JPH1183807A - ガス濃度測定装置 - Google Patents
ガス濃度測定装置Info
- Publication number
- JPH1183807A JPH1183807A JP23686497A JP23686497A JPH1183807A JP H1183807 A JPH1183807 A JP H1183807A JP 23686497 A JP23686497 A JP 23686497A JP 23686497 A JP23686497 A JP 23686497A JP H1183807 A JPH1183807 A JP H1183807A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- temperature side
- cooling element
- photocathode
- electronic cooling
- Prior art date
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被検ガス中の除湿を電子冷却素子で行うこと
により、保守を容易にする。 【解決手段】 紫外線発生源21から光電面14に紫外
線を照射して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の
酸素及び対象ガスを光電子によりイオン化させ、イオン
の移動速度差により被検ガス中の対象ガスを検出するガ
ス濃度測定装置において、被検ガスを電子冷却素子23
の低温側で冷却して結露させることにより除湿し、電子
冷却素子23の高温側で紫外線発生源21を加熱するよ
うにしたものである。
により、保守を容易にする。 【解決手段】 紫外線発生源21から光電面14に紫外
線を照射して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の
酸素及び対象ガスを光電子によりイオン化させ、イオン
の移動速度差により被検ガス中の対象ガスを検出するガ
ス濃度測定装置において、被検ガスを電子冷却素子23
の低温側で冷却して結露させることにより除湿し、電子
冷却素子23の高温側で紫外線発生源21を加熱するよ
うにしたものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、空気中のハロゲ
ン系ガスの濃度を測定するガス濃度測定装置に関するも
のである。
ン系ガスの濃度を測定するガス濃度測定装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来のガス濃度測定装置の構成図
である。図4において、1はガス導入室で、光電面2、
加速電極3、シールド電極4が配置され、被検ガスが導
入口1aから排出口1bへ流れる。なお、シールド電極
は接地されている。5はランプ室で、水銀ランプ6が配
置されている。7は両室1,5間に配置された石英ガラ
スで、水銀ランプ6からの紫外線を透過させてガス導入
室1の光電面2に照射させる。8は加速電極3に接続さ
れた加速電源、9は光電面2に接続された検出抵抗、1
0はフロントカラムで、吸入された被検ガスの除湿を行
う。11はリアカラムで、紫外線の電離によって発生し
たオゾンを吸収する。12はポンプで、被検ガスを吸入
する。
である。図4において、1はガス導入室で、光電面2、
加速電極3、シールド電極4が配置され、被検ガスが導
入口1aから排出口1bへ流れる。なお、シールド電極
は接地されている。5はランプ室で、水銀ランプ6が配
置されている。7は両室1,5間に配置された石英ガラ
スで、水銀ランプ6からの紫外線を透過させてガス導入
室1の光電面2に照射させる。8は加速電極3に接続さ
れた加速電源、9は光電面2に接続された検出抵抗、1
0はフロントカラムで、吸入された被検ガスの除湿を行
う。11はリアカラムで、紫外線の電離によって発生し
たオゾンを吸収する。12はポンプで、被検ガスを吸入
する。
【0003】次に動作について説明する。図4におい
て、例えば水銀ランプ6を2KHzでON/OFFした
場合、紫外線がメッシュ状の加速電極3を通過して光電
面2に当たり、光電面2から光電子が放射される。この
状態において、例えば対象ガスのSF6 (六弗化硫黄)
ガスを含む空気が被検ガスとして吸入される。この場
合、水分が含まれた被検ガスがガス導入室1に導入され
ると、水もイオン化されるので検出精度が低下する。そ
こで、フロントカラム10で除湿された被検ガスがガス
導入室1に導入される。ガス導入室1に導入された被検
ガス中のO2 及びSF6 がイオン化されO2 -及びSF
6 - となる。各イオンは光電面2と加速電極3間に加え
られた電界により等速度で移動する。そこで、O2 - 及
びSF6 - の移動速度が異なるのを利用して、イオンの
移動により検出抵抗9に流れる電流を処理することによ
り、被検ガス中に含まれるSF6 ガスの濃度を検出す
る。
て、例えば水銀ランプ6を2KHzでON/OFFした
場合、紫外線がメッシュ状の加速電極3を通過して光電
面2に当たり、光電面2から光電子が放射される。この
状態において、例えば対象ガスのSF6 (六弗化硫黄)
ガスを含む空気が被検ガスとして吸入される。この場
合、水分が含まれた被検ガスがガス導入室1に導入され
ると、水もイオン化されるので検出精度が低下する。そ
こで、フロントカラム10で除湿された被検ガスがガス
導入室1に導入される。ガス導入室1に導入された被検
ガス中のO2 及びSF6 がイオン化されO2 -及びSF
6 - となる。各イオンは光電面2と加速電極3間に加え
られた電界により等速度で移動する。そこで、O2 - 及
びSF6 - の移動速度が異なるのを利用して、イオンの
移動により検出抵抗9に流れる電流を処理することによ
り、被検ガス中に含まれるSF6 ガスの濃度を検出す
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のガス濃度測定装
置は以上のように構成されているので、フロントカラム
よりガス導入室1に水分が導入されるのを防止するた
め、吸湿剤を常に交換して良好な状態に維持する必要が
あり、保守が面倒であるという問題点があった。
置は以上のように構成されているので、フロントカラム
よりガス導入室1に水分が導入されるのを防止するた
め、吸湿剤を常に交換して良好な状態に維持する必要が
あり、保守が面倒であるという問題点があった。
【0005】また、水銀ランプ3は低温の環境において
は紫外線の発生量が低下するので、光電面2からの光電
子の放出量が減少するため、測定精度が低下するという
問題点があった。
は紫外線の発生量が低下するので、光電面2からの光電
子の放出量が減少するため、測定精度が低下するという
問題点があった。
【0006】この発明は以上のような問題点を解消する
ためになされたもので、被検ガスの除湿を電子冷却素子
で行うことにより、保守を容易にすることができるガス
濃度測定装置を提供するものである。
ためになされたもので、被検ガスの除湿を電子冷却素子
で行うことにより、保守を容易にすることができるガス
濃度測定装置を提供するものである。
【0007】また、低温の環境においても測定精度が低
下するのを抑制することができるガス濃度測定装置を提
供するものである。
下するのを抑制することができるガス濃度測定装置を提
供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係わる
ガス濃度測定装置は、紫外線発生源から光電面に紫外線
を照射して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の酸
素及び対象ガスを光電子によりイオン化させ、イオンの
移動速度差により被検ガス中の対象ガスを検出するガス
濃度測定装置において、被検ガスを電子冷却素子の低温
側で冷却して結露させることにより除湿し、電子冷却素
子の高温側で紫外線発生源を加熱するようにしたもので
ある。
ガス濃度測定装置は、紫外線発生源から光電面に紫外線
を照射して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の酸
素及び対象ガスを光電子によりイオン化させ、イオンの
移動速度差により被検ガス中の対象ガスを検出するガス
濃度測定装置において、被検ガスを電子冷却素子の低温
側で冷却して結露させることにより除湿し、電子冷却素
子の高温側で紫外線発生源を加熱するようにしたもので
ある。
【0009】請求項2の発明に係わるガス濃度測定装置
は、紫外線発生源から光電面に紫外線を照射して光電子
を放射させ、除湿した被検ガス中の酸素及び対象ガスを
光電子によりイオン化させ、イオンの移動速度差により
被検ガス中の対象ガスを検出するガス濃度測定装置にお
いて、被検ガスを電子冷却素子の低温側で冷却して結露
させることにより除湿し、電子冷却素子の高温側で光電
面を加熱するようにしたものである。
は、紫外線発生源から光電面に紫外線を照射して光電子
を放射させ、除湿した被検ガス中の酸素及び対象ガスを
光電子によりイオン化させ、イオンの移動速度差により
被検ガス中の対象ガスを検出するガス濃度測定装置にお
いて、被検ガスを電子冷却素子の低温側で冷却して結露
させることにより除湿し、電子冷却素子の高温側で光電
面を加熱するようにしたものである。
【0010】
実施の形態1.図1は実施の形態1を示す構成図であ
る。図1において、13はガス導入室で、導入口13a
及び排出口13bを有する。14はガス導入室13に配
置された光電面で、紫外線が照射されると光電子を放出
する。15はガス導入室13に配置された加速電極、1
6は接地されたシールド電極で、ガス導入室13に配置
されている。17は光電面14に接続された検出抵抗、
18は加速電極15に接続された加速電源である。19
は紫外線を透過させる石英ガラスで、光電面14と対向
するように配置されている。20はランプ室で、ガス導
入室13と隣接して配置されている。21はランプ室2
0に配置された水銀ランプ等の紫外線発生源で、石英ガ
ラス19を介して光電面14に紫外線を照射する。
る。図1において、13はガス導入室で、導入口13a
及び排出口13bを有する。14はガス導入室13に配
置された光電面で、紫外線が照射されると光電子を放出
する。15はガス導入室13に配置された加速電極、1
6は接地されたシールド電極で、ガス導入室13に配置
されている。17は光電面14に接続された検出抵抗、
18は加速電極15に接続された加速電源である。19
は紫外線を透過させる石英ガラスで、光電面14と対向
するように配置されている。20はランプ室で、ガス導
入室13と隣接して配置されている。21はランプ室2
0に配置された水銀ランプ等の紫外線発生源で、石英ガ
ラス19を介して光電面14に紫外線を照射する。
【0011】22は除湿室で、導入口22a、給気口2
2b及び排水口22cを有する。23は例えばペルチェ
素子等の電子冷却素子で、低温側が除湿室22側に、高
温側がランプ室20側になるように配置されている。2
4は接続管で、除湿室22の給気口22bとガス導入室
13の導入口13aとを接続している。25は排水溜
で、除湿室22の排水口22cに接続されている。26
はガス導入室13の排出口13bに接続されたリアカラ
ムで、紫外線電離によって発生した被検ガス中のオゾン
を吸収する。27はポンプで、被検ガスを吸入する。
2b及び排水口22cを有する。23は例えばペルチェ
素子等の電子冷却素子で、低温側が除湿室22側に、高
温側がランプ室20側になるように配置されている。2
4は接続管で、除湿室22の給気口22bとガス導入室
13の導入口13aとを接続している。25は排水溜
で、除湿室22の排水口22cに接続されている。26
はガス導入室13の排出口13bに接続されたリアカラ
ムで、紫外線電離によって発生した被検ガス中のオゾン
を吸収する。27はポンプで、被検ガスを吸入する。
【0012】次に動作について説明する。図1におい
て、電子冷却素子28の高温側で紫外線発生源21を加
熱する。そして、紫外線発生源21を例えば2KHzで
ON/OFFさせ、発生した紫外線を光電面14に照射
して光電子を発生させておく。そして、例えば濃度測定
の対象ガスであるSF6 ガスを絶縁に使用した電気機器
等のガス漏れを測定する場合、ポンプ27を始動してガ
ス漏れが発生しそうな個所の空気を、被検ガスとして導
入口22aから除湿室22へ吸入する。除湿室22内は
電子冷却素子23により冷却されているので、除湿室2
2内に吸入された被検ガスの温度が下がって被検ガス中
の水分が結露する。そして、結露した水は排水溜25へ
排除される。除湿された被検ガスは接続管24を通って
導入口13aからガス導入室13へ入る。そして、光電
面14と加速電極15との間を通過するとき、光電面1
4から放射された光電子により被検ガス中のO2 及びS
F6 がイオン化される。
て、電子冷却素子28の高温側で紫外線発生源21を加
熱する。そして、紫外線発生源21を例えば2KHzで
ON/OFFさせ、発生した紫外線を光電面14に照射
して光電子を発生させておく。そして、例えば濃度測定
の対象ガスであるSF6 ガスを絶縁に使用した電気機器
等のガス漏れを測定する場合、ポンプ27を始動してガ
ス漏れが発生しそうな個所の空気を、被検ガスとして導
入口22aから除湿室22へ吸入する。除湿室22内は
電子冷却素子23により冷却されているので、除湿室2
2内に吸入された被検ガスの温度が下がって被検ガス中
の水分が結露する。そして、結露した水は排水溜25へ
排除される。除湿された被検ガスは接続管24を通って
導入口13aからガス導入室13へ入る。そして、光電
面14と加速電極15との間を通過するとき、光電面1
4から放射された光電子により被検ガス中のO2 及びS
F6 がイオン化される。
【0013】光電面14と加速電極15との間に加えら
れた電界により、O2 及びSF6 のイオンはそれぞれ異
なった速度で等速移動する。このイオンの移動により検
出抵抗17に式(1)に示す変位電流iが流れる。式
(1)において、eはイオンの電荷、Vkはイオンの速
度、dは光電面と加速電極との間の距離、nはイオンの
数である。ここで、e、Vk及びdは一定である。した
がって、変位電流iはイオンの数nに比例する。
れた電界により、O2 及びSF6 のイオンはそれぞれ異
なった速度で等速移動する。このイオンの移動により検
出抵抗17に式(1)に示す変位電流iが流れる。式
(1)において、eはイオンの電荷、Vkはイオンの速
度、dは光電面と加速電極との間の距離、nはイオンの
数である。ここで、e、Vk及びdは一定である。した
がって、変位電流iはイオンの数nに比例する。
【0014】
【数1】
【0015】図2は水銀ランプ21のON/OFF制御
とイオン電流との関係を示す説明図である。図2におい
て、(a)は水銀ランプ21のON/OFFの状態を示
す。(b)(c)はそれぞれイオンO2 - 及びSF6 -
の電流を示す。まず、O2 - 電流は(b)に示すように
時刻t=0で水銀ランプ21がONされると、光電面1
4の近傍でO2 - が次々に発生して、等速で加速電極1
6へ向かって移動し、イオンの数が時間と共に増加して
変位電流i1 が次第に増える。そして、t=0に発生し
たイオンが加速電極16に到達した時刻t10に水銀ラン
プ21をOFFすると新しいイオンの発生がなくなるの
で、変位電流i1 は減少して時刻t2 で零になる。
とイオン電流との関係を示す説明図である。図2におい
て、(a)は水銀ランプ21のON/OFFの状態を示
す。(b)(c)はそれぞれイオンO2 - 及びSF6 -
の電流を示す。まず、O2 - 電流は(b)に示すように
時刻t=0で水銀ランプ21がONされると、光電面1
4の近傍でO2 - が次々に発生して、等速で加速電極1
6へ向かって移動し、イオンの数が時間と共に増加して
変位電流i1 が次第に増える。そして、t=0に発生し
たイオンが加速電極16に到達した時刻t10に水銀ラン
プ21をOFFすると新しいイオンの発生がなくなるの
で、変位電流i1 は減少して時刻t2 で零になる。
【0016】次にSF6 - 電流は、(c)に示すように
SF6 - の移動速度がO2 - より遅いので時刻t=0で
発生したSF6 - がt=10では加速電極15に到達し
ていない。しかし、水銀ランプ21は時刻t10でOFF
されているので、時刻t=0で発生したSF6 - が加速
電極15に到達する時刻t11までは、イオンの数が一定
で変位電流i2 が一定となる。この結果、O2 - 電流と
の間に位相差θが発生する。実際は(b)(c)が合成
された波形となるので、合成波形と(a)の波形との位
相遅れを位相検波して直流出力とし、直流出力により指
示計を振らせてSF6 ガスの濃度を得ることができ
る。なお、ランプ室20の温度を検出してランプ室20
の温度を制御するようにすれば、紫外線発生源21を良
好な状態で動作させることができる。
SF6 - の移動速度がO2 - より遅いので時刻t=0で
発生したSF6 - がt=10では加速電極15に到達し
ていない。しかし、水銀ランプ21は時刻t10でOFF
されているので、時刻t=0で発生したSF6 - が加速
電極15に到達する時刻t11までは、イオンの数が一定
で変位電流i2 が一定となる。この結果、O2 - 電流と
の間に位相差θが発生する。実際は(b)(c)が合成
された波形となるので、合成波形と(a)の波形との位
相遅れを位相検波して直流出力とし、直流出力により指
示計を振らせてSF6 ガスの濃度を得ることができ
る。なお、ランプ室20の温度を検出してランプ室20
の温度を制御するようにすれば、紫外線発生源21を良
好な状態で動作させることができる。
【0017】以上のように、除湿室22に吸引した被検
ガスを電子冷却素子23の低温側で冷却し結露させて除
湿することにより保守を容易にすると共に、除湿された
被検ガスをガス導入室13に導入してイオン化させるの
で、対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
ガスを電子冷却素子23の低温側で冷却し結露させて除
湿することにより保守を容易にすると共に、除湿された
被検ガスをガス導入室13に導入してイオン化させるの
で、対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
【0018】また、紫外線発生源21は低温では効率が
低下するので、電子冷却素子23の高温側で紫外線発生
源21を加熱することにより、低温で紫外線の発生量が
低下するのを抑制して光電子の放出量の減少するのを抑
制できるため、対象ガスの濃度測定精度を向上させるこ
とができる。
低下するので、電子冷却素子23の高温側で紫外線発生
源21を加熱することにより、低温で紫外線の発生量が
低下するのを抑制して光電子の放出量の減少するのを抑
制できるため、対象ガスの濃度測定精度を向上させるこ
とができる。
【0019】実施の形態2.図3は実施の形態2の構成
図である。図3において、13〜22,24〜27は実
施の形態1のものと同様のものである。28は例えばペ
ルチェ効果を利用した電子冷却素子で、低温側が除湿室
22側に、高温側がガス導入室13側になるように配置
されている。
図である。図3において、13〜22,24〜27は実
施の形態1のものと同様のものである。28は例えばペ
ルチェ効果を利用した電子冷却素子で、低温側が除湿室
22側に、高温側がガス導入室13側になるように配置
されている。
【0020】次に動作について説明する。図3におい
て、電子冷却素子28の高温側で光電面14を加熱す
る。そして、除湿室22で除湿された被検ガスが導入口
13aからガス導入室13に導入され、以後は実施の形
態1と同様の動作を行う。
て、電子冷却素子28の高温側で光電面14を加熱す
る。そして、除湿室22で除湿された被検ガスが導入口
13aからガス導入室13に導入され、以後は実施の形
態1と同様の動作を行う。
【0021】以上のように、除湿室22に吸引した被検
ガスを電子冷却素子28の低温側で冷却し結露させて除
湿することにより保守を容易にすると共に、除湿された
被検ガスをガス導入室13に導入してイオン化させるの
で、対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
ガスを電子冷却素子28の低温側で冷却し結露させて除
湿することにより保守を容易にすると共に、除湿された
被検ガスをガス導入室13に導入してイオン化させるの
で、対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
【0022】また、光電面14からの放出電子の量は周
囲温度の二乗に比例する項を含むので、電子冷却素子2
8の高温側で光電面14を加熱することにより、光電面
14から光電子が放射され易くなるため、低温の環境に
おける対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
囲温度の二乗に比例する項を含むので、電子冷却素子2
8の高温側で光電面14を加熱することにより、光電面
14から光電子が放射され易くなるため、低温の環境に
おける対象ガスの濃度測定精度を向上させることができ
る。
【0023】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、被検ガスを電
子冷却素子の低温側で冷却し結露させて除湿することに
より保守を容易にすると共に、被検ガス中の水分を除去
して対象ガスをイオン化させることにより、水のイオン
による誤差を除去できるため濃度測定の精度向上を図る
ことができる。また、電子冷却素子の高温側で紫外線発
生源を加熱することにより、低温で紫外線の発生量が低
下するのを抑制できるので、対象ガスのイオン化を促進
して濃度測定の精度向上を図ることができる。
子冷却素子の低温側で冷却し結露させて除湿することに
より保守を容易にすると共に、被検ガス中の水分を除去
して対象ガスをイオン化させることにより、水のイオン
による誤差を除去できるため濃度測定の精度向上を図る
ことができる。また、電子冷却素子の高温側で紫外線発
生源を加熱することにより、低温で紫外線の発生量が低
下するのを抑制できるので、対象ガスのイオン化を促進
して濃度測定の精度向上を図ることができる。
【0024】請求項2の発明によれば、被検ガスを電子
冷却素子の低温側で冷却し結露させて除湿することによ
り保守を容易にすると共に、被検ガス中の水分を除去し
て対象ガスをイオン化することにより、水のイオンによ
る誤差を除去できるため濃度測定の精度向上を図ること
ができる。また、電子冷却素子の高温側で光電面を加熱
することにより、光電面から光電子が放射され易くな
り、対象ガスのイオン化が促進されるので、濃度測定の
精度向上を図ることができる。
冷却素子の低温側で冷却し結露させて除湿することによ
り保守を容易にすると共に、被検ガス中の水分を除去し
て対象ガスをイオン化することにより、水のイオンによ
る誤差を除去できるため濃度測定の精度向上を図ること
ができる。また、電子冷却素子の高温側で光電面を加熱
することにより、光電面から光電子が放射され易くな
り、対象ガスのイオン化が促進されるので、濃度測定の
精度向上を図ることができる。
【図1】 この発明の実施の形態1の構成図である。
【図2】 図1の動作を示す説明図である。
【図3】 この発明の実施の形態2の構成図である。
【図4】 従来のガス濃度測定装置の構成図である。
14 光電面、21 紫外線発生源、23、28 電子
冷却素子。
冷却素子。
Claims (2)
- 【請求項1】 紫外線発生源から光電面に紫外線を照射
して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の酸素及び
対象ガスを上記光電子によりイオン化させ、イオンの移
動速度差により上記被検ガス中の上記対象ガスを検出す
るガス濃度測定装置において、上記被検ガスを電子冷却
素子の低温側で冷却して結露させることにより除湿し、
上記電子冷却素子の高温側で上記紫外線発生源を加熱す
るようにしたことを特徴とするガス濃度測定装置。 - 【請求項2】 紫外線発生源から光電面に紫外線を照射
して光電子を放射させ、除湿した被検ガス中の酸素及び
対象ガスを上記光電子によりイオン化させ、イオンの移
動速度差により上記被検ガス中の上記対象ガスを検出す
るガス濃度測定装置において、上記被検ガスを電子冷却
素子の低温側で冷却して結露させることにより除湿し、
上記電子冷却素子の高温側で上記光電面を加熱するよう
にしたことを特徴とするガス濃度測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23686497A JPH1183807A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | ガス濃度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23686497A JPH1183807A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | ガス濃度測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1183807A true JPH1183807A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17006938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23686497A Pending JPH1183807A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | ガス濃度測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1183807A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108279195A (zh) * | 2018-01-26 | 2018-07-13 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 一种含尘样气致冷除湿装置、系统及其方法 |
CN110887573A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-17 | 泰安德美机电设备有限公司 | 一种低温黑体辐射源专用防结霜结露的装置 |
-
1997
- 1997-09-02 JP JP23686497A patent/JPH1183807A/ja active Pending
Cited By (2)
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