A´線に対応する断面図を
図11に示す。アクティブマトリクス基板2とカラーフ
ィルタ基板9とが接着性のシール材(樹脂)24によっ
て封止されている。シール材24の幅は0.5〜1.2
mm程度であり、高さは液晶セルのギャツプに相当する
数μmである。このようなシール材は、小型の液晶パネ
ルではスクリーン印刷で効率良く形成することができ
る。また、大型の液晶パネルではシール描画機を用いて
異物の転写がないように形成される。
FIG. 10 is a plan view of the periphery of the scanning line at the periphery of the liquid crystal panel (a view from the glass panel 2 side).
Is shown. FIG. 11 is a cross-sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG. The active matrix substrate 2 and the color filter substrate 9 are sealed with an adhesive sealing material (resin) 24. The width of the sealing material 24 is 0.5 to 1.2.
mm, and the height is several μm corresponding to the gap of the liquid crystal cell. Such a sealing material can be efficiently formed by screen printing in a small liquid crystal panel. In a large-sized liquid crystal panel, a seal drawing machine is used so that foreign matter is not transferred.

【0015】液晶パネルの周縁部のシール材が配置され
た箇所の周辺を示す図10及び11において、走査線1
1の端子電極6は、膜厚0.3μm程度のゲート絶縁層
であるシリコン窒化層(SiNx)25に形成された開
口部26に、ソース・ドレイン配線12,23と同時に
形成される。この端子電極6は、膜厚0.3μm程度の
シリコン窒化層からなるパシベーション絶縁層27に形
成された開口部28により露出している。また、画像表
示部の周辺には、液晶パネルを斜めから見たときに裏面
からの不要な光が漏洩しないように、所定の配列数以上
の着色層19´とブラックマトリクス22´とが配置さ
れている。
In FIGS. 10 and 11, which show the periphery of the periphery of the liquid crystal panel where the sealing material is disposed, the scanning line 1 is shown.
One terminal electrode 6 is formed simultaneously with the source / drain wirings 12 and 23 in an opening 26 formed in a silicon nitride layer (SiNx) 25 which is a gate insulating layer having a thickness of about 0.3 μm. The terminal electrode 6 is exposed by an opening 28 formed in a passivation insulating layer 27 made of a silicon nitride layer having a thickness of about 0.3 μm. Further, in order to prevent unnecessary light from leaking from the back surface when the liquid crystal panel is viewed obliquely, a predetermined number or more of the colored layers 19 'and the black matrix 22' are arranged around the image display section. ing.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】最新の液晶パネルでは
狭額縁化が図られることが多い。すなわち、画像表示部
外の領域ができるだけ小さくなるように設計して、表示
装置の軽量化と小型化が図られる。そのため、シール材
24はできるだけ画像表示部に近づけて配置される。こ
の結果、図11に示すように、シール材24の上にブラ
ックマトリクス22´を配置せざるを得なくなる。
In the latest liquid crystal panels, the frame is often narrowed. That is, the area outside the image display unit is designed to be as small as possible, so that the weight and size of the display device can be reduced. Therefore, the sealing material 24 is arranged as close as possible to the image display unit. As a result, as shown in FIG. 11, the black matrix 22 'has to be arranged on the sealing material 24.

【0017】また、対角25cm以上の大型パネルにお
いても表示容量と表示画質の向上のために高精細化が図
られており、開口率の確保も要求される。その結果、ブ
ラックマトリクスの幅を細くすると同時に、液晶パネル
を構成する2枚の基板2,9の貼り合せ精度を向上する
ことが重要になってきた。つまり、従来は数μm程度の
貼り合せ精度で十分であったが、開口率を80%以上に
高めるためには2μm下の高精度が要求されるようにな
ってきた。
[0017] Further, even in a large panel having a diagonal width of 25 cm or more, high definition is attempted to improve display capacity and display image quality, and it is also required to secure an aperture ratio. As a result, it has become important to reduce the width of the black matrix and to improve the bonding accuracy of the two substrates 2 and 9 constituting the liquid crystal panel. That is, in the past, a bonding accuracy of about several μm was sufficient, but in order to increase the aperture ratio to 80% or more, high accuracy of 2 μm or less has come to be required.

【0018】液晶パネルの貼り合せ精度は、アクティブ
マトリクス基板とカラーフィルタ基板との加工精度及び
貼り合せ工程における二つの基板の貼り合せ精度の総和
で決まる。したがって、液晶パネルが大きい程、つまり
ガラス基板が大きい程、ガラス基板の反りやうねりが大
きくなるので精度は低下する。
The bonding accuracy of the liquid crystal panel is determined by the sum of the processing accuracy of the active matrix substrate and the color filter substrate and the bonding accuracy of the two substrates in the bonding process. Therefore, the larger the liquid crystal panel, that is, the larger the glass substrate, the greater the warpage and undulation of the glass substrate, so that the accuracy is reduced.

【0019】貼り合せの精度を1〜2μmに収めること
は、大型基板の高精度露光機の機構や実力から考えると
さほど困難なことではない。しかし、シール24の硬化
工程におけるガラス基板の反りも相俟って、実用上確保
できる精度は数μmに低下してしまうのが現状である。
It is not so difficult to keep the bonding accuracy within 1-2 μm in view of the mechanism and ability of a high-precision exposure machine for large substrates. However, due to the warpage of the glass substrate in the curing process of the seal 24, the accuracy that can be practically secured is reduced to several μm at present.

【0020】硬化工程の中で特に重要なことは温度の均
一性である。ガラス基板の膨張係数は1℃当たり数pp
mもあるので、例えば10℃の温度差があると、30c
mの大きさのガラス基板の場合、10〜20μmの伸縮
差が生じてしまうことになる。このため、硬化工程にお
ける加熱・冷却は徐熱・徐冷が必須であるが、生産性の
向上のためには加熱・冷却に要する時間を短縮する必要
がある。
Of particular importance in the curing process is temperature uniformity. The expansion coefficient of the glass substrate is several pp / ° C.
m, for example, if there is a temperature difference of 10 ° C., 30c
In the case of a glass substrate having a size of m, a difference in expansion and contraction of 10 to 20 μm occurs. For this reason, gradual heating and gradual cooling are indispensable for heating and cooling in the curing step, but it is necessary to reduce the time required for heating and cooling in order to improve productivity.

【0021】そこで、シール材の熱硬化を100℃程度
の低温で行うことが検討されているが、一般的に硬化温
度が低くなると気密性と密着性の低下が免れない。また
シール材中の残留溶剤が液晶に溶け込んで、液晶セルの
保持率が低下し、高温動作及び長時間動作における液晶
パネルの表示特性が劣化することが避けられない。
Therefore, it has been considered that the thermosetting of the sealing material is performed at a low temperature of about 100 ° C., but generally the lower the curing temperature, the lower the hermeticity and adhesion. Further, it is inevitable that the residual solvent in the sealing material dissolves in the liquid crystal, the retention of the liquid crystal cell is reduced, and the display characteristics of the liquid crystal panel in high-temperature operation and long-time operation are degraded.

【0022】一方、加熱が不要な紫外線硬化性のシール
樹脂を採用した場合、図10及び11に示すように、カ
ラーフィルタ基板9とシール樹脂24との間には遮光性
のブラックマトリクス22´が介在しているので、シー
ル樹脂24を硬化するための紫外線をカラーフィルタ基
板9の外面から照射することはできず、アクティブマト
リクス基板2の外面から照射せざるを得ない。
On the other hand, when an ultraviolet-curable sealing resin that does not require heating is employed, a light-shielding black matrix 22 ′ is provided between the color filter substrate 9 and the sealing resin 24 as shown in FIGS. Because of the interposition, ultraviolet rays for curing the seal resin 24 cannot be irradiated from the outer surface of the color filter substrate 9, and must be irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2.

【0023】しかし、アクティブマトリクス基板2とシ
ール樹脂24との間には走査線11及び信号線12の電
極線が部分的に介在する。これらの電極線は、抵抗値を
下げるために金属薄膜を用いるのが一般的であり、紫外
線に対して不透明である。電極線のパターン幅は少なく
とも20μmはあるので、電極線の周辺部から紫外線が
回り込むことを考慮に入れても、電極線が遮る部分のシ
ール樹脂24を完全に硬化させることは不可能である。
この場合、貼り合せ精度は高くてもシールの信頼性が低
い液晶パネルになってしまう。一方、紫外線硬化型のシ
ール樹脂と熱硬化型のシール樹脂とを併用すれば、シー
ルの信頼性は高くなるが、従来と同様に加熱による貼り
合せ精度の低下が生ずる。
However, the electrode lines of the scanning lines 11 and the signal lines 12 are partially interposed between the active matrix substrate 2 and the sealing resin 24. These electrode wires generally use a metal thin film to reduce the resistance value, and are opaque to ultraviolet rays. Since the pattern width of the electrode wire is at least 20 μm, it is impossible to completely cure the sealing resin 24 at the portion blocked by the electrode wire, even if it is taken into consideration that ultraviolet rays may flow from the periphery of the electrode wire.
In this case, a liquid crystal panel having a low sealing reliability is obtained even though the bonding accuracy is high. On the other hand, if an ultraviolet-curable seal resin and a thermosetting seal resin are used together, the reliability of the seal is increased, but the bonding accuracy is reduced by heating as in the related art.

【0024】本発明は上記のような従来の問題点に鑑み
てなされたものであり、高開口率の液晶パネルを実現す
る貼り合せ精度の向上を図ることができるカラー液晶パ
ネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and provides a color liquid crystal panel and a method of manufacturing the same that can improve the bonding accuracy for realizing a liquid crystal panel having a high aperture ratio. The purpose is to provide.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】本発明による液晶パネル
の第1の構成は、液晶を封止するためのシール材と交差
する走査線及び信号線を含む電極線が、シール材と交差
する部分に開口部を有することを特徴とする。このよう
な構成によれば、アクティブマトリクス基板の外面から
紫外線を照射したとき、遮光性の電極線に設けられた開
口部を通過する紫外線及び開口部から回り込む紫外線に
よって、電極線と交差する部分のシール材についてもほ
ぼ完全に硬化させることができる。したがって、シール
硬化工程を低温化して貼り合せ精度の向上を図ることが
できる。
According to a first structure of a liquid crystal panel according to the present invention, an electrode line including a scanning line and a signal line intersecting a sealing material for sealing a liquid crystal intersects the sealing material. Characterized by having an opening. According to such a configuration, when ultraviolet light is irradiated from the outer surface of the active matrix substrate, the ultraviolet light passing through the opening provided in the light-shielding electrode wire and the ultraviolet light circulating from the opening cause a portion of the active matrix substrate to intersect with the electrode wire. The sealing material can be almost completely cured. Therefore, it is possible to lower the temperature of the seal hardening step and improve the bonding accuracy.

【0026】本発明による液晶パネルの第2の構成は、
液晶を封止するためのシール材と交差する走査線及び信
号線を含む電極線が、シール材と交差する部分において
透明導電層で形成されていることを特徴とする。このよ
うな構成によれば、アクティブマトリクス基板の外面か
ら紫外線を照射したとき、電極線の透明導電層で形成さ
れた部分を通過する紫外線紫外線によって、電極線と交
差する部分のシール材についてもほぼ完全に硬化させる
ことができる。
The second structure of the liquid crystal panel according to the present invention is as follows.
An electrode line including a scan line and a signal line intersecting with a sealant for sealing liquid crystal is formed of a transparent conductive layer in a portion intersecting with the sealant. According to such a configuration, when ultraviolet rays are radiated from the outer surface of the active matrix substrate, the ultraviolet rays passing through the portions formed of the transparent conductive layers of the electrode wires substantially cause the sealing material at the portions that intersect the electrode wires to substantially close. Can be completely cured.

【0027】本発明による液晶パネルの第3の構成は、
液晶を封止するためのシール材と交差する走査線及び信
号線を含む電極線が、シール材と交差する部分に開口部
を有すると共に、開口部を含む領域に透明導電層が積層
されていることを特徴とする。このような構成によれ
ば、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
したとき、電極線の開口部及び透明導電層で形成された
部分を通過する紫外線紫外線によって、電極線と交差す
る部分のシール材についてもほぼ完全に硬化させること
ができる。また、電極線に開口部を設けることによる電
気抵抗の増大を透明導電層の積層によって補償しなが
ら、シール硬化工程の低温化を実現することができる。
The third structure of the liquid crystal panel according to the present invention is as follows.
An electrode line including a scanning line and a signal line intersecting with a sealant for sealing a liquid crystal has an opening in a portion intersecting with the sealant, and a transparent conductive layer is stacked in a region including the opening. It is characterized by the following. According to such a configuration, when ultraviolet light is irradiated from the outer surface of the active matrix substrate, the ultraviolet light passing through the opening formed in the electrode wire and the portion formed by the transparent conductive layer causes the sealing material to intersect with the electrode wire. Can be cured almost completely. Further, it is possible to reduce the temperature of the seal hardening step while compensating for the increase in electric resistance due to the provision of the openings in the electrode wires by laminating the transparent conductive layers.

【0028】上記の第1の構成、すなわち、シール材と
交差する部分の電極線に開口部を設ける構成はIPS(I
n-Plain-Switching)方式の液晶パネルにも適用できる。
第2又は第3の構成、すなわち、シール材と交差する部
分の電極線を透明導電層で形成する構成、又は電極線に
開口部を設け、かつ、透明導電層を積層する構成につい
ても、IPS方式の液晶パネルに適用することは可能で
あるが、専用の透明導電層を形成する工程が増えるので
実用的ではない。
The above-described first configuration, that is, the configuration in which an opening is provided in the electrode wire at a portion that intersects with the sealing material is IPS (I
It can also be applied to liquid crystal panels of the n-Plain-Switching type.
Regarding the second or third configuration, that is, the configuration in which the electrode wire in the portion intersecting with the sealing material is formed of a transparent conductive layer, or the configuration in which an opening is provided in the electrode wire and the transparent conductive layer is laminated, the IPS is also used. Although it can be applied to a liquid crystal panel of a system, it is not practical because the number of steps for forming a dedicated transparent conductive layer increases.

【0029】上記のような各構成の液晶パネルを製造す
るための本発明による方法は、アクティブマトリクス基
板とカラーフィルタ基板とをシール材を用いて貼り合わ
せるに際して、紫外線硬化型の樹脂をシール材として用
い、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
してシール材を硬化させることを特徴とする。
In the method according to the present invention for manufacturing a liquid crystal panel having the above-described configurations, when the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded to each other using a sealing material, an ultraviolet-curable resin is used as the sealing material. The method is characterized in that the sealing material is cured by irradiating ultraviolet rays from the outer surface of the active matrix substrate.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係る液
晶パネルの構造を、従来技術で説明した液晶パネルの構
造と相違する点に絞って説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the structure of a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention will be described focusing on differences from the structure of the liquid crystal panel described in the prior art.

【0031】まず、図1に示す第1の実施形態では、電
極線である走査線11がシール樹脂24と交差する領域
において、走査線11のパターンに開口部30が形成さ
れている。このようにして、透明のガラス基板(アクテ
ィブマトリクス基板)2の外面から見ると、シール樹脂
24のほとんどの領域が走査線11のパターンに遮られ
ることなく見えている。したがって、アクティブマトリ
クス基板2の外面より紫外線を照射すると、開口部30
を通過する紫外線及び開口部30の周辺から回り込んだ
紫外線により、走査線パターンと交差する部分について
もシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができ
る。
First, in the first embodiment shown in FIG. 1, an opening 30 is formed in the pattern of the scanning line 11 in a region where the scanning line 11 which is an electrode line intersects the sealing resin 24. In this manner, when viewed from the outer surface of the transparent glass substrate (active matrix substrate) 2, most of the area of the sealing resin 24 can be seen without being blocked by the pattern of the scanning lines 11. Therefore, when ultraviolet light is irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2, the opening 30
Due to the ultraviolet rays passing through and around the opening 30, the sealing resin 24 can be almost completely cured even at the portion intersecting the scanning line pattern.

【0032】信号線パターンとシール樹脂24とが交差
する部分においても同様に、信号線パターンに開口部を
形成することにより、アクティブマトリクス基板2の外
面から照射される紫外線によってシール樹脂24をほぼ
完全に硬化させることができる。
Similarly, by forming an opening in the signal line pattern at a portion where the signal line pattern and the sealing resin 24 intersect, the sealing resin 24 is almost completely illuminated by ultraviolet rays irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2. Can be cured.

【0033】電極線のパターンに開口部を設けると、そ
の領域における電極線の電気抵抗が増大する。したがっ
て、開口部の大きさには十分な配慮が必要である。図1
に示すように、複数の開口部を設け、又はその部分のパ
ターン幅を広げる等の工夫によって、電気抵抗の増大を
回避することができる。また、紫外線照射時間を長く設
定し、開口部の周縁からの回折光を有効利用することに
より、開口部が小さいことを補ってシール樹脂24をほ
ぼ完全に硬化させることができる。
When an opening is provided in the electrode wire pattern, the electric resistance of the electrode wire in that region increases. Therefore, sufficient consideration must be given to the size of the opening. FIG.
As shown in (1), an increase in electrical resistance can be avoided by providing a plurality of openings or increasing the pattern width of the openings. Further, by setting the irradiation time of the ultraviolet ray to be long and effectively using the diffracted light from the periphery of the opening, the sealing resin 24 can be almost completely cured while compensating for the small opening.

【0034】つぎに、本発明の第2の実施形態を図2及
び図3に示す。図2はアクティブマトリクス基板2の外
面から見た平面図であり、図3は図2のA−A’線に対
応する断面図である。この実施形態では、電極線である
信号線12がシール樹脂24と交差する領域において、
信号線12の形成に先立ち、画素電極の形成と同時に透
明導電性の接続パターン31を透明な絶縁層25上に形
成する。そして、分断された信号線12を接続パターン
31の両端部分と接続するように形成する。
Next, a second embodiment of the present invention is shown in FIGS. FIG. 2 is a plan view seen from the outer surface of the active matrix substrate 2, and FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to line AA 'in FIG. In this embodiment, in a region where the signal line 12 as an electrode line intersects with the sealing resin 24,
Prior to the formation of the signal line 12, a transparent conductive connection pattern 31 is formed on the transparent insulating layer 25 simultaneously with the formation of the pixel electrode. Then, the divided signal lines 12 are formed so as to be connected to both end portions of the connection pattern 31.

【0035】シール樹脂24と交差する領域の信号線は
透明導電性の接続パターン31で形成されているので、
アクティブマトリクス基板2の裏面より紫外線を照射し
たとき、透明の接続パターン31を透過した紫外線によ
って、信号線と交差する部分についてもシール樹脂をほ
ぼ完全に硬化させることができる。
Since the signal line in the region intersecting with the sealing resin 24 is formed by the transparent conductive connection pattern 31,
When the back surface of the active matrix substrate 2 is irradiated with ultraviolet light, the ultraviolet light transmitted through the transparent connection pattern 31 can almost completely cure the sealing resin even at a portion intersecting the signal line.

【0036】走査線パターンとシール樹脂24とが交差
する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線
を部分的に透明導電層で形成することにより、アクティ
ブマトリクス基板2の外面から照射される紫外線によっ
てシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができ
る。もちろん、透明導電性の接続パターンと走査線とが
電気的に接続されるように、例えば端子電極6の形成と
同様に、透明導電性の接続パターンの形成に先立ち、絶
縁層25に開口部を形成して走査線の一部を露出させて
おく必要がある。
Similarly, in a portion where the scanning line pattern intersects with the sealing resin 24, the scanning line made of a light-shielding material is partially formed of a transparent conductive layer so that the active matrix substrate 2 is irradiated from the outer surface. The seal resin 24 can be almost completely cured by the ultraviolet rays. Of course, an opening is formed in the insulating layer 25 prior to the formation of the transparent conductive connection pattern, for example, similarly to the formation of the terminal electrode 6 so that the transparent conductive connection pattern and the scanning line are electrically connected. It is necessary to form and expose a part of the scanning line.

【0037】つぎに、本発明の第3の実施形態を図4及
び図5に示す。図4はアクティブマトリクス基板2の外
面から見た平面図であり、図5は図4のA−A’線に対
応する断面図である。この実施形態では、電極線である
信号線12がシール樹脂24と交差する領域において、
信号線12の形成に先立ち、画素電極14の形成と同時
に透明導電性の接続パターン31を透明な下地の透明な
絶縁層25上に形成する。その後、接続パターン31上
を含むように開口部30を有する信号線12を形成す
る。
Next, a third embodiment of the present invention is shown in FIGS. FIG. 4 is a plan view seen from the outer surface of the active matrix substrate 2, and FIG. 5 is a cross-sectional view corresponding to line AA 'in FIG. In this embodiment, in a region where the signal line 12 as an electrode line intersects with the sealing resin 24,
Prior to the formation of the signal line 12, a transparent conductive connection pattern 31 is formed on the transparent insulating layer 25 on the transparent base simultaneously with the formation of the pixel electrode 14. After that, the signal line 12 having the opening 30 is formed so as to cover the connection pattern 31.

【0038】シール樹脂24と交差する領域において、
信号線12は透明導電性の接続パターン31と開口部を
有する信号線12とで積層されているので、アクティブ
マトリクス基板2の裏面から紫外線を照射したとき、透
明の接続パターン31を透過した紫外線、開口部30を
透過した紫外線及び開口部30の周辺から回り込んだ紫
外線により、信号線と交差する部分についてもシール樹
脂を完全にほぼ硬化させることができる。
In a region intersecting with the sealing resin 24,
Since the signal line 12 is laminated with the transparent conductive connection pattern 31 and the signal line 12 having an opening, when the ultraviolet light is irradiated from the back surface of the active matrix substrate 2, the ultraviolet light transmitted through the transparent connection pattern 31, Due to the ultraviolet light transmitted through the opening 30 and the ultraviolet light circulating from the periphery of the opening 30, the sealing resin can be almost completely cured even at a portion intersecting the signal line.

【0039】走査線パターンとシール樹脂24とが交差
する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線
に開口部を設けると共に部分的に透明導電層を併用する
ことにより、アクティブマトリクス基板2の外面から照
射される紫外線によってシール樹脂を完全に硬化させる
ことができる。この実施形態では、電極線に開口部を設
けることによる電気抵抗の増大を、透明導電性接続パタ
ーンの併用(積層)によって補償することができるの
で、大型の液晶パネルに適している。
Similarly, at the intersection of the scanning line pattern and the sealing resin 24, the opening of the scanning line made of a light-shielding material is provided and the transparent conductive layer is partially used together to form the active matrix substrate 2. The sealing resin can be completely cured by the ultraviolet rays radiated from the outer surface. This embodiment is suitable for a large-sized liquid crystal panel because an increase in electric resistance caused by providing an opening in an electrode wire can be compensated for by using (stacking) a transparent conductive connection pattern.

【0040】第4の実施形態として、本発明をIPS(I
n-Plain-Switching)型のカラー液晶パネルに適用するこ
ともできる。前述のように、IPS型の液晶パネルでは
液晶セルを構成する画素電極及び対向電極が共にアクテ
ィブマトリクス基板上に形成されており、透明導電層が
不要である。したがって、前述の第2及び第3の実施形
態をIPS型の液晶パネルに適用することは、透明導電
層を形成する工程をわざわざ追加することになるので、
コスト上望ましくない。しかし、前述の第1の実施形態
と同様に、紫外線硬化性シール樹脂と交差する部分の電
極線に開口部を形成する構成は、IPS型の液晶パネル
にも容易に適用することができ、この場合も同様の効果
が得られる。
As a fourth embodiment, the present invention is applied to an IPS (I
It can also be applied to (n-Plain-Switching) type color LCD panels. As described above, in the IPS type liquid crystal panel, both the pixel electrode and the counter electrode constituting the liquid crystal cell are formed on the active matrix substrate, and the transparent conductive layer is unnecessary. Therefore, applying the above-described second and third embodiments to an IPS-type liquid crystal panel requires a step of forming a transparent conductive layer.
It is not desirable in terms of cost. However, as in the first embodiment described above, the configuration in which an opening is formed in the electrode wire at a portion that intersects with the ultraviolet-curable sealing resin can be easily applied to an IPS-type liquid crystal panel. In this case, the same effect can be obtained.

【0041】なお、上記の各実施形態において、絶縁ゲ
ート型トランジスタ等のスイッチング素子の構成又は材
料、電極線である走査線及び信号線の構成又は材料につ
いては特に限定する必要はない。また、実施形態2又は
3において、透明導電層と電極線との形成順序を逆にし
てもよい。
In each of the above embodiments, there is no particular limitation on the configuration or material of the switching element such as an insulated gate transistor and the configuration or material of the scanning line and the signal line, which are the electrode lines. In the second or third embodiment, the order of forming the transparent conductive layer and the electrode lines may be reversed.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板と
を封止するシール材として、紫外線硬化型の樹脂を用
い、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
することによってシール材をほぼ完全に硬化させること
ができる。この結果、パネル化工程の低温化による貼り
合せ精度の向上とシール品質の向上とを両立させること
ができ、開口率及び信頼性の高い液晶パネルが得られ
る。
As described above, according to the present invention, an ultraviolet curable resin is used as a sealing material for sealing the active matrix substrate and the color filter substrate, and ultraviolet rays are emitted from the outer surface of the active matrix substrate. Irradiation can cure the sealing material almost completely. As a result, it is possible to achieve both an improvement in bonding accuracy and an improvement in sealing quality by lowering the temperature of the panel forming process, and a liquid crystal panel having a high aperture ratio and high reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態によるアクティブマト
リクスマトリックス基板の走査線側の電極パターンの配
置図
FIG. 1 is a layout view of an electrode pattern on a scanning line side of an active matrix matrix substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態によるアクティブマト
リクス基板の信号線側の電極パターンの配置図
FIG. 2 is a layout view of an electrode pattern on a signal line side of an active matrix substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図3】図2のA−A´線に対応する断面図FIG. 3 is a sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG. 2;

【図4】本発明の第3の実施形態によるアクティブマト
リクス基板の信号線側の電極パターンの配置図
FIG. 4 is a layout view of an electrode pattern on a signal line side of an active matrix substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図5】図4のA−A´線に対応する断面図FIG. 5 is a sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG. 4;

【図6】従来の液晶パネルの実装状態を示す斜視図FIG. 6 is a perspective view showing a mounting state of a conventional liquid crystal panel.

【図7】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの等
価回路図
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of a conventional active matrix type liquid crystal panel.

【図8】従来のIPS方式の液晶セルの概念図を示す斜
視図
FIG. 8 is a perspective view showing a conceptual diagram of a conventional IPS type liquid crystal cell.

【図9】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの要
部断面図
FIG. 9 is a sectional view of a main part of a conventional active matrix type liquid crystal panel.

【図10】従来の液晶パネルによるアクティブマトリク
ス基板の走査線側の電極パターンの配置図
FIG. 10 is a layout view of an electrode pattern on a scanning line side of an active matrix substrate using a conventional liquid crystal panel.

【図11】図10のA−A´線に対応する断面図11 is a sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 アクティブマトリクス基板 9 カラーフィルタ基板 11 走査線 12 信号線 24 シール材 25 絶縁層 26 絶縁層に形成された開口部 27 パシベーション絶縁層 28 パシベーション絶縁層に形成された開口部 30 電極線に形成された開口部 31 電極線を部分的に構成する透明導電性の接続パタ
ーン
Reference Signs List 2 Active matrix substrate 9 Color filter substrate 11 Scanning line 12 Signal line 24 Sealing material 25 Insulating layer 26 Opening formed in insulating layer 27 Passivation insulating layer 28 Opening formed in passivating insulating layer 30 Formed in electrode line Opening 31 Transparent conductive connection pattern partially forming electrode line

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
部分に開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネ
ル。
1. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines substantially orthogonal to the scanning lines via an insulating layer are provided on a transparent insulating substrate, and a switching element is provided at each intersection of the scanning lines and the signal lines. A liquid crystal comprising: an active matrix substrate provided with a transparent pixel electrode; a color filter substrate having a transparent conductive layer and facing the active matrix substrate; and a liquid crystal filled between the active matrix substrate and the color filter substrate. In the panel, the electrode line including the scanning line and the signal line that intersects with a sealant for sealing the liquid crystal has an opening at a portion that intersects with the sealant.
【請求項2】 請求項1記載の液晶パネルの製造方法で
あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
ネルの製造方法。
2. The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 1, wherein when the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded to each other using the sealing material, an ultraviolet curing resin is used as the sealing material. Use
A method of manufacturing a liquid crystal panel, comprising irradiating ultraviolet rays from an outer surface of the active matrix substrate to cure the sealing material.
【請求項3】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及と前記カラーフィルタ
基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにお
いて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
部分において透明導電層で形成されていることを特徴と
するカラー液晶パネル。
3. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines that are substantially orthogonal to the scanning lines via an insulating layer are provided on a transparent insulating substrate, and a switching element is provided at each intersection of the scanning lines and the signal lines. An active matrix substrate provided with a transparent pixel electrode, a color filter substrate having a transparent conductive layer and facing the active matrix substrate, and a liquid crystal filled between the active matrix substrate and the color filter substrate. In the liquid crystal panel provided, an electrode line including the scanning line and the signal line intersecting with a sealant for sealing the liquid crystal is formed of a transparent conductive layer at a portion intersecting with the sealant. Color liquid crystal panel.
【請求項4】 請求項3記載の液晶パネルの製造方法で
あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
ネルの製造方法。
4. The method of manufacturing a liquid crystal panel according to claim 3, wherein when bonding the active matrix substrate and the color filter substrate using the sealing material, an ultraviolet-curable resin is used as the sealing material. Use
A method of manufacturing a liquid crystal panel, comprising irradiating ultraviolet rays from an outer surface of the active matrix substrate to cure the sealing material.
【請求項5】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
部分に開口部を有すると共に、前記開口部を含む領域に
透明導電層が積層されていることを特徴とするカラー液
晶パネル。
5. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines substantially orthogonal to the scanning lines via an insulating layer are provided on a transparent insulating substrate, and a switching element and a switching element are provided at each intersection of the scanning lines and the signal lines. A liquid crystal comprising: an active matrix substrate provided with a transparent pixel electrode; a color filter substrate having a transparent conductive layer and facing the active matrix substrate; and a liquid crystal filled between the active matrix substrate and the color filter substrate. In the panel, the electrode line including the scanning line and the signal line that intersects with a sealant for sealing the liquid crystal has an opening at a portion that intersects with the sealant, and is transparent in a region including the opening. A color liquid crystal panel having a conductive layer laminated thereon.
【請求項6】 請求項5記載の液晶パネルの製造方法で
あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
ネルの製造方法。
6. The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 5, wherein when the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded to each other using the sealing material, an ultraviolet curing resin is used as the sealing material. Use
A method of manufacturing a liquid crystal panel, comprising irradiating ultraviolet rays from an outer surface of the active matrix substrate to cure the sealing material.
【請求項7】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
グ素子と、所定の間隔で配置された画素電極及び対向電
極とを有するアクティブマトリクス基板と、 前記アクティブマトリクス基板と対向するカラーフィル
タ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
部分に開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネ
ル。
7. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines substantially orthogonal to the scanning lines via an insulating layer are provided on a transparent insulating substrate, and a switching element is provided at each intersection of the scanning lines and the signal lines. An active matrix substrate having pixel electrodes and counter electrodes arranged at predetermined intervals; a color filter substrate facing the active matrix substrate; and a liquid crystal filled between the active matrix substrate and the color filter substrate. In the liquid crystal panel provided, a color liquid crystal characterized in that an electrode line including the scanning line and the signal line intersecting with a sealing material for sealing the liquid crystal has an opening at a portion intersecting with the sealing material. panel.
【請求項8】 請求項7に記載の液晶パネルの製造方法
であって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラー
フィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに
際して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用
い、前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を
照射して前記シール材を硬化させることを特徴とする液
晶パネルの製造方法。
8. The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 7, wherein when the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded to each other using the sealing material, an ultraviolet-curable resin is used for the sealing material. And irradiating ultraviolet rays from the outer surface of the active matrix substrate to cure the sealing material.
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