JPH1184348A - 高分子分散型液晶表示素子の製造方法および製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶の偏平効果が長時間安定に持続でき、光に
対する散乱性の優れたコントラストの高い、信頼性の高
い高分子分散型液晶表示素子の製造方法および製造装置
を提供する。 【解決手段】基板１１，１２間に高分子・液晶複合体１
５が配置されるとともに、液晶滴がセル厚方向に変形さ
れている高分子分散型液晶表示素子の製造方法であっ
て、液晶材料と熱重合開始剤と光重合開始剤と熱および
光のいずれによっても重合反応を行う重合性材料とから
構成される混合溶液１０を基板１１，１２間に注入する
工程と、混合物を加熱することにより高分子と液晶とを
相分離させる第１の重合工程と、液晶押し出す工程と、
紫外線を照射し未反応の重合性材料を重合させる第２の
重合工程とを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶テレビ、液晶
プロジェクターなどに用いられる液晶表示素子の製造方
法および製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子は、薄型、小型、低電圧駆
動、低消費電力という特徴を生かし、腕時計、電卓等の
表示から、ナビゲーションシステム、ノート型パソコ
ン、液晶モニター、データプロジェクター、プロジェク
ション液晶テレビなどあらゆるところで広く利用されて
いる。このような液晶表示素子の表示モードの中で、従
来より広く用いられているのがＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ
Ｎｅｍａｔｉｃ）方式であり、対向する２枚の基板の間
に上下で液晶分子が９０度ねじれた構造の液晶素子を２
枚の偏光板により挟持したものである。また、ＴＮ方式
の時分割駆動特性を改善したＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗ
ｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式の液晶表示素子も日
本語ワードプロセッサーなどに使われている。さらに、
最近では液晶分子の自発分極によって液晶分子の配列状
態を変化させ、その配列状態の変化に伴う電気光学効果
を表示に利用する強誘電性液晶を利用した情報機器も実
用化されている。

【０００３】しかし、これらの液晶表示素子は少なくと
も１枚の偏光板を必要とするため、暗い、配向処理が必
要、セル厚制御が容易でないという課題があった。

【０００４】一方、このような液晶表示素子に対して、
偏光板が不要で、電界により液晶分子の配列を制御し
て、白濁状態または透明状態を作り出す方式が提案され
ている。この方式は、液晶と透明高分子の複合体が２枚
の基板間に挟持されており、液晶分子が正の誘電率異方
性を有する場合、液晶分子の常光屈折率と透明高分子の
屈折率を一致させておくと、電圧を印加して液晶分子の
長軸を電界に平行になるように配列させて透明高分子の
屈折率と一致すると界面の光散乱がないため透明状態に
なり、一方電圧が無印加のときには、液晶分子は種々の
方向に配向しているため透明高分子との界面で屈折率が
一致しないため光散乱が起こり白濁不透明状態になるこ
とを利用しているものである。

【０００５】この方式の代表的な例は、ＮＣＡＰ（Ｎｅ
ｍａｔｉｃ Ｃｕｒｖｉｌｉｎｅａｒ Ａｌｉｇｎｅｄ
Ｐｈａｓｅ）と呼ばれる、ネマチック液晶をポリビニ
ルアルコールなどでマイクロカプセル化したものである
（粉体と工業、ＶＯＬ．２２、ＮＯ．８（１９９
０））。また、このほかに、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａ
ｌ）といわれる方式があり、液晶微小滴を高分子マトリ
クス中に分散させる方法である（フラットパネルディス
プレイ’９１、日経ＢＰ社、ｐ２１９）。また、ＰＮＬ
Ｃ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｌｉｑｕｉｄ
Ｃｒｙｓｔａｌ）といわれるものもあり、樹脂が液晶の
連続相の中に3 次元ネットワーク状に広がる構造を有す
るものである（電気情報通信学会技術研究報告、ＥＩＤ
８９−８９、ｐ１）。これらの液晶と透明高分子の複合
体は、総称して高分子分散型液晶と呼ばれている。

【０００６】従来、これらの液晶と高分子の複合体の製
造方法は、アクリル系またはエポキシ系紫外線硬化樹脂
などの未硬化樹脂モノマーと液晶材料を溶解させた混合
組成物を２枚の基板間に注入し、これに、紫外線を照射
すると、樹脂モノマーが重合して液晶と樹脂が相分離す
る。その結果、高分子中に液晶が分散した構造、または
液晶中に高分子がネットワーク状に広がる構造のものが
得られる（フラットパネルディスプレイ’９１、日経Ｂ
Ｐ社、ｐ２１９、電気情報通信学会技術研究報告、ＥＩ
Ｄ８９−８９、ｐ１など）。

【０００７】ところで、このような高分子分散型液晶に
おいて、液晶と高分子の複合体の光に対する散乱性を向
上させるため、液晶滴の形状を平板状（液晶滴の断面形
状を基板に垂直な方向の長さが基板に平行な方向の長さ
に比べて小さい）に変形し、偏平化する例が特開平５−
８０３０２号公報および特開平７−１８１４５４号公報
に開示さている。

【０００８】即ち、特開平５−８０３０２号公報には、
樹脂モノマーと液晶材料の混合物に紫外線を照射して、
高分子と液晶とを相分離させ、加熱および加圧手段によ
り分離析出した液晶滴を変形比（この公報では液晶滴の
断面の長軸と短軸の比を意味する）１．２〜５．０まで
偏平化を行う技術が開示されている。また、特開平７−
１８１４５４号公報には、紫外線を照射し重合させなが
ら加圧する方法、あるいは加熱し重合させながら加圧す
る方法により、分離析出した液晶滴を変形前と比較して
厚みを１／２〜１／４（変形比に換算すると２〜４に相
当する）まで偏平化を行う技術が開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
５−８０３０２号公報記載の従来技術では、液晶の偏平
化工程後に混合物への重合処理がなされていないことか
ら、偏平化後の液晶表示素子は、偏平化を行う直前の樹
脂モノマーの重合反応が完全に終了していない状態を維
持したままであり、樹脂が完全に硬化されていない。従
って、液晶滴が一旦偏平化されても、時間の経過につれ
偏平効果が緩和され、元の偏平前の状態に徐々に戻ると
いう問題がある。

【００１０】この点に関し、特開平７−１８１４５４号
公報記載の従来技術では、液晶の偏平化工程後に混合物
への重合処理がなされていることから、液晶滴が時間の
経過につれ元の偏平前の状態に徐々に戻るという問題は
解消されている。しかしながら、この従来技術では、２
段階の重合工程がいずれも紫外線による光重合による
か、あるいはいずれも加熱による熱重合によるものであ
るため、以下の新たな問題が生じる。

【００１１】即ち、２段階の重合工程がいずれも紫外線
による光重合の場合、偏平化工程前の重合工程におい
て、液晶の偏平化工程を考慮して、樹脂モノマーの重合
反応の進行が例えば全体の８０％完了している状態にな
ることを希望していても、その状態を実現することが困
難で、各液晶セル毎にバラツキが生じるおそれがある。
なぜなら、重合反応の進行は紫外線の照射時間に影響さ
れ、しかも、極めて短時間に重合反応が進行するという
特徴があるからである。そのため、上記重合反応の進行
度のバラツキに起因して、偏平化工程後の液晶の変形比
にバラツキが生じる。

【００１２】特に、この従来技術では、変形比が２〜４
と極めて大きいため、重合反応の進行度が偏平化に与え
る影響が大きい。そのため、重合反応の進行度のバラツ
キに起因した変形比のバラツキが許容範囲を超え、液晶
表示素子の信頼性が劣るという問題が生じる。一方、液
晶表示素子の信頼性を向上しようとすれば、製造マージ
ンを小さくしなければならず、作業が面倒になり、製造
コストの増大を招くという問題が生じる。また、２段階
の重合工程がいずれも熱重合の場合、重合反応の進行が
遅いため、上記光重合の場合程には重合反応の進行度の
バラツキが生じないが、それでも変形比が極めて大きい
ことを考慮すれば、上記光重合の場合と同様な問題が生
じ得る。

【００１３】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、液晶の偏平効果が長時間安定に持続でき、光に対す
る散乱性の優れたコントラストの高い、信頼性の高い高
分子分散型液晶表示素子の製造方法および製造装置を提
供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明のうち請求項１記
載の発明は、第１の重合工程を熱重合とし、第２の重合
工程を光重合とし、混合物中の熱重合開始剤の含有量
が、熱重合反応により熱重合開始剤が全て消費されたと
きに重合性材料が予め定めた第１の重合状態になる量と
され、光重合開始剤の含有量が、少なくとも光重合反応
により光重合開始剤が全て消費されたときに第１の重合
状態から全ての重合性材料の重合反応が完全に終了する
第２の重合状態まで重合させることができる量とされて
いることを特徴とする。

【００１５】上記構成によれば、第１の重合工程で熱重
合開始剤が反応し、全ての熱重合開始剤が消費されて第
１の重合状態となる。この状態では、例えば重合性材料
の過半数又はそれ以上が重合し、液晶と高分子の複合体
のメッシュサイズがほぼ決定される。次に押圧により液
晶が厚み方向に偏平な形状になる。つづく第２の重合工
程により前記複合体に存在する光重合開始剤の反応によ
り残留する重合性材料を完全に重合させて架橋を起こさ
せる。これにより、液晶の偏平形状を固定し安定化する
ことができる。なお、本発明では、第１の重合工程を熱
重合とし、第２の重合工程を光重合とするので、熱重合
開始剤の含有量を調整することにより希望する第１の重
合状態を得ることが可能となる。従って、前述した第１
および第２の重合工程のいずれも光重合とする従来技術
において生じる問題を解消することができる。

【００１６】また請求項２記載の発明は、第１の重合工
程を光重合とし、第２の重合工程を熱重合とし、混合物
中の光重合開始剤の含有量が、光重合反応により光重合
開始剤が全て消費されたときに重合性材料が予め定めた
第１の重合状態になる量とされ、熱重合開始剤の含有量
が、少なくとも熱重合反応により熱重合開始剤が全て消
費されたときに第１の重合状態から全ての重合性材料の
重合反応が完全に終了する第２の重合状態まで重合させ
ることができる量とされていることを特徴とする。

【００１７】上記構成により、第１の重合工程で光重合
開始剤が反応し、全ての光重合開始剤が消費されて第１
の重合状態となる。この状態では、例えば重合性材料の
過半数又はそれ以上が重合し、液晶と高分子の複合体の
メッシュサイズがほぼ決定される。次に押圧により液晶
が厚み方向に偏平な形状になる。つづく第２の重合工程
により前記複合体に存在する熱重合開始剤の反応により
残留する重合性材料を完全に重合させて架橋を起こさせ
る。これにより、液晶の偏平形状を固定し安定化するこ
とができる。なお、本発明では、第１の重合工程を光重
合とし、第２の重合工程を熱重合とするので、光重合開
始剤の含有量を調整することにより希望する第１の重合
状態を得ることが可能となる。従って、前述した第１お
よび第２の重合工程のいずれも光重合とする従来技術に
おいて生じる問題を解消することができる。

【００１８】また請求項３記載の発明は、一方の基板が
その基板面にストライブ状またはマトリクス状に金属配
線がなされたものであり、混合物が注入された液晶セル
の一方の基板側から紫外線を照射し、光重合により高分
子と液晶とを相分離させ、押し出し工程の後に、他方の
基板側から紫外線を混合物に照射し、光重合により残留
している未反応の重合性材料を重合させさせることを特
徴とする。

【００１９】上記構成に従えば、ストライブ状またはマ
トリクス状の金属配線がなされている部分では、紫外線
が遮光される。従って、一方の基板側から紫外線を照射
すると、開口部（金属配線部以外の部分）のみ紫外線が
通過し、その部分に存在する混合物は重合反応により液
晶と高分子の複合体のメッシュサイズが決定される。し
かし、金属配線部の下部に位置する混合物の重合は漏れ
光によって一部しか進行しておらず、ほぼ未反応であ
る。この基板を押圧して厚み方向に変形させると、開口
部の液晶はストライブ状またはマトリクス状の金属配線
部を伝って封口部から容易に押し出させることができ、
極めて容易に液晶を偏平な形状にすることができる。つ
づく他方の基板側から紫外線を照射すると、前記金属配
線部に存在する混合物が重合するため、この部分が基板
全体の接着剤の役割を果たし、液晶の偏平形状を固定、
安定化することができる。

【００２０】また請求項４記載の発明は、請求項３記載
の発明において、一方の基板が、基板面にマトリクス状
配線によって区画された複数領域の各々に画素電極とア
クティブ素子が形成されているアクティブ基板であるこ
とを特徴とする。

【００２１】上記構成により、請求項３記載の発明と同
様な作用・効果が得られる。

【００２２】また請求項５記載の発明は、請求項４記載
の発明において、アクティブ素子がＴＦＴであることを
特徴とする。

【００２３】上記構成により、請求項４記載の発明と同
様な作用・効果が得られる。

【００２４】また請求項６記載の発明は、請求項１乃至
請求項５に記載の発明において、第１の重合状態におけ
る高分子のガラス転移温度をＴｇ１とし、前記第２の重
合状態における高分子のガラス転移温度をＴｇ２とする
と、Ｔｇ２がＴｇ１より１０℃以上高いことを特徴とす
る。

【００２５】上記構成により、押し出し工程前の樹脂は
ガラス転移温度が低いのでやわらかく偏平化を容易に起
こさせることができる。また、第２の重合工程後の樹脂
のガラス転移温度は高いため樹脂が堅くなり、偏平化前
の状態に戻る効果を抑制することができる。

【００２６】また請求項７記載の発明は、第１および第
２の重合工程が光重合であり、第１の重合状態における
高分子のガラス転移温度をＴｇ１とし、前記第２の重合
状態における高分子のガラス転移温度をＴｇ２とする
と、Ｔｇ２がＴｇ１より１０℃以上高いことを特徴とす
る。

【００２７】上記構成により、請求項６記載の発明と同
様に、偏平化を容易に起こさせることができ、また、偏
平化前の状態に戻る効果を抑制することができる。

【００２８】また請求項８記載の発明は、請求項１乃至
請求項７に記載の発明において、液晶を押し出す工程が
加熱であることを特徴とする。

【００２９】液晶を押し出す工程が加熱であることによ
り、押圧装置を使用しなくても液晶材料の熱膨張係数が
ポリマーやセル基板よりはるかに大きいため、封口部か
ら液晶が滲み出し、封口部を封口樹脂により封口したあ
と６０℃以下の使用温度範囲に戻すことにより偏平化が
行え、偏平形状を固定、安定化することができる。

【００３０】また請求項９記載の発明は、請求項１乃至
請求項７に記載の発明において、液晶を押し出す工程が
プレスによる押圧であることを特徴とする。

【００３１】液晶を押し出す工程がプレスによる押圧で
あることにより、均一に押圧することができる。

【００３２】また請求項１０記載の発明は、請求項１乃
至請求項７に記載の発明において、液晶を押し出す工程
がローラによる押圧であることを特徴とする。

【００３３】液晶を押し出す工程がローラによる押圧で
あることにより、均一に、かつ連続的に押圧することが
できるので生産性がよく、また、封口部に向かってロー
ラで押圧すれば、容易に液晶を押し出すことができる。

【００３４】また請求項１１記載の発明は、請求項１乃
至請求項７に記載の発明において、液晶を押し出す工程
が真空パックによる押圧であることを特徴とする。

【００３５】真空パックによる押圧であることにより、
特別な設備が不要で、また、極めて均一に押圧すること
ができる。

【００３６】また請求項１２記載の発明は、第１および
第２の重合工程が光重合であり、第１の重合工程により
分離析出された液晶滴をセル厚方向に変形するために、
液晶セルを冷却し、冷却工程の後に、第２の重合工程と
して冷却状態を維持したまま紫外線を照射し、光重合に
より前記残留している未反応の重合性材料を重合させる
ことを特徴とする。

【００３７】上記構成に従えば、第１の重合工程で光重
合開始剤が反応し例えば重合性材料の過半数又はそれ以
上が重合し、液晶材料と高分子の複合体のメッシュサイ
ズがほぼ決定される。次に冷却することにより液晶材料
の熱膨張係数が大きいことによる熱応力に基づく押圧に
より液晶が厚み方向に偏平な形状になる。そして、この
状態で第２の重合工程により紫外線を照射することによ
り前記複合体に存在する光重合開始剤の反応によって残
留する重合性材料を完全に重合させ、偏平形状を固定し
安定化することができる。

【００３８】また請求項１３記載の発明は、第１の重合
工程が熱重合で、第２の重合工程が光重合であり、第１
の重合工程により分離析出された液晶滴をセル厚方向に
変形するために液晶セルを冷却し、冷却工程の後に、第
２の重合工程として冷却状態を維持したまま紫外線を混
合物に照射し、光重合により前記残留している未反応の
重合性材料を重合させことを特徴とする。

【００３９】上記構成により、第１の重合工程で熱重合
開始剤が反応し、全ての熱重合開始剤が消費されて第１
の重合状態となる。この状態では、例えば重合性材料の
過半数又はそれ以上が重合し、液晶と高分子の複合体の
メッシュサイズがほぼ決定される。次に冷却することに
より液晶材料の熱膨張係数が大きいことによる熱応力に
基づく押圧により、液晶滴が厚み方向に偏平な形状にな
る。そして、この状態で第２の重合工程により紫外線を
照射することにより前記複合体に存在する光重合開始剤
の反応によって残留する重合性材料を完全に重合させ、
偏平形状を固定し安定化することができる。なお、本発
明では、第１の重合工程を熱重合とし、第２の重合工程
を光重合とするので、熱重合開始剤の含有量を調整する
ことにより、上記請求項１記載の効果と同様に第１およ
び第２の重合工程のいずれも光重合とする従来技術にお
いて生じる問題を解消することができる。

【００４０】また請求項１４記載の発明は、混合物が注
入された液晶セルを、搬送経路に沿って搬送させる手段
と、液晶セルの搬送経路の途中に設けられ、液晶セルの
一部に紫外線を照射する紫外線照射手段と、液晶セルの
搬送経路の途中に設けられ、液晶セルの前記紫外線が照
射された領域を押圧するローラとを有する製造装置であ
ることを特徴とする。

【００４１】上記構成により、第１の重合工程および液
晶押し出し工程の自動化が達成される。また、第１およ
び第２の重合工程が共に光重合の場合、紫外線照射時間
により重合反応を制御するようにしても、紫外線照射後
一定期間、重合反応が進行することから、紫外線照射時
間のみによる制御では、分離析出した液晶を偏平化する
作業が困難となる場合がある。この点、本発明では、ロ
ーラの回転速度および液晶セルの搬送速度を最適な速度
に調整することにより、紫外線照射による重合開始時か
ら、重合による相分離が完了する重合完了時までのうち
で、最適な重合状態となっている液晶セルを、押圧する
ことが可能となる。その結果、液晶の偏平化を容易にす
ることがてきる。また、仮に、紫外線による重合工程を
１回のみとし、液晶押し出し工程後に、重合処理をしな
い場合であっても、前記と同様にローラの回転速度およ
び液晶セルの搬送速度を最適な速度に調整することによ
り、液晶の偏平化と偏平化後の偏平効果の緩和とを考慮
した最適な重合状態にある液晶セルを、ローラにより押
圧することが可能となるため、偏平化後も偏平効果が比
較的安定した液晶表示素子を作ることができる。

【００４２】また請求項１５記載の発明は、請求項１４
に記載の発明において、紫外線照射手段が、紫外線を発
光する光源と、光源からの紫外線のうち液晶を光分解さ
せる波長成分のみを遮断する光学フィルタとを備え、更
に、紫外線による液晶の相分離反応に関連して、液晶セ
ルを予め定めた温度に維持するための温度制御機構が設
けられていることを特徴とする。

【００４３】上記構成により、請求項１４記載の発明の
効果に加えて、温度に対して敏感な相分離反応がコント
ロールでき、均一な偏平効果を持つ液晶表示素子を得ら
れる。さらに、光学フィルタを設置することにより、液
晶の紫外線による光分解を防止することができ、信頼性
の高い液晶表示素子が得られる。

【００４４】また請求項１６記載の発明は、混合物が注
入された液晶セルを搬送経路に沿って搬送し、この搬送
中において液晶セルの一部分に紫外線を照射し、紫外線
照射による重合開始時から、重合による液晶の相分離が
完了する時までの期間内において前記液晶セルの紫外線
照射領域を前記ローラによって押圧するようにしたこと
を特徴とする。

【００４５】上記構成により、上記請求項１４記載の発
明と同様に効果が得られる。

【００４６】また請求項１７記載の発明は、請求項１乃
至請求項１３又は請求項１６のいずれかに記載の発明に
おいて、液晶滴の変形比が、１．１５以下になるように
変形されていることを特徴とする。

【００４７】上記構成において、変形比を１．１５以下
にするのは、変形比が大きすぎると、かえって光散乱性
が悪化するからである。なお、このように変形比を従来
技術に比べて極めて小さくすることにより、光散乱性を
向上することができると共に、第１および第２の重合工
程がいずれも光重合である構成を有する発明の場合にお
いて、以下に述べる特有の効果が生じる。即ち、従来技
術の項で述べたように、第１および第２の重合工程がい
ずれも光重合の場合、第１の重合工程における重合反応
の進行度のバラツキに起因して、変形比のバラツキが生
じる。しかし、変形比が従来技術に比べて極めて小さい
本発明では、重合反応の進行度のバラツキが生じても、
変形比に与える影響は極めて小さいものとなるため、従
来技術の有する液晶表示素子の信頼性が劣るという問題
を解消することができる。

【００４８】また請求項１８記載の発明は、請求項１４
又は請求項１５に記載の発明において、液晶滴の変形比
が、１．１５以下になるように変形されていることを特
徴とする。

【００４９】上記構成により、請求項１４又は請求項１
５に記載の発明の効果に加えて、請求項１７と同様な効
果を奏する。

【００５０】

【発明の実施の形態】

（実施の形態１）図１は本発明に係る製造方法により製
造された高分子分散型液晶表示素子の断面図を示したも
のであり、図２はその平面図である。図１に示す液晶表
示素子において、互いに対向する２枚のガラス基板１，
２の内側にはそれぞれ透明電極３，４が形成され、これ
ら透明電極３，４間に、高分子５中に液晶滴６が分散さ
れた高分子・液晶複合体７が配置されいる。

【００５１】この液晶滴６は、図１に示すように、セル
厚方向に長さが縮められた偏平構造をとっている。この
ように液晶滴６を偏平に変形することより、液晶滴６内
の液晶分子が基板１，２にほぼ平行に比較的揃った状態
となる。そのため、電圧無印加時の散乱性が向上する。
なお、本実施の形態においては、液晶滴６の偏平状態
は、変形比で表すと、１．１５以下とされる。望ましく
は、１．０５〜１．１５の範囲とされる。ここで変形比
とは、変形前と変形後のセル厚比のことをいう。なお、
変形比を１．１５以下とするのは、変形比が大きすぎる
と、却って変形しないときよりも光散乱性が悪くなるか
らである。

【００５２】なお、図１では液晶分子の配列は図面の左
右方向に２極を持つバイポール構造として描いている
が、これはバイポール軸が基板に略平行に存在すること
を意図したものであり、バイポール軸が１軸方向に並ん
でいることを意図しているわけではない。バイポール軸
は、図２に示すように、基板面内にランダムに存在して
いる。

【００５３】また本発明でいう高分子分散型液晶は、高
分子中に液晶滴が島状に点在する構造の高分子・液晶複
合体のみに限定されるものではなく、液晶滴の一部分が
隣の液晶滴と連なった状態で存在してもよい。また、３
次元網目状の高分子の網目内に液晶滴が保持された構造
（ポリマーネットワーク液晶）であってもよい。

【００５４】上記の液晶表示素子は、（１）空セルの作
製、（２）混合物の作製、（３）混合物の基板間への注
入工程、（４）第１の重合工程、（５）液晶の押し出し
工程、（６）第２の重合工程、により製造される。以
下、各工程を具体的に説明する。

【００５５】（１）空セルの作製 透明電極３、４を設けた一対の透明ガラス基板１、２を
スペーサを介して熱硬化型のシール材８により液晶を注
入するための封口部を設けて貼り合わせ、加熱によりシ
ール材８を完全硬化させて空セルを作製する。

【００５６】（２）混合物の作製 液晶材料と熱重合開始剤と光重合開始剤と重合性材料を
それぞれ加え、この混合物を撹拌して均一な混合溶液を
調製する。ここで、液晶材料としては、正の誘電率異方
性を有し、常温付近で液晶状態を示すネマテック液晶、
コレステリック液晶、スメクテック液晶などの各種の液
晶材料が使用できる。液晶材料の具体例としては、ＴＬ
−２１３（メルク社製）が例示できる。また、これらの
液晶材料は１種でもよく、また２種以上を混合して使用
することもできる。また、これらの液晶材料に例えば２
色性色素などを含有させるようにしてもよく、更に、そ
れぞれ異なる色の２色性色素を含有させ高分子・液晶複
合体層を積層する構成として、フルカラー表示が可能な
液晶表示素子に本発明を適用するようにしてもよい。

【００５７】また、熱重合開始剤としては、例えばｔ−
ブチルパーオキサイドが使用できる。また、光重合開始
剤としては、例えばダロキュア１１７３（チバガイギ
（株）製）が使用できる。

【００５８】また、重合性材料としては、光や熱により
重合し透明性を有する高分子化合物を生成する各種の重
合性物質が使用可能であるが、一般には例えばアクリレ
ート、メタクリレート、エポキシなどの重合性官能基を
有するモノマーやオリゴマーなどが使用される。具体的
には、重合性モノマーとしては、例えばｎ−トリデシル
アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルアクリレート、フタル酸モノヒドロキ
シエチルアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、ヘキサンジオールジアクリレートなどが使用
できる。重合性オリゴマーとしては、ポリウレタンアク
リレート、１，６ヘキサンジオールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、
オリゴウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、グリセリンジグリシジルエーテルなどが使用でき
る。

【００５９】なお、混合物中の熱重合開始剤および光重
合開始剤の各含有量は、第１の重合工程と第２の重合工
程を考慮して決められている。即ち、第１の重合工程が
熱重合である場合には、熱重合開始剤の含有量は、熱重
合開始剤が重合性材料との重合反応で全て消費されるこ
とによって、第１の重合状態となり得る量とされてい
る。ここに、第１の重合状態とは、高分子と液晶とが相
分離すると共に、重合性材料の重合反応が進行途中であ
って、高分子中に未反応の重合性材料が残留されてお
り、かつ、高分子の硬化状態が、分離析出した液晶滴内
の液晶の一部を基板間から外部に押し出すことが可能な
予め定めた硬化状態にあることを意味する。

【００６０】また、第２の重合工程が光重合である場合
には、光重合開始剤の含有量は、少なくとも光重合開始
剤が未反応の残留している重合性材料との重合反応によ
って、第２の重合状態となり得る量とされている。ここ
に、第２の重合状態とは、残留している未反応の重合性
材料を光重合させて、重合性材料の全ての重合反応が完
全に終了して高分子が完全に硬化する状態を意味する。

【００６１】なお、第１の重合工程が光重合で第２の重
合工程が熱重合の場合には、上記の第１の重合工程が熱
重合で第２の重合工程が光重合の場合と同様な考えに基
づいて、混合物中の熱重合開始剤および光重合開始剤の
各含有量が、決定される。

【００６２】（３）混合物の基板間への注入工程 空セルの封口部から前記溶液状の混合物を注入する。

【００６３】（４）第１の重合工程 液晶セル内の混合物を加熱する。これにより、重合性材
料（重合性モノマーと重合性オリゴマー）が熱重合開始
剤と反応し、高分子と液晶とが相分離する。この相分離
した液晶は、直径が数μｍ前後の球形の液晶滴となっ
て、高分子・液晶複合体７中に分散されている。この第
１の重合工程では、図３に示すように、全ての重合性材
料の重合反応が完全に終了する以前の第１の重合状態
（例えば、全体の８０％程度が重合している状態）で、
終了する。従って、第１の重合状態では、未反応の重合
性材料が例えば２０％程度残留している。

【００６４】（５）液晶の押し出し工程 球形の液晶滴を偏平に変形させるべく、液晶セルを押圧
して、液晶を液晶セルの封口部から外部に押し出す。こ
こで、前述したように、第１の重合工程では、重合性材
料の重合反応が完全に終了する以前の状態であることか
ら、液晶の押し出しを容易に行うことができる。このよ
うにして、液晶を外部に押し出すことにより、液晶滴６
がセル厚方向に縮められた偏平な構造となり、液晶滴６
内の液晶分子が基板に対してほぼ平行な液晶分子の割合
が増加し、散乱強度を増加することができる。液晶を押
圧する手段としては、例えばプレスによる押圧、ローラ
による押圧、真空パックによる押圧などが使用される。
なお、液晶の押し出し工程は、前記第１の重合工程中に
行うようにしてもよい。

【００６５】（６）第２の重合工程 液晶の押し出し工程の後、混合物に紫外線を照射し、未
反応の残留している重合性材料を光重合し、図３に示す
ように、混合物中の全ての重合性材料の重合反応を完全
に終了させる。これにより、高分子が完全に硬化した状
態となることから、液晶滴の偏平な構造は、長時間経過
しても、その状態を持続することが可能となり、液晶表
示素子の信頼性を向上することができる。なお、第２の
重合工程は、液晶の押し出し工程中に行うようにしても
よい。このようにして、本発明によれば、光に対する散
乱性が優れ、しかも、信頼性の高い液晶表示素子を製造
することができる。

【００６６】（実施の形態２）上記の実施の形態１で
は、第１の重合工程が熱重合であり、第２の重合工程が
光重合であったけれども、図４に示すように、第１の重
合工程を光重合とし、第２の重合工程を熱重合とするよ
うにしてもよい。

【００６７】（実施の形態３）この実施の形態では、液
晶表示素子がＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板を使用す
るアクティブマトリクス型液晶表示素子であり、第１の
重合工程および第２の重合工程共に光重合としたもので
ある。

【００６８】先ず、第１の重合工程ではマトリクス状の
金属配線（走査線や信号線など）がなされているＴＦＴ
基板側から紫外線を照射する。これにより、金属配線に
より遮光されている領域では重合反応が生じない。従っ
て、液晶の押し出し工程におて、その領域が液晶を外部
に押し出す際の通路の役割を果たすため、液晶の押し出
し処理が容易となる。液晶の押し出し工程後の第２の重
合工程では、他方の基板側から紫外線を照射する。これ
により、前記未反応の領域が重合し、この領域が基板全
体の接着剤の役割を果たし、液晶滴の偏平形状を固定、
安定化させることができる。

【００６９】このようにして、アクティブマトリクス型
液晶表示素子の場合には、液晶の押し出し処理が容易で
あるいう特有の効果を奏する。更に、この特有の効果に
より、前記従来の技術の項で説明した第１および第２の
重合工程共に光重合である場合に生じる液晶表示素子の
製造作業が困難であるという問題を解消することができ
る。なぜなら、例えば紫外線の照射時間が、設定時間よ
り僅かに長くなり、予め定めた第１の重合状態より重合
反応が進行し高分子の硬度が設定硬度以上となった場合
でも、マトリクス状配線部分が未反応でありその部分が
押し出す際の通路の役割を果たすため、液晶の押し出し
処理に支障をきたすことがないからである。よって、製
造マージンを広くとることができ、製造作業が容易とな
る。なお、この実施の形態では、アクティブ素子として
ＴＦＴを使用したけれど、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）を
使用してもよい。また、本発明は、アクティブマトリク
ス型液晶表示素子に限らず、一対の基板のうちの一方の
基板が、その基板面にストライブ状あるいはマトリクス
状の配線により遮光領域が存在するような構成の液晶表
示素子などの製造にも好適に実施することができる。

【００７０】（実施の形態４）また、第１および第２の
重合工程における樹脂の硬化度をガラス転移温度から規
定して、そのようなガラス転移温度に関する条件を満た
すように製造してもよい。即ち、第１の重合工程の後の
樹脂のガラス転移温度をＴ１とし、第２の重合工程の後
の樹脂のガラス転移温度をＴ２とすると、Ｔ２がＴ１よ
りも１０℃以上高くなるように、液晶表示素子を製造す
るようにしてもよい。

【００７１】（実施の形態５）また、第２の重合工程が
光重合の場合には、液晶の押し出し工程に代えて、液晶
セルを冷却する工程を用いるようにしてもよい。このよ
うな冷却工程を用いても、分離析出した液晶滴をセル厚
方向に変形させることができる。但し、第２の重合工程
では、液晶セルの冷却状態を維持したまま紫外線を照射
することが必要である。これは、冷却状態を維持したま
までなければ、液晶の変形が紫外線の照射時間中に元に
戻ってしまうおそれがあり、液晶表示素子の信頼性が劣
る原因になるからである。なお、液晶の押し出し工程に
代えて、液晶セルを冷却する工程を使用する場合の他
に、液晶の押し出し工程と冷却工程を併用するようにし
てもよい。

【００７２】（実施の形態６）この実施の形態は、液晶
表示素子の製造装置を使用して、第１の重合工程および
液晶の押し出し工程を自動的にかつ連続して行うことが
できるようにしたものである。この液晶表示素子の製造
装置は、液晶セルを搬送経路に沿って搬送させる搬送手
段と、搬送中に液晶セルの一部に紫外線を照射する紫外
線照射手段と、液晶セルの前記紫外線が照射された領域
を押圧するローラから構成される。搬送手段としては、
例えばベルト機構やチェーン機構などが使用され、紫外
線照射手段としては、例えば高圧水銀灯などが使用され
る。なお、紫外線照射手段は、高圧水銀灯などの他に、
高圧水銀灯からの紫外線のうち液晶を光分解させる波長
成分のみを遮断する光学フィルタを備えた構成のもので
あってもよい。更に、搬送手段、紫外線照射手段、ロー
ラの他に、液晶セルを予め定めた温度に維持するための
温度制御機構を設けるようにしてもよい。

【００７３】次に、上記製造装置を用いた液晶表示素子
の製造方法について説明する。先ず、混合物が注入され
た液晶セルを、搬送経路に沿って搬送する。そして、搬
送中において、液晶セルの一部分に紫外線を照射し、紫
外線照射による重合開始時から、重合による液晶の相分
離が完了する時までの期間内において前記液晶セルの紫
外線照射領域をローラによって押圧する。こうして、第
１の重合工程および液晶の押し出し工程を自動的にかつ
連続して行うことができる。

【００７４】なお、第２の重合工程が紫外線による光重
合とされる場合は、ローラよりも搬送経路下流側に、更
に紫外線照射手段を設けるようにしてもよい。このよう
にすれば、第１の重合工程、液晶の押し出し工程、およ
び第２の重合工程の一連の工程を全て自動化することが
できる。

【００７５】更に、他の実施の形態として、第１および
第２の重合工程共に、熱重合とするようにしてもよい。
なお、このように第１および第２の重合工程が共に、熱
重合であっても、変形比が１．１５以下とされる本発明
では、従来の技術に比べて変形比が極めて小さいため、
従来の技術の有する液晶表示素子の製造作業が困難であ
るという問題を解消することができる。

【００７６】

【実施例】本発明に係る高分子分散型液晶表示素子の製
造方法について、更に、実施例に基づいて以下に詳述す
る。

【００７７】（実施例１）液晶表示素子を、第１の重合
工程を熱重合とし、第２の重合工程を光重合として作製
した。図５に基づいて、以下に具体的に説明する。イン
ジウム・錫酸化膜からなる透明電極１３，１４を設けた
一対の透明ガラス基板１１，１２を１２μｍ径のプラス
ティック製のスペーサ（商品名ミクロパール：積水ファ
イン（株）製）を介して熱硬化型のシール材１８（商品
名ストラクトボンド：三井東圧化学（株）製）により封
口部１９（図６参照）を設けて貼り合わせ、１５０℃で
２時間加熱してシール材１８を完全硬化させて空セルを
得た。

【００７８】次に、液晶材料としてＴＬ−２１３（メル
ク社製）８．５０ｇと重合性モノマーとしてｎ−トリデ
シルアクリレートを０．８０ｇ、重合性オリゴマーとし
てポリウレタンアクリレートを０．６０ｇ、熱重合開始
剤としてｔ−ブチルパーオキサイド０．０５ｇ、光重合
開始剤としてダロキュア１１７３（チバガイギ（株）
製）を０．０５ｇそれぞれ加え、できあがった混合物
を、２５℃で十分撹拌し均一な混合溶液１０を調製し
た。

【００７９】この均一混合溶液１０を２５℃で前記空セ
ルに封口部１９から真空注入し、図５（ａ）に示す状態
とした。なお、封口部１９は封口しないままである。次
に、混合物が注入されている液晶セルを、図５（ｂ）に
示すように、加熱する。具体的には、液晶セルを１００
℃に設定した恒温槽に１時間放置した。この結果、熱重
合により、液晶と高分子が相分離し、高分子・液晶複合
体１５を得た。この時点では、複合体１５には、未反応
の重合性材料が残留している。このことは、前記液晶セ
ルのネマチック相−等方相の相転移温度を調べることに
より確認した。また、このとき液晶セル中の複合体１５
は、３次元のネットワーク状の高分子の中に液晶の連続
相が充填された構造を有していた。

【００８０】次に、図５（ｃ）に示すような、緩衝材２
１，２２を介して、風船２３に１ｋｇ／ｃｍ２の圧縮空
気２４を充填してプレスする装置により、前記液晶セル
を室温で押圧し、液晶を封口部１９より押し出した。約
１０分放置した後、封口部１９に押し出された液晶をふ
き取り、紫外線硬化型封口樹脂２５（例えばロックタイ
トＬＰＤ−１５５（日本ロックタイト（株）製）により
封口した。

【００８１】次に、図５（ｄ）に示すように、３５０ｎ
ｍ以下の波長成分をカットする紫外線カットフィルタＵ
Ｖ−３５（東芝硝子（株）製）を通過させた光強度１０
０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯による紫外線を、前記液晶
セルに、２５℃で６０秒照射した。これにより、残存す
る重合性材料を光重合開始剤との反応により重合させ
た。このとき、前記紫外線硬化型封口樹脂２５も同時に
硬化している。

【００８２】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の光散乱性につき、光透過率によって評価した。ここ
で、光散乱性を光透過率によって評価可能であるのは、
光散乱性が大きいとき透過率は小さく、光散乱性が小さ
いとき透過率は大きくなり、透過率と光散乱性とは相関
関係にあるからである。

【００８３】具体的には、大塚電子（株）製光学特性評
価装置ＬＣＤ−５０００により、測定温度３０℃、受光
角２．８゜、無電界の条件の下に、透過率を測定したと
ころ、表１に示すように、０．８％であった。

【表１】

【００８４】次に、こうして完成した高分子分散型液晶
表示素子の平均的なメッシュサイズ（基板面に平行な平
均的な液晶滴の間隙）を顕微鏡により調べたところ、
１．２μｍであった。また、この高分子分散型液晶表示
素子の透明電極１３、１４に１０Ｖ、３０Ｈｚの矩形波
を印加し、液晶分子を完全に電界に平行に配列させた状
態でセル厚を測定したところ、上記表１に示すように、
１０．９μｍであった。次に、この高分子分散型液晶表
示素子を６０℃で１０００時間放置した後、前記と同様
に透過率およびセル厚を測定したが、上記表１に示すよ
うに、全く変化は見られなかった。

【００８５】また、押し出し前の前記複合体と押し出し
後に紫外線を照射した複合体をパネルを割断して取り出
し、イソプロピルアルコールで液晶を洗い流し高分子の
み残した後、示差走査熱分析装置（ＤＳＣ）で吸熱ピー
クを測定し、高分子のガラス転移温度Ｔｇ（吸熱ピーク
の温度）を測定した。押し出し前の前記複合体の高分子
のＴｇ１は約２０℃であり、押し出し後に紫外線を照射
した複合体の高分子のＴｇ２は３０℃であった。従っ
て、Ｔｇ２がＴｇ１より１０℃以上高いという条件を満
たしていた。

【００８６】（実施例２）液晶表示素子を、第１の重合
工程を光重合、第２の重合工程を熱重合として作製し
た。以下に具体的に説明する。実施例１と同様に作製し
た空セルに、実施例１と同様に調製した混合物を、２５
℃で前記空セルに真空注入した。その後、封口せずに、
液晶セルを２５℃のホットプレートの上に置き、紫外線
カットフィルタＵＶ−３５を通過させた光強度５０ｍＷ
／ｃｍ２の高圧水銀灯による紫外線を２０秒照射した。
この結果、重合性材料が重合し、液晶と高分子が相分離
して、複合体を得た。このとき、紫外線照射強度および
照射時間は、実施例２に比べて、未反応の重合性材料を
存在させるためやや弱くしておいた。また、このとき複
合体は、実施例１と同様に３次元のネットワーク状の高
分子の中に液晶の連続相が充填された構造を有してい
た。次に、実施例１と同様に、プレス装置により前記液
晶セルを押圧し、液晶を封口部より押し出した。その
後、封口部に押し出された液晶をふき取り、実施例１と
同様に紫外線硬化型封口樹脂で封口し、スポットＵＶ照
射機で封口樹脂を硬化させた。

【００８７】次に、１００℃に設定した恒温槽に液晶セ
ルを１時間放置し、熱重合を行い複合体中の残存してい
る重合性材料を完全に重合させた。

【００８８】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、０．８％、１．２
μｍおよび１０．９μｍであった。

【００８９】次に、この高分子分散型液晶表示素子を６
０℃で１０００時間放置した後、前記と同様に透過率お
よびセル厚を測定したが、全く変化は見られなかった。

【００９０】（実施例３）液晶表示素子を、第１の重合
工程を光重合、第２の重合工程を熱重合として作製し
た。以下に具体的に説明する。実施例２と同様な方法
で、空セルの作製、混合物の調合、真空注入および光重
合を行い、複合体を得た。次の液晶押し出し工程として
は、加熱を行った。即ち、前記複合体を有する液晶セル
を恒温槽に入れ、１２０℃で１０時間放置した。これに
より、液晶の押し出しと熱重合が同時になされた。その
後、封口部に押し出された液晶をふき取り、紫外線硬化
型封口樹脂により封口し、２５℃に冷却した。

【００９１】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、１．１％、１．２
μｍおよび１１．６μｍであった。

【００９２】次に、この高分子分散型液晶表示素子を６
０℃で１０００時間放置した後、前記と同様に透過率お
よびセル厚を測定したが変化は見られなかった。

【００９３】（実施例４）液晶表示素子を、第１の重合
工程を熱重合、第２の重合工程を光重合として作製し
た。以下に具体的に説明する。実施例１と同様な方法
で、空セルの作製、混合物の調合、真空注入および熱重
合を行い、複合体を得た。次の液晶押し出し工程とし
て、ローラによる押圧を行った。具体的には、前記複合
体を有する液晶セルを１００℃に保温し、封口部の反対
側の端面よりローラ間を通過させた。液晶セルの線速度
は約５ｍｍ／ｓｅｃとした。その後、封口部に押し出さ
れた液晶をふき取り、紫外線硬化型封口樹脂により封口
し、２５℃に冷却して、実施例１と同様に紫外線で重合
させた。

【００９４】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、１．０％、１．２
μｍおよび１１．４μｍであった。次に、この高分子分
散型液晶表示素子を６０℃で１０００時間放置した後、
前記と同様に透過率およびセル厚を測定したが変化は見
られなかった。

【００９５】（実施例５）液晶表示素子を、第１の重合
工程を熱重合、第２の重合工程を光重合として作製し
た。以下に具体的に説明する。実施例１と同様な方法
で、空セルの作製、混合組成物の調合、真空注入および
熱重合を行い、複合体を得た。次の液晶押し出し工程と
して、真空パックによる押圧を行った。具体的には、前
記複合体を有する液晶セルを１００℃に保温したまま、
すばやく真空パックし、もう一度１００℃の恒温槽に放
置した。約２時間放置した後、真空パックを破り、封口
部に押し出された液晶をふき取り、紫外線硬化型封口樹
脂により封口し、２５℃に冷却して、実施例１と同様に
紫外線で重合させた。

【００９６】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、０．９％、１．２
μｍおよび１１．２μｍであった。次に、この高分子分
散型液晶表示素子を６０℃で１０００時間放置した後、
前記と同様に透過率およびセル厚を測定したが変化は見
られなかった。

【００９７】（実施例６）この実施例６は、図７および
図８に示すアクティブマトリクス型液晶表示素子に、本
発明を適用した例である。図７および図８において、３
０はＴＦＴアレイ基板である。このＴＦＴアレイ基板３
０には、その基板面にマトリクス状配線３１によって区
画された複数領域の各々に、画素電極３２とＴＦＴ部３
３と遮光層３４とが形成されている。なお、図７におい
ては、図面の容易化を図るため、画素電極３２、ＴＦＴ
部３３および遮光層３４は省略されている。また前記遮
光層３４、本実施例の液晶表示素子が投射型表示装置に
使用ものであることから、光によるＴＦＴの特性悪化防
止用として設けられているものである。また、図７およ
び図８において、３５は対向基板である。この対向基板
３５には、対向電極３６が形成されている。このような
構成の液晶表示素子を以下の方法で製造した。

【００９８】前記基板３０、３５を１１μｍ径のプラス
ティック製のスペーサ（例えば商品名ミクロパール：積
水ファイン（株）製）を介して熱硬化型のシール材（例
えば商品名ストラクトボンド：三井東圧化学（株）製）
により封口部を設けて貼り合わせ、１５０℃で２時間加
熱してシール材を完全硬化させて空セルを得た。

【００９９】次に、液晶材料としてＴＬ−２１３を８．
５０ｇ、重合性モノマーとしてｎ−トリデシルアクリレ
ートを０．８０ｇ、オリゴマーとしてポリウレタンアク
リレートを０．６０ｇ、光重合開始剤としてダロキュア
１１７３を０．１０ｇそれぞれ加え、できあがった液晶
材料と重合性材料の混合物を、２５℃で十分撹拌し均一
な混合溶液を調製した。この均一混合溶液を２５℃で前
記空セルに封口部から真空注入した。なお、この段階で
は、未だ封口部は封口されていない状態のままである。

【０１００】次に、アレイ基板３０側から、紫外線カッ
トフィルタＵＶ−３５を通過させた光強度５０ｍＷ／ｃ
ｍ２の高圧水銀灯による紫外線を２５℃で２０秒照射
し、重合させ複合体を得た。この状態では、配線３１お
よび遮光層３４が占める遮光領域の下部に位置する遮光
部分６０は、重合反応が殆ど進行せず、未反応の重合性
材料のままである。また、開口部（遮光部分以外の部
分）における複合体６１では、重合性材料の重合反応は
完全には終了しておらず、未反応の重合性材料が例えば
２０％程度残留している。

【０１０１】次に、実施例１の図５（ｃ）に示すよう
な、プレス装置により前記液晶セルを室温で押圧し、液
晶を封口部より押し出した。約１０分放置した後、封口
部に押し出された液晶をふき取り、紫外線硬化型封口樹
脂４０（例えばロックタイトＬＰＤ−１５５）により封
口した。次に、前記液晶セルに、対向基板３５側から、
紫外線カットフィルタＵＶ−３５を通過させた光強度１
００ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯による紫外線を、２５℃
で６０秒照射し、残存する重合性材料を光重合開始剤と
の反応により重合させた。

【０１０２】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率を大塚電子（株）製光学特性評価装置ＬＣＤ
−５０００により測定した。具体的には、測定温度３０
℃、受光角２．８゜、無電界の条件の下に、測定を行っ
た。結果は、開口率（この実施例では６０％）を補正し
て０．８％であった。次に、こうして完成した高分子分
散型液晶表示素子の開口部の複合体６１に対する平均的
なメッシュサイズを調べたところ、１．２μｍであっ
た。また、遮光部分の複合体６０のメッシュサイズは、
１．２μｍより大きかった。

【０１０３】次に、このＴＦＴ型高分子分散型液晶表示
素子を６０℃で１０００時間放置した後、前記と同様に
透過率を測定したが全く変化は見られなかった。なお、
図９に示すように、遮光層３４が対向基板３５に形成さ
れている液晶表示素子においても、本発明は好適に実施
することができる。

【０１０４】（実施例７）液晶表示素子を、第１および
第２の重合工程共に光重合により作製した。以下に具体
的に説明する。実施例１と同様に作製した空セルに、実
施例６と同様に調製した混合物を、２５℃で前記空セル
に真空注入した。その後、封口せずに、液晶セルを２５
℃のホットプレートの上に置き、紫外線カットフィルタ
ＵＶ−３５を通過させた５０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯
による紫外線を２０秒照射した。これにより、重合性材
料が光重合し、液晶と高分子が相分離し、複合体を得
た。

【０１０５】次に、液晶セルを８０℃の恒温槽に２時間
放置し、その後封口部に押し出された液晶をふき取り、
実施例１と同様に紫外線硬化型封口樹脂で封口し、スポ
ットＵＶ照射機で封口樹脂を硬化させた。次に、前記液
晶セルを−２０℃の恒温槽に３０に分放置した後、紫外
線カットフィルタＵＶ−３５を通過させた１００ｍＷ／
ｃｍ２の高圧水銀灯による紫外線を−２０℃で１２０秒
照射し、残存する重合性材料を光重合開始剤との反応に
より重合させた。

【０１０６】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、１．１％、１．２
μｍおよび１１．６μｍであった。次に、この高分子分
散型液晶表示素子を６０℃で１０００時間放置した後、
前記と同様に透過率およびまたセル厚を測定したが変化
がなかった。

【０１０７】（実施例８）本実施例では、紫外線による
第１の重合工程と、液晶押し出し工程とを、図１０およ
び図１１に示す製造装置を用いて、連続的かつ自動的に
行った。製造装置は、液晶セルをテーブル４０に沿って
搬送させる搬送手段（図示せず）と、液晶セルの一部に
紫外線を照射する紫外線照射手段４１と、液晶セルの紫
外線照射領域を押圧する一対のローラ４２，４３と、か
ら構成されている。紫外線照射手段４１は、光源として
の高圧水銀灯４４と、矩形状のスリット４５が形成され
ている遮光板４６と、光学フィルタ４８とを有する。光
学フィルタ４８は、例えば紫外線カットフィルタＵＶ−
３５である。なお、前記テーブル４０は、その温度が制
御されるように構成されている。これにより、テーブル
４０上に載置される液晶セルの温度を調整して、温度に
敏感な相分離反応を制御することができる。また、搬送
手段による液晶セルの送り速度は、紫外線による重合開
始時から重合完了時までの期間内において高分子が予め
定めた硬化状態（第１の重合状態）になったときに、液
晶セルがローラ４２，４３に達するように設定されてい
る。

【０１０８】上記構成の製造装置を使用して以下のよう
にして液晶表示素子を製造した。実施例１と同様に作製
した空セルに、実施例６と同様に調製した混合物を、２
５℃で前記空セルに真空注入した。その後、混合物が注
入された液晶セルをテーブル４０に載置し、搬送手段に
搬送させた。なお、テーブル４０の温度は２５℃に設定
した。この温度条件下で、液晶セルに光強度１００ｍＷ
／ｃｍ２の紫外線を照射し、重合性材料を重合させなが
ら、その部分（紫外線照射領域）にローラによる加圧を
行った。なお、液晶セルは封口部と反対側より投入し、
液晶押し出しが容易に行えるようにした。こうして、紫
外線による第１の重合工程と、液晶押し出し工程とを、
連続的かつ自動的に行った。

【０１０９】次に、封口部に押し出された液晶材料をふ
き取り、実施例１と同様に紫外線硬化型封口樹脂で封口
し、スポットＵＶ照射機で封口樹脂を硬化させた。次
に、前記液晶セルに、紫外線カットフィルタＵＶ−３５
を通過させた光強度１００ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯に
よる紫外線を６０秒照射し、残存する重合性材料を光重
合開始剤との反応により重合させた。

【０１１０】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、０．８％、１．２
μｍおよび１０．９μｍであった。次に、この高分子分
散型液晶表示素子を６０℃で１０００時間放置した後、
前記と同様に透過率およびまたセル厚を測定したが変化
がなかった。

【０１１１】なお、図１２に示すように、ローラ４２，
４３の内部にヒータ５０を備えるようにして、恒温槽５
１内において、紫外線による第１の重合工程と液晶押し
出し工程とを、連続的かつ自動的に行うようにしてもよ
い。このようにすれば、恒温槽５１内に送り込まれる温
風５２およびヒータ５０の温度を制御することにより、
一層均一でかつ最適な温度雰囲気中で第１の重合工程と
液晶押し出し工程とを、連続的かつ自動的に行うことが
できる。

【０１１２】（比較例１）実施例１と同様に作製した空
セルに、液晶材料としてＴＬ−２１３を８．５０ｇ、重
合性モノマーとしてｎ−トリデシルアクリレートを０．
８０ｇ、オリゴマーとしてポリウレタンアクリレートを
０．６０ｇ、光重合開始剤としてダロキュア１１７３を
０．１０ｇそれぞれ加え、できあがった液晶材料と重合
性材料の混合物を、２５℃で十分撹拌し均一な混合溶液
を調製した。

【０１１３】この均一混合溶液を２５℃で前記空セルに
真空注入し、その後、封口せずに、液晶セルを２５℃の
ホットプレートの上に置き、紫外線カットフィルタＵＶ
−３５を通過させた光強度１００ｍＷ／ｃｍ２の高圧水
銀灯による紫外線を６０秒照射し、重合性材料を重合さ
せながら液晶と高分子を相分離させ、複合体を得た。こ
の時点で、複合体の重合反応はほぼ完全に終了してい
た。また、このとき液晶セル中の複合体は、実施例１と
同様に３次元のネットワーク状の高分子の中に液晶の連
続相が充填された構造を有していた。次に、封口部に押
し出された液晶をふき取り、紫外線硬化型封口樹脂であ
るロックタイトにより封口し、その部分にスポットＵＶ
照射機で紫外線を３０秒照射して、封口樹脂を硬化させ
た。

【０１１４】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、上記表１に示すように、
各々、１．４％、１．２μｍおよび１２．０μｍであっ
た。次に、この高分子分散型液晶表示素子を６０℃で１
０００時間放置した後、前記と同様に透過率およびセル
厚を測定したが、上記表１に示すように、変化は見られ
なかった。

【０１１５】〔結果〕実施例１と比較例１とから、実施
例１の液晶セルの変形比は１．１ということがわかる。
また、変形比が１、即ち、液晶滴またはネットワークの
偏平化を行わない比較例１に対して、変形比が１．１で
ある実施例１の方が、上記表１に示すように、透過率が
小さい。従って、液晶滴を変形する場合の方が、液晶滴
を変形しない場合に比べて散乱性を向上させることがで
きることが理解される。また、実施例１および比較例１
の各完成した液晶表示素子の１０００時間後のセル厚
は、上記表１示すように、変化がなかったことから、重
合性材料の重合反応を完全に終了させた場合は、セル厚
の経時的変化がないことが認められる。

【０１１６】（比較例２）実施例１と同様に作製した空
セルに、実施例１と同様に調製した混合物を、２５℃で
前記空セルに真空注入し、実施例と全く同じ条件で熱に
より重合性材料を重合させた。その後、実施例１と同様
な条件で、プレス装置により前記液晶セルを押圧し、放
置した後、封口部を封口した。

【０１１７】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、上記表１に示すように、
各々、０．８％、１．２μｍおよび１０．９μｍであっ
た。次に、この高分子分散型液晶表示素子を６０℃で１
０００時間放置した後、前記と同様に透過率を測定する
と、上記表１に示すように、１．０％であり、またセル
厚は１１．４μｍであり、変化が見られた。

【０１１８】〔結果〕実施例１と比較例２とから、第１
の重合工程（この場合は熱重合）のみで、第２の重合工
程がなされない比較例２の液晶表示素子では、上記表１
に示すように透過率およびセル厚に経時的変化が生じ
た。よって、第１の重合工程（この場合は熱重合）のみ
では、液晶滴の変形が、長時間たつと、元に戻ることが
理解される。従って、このような比較例２の液晶表示素
子は、信頼性に劣る。

【０１１９】（比較例３）実施例１と同様に作製した空
セルに、比較例１と同様の混合溶液を２５℃で前記空セ
ルに真空注入し、その後、封口せずに、液晶セルを２５
℃のホットプレートの上に置き、紫外線カットフィルタ
ＵＶ−３５を通過させた１００ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀
灯による紫外線を６０秒照射し、重合性材料を重合させ
ながら液晶材料と高分子を相分離させ、複合体を得た。
この時点で、複合体の重合反応はほぼ完全に終了してい
た。また、このとき液晶セル中の複合体は、実施例１と
同様に３次元のネットワーク状の高分子の中に液晶の連
続相が充填された構造を有していた。

【０１２０】次に、実施例１と同様なプレスする装置に
より前記液晶セルを押圧し、液晶材料を封口部より押し
出した。このとき、温度は１００℃に設定し、圧力は２
ｋｇ／ｃｍ２とし、約６０分放置した。その後、封口部
に押し出された液晶をふき取り、紫外線硬化型封口樹脂
であるロックタイトにより封口し、その部分にスポット
ＵＶ照射機で紫外線を３０秒照射して、封口樹脂を硬化
させた。

【０１２１】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、上記表１に示すように、
各々、０．８％、１．２μｍおよび１０．９μｍであっ
た。次に、この高分子分散型液晶表示素子を６０℃で１
０００時間放置した後、前記と同様に透過率を測定する
と、上記表１に示すように、０．９％であり、またセル
厚は１１．２μｍであり、変化が見られた。

【０１２２】〔結果〕実施例１および比較例２，３か
ら、重合工程が紫外線による場合であっても、第１の重
合工程のみであれば、上記表１に示すように、液晶滴の
変形が元に戻る程度は比較例２に比べ若干緩やかではあ
るが、液晶滴の偏平な形状を長時間持続できないことに
かわりがないことが理解される。従って、比較例２と同
様にこのような比較例３の液晶表示素子は、信頼性に劣
る。

【０１２３】（比較例４）実施例１と同様に作製した空
セルに、比較例２と同様に調製した混合物を、２５℃で
前記空セルに真空注入し、その後、封口せずに、液晶セ
ルを１００℃に設定した恒温槽に１時間放置し、重合性
材料を重合させながら液晶と高分子を相分離させ、複合
体を得た。次に、実施例１と同様に、プレス装置により
前記液晶セルを押圧し、液晶材料を封口部より押し出し
た。このとき、圧力は２ｋｇ／ｃｍ２とし、約６０分放
置した。

【０１２４】その後、封口部に押し出された液晶材料を
ふき取り、実施例１と同様に紫外線硬化型封口樹脂で封
口し、スポットＵＶ照射機で封口樹脂を硬化させた。次
に、前記液晶セルに、紫外線カットフィルタＵＶ−３５
を通過させた光強度１００ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯に
よる紫外線を２５℃で６０秒照射し、残存する重合性材
料を光重合開始剤との反応により重合させた。

【０１２５】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、上記表１に示すように、
各々、１．５％、１．２μｍおよび１０．０μｍであっ
た。次に、この高分子分散型液晶表示素子を６０℃で１
０００時間放置した後、前記と同様に透過率およびまた
セル厚を測定したが、上記表１に示すように、変化がな
かった。

【０１２６】〔結果〕後述する比較例５と併せて、比較
結果を述べることにする。

【０１２７】（比較例５）実施例１と同様に作製した空
セルに、比較例４と同様に調製した混合物を、２５℃で
前記空セルに真空注入し、その後、封口せずに、液晶セ
ルを１００℃に設定した恒温槽に１時間放置し、重合性
材料を重合させながら液晶と高分子を相分離させ、複合
体を得た。次に、実施例１と同様に、プレス装置により
前記液晶セルを押圧し、液晶を封口部より押し出した。
このとき、圧力は１ｋｇ／ｃｍ２とし、約２０分放置し
た。その後、比較例４と同様に紫外線を照射し、複合体
を得た。

【０１２８】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、上記表１に示すように、
各々、１．０％、１．２μｍおよび１０．４μｍであっ
た。次に、この高分子分散型液晶表示素子を６０℃で１
０００時間放置した後、前記と同様に透過率およびセル
厚を測定したが、上記表１に示すように、変化がなかっ
た。

【０１２９】〔結果〕上記表１に示すように、比較例４
および比較例５は、実施例１と同様に長時間経過して
も、透過率およびセル厚に変化がなかった。これは、液
晶押し出し後に更に重合処理を行い、残留している未反
応の重合性材料を重合させて重合性材料の重合反応を完
全に終了させているからと考えられる。一方、比較例４
は、変形後のセル厚が１０．０μｍであるから、変形比
が１．２である。比較例５は、変形後のセル厚が１０．
４μｍであるから、変形比が約１．１５である。また、
透過率は、比較例４が１．５％で、比較例５が１．０％
である。従って、実施例１と比較例４，５から、変形し
すぎると却って透過率が増大（換言すれば光散乱性が減
少）することが理解される。

【０１３０】また、比較例１と比較例４，５から、変形
比が１．２以上変形すると、変形しない場合よりも却っ
て透過率が増大（換言すれば光散乱性が減少）すること
が理解される。

【０１３１】特開平５−８０３０２号公報には変形比が
１．２〜５．０のときに散乱が良いとされ、また、特開
平７−１８１４５４号公報では変形比が２〜４が望まし
いとされているが、今回の我々の実験では、変形比が
１．１以上では変形による散乱性増加傾向は観測されな
くなり、変形比１．２以上では変形しないときよりも散
乱性が悪化した。これは、液晶分子が高分子の界面に垂
直に配列しようとする傾向が強まるためであり、擬似的
には、液晶セルに電圧を印加したときの状況に近づくと
いえる。このことは、無電界印加時と、液晶分子が電界
に平行に配列する２０Ｖ印加時の各セル容量または誘電
率を測定することにより確認した。

【０１３２】（比較例６）押し出し工程後の紫外線の光
強度および照射時間が異なる以外は、実施例１と同様な
方法で高分子分散型液晶表示素子を製造した。即ち、光
重合による第２の重合工程における紫外線の光強度およ
び照射時間の条件を、実施例１の条件と違えて高分子分
散型液晶表示素子を製造した。この比較例６では、紫外
線の光強度は５０ｍＷ／ｃｍ２であり、照射時間は３０
秒とした。

【０１３３】こうして完成した高分子分散型液晶表示素
子の透過率、メッシュサイズおよびセル厚を実施例１と
同様な方法で測定したところ、各々、０．８％、１．２
μｍおよび１０．９μｍであった。次に、この高分子分
散型液晶表示素子を６０℃で１０００時間放置した後、
前記と同様に透過率を測定すると０．９％であり、また
セル厚は１１．２μｍであり、変化が見られた。

【０１３４】次に、押し出し前の前記複合体と押し出し
後に紫外線を照射した複合体をパネルを割断して取り出
し、実施例１と同様な方法で高分子のみ残した後、示差
走査熱分析装置（ＤＳＣ）で吸熱ピークを測定し、高分
子のガラス転移温度Ｔｇ（吸熱ピークの温度）を測定し
た。押し出し前の前記複合体の高分子のＴｇ１は約２０
℃であり、押し出し後のＴｇ２は約２５℃であった。従
って、Ｔｇ２がＴｇ１より１０℃大きい条件を満たして
いなかった。

【０１３５】〔結果〕実施例１と比較例６とを、高分子
のガラス転移温度の観点から判断すると、Ｔｇ２がＴｇ
１より５℃大きい程度であれば、偏平効果を長時間維持
できないが、Ｔｇ２がＴｇ１より１０℃大きい程度であ
れば、液晶滴の変形が元に戻ることなく、偏平な形状を
長時間持続できることが理解される。

【０１３６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶押し
出し後に、未反応の重合性材料を重合させるようにした
ので、高分子を完全に硬化させることができる。従っ
て、偏平効果が長時間安定に持続でき、光に対する散乱
性の優れたコントラストの高い、信頼性の高い液晶表示
素子を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る製造方法により製造された高分子
分散型液晶表示素子の断面図である。

【図２】本発明に係る製造方法により製造された高分子
分散型液晶表示素子の平面図である。

【図３】実施の形態１における重合方法を説明するため
の図である。

【図４】実施の形態２における重合方法を説明するため
の図である。

【図５】実施例１の製造工程を示す図である。

【図６】封口部１９付近の斜視図である。

【図７】実施例６に係るアクティブマトリクス型液晶表
示素子の分解斜視図である。

【図８】実施例６に係るアクティブマトリクス型液晶表
示素子の断面である。

【図９】他の構成のアクティブマトリクス型液晶表示素
子の断面である。

【図１０】実施例８において使用される製造装置の断面
図である。

【図１１】実施例８において使用される製造装置の平面
図である。

【図１２】他の構成の製造装置の断面図である。

【符号の説明】

１，２，１１，１２ … ガラス基板 ３，４，１３，１４ … 透明電極 ５ … 高分子 ６ … 液晶滴 ７，１５ … 高分子・液晶複合体 １０ … 混合溶液 ３０ … ＴＦＴアレイ基板 ３１ … マトリクス状配線 ３２ … 画素電極 ３３ … ＴＦＴ部 ３４ … 遮光層 ３５ … 対向基板 ３６ … 対向電極 ４０ … テーブル ４１ … 紫外線照射手段 ４２，４３ … ローラ ４４ … 高圧水銀灯 ４５ … スリット ４６ … 遮光板 ４８ … 光学フィルタ ５０ … ヒータ ５１ … 恒温槽 ５２ … 温風

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 雅夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 一生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 久保田 浩史 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 西山 誠司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分子
   ・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるとともに、
   前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に変形
   された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であって、 液晶材料と、熱重合開始剤と、光重合開始剤と、熱およ
   び光のいずれによっても重合反応を行う重合性材料とか
   ら構成される溶液状の混合物であって、熱重合開始剤の
   含有量が、熱重合反応により熱重合開始剤が全て消費さ
   れたときに重合性材料が予め定めた第１の重合状態にな
   る量とされ、光重合開始剤の含有量が、少なくとも光重
   合反応により光重合開始剤が全て消費されたときに第１
   の重合状態から全ての重合性材料の重合反応が完全に終
   了する第２の重合状態まで重合させることができる量と
   される、そのような溶液状の混合物を調製する工程と、 前記混合物を前記基板間に注入する工程と、 前記混合物を加熱することにより、前記重合性材料の熱
   重合により高分子と液晶とを相分離させると共に、重合
   性材料の重合反応が進行途中であって、高分子中に未反
   応の重合性材料が残留されており、かつ、高分子の硬化
   状態が分離析出した液晶滴内の液晶の一部を基板間から
   外部に押し出すことが可能な予め定めた硬化状態となる
   第１の重合状態まで重合させる第１の重合工程と、 分離析出された液晶滴をセル厚方向に変形すべく、前記
   基板間から液晶滴内の液晶の一部を外部に押し出す工程
   と、 前記押し出し工程の後に、前記混合物に紫外線を照射
   し、光重合により前記残留している未反応の重合性材料
   を重合させて、第１の重合状態から第２の重合状態まで
   重合させる第２の重合工程と、を有することを特徴とす
   る高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
2. 【請求項２】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分子
   ・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるとともに、
   前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に変形
   された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であって、 液晶材料と、熱重合開始剤と、光重合開始剤と、熱およ
   び光のいずれによっても重合反応を行う重合性材料とか
   ら構成される溶液状の混合物であって、光重合開始剤の
   含有量が、光重合反応により光重合開始剤が全て消費さ
   れたときに重合性材料が予め定めた第１の重合状態にな
   る量とされ、熱重合開始剤の含有量が、少なくとも熱重
   合反応により熱重合開始剤が全て消費されたときに第１
   の重合状態から全ての重合性材料の重合反応が完全に終
   了する第２の重合状態まで重合させることができる量と
   される、そのような溶液状の混合物を調製する工程と、 前記混合物を前記基板間に注入する工程と、 前記混合物に紫外線を照射することにより、前記重合性
   材料の光重合により高分子と液晶とを相分離させると共
   に、重合性材料の重合反応が進行途中であって、高分子
   中に未反応の重合性材料が残留されており、かつ、高分
   子の硬化状態が分離析出した液晶滴内の液晶の一部を基
   板間から外部に押し出すことが可能な予め定めた硬化状
   態となる第１の重合状態まで重合させる第１の重合工程
   と、 析出された液晶をセル厚方向に変形すべく、前記基板間
   から液晶滴内の液晶の一部を外部に押し出す工程と、 前記押し出し工程の後に、前記混合物を加熱し、熱重合
   により前記残留している未反応の重合性材料を重合させ
   て、第１の重合状態から第２の重合状態まで重合させる
   第２の重合工程と、 を有することを特徴とする高分子分散型液晶表示素子の
   製造方法。
3. 【請求項３】 基板面にストライブ状またはマトリクス
   状に金属配線がなされた一方の基板と、この基板に対向
   して配置される他方の基板との間に、高分子に液晶滴を
   分散させてなる高分子・液晶複合体が、配置されるとと
   もに、前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造
   に変形された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であ
   って、 液晶材料と光重合開始剤と光重合性材料とから構成され
   る溶液状の混合物を予め準備し、この混合物を前記基板
   間に注入する工程と、 前記混合物に一方の基板側から紫外線を照射し、前記重
   合性材料の光重合により高分子と液晶とを相分離させる
   と共に、重合性材料の重合反応が進行途中であって、高
   分子中に未反応の重合性材料が残留されている第１の重
   合状態まで重合させる第１の重合工程と、 分離析出された液晶滴をセル厚方向に変形すべく、前記
   基板間から液晶滴内の液晶の一部を外部に押し出す工程
   と、 前記押し出し工程の後に、他方の基板側から紫外線を混
   合物に照射し、光重合により前記残留している未反応の
   重合性材料を重合させて、第１の重合状態からすべての
   重合性材料の重合反応が完全に終了する第２の重合状態
   まで重合させる第２の重合工程と、を有することを特徴
   とする高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
4. 【請求項４】 前記一方の基板が、基板面にマトリクス
   状配線によって区画された複数領域の各々に画素電極と
   アクティブ素子が形成されているアクティブ基板である
   ことを特徴とする請求項３記載の高分子分散型液晶表示
   素子の製造方法。
5. 【請求項５】 前記アクティブ素子がＴＦＴであること
   を特徴とする請求項４記載の高分子分散型液晶表示素子
   の製造方法。
6. 【請求項６】 前記第１の重合状態における高分子のガ
   ラス転移温度をＴｇ１とし、前記第２の重合状態におけ
   る高分子のガラス転移温度をＴｇ２とすると、Ｔｇ２が
   Ｔｇ１より１０℃以上高いことを特徴とする請求項１乃
   至請求項５に記載の高分子分散型液晶表示素子の製造方
   法。
7. 【請求項７】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分子
   ・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるとともに、
   前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に変形
   された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であって、 液晶材料と光重合開始剤と光重合性材料から構成される
   溶液状の混合物を予め準備し、この混合物を前記基板間
   に注入する工程と、 前記混合物に紫外線を照射し、前記重合性材料の光重合
   により高分子と液晶とを相分離させると共に、重合性材
   料の重合反応が進行途中であって、高分子中に未反応の
   重合性材料が残留されている第１の重合状態まで重合さ
   せる第１の重合工程と、 分離析出された液晶滴をセル厚方向に変形すべく、前記
   基板間から液晶滴内の液晶の一部を外部に押し出す工程
   と、 前記押し出し工程の後に、混合物に紫外線を照射し、光
   重合により前記残留している未反応の重合性材料を重合
   させて、第１の重合状態からすべての重合性材料の重合
   反応が完全に終了する第２の重合状態まで重合させる第
   ２の重合工程と、 を有し、 前記第１の重合状態における高分子のガラス転移温度を
   Ｔｇ１とし、前記第２の重合状態における高分子のガラ
   ス転移温度をＴｇ２とすると、Ｔｇ２がＴｇ１より１０
   ℃以上高いことを特徴とする高分子分散型液晶表示素子
   の製造方法。
8. 【請求項８】 液晶を押し出す工程が加熱であることを
   特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の高
   分子分散型液晶表示素子の製造方法。
9. 【請求項９】 液晶を押し出す工程がプレスによる押圧
   であることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれ
   かに記載の高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
10. 【請求項１０】 液晶を押し出す工程がローラによる押
    圧であることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいず
    れかに記載の高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
11. 【請求項１１】 液晶を押し出す工程が真空パックによ
    る押圧であることを特徴とする請求項１乃至請求項７の
    いずれかに記載の高分子分散型液晶表示素子の製造方
    法。
12. 【請求項１２】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分
    子・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるととも
    に、前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に
    変形された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であっ
    て、 液晶材料と光重合開始剤と光重合性材料とから構成され
    る溶液状の混合物を予め準備し、この混合物を前記基板
    間に注入する工程と、 前記混合物に紫外線を照射し、前記重合性材料の光重合
    により高分子と液晶とを相分離させると共に、重合性材
    料の重合反応が進行途中であって、高分子中に未反応の
    重合性材料が残留されている第１の重合状態まで重合さ
    せる第１の重合工程と、 分離析出された液晶滴をセル厚方向に変形すべく、液晶
    セルを冷却する工程と、 前記冷却工程の後に、冷却状態を維持したまま紫外線を
    混合物に照射し、光重合により前記残留している未反応
    の重合性材料を重合させて、第１の重合状態からすべて
    の重合性材料の重合反応が完全に終了する第２の重合状
    態まで重合させる第２の重合工程と、を有することを特
    徴とする高分子分散型液晶表示素子の製造方法。
13. 【請求項１３】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分
    子・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるととも
    に、前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に
    変形された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であっ
    て、 液晶材料と、熱重合開始剤と、光重合開始剤と、熱およ
    び光のいずれによっても重合反応を行う重合性材料とか
    ら構成される溶液状の混合物であって、熱重合開始剤の
    含有量が、熱重合反応により熱重合開始剤が全て消費さ
    れたときに重合性材料が予め定めた第１の重合状態にな
    る量とされ、光重合開始剤の含有量が、少なくとも光重
    合反応により光重合開始剤が全て消費されたときに第１
    の重合状態から全ての重合性材料の重合反応が完全に終
    了する第２の重合状態まで重合させることができる量と
    される、そのような溶液状の混合物を調製する工程と、 前記混合物を前記基板間に注入する工程と、 前記混合物を加熱することにより、前記重合性材料の熱
    重合により高分子と液晶とを相分離させると共に、重合
    性材料の重合反応が進行途中であって、高分子中に未反
    応の重合性材料が残留されており、かつ、高分子の硬化
    状態が分離析出した液晶滴を冷却により変形させること
    が可能な予め定めた硬化状態となる第１の重合状態まで
    重合させる第１の重合工程と、 第１の重合工程の後に、分離析出された液晶滴をセル厚
    方向に変形すべく、液晶セルルを冷却する工程と、 前記冷却工程の後に、冷却状態を維持したまま紫外線を
    混合物に照射し、光重合により前記残留している未反応
    の重合性材料を重合させて、第１の重合状態から第２の
    重合状態まで重合させる第２の重合工程と、 を有することを特徴とする高分子分散型液晶表示素子の
    製造方法。
14. 【請求項１４】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分
    子・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるととも
    に、前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に
    変形された高分子分散型液晶表示素子の製造方法に使用
    される装置であって、 少なくとも液晶材料と光重合開始剤と重合性材料とを含
    む混合物が注入された液晶セルを、搬送経路に沿って搬
    送させる手段と、 液晶セルの搬送経路の途中に設けられ、液晶セルの一部
    に紫外線を照射する紫外線照射手段と、 液晶セルの搬送経路の途中に設けられ、液晶セルの前記
    紫外線が照射された領域を押圧するローラと、 を有することを特徴とする高分子分散型液晶表示素子の
    製造装置。
15. 【請求項１５】 前記紫外線照射手段が、紫外線を発光
    する光源と、光源からの紫外線のうち液晶を光分解させ
    る波長成分のみを遮断する光学フィルタとを備え、更
    に、紫外線による液晶の相分離反応に関連して、液晶セ
    ルを予め定めた温度に維持するための温度制御機構が設
    けられていることを特徴とする請求項１４に記載の高分
    子分散型液晶表示素子の製造装置。
16. 【請求項１６】 高分子に液晶滴を分散させてなる高分
    子・液晶複合体が、一対の基板間に配置されるととも
    に、前記液晶滴がセル厚方向に縮められた偏平な構造に
    変形された高分子分散型液晶表示素子の製造方法であっ
    て、 液晶セルを搬送経路に沿って搬送させる搬送手段と、液
    晶セルの搬送経路の途中に設けられ液晶セルの一部に紫
    外線を照射する紫外線照射手段と、液晶セルの搬送経路
    の途中に設けられ液晶セルの前記紫外線が照射された領
    域を押圧するローラを備えておき、 液晶材料と光重合開始剤と重合性材料を含む混合組成物
    が注入された液晶セルを、前記搬送手段搬により搬送経
    路に沿って搬送し、 この搬送中において、液晶セルの一部分に、前記紫外線
    照射手段により紫外線を照射し、 紫外線照射による重合開始時から、重合による液晶の相
    分離が完了する時までの期間内において前記液晶セルの
    紫外線照射領域を前記ローラによって押圧するようにし
    たことを特徴とする高分子分散型液晶表示素子の製造方
    法。
17. 【請求項１７】 前記液晶滴は、変形比が、１．１５以
    下になるように変形されていることを特徴とする請求項
    １乃至請求項１３又は請求項１６のいずれかに記載の高
    分子分散型液晶表示素子の製造方法。
18. 【請求項１８】 前記液晶滴は、変形比が、１．１５以
    下になるように変形されていることを特徴とする請求項
    １４又は請求項１５に記載の高分子分散型液晶表示素子
    の製造装置。