JP3859184B2 - Color liquid crystal panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー画像表示機能を有する液晶パネル及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年の微細加工技術、液晶材料技術及び実装技術等の進歩により、5〜50cm対角の液晶パネルで実用上支障の無いテレビジョン画像や各種の画像表示が商用ベースで提供されている。また、液晶パネルを構成する2枚のガラス基板の一方にRGBの着色層を形成しておくことにより、カラー表示も容易に実現している。特にスイッチング素子を画素毎に内蔵させたアクティブマトリクス型の液晶パネルは、クロストークが少なく、高速応答で、しかも高いコントラスト比を有する画像を保証している。このような液晶パネルのマトリクス構成は、走査線数100〜1000本、信号線数200〜2000本程度が一般的であるが、最近では大画面化と高精細化が同時に進行している。
【0003】
図6は、液晶パネルの概略構造を示す概念図である。液晶パネル1を構成する一方の透明絶縁基板、例えばガラス基板2上に走査線の電極端子群6が形成されている。駆動信号から操作信号を生成する半導体集積回路チップ3がガラス基板2上に搭載されたCOG(Chip-On-Glass)方式もある。図6には両方の実装方式が図示されているが、実際にはいずれか一方の方式が選択される。
【0004】
信号電極に関しては、信号線端子群5がガラス基板2上に形成され、例えばポリイミド系樹脂薄膜のベースに銅線と金メッキ端子が形成された接続フィルム4が導電性接着剤を介して信号線端子群5に接続され、固定されている(TCP方式)。この信号電極についても、上記のCOG方式を採用できる。このようにして、走査信号及び表示データ信号が画像表示部に供給される。図6において、液晶パネル1の画像表示部と信号線及び走査線の電極端子群5,6との間を接続する配線路7、8は、必ずしも電極端子群5,6と同一の材料で形成する必要はない。
【0005】
また、ガラス基板2と平行に配置された透明絶縁基板であるガラス基板9は、全ての液晶セルに共通の透明導電性の対向電極を有する。液晶パネル1を構成する2枚のガラス基板2,9は樹脂性のファイバやビーズ等のスペーサ材によって数μm程度の距離を隔てて平行に配置され、その間隙(ギャップ)は、小さいほうのガラス基板9の周縁部において、有機性樹脂からなるシール材と封口材とで封止され、閉空間が形成される。この閉空間に液晶が充填されている。
【0006】
カラー表示を行う液晶表示パネルでは、ガラス基板9の閉空間側に染料及び顔料のいずれか又は両方を含む厚さ1〜2μm程度の有機薄膜が形成されている。この有機薄膜は着色層と称され、着色層を含むガラス基板9はカラーフィルタ基板と呼ばれる。また、液晶材料の種類(性質)によってはガラス基板9の上面及びガラス基板2の下面のいずれか一方又は両方に偏光板が貼付される。
【0007】
図7は、スイッチング素子である絶縁ゲート型の薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を画素毎に配置したアクティブマトリクス型液晶パネルの等価回路図である。実線で描かれた素子及び配線は一方のガラス基板(アクティブマトリクス基板)2上に配置され、破線で描かれた素子で及び配線は他方のガラス基板(カラーフィルタ基板)9上に形成されている。TFT10は、例えば非晶質シリコンを半導体層とし、シリコン窒化層をゲート絶縁層として、アクティブマトリクス基板2上に形成され、同時に走査線11及び信号線12もアクティブマトリクス基板2上に形成される。
【0008】
液晶セル13はアクティブマトリクス基板2上に形成された透明導電性の画素電極14と、カラーフィルタ基板9上に形成された透明導電性の対向電極15と、2枚のガラス基板2,9で挟まれた閉空間を満たす液晶16とで構成され、所定の静電容量(画素容量)を有する。液晶セル13の時定数を大きくするために画素容量に付加される蓄積容量(補助容量)の構成にはいくつかのバリエーションがある。図7の例では、全画素に共通の共通電極18と各画素電極14とがTFTのゲート絶縁層等の絶縁層を介して対向する部分に蓄積容量17が形成される。
【0009】
最近開発された広視野角のIPS(In-Plain-Switching)方式の液晶パネルにあっては、図8に示すように、液晶セルを構成する画素電極42及び対向電極41がアクティブマトリクス基板2上に所定の間隔で配置されている。通常、画素電極42及び対向電極41は一対の櫛形状に形成される。画素電極42を絶縁ゲート型トランジスタのドレインに接続してアクティブマトリクス化することができるが、詳細は省略する。43は液晶セル内の液晶分子の配列状態を示しており、図8(a)は画素電極42と対向電極41との間に電圧が印加されていない状態、図8(b)は電圧が印加されている状態をそれぞれ示す。
【0010】
図9はカラー表示用液晶パネルの要部断面図である。染色された感光性ゼラチン又は着色感光性樹脂等からなる着色層19は、画素電極14に対応するように、RGB三原色の所定の配列にしたがってカラーフィルタ基板9の閉空間側に配置されている。全ての画素電極14に共通の対向電極15は、着色層19の介在による液晶セル内での電圧配分損失を回避するために着色層19上に形成される。液晶16に接するように2枚のガラス基板2,9上に配向膜20が形成されている。これは、例えば0.1μm程度の膜厚のポリイミド系樹脂層であり、液晶分子を所定の方向に揃える働きを有する。また、液晶16としてツイスト・ネマティック(TN)型のものを用いる場合は上下2枚の偏光板21を必要とする。
【0011】
RGBの着色層19の境界に、ブラックマトリクス(BM)と呼ばれる光を反射させにくい不透明膜22が配置されている。このブラックマトリクス22は、アクティブマトリクス基板2上の信号線12等の配線層からの反射光を遮って画像のコントラストを向上すると共に、スイッチング素子であるTFTの外部光によるリーク電流の増大を防いで強い外光の下でも液晶パネルを動作させることを可能とする働きを有する。
【0012】
ブラックマトリクスは種々の構成があるが、隣り合う着色層の境界における段差の発生と光の透過率を考慮すると、コスト面では不利であるが、0.1μm程度の膜厚のCr薄膜を用いるのが簡便かつ合理的である。
【0013】
なお、図9において、TFT、走査線、蓄積容量、裏面光源、スペーサ等の構成要素については図示を省略している。23は画素電極14とTFT10のドレインとを接続するための導電性薄膜であり、通常は信号線12と同一材料で同時に形成されドレイン配線と称される。対向電極15は画像表示部の外で導電性ペーストを介してアクティブマトリクス基板2上の適当な導電性パターンに接続され、図6の電極端子群5,6の一つに接続されている。
【0014】
図10は液晶パネルの周縁部における走査線の端部周辺の平面図(ガラスパネル2側から見た図)を示す。また、図10のA−A´線に対応する断面図を図11に示す。アクティブマトリクス基板2とカラーフィルタ基板9とが接着性のシール材(樹脂)24によって封止されている。シール材24の幅は0.5〜1.2mm程度であり、高さは液晶セルのギャツプに相当する数μmである。このようなシール材は、小型の液晶パネルではスクリーン印刷で効率良く形成することができる。また、大型の液晶パネルではシール描画機を用いて異物の転写がないように形成される。
【0015】
液晶パネルの周縁部のシール材が配置された箇所の周辺を示す図10及び11において、走査線11の端子電極6は、膜厚0.3μm程度のゲート絶縁層であるシリコン窒化層(SiNx)25に形成された開口部26に、ソース・ドレイン配線12,23と同時に形成される。この端子電極6は、膜厚0.3μm程度のシリコン窒化層からなるパシベーション絶縁層27に形成された開口部28により露出している。また、画像表示部の周辺には、液晶パネルを斜めから見たときに裏面からの不要な光が漏洩しないように、所定の配列数以上の着色層19´とブラックマトリクス22´とが配置されている。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】
最新の液晶パネルでは狭額縁化が図られることが多い。すなわち、画像表示部外の領域ができるだけ小さくなるように設計して、表示装置の軽量化と小型化が図られる。そのため、シール材24はできるだけ画像表示部に近づけて配置される。この結果、図11に示すように、シール材24の上にブラックマトリクス22´を配置せざるを得なくなる。
【0017】
また、対角25cm以上の大型パネルにおいても表示容量と表示画質の向上のために高精細化が図られており、開口率の確保も要求される。その結果、ブラックマトリクスの幅を細くすると同時に、液晶パネルを構成する2枚の基板2,9の貼り合せ精度を向上することが重要になってきた。つまり、従来は数μm程度の貼り合せ精度で十分であったが、開口率を80%以上に高めるためには2μm下の高精度が要求されるようになってきた。
【0018】
液晶パネルの貼り合せ精度は、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との加工精度及び貼り合せ工程における二つの基板の貼り合せ精度の総和で決まる。したがって、液晶パネルが大きい程、つまりガラス基板が大きい程、ガラス基板の反りやうねりが大きくなるので精度は低下する。
【0019】
貼り合せの精度を1〜2μmに収めることは、大型基板の高精度露光機の機構や実力から考えるとさほど困難なことではない。しかし、シール24の硬化工程におけるガラス基板の反りも相俟って、実用上確保できる精度は数μmに低下してしまうのが現状である。
【0020】
硬化工程の中で特に重要なことは温度の均一性である。ガラス基板の膨張係数は1℃当たり数ppmもあるので、例えば10℃の温度差があると、30cmの大きさのガラス基板の場合、10〜20μmの伸縮差が生じてしまうことになる。このため、硬化工程における加熱・冷却は徐熱・徐冷が必須であるが、生産性の向上のためには加熱・冷却に要する時間を短縮する必要がある。
【0021】
そこで、シール材の熱硬化を100℃程度の低温で行うことが検討されているが、一般的に硬化温度が低くなると気密性と密着性の低下が免れない。またシール材中の残留溶剤が液晶に溶け込んで、液晶セルの保持率が低下し、高温動作及び長時間動作における液晶パネルの表示特性が劣化することが避けられない。
【0022】
一方、加熱が不要な紫外線硬化性のシール樹脂を採用した場合、図10及び11に示すように、カラーフィルタ基板9とシール樹脂24との間には遮光性のブラックマトリクス22´が介在しているので、シール樹脂24を硬化するための紫外線をカラーフィルタ基板9の外面から照射することはできず、アクティブマトリクス基板2の外面から照射せざるを得ない。
【0023】
しかし、アクティブマトリクス基板2とシール樹脂24との間には走査線11及び信号線12の電極線が部分的に介在する。これらの電極線は、抵抗値を下げるために金属薄膜を用いるのが一般的であり、紫外線に対して不透明である。電極線のパターン幅は少なくとも20μmはあるので、電極線の周辺部から紫外線が回り込むことを考慮に入れても、電極線が遮る部分のシール樹脂24を完全に硬化させることは不可能である。この場合、貼り合せ精度は高くてもシールの信頼性が低い液晶パネルになってしまう。一方、紫外線硬化型のシール樹脂と熱硬化型のシール樹脂とを併用すれば、シールの信頼性は高くなるが、従来と同様に加熱による貼り合せ精度の低下が生ずる。
【0024】
本発明は上記のような従来の問題点に鑑みてなされたものであり、高開口率の液晶パネルを実現する貼り合せ精度の向上を図ることができるカラー液晶パネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0025】
【課題を解決するための手段】
本発明によるカラー液晶パネルの第1の構成は、透明絶縁基板上に複数の金属薄膜からなる走査線と、絶縁層を介して前記走査線と交差する複数の金属薄膜からなる信号線とが設けられ、前記走査線及び前記信号線の各交点にスイッチング素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリクス基板と、透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向するカラーフィルタ基板と、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフィルタ基板との間に充填された液晶と、前記液晶を封止するためのシール材とを備えた液晶パネルにおいて、前記走査線及び前記信号線を含む金属薄膜からなる電極線が、前記シール材と交差する部分に連続して形成されるとともに、前記シール材を硬化する紫外線を通過させ得る開口部を有することを特徴とする。このような構成によれば、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射したとき、連続して形成された遮光性の金属薄膜からなる電極線に設けられた開口部を通過する紫外線及び開口部から回り込む紫外線によって、電極線と交差する部分のシール材についてもほぼ完全に硬化させることができる。したがって、シール硬化工程を低温化して貼り合わせ精度の向上を図ることができる。
【0028】
上記の構成、すなわち、シール材と交差する部分に連続して形成された金属薄膜からなる電極線に開口部を設ける構成は、IPS(In-Plain-Switching)方式の液晶パネルにも適用できる。
【0029】
上記のような構成について、さらに、前記開口部が複数設けられたこと、前記電極線の前記シール材と交差する部分の幅が、それ以外の部分の幅より広いこと、前記シール材が紫外線硬化型の樹脂であること、および、前記カラーフィルタ基板と前記シール材との間に遮光性膜が設けられたこと、とすることができる。また、上記のような構成の液晶パネルを製造するための本発明による方法は、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とをシール材を用いて貼り合わせるに際して、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射してシール材を硬化させることを特徴とする。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る液晶パネルの構造を、従来技術で説明した液晶パネルの構造と相違する点に絞って説明する。
【0031】
まず、図1に示す第1の実施形態では、電極線である走査線11がシール樹脂24と交差する領域において、走査線11のパターンに開口部30が形成されている。このようにして、透明のガラス基板(アクティブマトリクス基板)2の外面から見ると、シール樹脂24のほとんどの領域が走査線11のパターンに遮られることなく見えている。したがって、アクティブマトリクス基板2の外面より紫外線を照射すると、開口部30を通過する紫外線及び開口部30の周辺から回り込んだ紫外線により、走査線パターンと交差する部分についてもシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができる。
【0032】
信号線パターンとシール樹脂24とが交差する部分においても同様に、信号線パターンに開口部を形成することにより、アクティブマトリクス基板2の外面から照射される紫外線によってシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができる。
【0033】
電極線のパターンに開口部を設けると、その領域における電極線の電気抵抗が増大する。したがって、開口部の大きさには十分な配慮が必要である。図1に示すように、複数の開口部を設け、又はその部分のパターン幅を広げる等の工夫によって、電気抵抗の増大を回避することができる。また、紫外線照射時間を長く設定し、開口部の周縁からの回折光を有効利用することにより、開口部が小さいことを補ってシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができる。
【0034】
つぎに、本発明の第2の実施形態を図2及び図3に示す。図2はアクティブマトリクス基板2の外面から見た平面図であり、図3は図2のA−A’線に対応する断面図である。この実施形態では、電極線である信号線12がシール樹脂24と交差する領域において、信号線12の形成に先立ち、画素電極の形成と同時に透明導電性の接続パターン31を透明な絶縁層25上に形成する。そして、分断された信号線12を接続パターン31の両端部分と接続するように形成する。
【0035】
シール樹脂24と交差する領域の信号線は透明導電性の接続パターン31で形成されているので、アクティブマトリクス基板2の裏面より紫外線を照射したとき、透明の接続パターン31を透過した紫外線によって、信号線と交差する部分についてもシール樹脂をほぼ完全に硬化させることができる。
【0036】
走査線パターンとシール樹脂24とが交差する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線を部分的に透明導電層で形成することにより、アクティブマトリクス基板2の外面から照射される紫外線によってシール樹脂24をほぼ完全に硬化させることができる。もちろん、透明導電性の接続パターンと走査線とが電気的に接続されるように、例えば端子電極6の形成と同様に、透明導電性の接続パターンの形成に先立ち、絶縁層25に開口部を形成して走査線の一部を露出させておく必要がある。
【0037】
つぎに、本発明の第3の実施形態を図4及び図5に示す。図4はアクティブマトリクス基板2の外面から見た平面図であり、図5は図4のA−A’線に対応する断面図である。この実施形態では、電極線である信号線12がシール樹脂24と交差する領域において、信号線12の形成に先立ち、画素電極14の形成と同時に透明導電性の接続パターン31を透明な下地の透明な絶縁層25上に形成する。その後、接続パターン31上を含むように開口部30を有する信号線12を形成する。
【0038】
シール樹脂24と交差する領域において、信号線12は透明導電性の接続パターン31と開口部を有する信号線12とで積層されているので、アクティブマトリクス基板2の裏面から紫外線を照射したとき、透明の接続パターン31を透過した紫外線、開口部30を透過した紫外線及び開口部30の周辺から回り込んだ紫外線により、信号線と交差する部分についてもシール樹脂を完全にほぼ硬化させることができる。
【0039】
走査線パターンとシール樹脂24とが交差する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線に開口部を設けると共に部分的に透明導電層を併用することにより、アクティブマトリクス基板2の外面から照射される紫外線によってシール樹脂を完全に硬化させることができる。この実施形態では、電極線に開口部を設けることによる電気抵抗の増大を、透明導電性接続パターンの併用(積層)によって補償することができるので、大型の液晶パネルに適している。
【0040】
第4の実施形態として、本発明をIPS(In-Plain-Switching)型のカラー液晶パネルに適用することもできる。前述のように、IPS型の液晶パネルでは液晶セルを構成する画素電極及び対向電極が共にアクティブマトリクス基板上に形成されており、透明導電層が不要である。したがって、前述の第2及び第3の実施形態をIPS型の液晶パネルに適用することは、透明導電層を形成する工程をわざわざ追加することになるので、コスト上望ましくない。しかし、前述の第1の実施形態と同様に、紫外線硬化性シール樹脂と交差する部分の電極線に開口部を形成する構成は、IPS型の液晶パネルにも容易に適用することができ、この場合も同様の効果が得られる。
【0041】
なお、上記の各実施形態において、絶縁ゲート型トランジスタ等のスイッチング素子の構成又は材料、電極線である走査線及び信号線の構成又は材料については特に限定する必要はない。また、実施形態2又は3において、透明導電層と電極線との形成順序を逆にしてもよい。
【0042】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを封止するシール材として、紫外線硬化型の樹脂を用い、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射することによってシール材をほぼ完全に硬化させることができる。この結果、パネル化工程の低温化による貼り合せ精度の向上とシール品質の向上とを両立させることができ、開口率及び信頼性の高い液晶パネルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態によるアクティブマトリクスマトリックス基板の走査線側の電極パターンの配置図
【図2】本発明の第2の実施形態によるアクティブマトリクス基板の信号線側の電極パターンの配置図
【図3】図2のA−A´線に対応する断面図
【図4】本発明の第3の実施形態によるアクティブマトリクス基板の信号線側の電極パターンの配置図
【図5】図4のA−A´線に対応する断面図
【図6】従来の液晶パネルの実装状態を示す斜視図
【図7】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの等価回路図
【図8】従来のIPS方式の液晶セルの概念図を示す斜視図
【図9】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの要部断面図
【図10】従来の液晶パネルによるアクティブマトリクス基板の走査線側の電極パターンの配置図
【図11】図10のA−A´線に対応する断面図
【符号の説明】
2 アクティブマトリクス基板
9 カラーフィルタ基板
11 走査線
12 信号線
24 シール材
25 絶縁層
26 絶縁層に形成された開口部
27 パシベーション絶縁層
28 パシベーション絶縁層に形成された開口部
30 電極線に形成された開口部
31 電極線を部分的に構成する透明導電性の接続パターン
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal panel having a color image display function and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
With recent advances in microfabrication technology, liquid crystal material technology, mounting technology, etc., television images and various image displays that are practically unaffected by 5 to 50 cm diagonal liquid crystal panels are provided on a commercial basis. In addition, color display is easily realized by forming an RGB colored layer on one of the two glass substrates constituting the liquid crystal panel. In particular, an active matrix type liquid crystal panel in which a switching element is built in for each pixel guarantees an image with little crosstalk, a high-speed response, and a high contrast ratio. The matrix configuration of such a liquid crystal panel is generally about 100 to 1000 scanning lines and about 200 to 2000 signal lines, but recently, large screens and high definition have progressed simultaneously.
[0003]
FIG. 6 is a conceptual diagram showing a schematic structure of the liquid crystal panel. An electrode terminal group 6 for scanning lines is formed on one transparent insulating substrate constituting the liquid crystal panel 1, for example, a glass substrate 2. There is also a COG (Chip-On-Glass) system in which a semiconductor integrated circuit chip 3 that generates an operation signal from a drive signal is mounted on a glass substrate 2. Although both mounting methods are shown in FIG. 6, one of the methods is actually selected.
[0004]
As for the signal electrodes, a signal line terminal group 5 is formed on the glass substrate 2, and for example, a connection film 4 in which a copper wire and a gold plating terminal are formed on a base of a polyimide-based resin thin film is connected to a signal line terminal via a conductive adhesive. Connected to group 5 and fixed (TCP method). The above-mentioned COG method can also be adopted for this signal electrode. In this way, the scanning signal and the display data signal are supplied to the image display unit. In FIG. 6, wiring paths 7 and 8 connecting the image display unit of the liquid crystal panel 1 and the electrode terminal groups 5 and 6 of the signal lines and the scanning lines are not necessarily formed of the same material as the electrode terminal groups 5 and 6. do not have to.
[0005]
The glass substrate 9 which is a transparent insulating substrate arranged in parallel with the glass substrate 2 has a transparent conductive counter electrode common to all liquid crystal cells. The two glass substrates 2 and 9 constituting the liquid crystal panel 1 are arranged in parallel at a distance of about several μm by a spacer material such as resin fiber or bead, and the gap (gap) is smaller glass. In the peripheral part of the board | substrate 9, it seals with the sealing material and sealing material which consist of organic resins, and a closed space is formed. This closed space is filled with liquid crystal.
[0006]
In a liquid crystal display panel that performs color display, an organic thin film having a thickness of about 1 to 2 μm including one or both of a dye and a pigment is formed on the closed space side of the glass substrate 9. This organic thin film is called a colored layer, and the glass substrate 9 including the colored layer is called a color filter substrate. Depending on the type (property) of the liquid crystal material, a polarizing plate is attached to one or both of the upper surface of the glass substrate 9 and the lower surface of the glass substrate 2.
[0007]
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of an active matrix liquid crystal panel in which insulated gate thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) as switching elements are arranged for each pixel. Elements and wirings drawn with solid lines are arranged on one glass substrate (active matrix substrate) 2, and elements and wirings drawn with broken lines are formed on the other glass substrate (color filter substrate) 9. . The TFT 10 is formed on the active matrix substrate 2 using, for example, amorphous silicon as a semiconductor layer and a silicon nitride layer as a gate insulating layer. At the same time, the scanning lines 11 and the signal lines 12 are also formed on the active matrix substrate 2.
[0008]
The liquid crystal cell 13 is sandwiched between a transparent conductive pixel electrode 14 formed on the active matrix substrate 2, a transparent conductive counter electrode 15 formed on the color filter substrate 9, and two glass substrates 2 and 9. And a liquid crystal 16 that fills the closed space, and has a predetermined capacitance (pixel capacitance). There are several variations in the configuration of the storage capacitor (auxiliary capacitor) added to the pixel capacitor in order to increase the time constant of the liquid crystal cell 13. In the example of FIG. 7, the storage capacitor 17 is formed in a portion where the common electrode 18 common to all the pixels and each pixel electrode 14 face each other through an insulating layer such as a gate insulating layer of the TFT.
[0009]
In a recently developed IPS (In-Plain-Switching) type liquid crystal panel having a wide viewing angle, as shown in FIG. 8, the pixel electrode 42 and the counter electrode 41 constituting the liquid crystal cell are formed on the active matrix substrate 2. Are arranged at predetermined intervals. Usually, the pixel electrode 42 and the counter electrode 41 are formed in a pair of comb shapes. The pixel electrode 42 can be connected to the drain of the insulated gate transistor to form an active matrix, but details are omitted. 43 shows the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal cell. FIG. 8A shows a state in which no voltage is applied between the pixel electrode 42 and the counter electrode 41, and FIG. Each state is shown.
[0010]
FIG. 9 is a cross-sectional view of the main part of a color display liquid crystal panel. The colored layer 19 made of dyed photosensitive gelatin or colored photosensitive resin or the like is arranged on the closed space side of the color filter substrate 9 according to a predetermined arrangement of RGB three primary colors so as to correspond to the pixel electrode 14. The counter electrode 15 common to all the pixel electrodes 14 is formed on the colored layer 19 in order to avoid voltage distribution loss in the liquid crystal cell due to the interposition of the colored layer 19. An alignment film 20 is formed on the two glass substrates 2 and 9 so as to be in contact with the liquid crystal 16. This is, for example, a polyimide resin layer having a thickness of about 0.1 μm, and has a function of aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction. In addition, when a twisted nematic (TN) type liquid crystal 16 is used, two upper and lower polarizing plates 21 are required.
[0011]
An opaque film 22 called a black matrix (BM) that hardly reflects light is disposed at the boundary between the RGB colored layers 19. This black matrix 22 blocks the reflected light from the wiring layers such as the signal lines 12 on the active matrix substrate 2 to improve the contrast of the image, and prevents an increase in leakage current due to the external light of the TFT as a switching element. The liquid crystal panel can be operated even under strong external light.
[0012]
The black matrix has various configurations, but considering the generation of a step at the boundary between adjacent colored layers and the light transmittance, it is disadvantageous in terms of cost, but a Cr thin film having a thickness of about 0.1 μm is used. Is simple and reasonable.
[0013]
In FIG. 9, components such as TFTs, scanning lines, storage capacitors, back light sources, spacers, etc. are not shown. 23 is a conductive thin film for connecting the pixel electrode 14 and the drain of the TFT 10, and is usually formed of the same material as the signal line 12 at the same time and is called a drain wiring. The counter electrode 15 is connected to an appropriate conductive pattern on the active matrix substrate 2 via a conductive paste outside the image display portion, and is connected to one of the electrode terminal groups 5 and 6 in FIG.
[0014]
FIG. 10 is a plan view (viewed from the glass panel 2 side) around the edge of the scanning line at the periphery of the liquid crystal panel. FIG. 11 is a cross-sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG. The active matrix substrate 2 and the color filter substrate 9 are sealed with an adhesive seal material (resin) 24. The width of the sealing material 24 is about 0.5 to 1.2 mm, and the height is several μm corresponding to the gap of the liquid crystal cell. Such a sealing material can be efficiently formed by screen printing in a small liquid crystal panel. Further, a large liquid crystal panel is formed using a seal drawing machine so that no foreign matter is transferred.
[0015]
In FIGS. 10 and 11 showing the periphery of the portion where the sealing material at the periphery of the liquid crystal panel is disposed, the terminal electrode 6 of the scanning line 11 is a silicon nitride layer (SiNx) which is a gate insulating layer having a thickness of about 0.3 μm. The source / drain wirings 12 and 23 are formed in the opening 26 formed in 25. The terminal electrode 6 is exposed through an opening 28 formed in the passivation insulating layer 27 made of a silicon nitride layer having a thickness of about 0.3 μm. Further, around the image display portion, a colored layer 19 ′ and a black matrix 22 ′ having a predetermined number of arrangements or more are arranged so that unnecessary light from the back surface does not leak when the liquid crystal panel is viewed obliquely. ing.
[0016]
[Problems to be solved by the invention]
The latest LCD panels are often narrowed. In other words, the display device can be designed to be as small as possible outside the image display unit, thereby reducing the weight and size of the display device. Therefore, the sealing material 24 is disposed as close to the image display unit as possible. As a result, as shown in FIG. 11, the black matrix 22 ′ must be disposed on the sealing material 24.
[0017]
In addition, a large panel having a diagonal of 25 cm or more has been increased in definition to improve display capacity and display image quality, and it is required to ensure an aperture ratio. As a result, it has become important to reduce the width of the black matrix and improve the bonding accuracy of the two substrates 2 and 9 constituting the liquid crystal panel. That is, in the past, a bonding accuracy of about several μm was sufficient, but in order to increase the aperture ratio to 80% or higher, a high accuracy of 2 μm or less has been required.
[0018]
The bonding accuracy of the liquid crystal panel is determined by the sum of the processing accuracy of the active matrix substrate and the color filter substrate and the bonding accuracy of the two substrates in the bonding process. Accordingly, the larger the liquid crystal panel, that is, the larger the glass substrate, the greater the warp and undulation of the glass substrate, and the lower the accuracy.
[0019]
Keeping the bonding accuracy within 1 to 2 μm is not so difficult considering the mechanism and ability of a high-precision exposure machine for large substrates. However, due to the warping of the glass substrate in the curing process of the seal 24, the actual accuracy that can be secured in practice is reduced to several μm.
[0020]
Of particular importance in the curing process is temperature uniformity. Since the glass substrate has an expansion coefficient of several ppm per 1 ° C., for example, if there is a temperature difference of 10 ° C., an expansion / contraction difference of 10 to 20 μm is generated in the case of a glass substrate having a size of 30 cm. For this reason, although slow heating and slow cooling are indispensable for the heating and cooling in a hardening process, in order to improve productivity, it is necessary to shorten the time required for heating and cooling.
[0021]
Therefore, it has been studied to thermally cure the sealing material at a low temperature of about 100 ° C. However, generally, when the curing temperature is lowered, a decrease in hermeticity and adhesion is inevitable. In addition, the residual solvent in the sealing material is dissolved in the liquid crystal, the retention rate of the liquid crystal cell is lowered, and the display characteristics of the liquid crystal panel during high temperature operation and long time operation are unavoidable.
[0022]
On the other hand, when an ultraviolet curable sealing resin that does not require heating is employed, a black matrix 22 ′ having a light shielding property is interposed between the color filter substrate 9 and the sealing resin 24 as shown in FIGS. Therefore, the ultraviolet rays for curing the sealing resin 24 cannot be irradiated from the outer surface of the color filter substrate 9 and must be irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2.
[0023]
However, the scanning lines 11 and the signal lines 12 are partially interposed between the active matrix substrate 2 and the sealing resin 24. These electrode wires generally use a metal thin film to lower the resistance value, and are opaque to ultraviolet rays. Since the pattern width of the electrode line is at least 20 μm, it is impossible to completely cure the seal resin 24 in the part blocked by the electrode line even when taking into account that ultraviolet rays circulate from the periphery of the electrode line. In this case, even if the bonding accuracy is high, a liquid crystal panel with low seal reliability is obtained. On the other hand, when an ultraviolet curable seal resin and a thermosetting seal resin are used in combination, the reliability of the seal is increased, but the bonding accuracy is reduced by heating as in the conventional case.
[0024]
The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and provides a color liquid crystal panel capable of improving the bonding accuracy for realizing a liquid crystal panel with a high aperture ratio and a method for manufacturing the color liquid crystal panel. With the goal.
[0025]
[Means for Solving the Problems]
According to a first configuration of the color liquid crystal panel of the present invention, a scanning line made of a plurality of metal thin films and a signal line made of a plurality of metal thin films intersecting the scanning lines via an insulating layer are provided on a transparent insulating substrate. An active matrix substrate provided with a switching element and a transparent pixel electrode at each intersection of the scanning line and the signal line, a color filter substrate having a transparent conductive layer and facing the active matrix substrate, and the active matrix substrate And a liquid crystal panel provided with a liquid crystal filled between the color filter substrate and a sealing material for sealing the liquid crystal, an electrode line made of a metal thin film including the scanning line and the signal line, It is formed continuously at the portion intersecting with the sealing material, and has an opening through which ultraviolet rays for curing the sealing material can pass. To. According to such a configuration, when the ultraviolet rays are irradiated from the outer surface of the active matrix substrate, the ultraviolet rays that pass through the openings provided in the electrode lines made of the light-shielding metal thin film that are continuously formed and the openings wrap around the openings. The sealing material at the portion intersecting with the electrode wire can be almost completely cured by the ultraviolet rays. Accordingly, it is possible to improve the bonding accuracy by lowering the temperature of the seal curing process.
[0028]
The above-described configuration, that is, the configuration in which the opening is provided in the electrode line made of the metal thin film continuously formed in the portion intersecting with the sealing material can be applied to an IPS (In-Plain-Switching) type liquid crystal panel.
[0029]
For the above-described configuration, a plurality of the openings are provided, the width of the portion of the electrode wire that intersects the sealing material is wider than the width of the other portions, and the sealing material is UV-cured. And a light-shielding film is provided between the color filter substrate and the sealing material. In addition, the method according to the present invention for manufacturing the liquid crystal panel having the above-described configuration is such that when the active matrix substrate and the color filter substrate are bonded together using a sealing material, ultraviolet rays are irradiated from the outer surface of the active matrix substrate. The sealing material is cured.
[0030]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the structure of the liquid crystal panel according to the embodiment of the present invention will be described focusing on differences from the structure of the liquid crystal panel described in the related art.
[0031]
First, in the first embodiment shown in FIG. 1, the opening 30 is formed in the pattern of the scanning line 11 in a region where the scanning line 11 that is an electrode line intersects the seal resin 24. In this way, when viewed from the outer surface of the transparent glass substrate (active matrix substrate) 2, most of the region of the sealing resin 24 can be seen without being blocked by the pattern of the scanning lines 11. Therefore, when ultraviolet rays are irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2, the seal resin 24 is almost completely applied to the portions intersecting the scanning line pattern by the ultraviolet rays passing through the openings 30 and the ultraviolet rays circulated from the periphery of the openings 30. It can be cured.
[0032]
Similarly, at the portion where the signal line pattern and the seal resin 24 intersect, the seal resin 24 is almost completely cured by the ultraviolet rays irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2 by forming an opening in the signal line pattern. be able to.
[0033]
When an opening is provided in the electrode line pattern, the electrical resistance of the electrode line in that region increases. Therefore, sufficient consideration is required for the size of the opening. As shown in FIG. 1, an increase in electrical resistance can be avoided by providing a plurality of openings or increasing the pattern width of the portions. In addition, by setting the ultraviolet irradiation time long and effectively using the diffracted light from the periphery of the opening, the sealing resin 24 can be almost completely cured to compensate for the small opening.
[0034]
Next, a second embodiment of the present invention is shown in FIGS. 2 is a plan view seen from the outer surface of the active matrix substrate 2, and FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to the line AA 'in FIG. In this embodiment, in the region where the signal line 12 that is an electrode line intersects the sealing resin 24, prior to the formation of the signal line 12, the transparent conductive connection pattern 31 is formed on the transparent insulating layer 25 simultaneously with the formation of the pixel electrode. To form. Then, the divided signal line 12 is formed so as to be connected to both end portions of the connection pattern 31.
[0035]
Since the signal line in the region intersecting with the sealing resin 24 is formed by the transparent conductive connection pattern 31, when the ultraviolet ray is irradiated from the back surface of the active matrix substrate 2, the signal line is transmitted by the ultraviolet ray transmitted through the transparent connection pattern 31. The sealing resin can be almost completely cured even at the portion intersecting the line.
[0036]
Similarly, at the portion where the scanning line pattern and the sealing resin 24 intersect, the scanning line made of a light-shielding material is partially formed of a transparent conductive layer, so that the sealing is performed by ultraviolet rays irradiated from the outer surface of the active matrix substrate 2. The resin 24 can be cured almost completely. Of course, an opening is formed in the insulating layer 25 prior to the formation of the transparent conductive connection pattern, for example, similarly to the formation of the terminal electrode 6 so that the transparent conductive connection pattern and the scanning line are electrically connected. It is necessary to form and expose a part of the scanning line.
[0037]
Next, a third embodiment of the present invention is shown in FIGS. 4 is a plan view seen from the outer surface of the active matrix substrate 2, and FIG. 5 is a cross-sectional view corresponding to the line AA ′ of FIG. In this embodiment, in the region where the signal line 12 that is an electrode line intersects with the sealing resin 24, the transparent conductive connection pattern 31 is formed on the transparent base transparent simultaneously with the formation of the pixel electrode 14 prior to the formation of the signal line 12. Formed on the insulating layer 25. Thereafter, the signal line 12 having the opening 30 is formed so as to include the connection pattern 31.
[0038]
In the region intersecting with the sealing resin 24, the signal line 12 is laminated with the transparent conductive connection pattern 31 and the signal line 12 having the opening, and therefore transparent when irradiated with ultraviolet rays from the back surface of the active matrix substrate 2. The sealing resin can be almost completely cured even at the portion intersecting with the signal line by the ultraviolet light transmitted through the connection pattern 31, the ultraviolet light transmitted through the opening 30, and the ultraviolet light circulated from the periphery of the opening 30.
[0039]
Similarly, at the portion where the scanning line pattern and the sealing resin 24 intersect, similarly, an opening is provided in the scanning line made of a light-shielding material, and the transparent conductive layer is partially used together to irradiate from the outer surface of the active matrix substrate 2. The sealing resin can be completely cured by the applied ultraviolet light. This embodiment is suitable for a large-sized liquid crystal panel because an increase in electrical resistance caused by providing an opening in an electrode line can be compensated for by using (lamination) a transparent conductive connection pattern.
[0040]
As a fourth embodiment, the present invention can also be applied to an IPS (In-Plain-Switching) type color liquid crystal panel. As described above, in the IPS liquid crystal panel, the pixel electrode and the counter electrode constituting the liquid crystal cell are both formed on the active matrix substrate, and a transparent conductive layer is unnecessary. Therefore, applying the above-described second and third embodiments to an IPS liquid crystal panel adds a step of forming a transparent conductive layer, which is not desirable in terms of cost. However, as in the first embodiment described above, the configuration in which the opening is formed in the electrode line at the portion intersecting with the ultraviolet curable sealing resin can be easily applied to the IPS liquid crystal panel. In this case, the same effect can be obtained.
[0041]
In each of the above embodiments, the configuration or material of a switching element such as an insulated gate transistor and the configuration or material of a scanning line and a signal line that are electrode lines are not particularly limited. In Embodiment 2 or 3, the order of forming the transparent conductive layer and the electrode line may be reversed.
[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, an ultraviolet curable resin is used as a sealing material for sealing the active matrix substrate and the color filter substrate, and sealing is performed by irradiating ultraviolet rays from the outer surface of the active matrix substrate. The material can be cured almost completely. As a result, it is possible to achieve both improvement in bonding accuracy and improvement in seal quality by lowering the temperature in the paneling process, and a liquid crystal panel having a high aperture ratio and high reliability can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an arrangement diagram of electrode patterns on a scanning line side of an active matrix matrix substrate according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an electrode pattern on a signal line side of an active matrix substrate according to a second embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG. 2. FIG. 4 is a layout diagram of electrode patterns on the signal line side of the active matrix substrate according to the third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a perspective view showing a mounting state of a conventional liquid crystal panel. FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of a conventional active matrix type liquid crystal panel. FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part of a conventional active matrix type liquid crystal panel. FIG. 10 is an arrangement of electrode patterns on the scanning line side of an active matrix substrate using a conventional liquid crystal panel. FIG. 11 is a cross-sectional view corresponding to the line AA ′ in FIG.
2 active matrix substrate 9 color filter substrate 11 scanning line 12 signal line 24 sealing material 25 insulating layer 26 opening 27 formed in insulating layer passivation insulating layer 28 opening 30 formed in passivation insulating layer formed on electrode line Opening 31 Transparent conductive connection pattern partially constituting electrode wire

Claims (7)

透明絶縁基板上に複数の金属薄膜からなる走査線と、絶縁層を介して前記走査線と交差する複数の金属薄膜からなる信号線とが設けられ、前記走査線及び前記信号線の各交点にスイッチング素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリクス基板と、
透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向するカラーフィルタ基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフィルタ基板の間に充填された液晶と
前記液晶を封止するためのシール材とを備えた液晶パネルにおいて、
記走査線及び前記信号線を含む金属薄膜からなる電極線が、前記シール材と交差する部分に連続して形成されるとともに、前記シール材を硬化する紫外線を通過させ得る開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネル。
A scan line comprising a plurality of metal thin film on a transparent insulating substrate, a signal line comprising a plurality of metal thin film which intersects the scanning lines via an insulating layer is provided, at intersections of the scanning lines and the signal lines An active matrix substrate provided with a switching element and a transparent pixel electrode;
A color filter substrate having a transparent conductive layer and facing the active matrix substrate;
And liquid crystal filled between the color filter substrate and the active matrix substrate,
In a liquid crystal panel provided with a sealing material for sealing the liquid crystal,
Before Kihashi査線and electrode line made of a metal thin film including the signal line, while being formed continuously at the intersection with the sealing material, has an opening capable of passing the ultraviolet curing the sealing material A color LCD panel.
透明絶縁基板上に複数の金属薄膜からなる走査線と、絶縁層を介して前記走査線と交差する複数の金属薄膜からなる信号線とが設けられ、前記走査線及び前記信号線の各交点にスイッチング素子と、所定の間隔で配置された画素電極及び対向電極とを有するアクティブマトリクス基板と、
前記アクティブマトリクス基板と対向するカラーフィルタ基板と、
前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフィルタ基板の間に充填された液晶と
前記液晶を封止するためのシール材とを備えた液晶パネルにおいて、
記走査線及び前記信号線を含む金属薄膜からなる電極線が、前記シール材と交差する部分に連続して形成されるとともに、前記シール材を硬化する紫外線を通過させ得る開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネル。
A scan line comprising a plurality of metal thin film on a transparent insulating substrate, a signal line comprising a plurality of metal thin film which intersects the scanning lines via an insulating layer is provided, at intersections of said scanning lines and said signal lines An active matrix substrate having a switching element, a pixel electrode and a counter electrode arranged at a predetermined interval;
A color filter substrate facing the active matrix substrate;
And liquid crystal filled between the color filter substrate and the active matrix substrate,
In a liquid crystal panel provided with a sealing material for sealing the liquid crystal,
Before Kihashi査線and electrode line made of a metal thin film including the signal line, while being formed continuously at the intersection with the sealing material, has an opening capable of passing the ultraviolet curing the sealing material A color LCD panel.
前記開口部が複数設けられた請求項1または2に記載のカラー液晶パネル。The color liquid crystal panel according to claim 1, wherein a plurality of the openings are provided. 前記電極線の前記シール材と交差する部分の幅が、それ以外の部分の幅より広い請求項1から3のいずれかに記載のカラー液晶パネル。The color liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 3, wherein a width of a portion of the electrode line intersecting with the sealing material is wider than a width of the other portion. 前記シール材が紫外線硬化型の樹脂である請求項1から4のいずれかに記載のカラー液晶パネル。The color liquid crystal panel according to claim 1, wherein the sealing material is an ultraviolet curable resin. 前記カラーフィルタ基板と前記シール材との間に遮光性膜が設けられた請求項1から5のいずれかに記載のカラー液晶パネル。The color liquid crystal panel according to claim 1, wherein a light-shielding film is provided between the color filter substrate and the sealing material. 請求項1から6のいずれかに記載の液晶パネルの製造方法であって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際して、前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パネルの製造方法。A method of manufacturing a liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 6, ultraviolet and the active matrix substrate and the color filter substrate when bonded with the sealing material, from the outer surface of the front Symbol active matrix substrate A method for manufacturing a liquid crystal panel, wherein the sealing material is cured by irradiation.
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