JPH1183798A - 電気泳動部材およびそれを用いた電気泳動装置 - Google Patents
電気泳動部材およびそれを用いた電気泳動装置Info
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- JPH1183798A JPH1183798A JP9236706A JP23670697A JPH1183798A JP H1183798 A JPH1183798 A JP H1183798A JP 9236706 A JP9236706 A JP 9236706A JP 23670697 A JP23670697 A JP 23670697A JP H1183798 A JPH1183798 A JP H1183798A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アスペクト比（流路高さ／流路幅）の高い流
路を形成してサンプル量当たりの検出効率を上げ、さら
に、光の基板への吸収を抑えることができる電気泳動部
材およびそれを用いた電気泳動装置を提供する。 【解決手段】 ガラス基板１とシリコン基板２は、融
着、あるいは接合されており、液体試料もしくは泳動液
の導入口および排出口５ａ〜５ｄを両端に有する液体試
料を導入するための流路溝３および液体試料を分離する
ための流路溝４が形成されている。また、シリコン基板
の少なくとも測定室に相当する部分はシリコンが異方性
エッチングで部分的に除去され、シリコン酸化膜が露出
するよう窓６が形成され、上方から入射された検出光
が、下方に透過できる構造となっている。
路を形成してサンプル量当たりの検出効率を上げ、さら
に、光の基板への吸収を抑えることができる電気泳動部
材およびそれを用いた電気泳動装置を提供する。 【解決手段】 ガラス基板１とシリコン基板２は、融
着、あるいは接合されており、液体試料もしくは泳動液
の導入口および排出口５ａ〜５ｄを両端に有する液体試
料を導入するための流路溝３および液体試料を分離する
ための流路溝４が形成されている。また、シリコン基板
の少なくとも測定室に相当する部分はシリコンが異方性
エッチングで部分的に除去され、シリコン酸化膜が露出
するよう窓６が形成され、上方から入射された検出光
が、下方に透過できる構造となっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、極微量の液体試料
中の成分を分離・分析し、紫外あるいは可視領域の光線
の吸収もしくは発光を測定することで分離した成分を検
出する場合に利用されるための、電気泳動部材およびそ
れを用いた電気泳動装置に関する。
中の成分を分離・分析し、紫外あるいは可視領域の光線
の吸収もしくは発光を測定することで分離した成分を検
出する場合に利用されるための、電気泳動部材およびそ
れを用いた電気泳動装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】環境計測、臨床、医薬品などの分析化学
の分野において、キャピラリー電気泳動装置は、微量成
分を正確かつ迅速に分析する手法としてよく使用されて
いる。近年、ガラス（例えば、パイレックスガラス）基
板を材料とした電気泳動部材上に液体試料を導入するた
めの流路と液体試料を分離するための流路を、半導体製
造技術を基盤とするマイクロマシニング技術を用いて形
成した電気泳動装置が開発されており、従来のキャピラ
リー電気泳動装置と比較して、高速分析が可能、溶媒消
費量が極めて少ない、必要とするサンプルが極微量、装
置の小型化が可能などの利点を有する。
の分野において、キャピラリー電気泳動装置は、微量成
分を正確かつ迅速に分析する手法としてよく使用されて
いる。近年、ガラス（例えば、パイレックスガラス）基
板を材料とした電気泳動部材上に液体試料を導入するた
めの流路と液体試料を分離するための流路を、半導体製
造技術を基盤とするマイクロマシニング技術を用いて形
成した電気泳動装置が開発されており、従来のキャピラ
リー電気泳動装置と比較して、高速分析が可能、溶媒消
費量が極めて少ない、必要とするサンプルが極微量、装
置の小型化が可能などの利点を有する。
【０００３】これらの特徴は、上記した分析化学の分野
において従来の分析装置では実現が困難であった、現場
（オンサイト、ベッドサイド）分析を可能とするものと
して、またＤＮＡ分析などの分野に対しては高速分析の
視点からスクリーニングに有利なものとして有望視され
ている。
において従来の分析装置では実現が困難であった、現場
（オンサイト、ベッドサイド）分析を可能とするものと
して、またＤＮＡ分析などの分野に対しては高速分析の
視点からスクリーニングに有利なものとして有望視され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これまで報告されてい
る小型チップを用いた電気泳動の研究においては、電気
泳動部材の材料はガラスに限られている。
る小型チップを用いた電気泳動の研究においては、電気
泳動部材の材料はガラスに限られている。
【０００５】ガラス基板に流路を形成するエッチングに
は、等方性のウエットエッチングが使われる場合が多い
が、等方性エッチングを行うと、深さ方向と同程度のサ
イドエッチングが発生するため、エッチング形成する流
路断面は横長の形状になる。一般に、検出光は流路をエ
ッチング形成した基板面に垂直に入射，出射するため、
横長の流路断面形状では、光路長が短くなるため、サン
プル量当たりの検出効率が悪くなる。
は、等方性のウエットエッチングが使われる場合が多い
が、等方性エッチングを行うと、深さ方向と同程度のサ
イドエッチングが発生するため、エッチング形成する流
路断面は横長の形状になる。一般に、検出光は流路をエ
ッチング形成した基板面に垂直に入射，出射するため、
横長の流路断面形状では、光路長が短くなるため、サン
プル量当たりの検出効率が悪くなる。
【０００６】また、使用する基板の光の吸収を考える
と、ガラス基板は薄い方がよいものの、取り扱いの利便
上、ある程度の厚みを持った基板を使う必要がある。
と、ガラス基板は薄い方がよいものの、取り扱いの利便
上、ある程度の厚みを持った基板を使う必要がある。
【０００７】また、材料にガラスを使用した場合、その
材料として両面を鏡面研磨したガラス基板が必要となる
が、両面鏡面研磨によって基板コストが高くなり、コス
トダウンに不利である。
材料として両面を鏡面研磨したガラス基板が必要となる
が、両面鏡面研磨によって基板コストが高くなり、コス
トダウンに不利である。
【０００８】本発明は、上記課題を解決するために創案
されたもので、アスペクト比（流路高さ／流路幅）の高
い流路を形成してサンプル量当たりの検出効率を上げ、
さらに、光の基板への吸収を抑えることができる電気泳
動部材およびそれを用いた電気泳動装置を提供するもの
である。
されたもので、アスペクト比（流路高さ／流路幅）の高
い流路を形成してサンプル量当たりの検出効率を上げ、
さらに、光の基板への吸収を抑えることができる電気泳
動部材およびそれを用いた電気泳動装置を提供するもの
である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の電気泳動部材は、液体試料を導入するため
の流路とその流路の両端に液体試料の導入口および排出
口を有し、かつ液体試料を分離するための流路とその流
路の両端に液体試料を分離するために使用する泳動液の
導入口および排出口を有し、前記分離流路の内の少なく
とも一部の領域を測定室として用いる電気泳動部材であ
り、前記部材は、シリコン基板とガラス基板を接合、あ
るいは２枚のシリコン基板を接合して構成され、少なく
とも一方のシリコン基板に流路溝が形成されており、か
つ、このシリコン基板の流路内面に相当する部分にシリ
コン酸化膜が形成されており、少なくとも測定室に相当
する部分はシリコンがエッチング除去され、シリコン酸
化膜が露出しているとともに、少なくとも一方の基板に
液体試料もしくは泳動液の導入口および排出口が形成さ
れていることを特徴としている。
に、本発明の電気泳動部材は、液体試料を導入するため
の流路とその流路の両端に液体試料の導入口および排出
口を有し、かつ液体試料を分離するための流路とその流
路の両端に液体試料を分離するために使用する泳動液の
導入口および排出口を有し、前記分離流路の内の少なく
とも一部の領域を測定室として用いる電気泳動部材であ
り、前記部材は、シリコン基板とガラス基板を接合、あ
るいは２枚のシリコン基板を接合して構成され、少なく
とも一方のシリコン基板に流路溝が形成されており、か
つ、このシリコン基板の流路内面に相当する部分にシリ
コン酸化膜が形成されており、少なくとも測定室に相当
する部分はシリコンがエッチング除去され、シリコン酸
化膜が露出しているとともに、少なくとも一方の基板に
液体試料もしくは泳動液の導入口および排出口が形成さ
れていることを特徴としている。
【００１０】また、上記問題を解決するためになされた
本発明の電気泳動部材を用いて分析を行う電気泳動装置
は、前記流路の両端に電位差を与えて泳動液と液体試料
を電気泳動させる手段、検出光を照射する光源、前記部
材からの検出光を測定する光検出器、前記部材を位置決
めする手段とを備え、前記部材により液体試料を分離し
た結果を光学的に検出することを特徴とする。
本発明の電気泳動部材を用いて分析を行う電気泳動装置
は、前記流路の両端に電位差を与えて泳動液と液体試料
を電気泳動させる手段、検出光を照射する光源、前記部
材からの検出光を測定する光検出器、前記部材を位置決
めする手段とを備え、前記部材により液体試料を分離し
た結果を光学的に検出することを特徴とする。
【００１１】すなわち、本発明による電気泳動部材は、
シリコン基板に異方性エッチング技術により流路溝を形
成、かつその後表面を酸化することによって流路内面が
シリコン酸化膜によって被われる構成とすることによ
り、ガラスを等方性エッチングして得られた流路溝より
もアスペクト比の高い流路溝が形成可能である。
シリコン基板に異方性エッチング技術により流路溝を形
成、かつその後表面を酸化することによって流路内面が
シリコン酸化膜によって被われる構成とすることによ
り、ガラスを等方性エッチングして得られた流路溝より
もアスペクト比の高い流路溝が形成可能である。
【００１２】また、いずれの基板に流路を形成した場合
においても、測定室付近のシリコン基板は、シリコン酸
化膜のみを残し除去してしまうため、分析のための検出
光は、シリコン基板側では、数ミクロンの厚みの酸化膜
のみを透過すればよく、両面ガラス基板を使用する場合
より吸収量がすくなくなり、検出効率がよくなる。
においても、測定室付近のシリコン基板は、シリコン酸
化膜のみを残し除去してしまうため、分析のための検出
光は、シリコン基板側では、数ミクロンの厚みの酸化膜
のみを透過すればよく、両面ガラス基板を使用する場合
より吸収量がすくなくなり、検出効率がよくなる。
【００１３】かつ、接合面のみ鏡面研磨した片面研磨シ
リコン基板が使用でき、コスト的にも優位となる。
リコン基板が使用でき、コスト的にも優位となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を、以下、図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【００１５】図１は本発明で実現する電気泳動部材の一
実施例の斜視図であり、図２は図１の上面図である。本
図において１は石英等のガラス基板、２は表面数ミクロ
ンをシリコン酸化膜２ａで被われたシリコン基板であ
る。これらは、融着、あるいはフッ酸水溶液による接合
技術を用いて接合されており、液体試料もしくは泳動液
の導入口および排出口５ａ〜５ｄを両端に有する液体試
料を導入するための流路溝３および液体試料を分離する
ための流路溝４が形成されている。また、シリコン基板
の少なくとも測定室に相当する部分はシリコンがエッチ
ング除去され、シリコン酸化膜が露出するよう窓６が形
成されている。
実施例の斜視図であり、図２は図１の上面図である。本
図において１は石英等のガラス基板、２は表面数ミクロ
ンをシリコン酸化膜２ａで被われたシリコン基板であ
る。これらは、融着、あるいはフッ酸水溶液による接合
技術を用いて接合されており、液体試料もしくは泳動液
の導入口および排出口５ａ〜５ｄを両端に有する液体試
料を導入するための流路溝３および液体試料を分離する
ための流路溝４が形成されている。また、シリコン基板
の少なくとも測定室に相当する部分はシリコンがエッチ
ング除去され、シリコン酸化膜が露出するよう窓６が形
成されている。
【００１６】図３に、図２のＡ−Ａ’断面図を示す。ガ
ラス基板１に空けた排出口５ｂとシリコン基板２に異方
性エッチングにより形成した流路溝３の端とが一致する
ように接合されている。シリコン基板２の表面は、シリ
コン酸化膜２ａで被われている。また、５ａ，５ｃ，５
ｄで示された、導入口および排出口も同様の形状となっ
ている。図４に、図２のＢ−Ｂ’断面図を示す。この部
分は測定室に当たり、シリコン酸化膜を残して、シリコ
ン基板が異方性エッチングにより部分的に除去され、図
の上方から入射された検出光が、下方に透過できる構造
となっている。図５に、本電気泳動部材を用いた光学測
定装置を示す。図５において、７は重水素ランプ、タン
グステンランプ、分光器が内蔵された所定の波長の光を
送り出す紫外可視光源、８はフォトダイオードアレイ検
出器を使用した測光光学系を有する光検出器であり、い
ずれも紫外可視測定に一般的に用いられるものである。
９はステージであり、電気泳動部材１０を位置決めでき
る凹部１１が設けられている。また、１２ａ〜１２ｄは
電気泳動部材１０の流路の両端に電位差を与えて泳動液
と液体試料を電気泳動させる電極であり、あらかじめ決
められている電気泳動部材１０の泳動液導入口および排
出口に対応する位置に設置されている。すなわち、泳動
液を充填した電気泳動部材１０をこの凹部１１に挿入し
てステージ９に位置決めし、自動的に位置決めされた電
極１２により電気泳動部材１０の流路の両端に電位差を
与えて、泳動液と液体試料を電気泳動させる。さらに、
光源７からの光は電気泳動部材１０の検出部に入射され
ており、検出部を通過した光が光検出器８に受光できる
ようにしてある。これにより、ステージ９の凹部１１に
泳動液を充填した電気泳動部材１０を装着し、分析した
い試料を試料導入口に注入するだけで、電気泳動による
分離および光学測定が可能になる。
ラス基板１に空けた排出口５ｂとシリコン基板２に異方
性エッチングにより形成した流路溝３の端とが一致する
ように接合されている。シリコン基板２の表面は、シリ
コン酸化膜２ａで被われている。また、５ａ，５ｃ，５
ｄで示された、導入口および排出口も同様の形状となっ
ている。図４に、図２のＢ−Ｂ’断面図を示す。この部
分は測定室に当たり、シリコン酸化膜を残して、シリコ
ン基板が異方性エッチングにより部分的に除去され、図
の上方から入射された検出光が、下方に透過できる構造
となっている。図５に、本電気泳動部材を用いた光学測
定装置を示す。図５において、７は重水素ランプ、タン
グステンランプ、分光器が内蔵された所定の波長の光を
送り出す紫外可視光源、８はフォトダイオードアレイ検
出器を使用した測光光学系を有する光検出器であり、い
ずれも紫外可視測定に一般的に用いられるものである。
９はステージであり、電気泳動部材１０を位置決めでき
る凹部１１が設けられている。また、１２ａ〜１２ｄは
電気泳動部材１０の流路の両端に電位差を与えて泳動液
と液体試料を電気泳動させる電極であり、あらかじめ決
められている電気泳動部材１０の泳動液導入口および排
出口に対応する位置に設置されている。すなわち、泳動
液を充填した電気泳動部材１０をこの凹部１１に挿入し
てステージ９に位置決めし、自動的に位置決めされた電
極１２により電気泳動部材１０の流路の両端に電位差を
与えて、泳動液と液体試料を電気泳動させる。さらに、
光源７からの光は電気泳動部材１０の検出部に入射され
ており、検出部を通過した光が光検出器８に受光できる
ようにしてある。これにより、ステージ９の凹部１１に
泳動液を充填した電気泳動部材１０を装着し、分析した
い試料を試料導入口に注入するだけで、電気泳動による
分離および光学測定が可能になる。
【００１７】次に、本発明考案による、電気泳動部材１
０を作製する手順を、以下、Ａ−Ａ’断面部分、および
Ｂ−Ｂ’断面部分を例とし、図６に示す工程（１）〜
（６）を参照して説明する。図６は左側にＡ−Ａ’断面
部分を、右側にＢ−Ｂ’断面部分を示したものであり、
以下の説明において特にどの断面部分であるか断らない
場合には、各断面部分に共通な手順である。
０を作製する手順を、以下、Ａ−Ａ’断面部分、および
Ｂ−Ｂ’断面部分を例とし、図６に示す工程（１）〜
（６）を参照して説明する。図６は左側にＡ−Ａ’断面
部分を、右側にＢ−Ｂ’断面部分を示したものであり、
以下の説明において特にどの断面部分であるか断らない
場合には、各断面部分に共通な手順である。
【００１８】（１）Ａ−Ａ’断面部分においては、ま
ず、ガラス基板１に、液体試料もしくは泳動液の導入口
および排出口５ａ〜５ｄとなる貫通穴をあける。ここ
で、貫通穴の加工には、超音波加工機，サンドブラスト
加工，レーザ加工等の方法が使用できる。
ず、ガラス基板１に、液体試料もしくは泳動液の導入口
および排出口５ａ〜５ｄとなる貫通穴をあける。ここ
で、貫通穴の加工には、超音波加工機，サンドブラスト
加工，レーザ加工等の方法が使用できる。
【００１９】（２）シリコン基板２を酸化し、シリコン
酸化膜２ｂを形成する。ここで、酸化膜２ｂの厚みは、
シリコンを流路溝の形状にエッチングするために十分な
厚みでよい。
酸化膜２ｂを形成する。ここで、酸化膜２ｂの厚みは、
シリコンを流路溝の形状にエッチングするために十分な
厚みでよい。
【００２０】（３）シリコン基板２に形成したシリコン
酸化膜２ｂを、フォトリソグラフィ技術を用いてパター
ニングし、このパターニング後の酸化膜２ｂをマスクと
してシリコン基板２のエッチングを行って流路溝３、お
よび４の形状を得る。ここでは、ＫＯＨによるウエット
エッチングを用いるが、ＴＭＡＨ、ヒドラジン等による
ウエットエッチング、またはドライエッチング（ＲＩ
Ｅ，反応性イオンエッチング）、あるいはこれらの組み
合わせを用いてもよい。また、ウエットエッチングで流
路溝形状を得る場合、（２）で形成する膜は、酸化膜に
限らず、シリコン基板２を窒化することで形成した、シ
リコン窒化膜であってもかまわない。
酸化膜２ｂを、フォトリソグラフィ技術を用いてパター
ニングし、このパターニング後の酸化膜２ｂをマスクと
してシリコン基板２のエッチングを行って流路溝３、お
よび４の形状を得る。ここでは、ＫＯＨによるウエット
エッチングを用いるが、ＴＭＡＨ、ヒドラジン等による
ウエットエッチング、またはドライエッチング（ＲＩ
Ｅ，反応性イオンエッチング）、あるいはこれらの組み
合わせを用いてもよい。また、ウエットエッチングで流
路溝形状を得る場合、（２）で形成する膜は、酸化膜に
限らず、シリコン基板２を窒化することで形成した、シ
リコン窒化膜であってもかまわない。
【００２１】（４）マスクとして用いた酸化膜２ｂを除
去した後、再びシリコン基板２を酸化し、シリコン酸化
膜２ａを形成し、シリコン酸化膜で被われた流路溝３、
および４を形成する。Ｂ−Ｂ’断面部分では、この酸化
膜２ａの厚みは、窓６を形成し、かつ流路の絶縁を行う
のに十分な厚みでよく、例えば、水蒸気下で、１１００
℃、５時間酸化することで形成された、１．５ミクロン
厚の酸化膜を用いる。
去した後、再びシリコン基板２を酸化し、シリコン酸化
膜２ａを形成し、シリコン酸化膜で被われた流路溝３、
および４を形成する。Ｂ−Ｂ’断面部分では、この酸化
膜２ａの厚みは、窓６を形成し、かつ流路の絶縁を行う
のに十分な厚みでよく、例えば、水蒸気下で、１１００
℃、５時間酸化することで形成された、１．５ミクロン
厚の酸化膜を用いる。
【００２２】（５）ガラス基板１と、シリコン基板２を
接合する。ここでは、接合に融着を使用するが、フッ酸
水溶液による接合，陽極接合等、他の接合方法を用いて
もかまわない。
接合する。ここでは、接合に融着を使用するが、フッ酸
水溶液による接合，陽極接合等、他の接合方法を用いて
もかまわない。
【００２３】（６）Ｂ−Ｂ’断面部分においては、シリ
コンの裏面に形成されたシリコン酸化膜２ａを、フォト
リソグラフィ技術を用いてパターニングし、このパター
ニング後の酸化膜２ａをマスクとしてシリコン基板２の
エッチングを行って、シリコン基板の測定室に相当する
部分に、シリコン酸化膜が露出し、上方から入射した検
出光が下方へ透過できるよう窓６を形成する。
コンの裏面に形成されたシリコン酸化膜２ａを、フォト
リソグラフィ技術を用いてパターニングし、このパター
ニング後の酸化膜２ａをマスクとしてシリコン基板２の
エッチングを行って、シリコン基板の測定室に相当する
部分に、シリコン酸化膜が露出し、上方から入射した検
出光が下方へ透過できるよう窓６を形成する。
【００２４】ここでは、ＫＯＨによるウエットエッチン
グを用いるが、ＴＭＡＨ、ヒドラジン等によるウエット
エッチング、またはドライエッチング（ＲＩＥ，反応性
イオンエッチング）、あるいはこれらの組み合わせを用
いてもよい。
グを用いるが、ＴＭＡＨ、ヒドラジン等によるウエット
エッチング、またはドライエッチング（ＲＩＥ，反応性
イオンエッチング）、あるいはこれらの組み合わせを用
いてもよい。
【００２５】以上の工程で、図１に示した構造の電気泳
動部材が完成する。
動部材が完成する。
【００２６】上記実施例における電気泳動部材では、シ
リコン基板２の測定室部分のみシリコン酸化膜を露出さ
せ、検出光が透過できる窓６をあけているが、流路部分
の酸化膜を露出させる、あるいはシリコン全てをエッチ
ングして酸化膜を露出させた構造としてもかまわない。
リコン基板２の測定室部分のみシリコン酸化膜を露出さ
せ、検出光が透過できる窓６をあけているが、流路部分
の酸化膜を露出させる、あるいはシリコン全てをエッチ
ングして酸化膜を露出させた構造としてもかまわない。
【００２７】上記実施例における電気泳動部材では、ガ
ラス基板に液体試料もしくは泳動液の導入口および排出
口を形成しているが、シリコン基板側に導入口および排
出口を形成してもかまわない。
ラス基板に液体試料もしくは泳動液の導入口および排出
口を形成しているが、シリコン基板側に導入口および排
出口を形成してもかまわない。
【００２８】上記実施例では、ガラス基板とシリコン基
板を接合して電気泳動部材を作製しているが、２枚のシ
リコン基板を接合し、その両方の基板の測定室部分にシ
リコン酸化膜を露出させる窓を形成する事により、電気
泳動部材を作製してもかまわない。また、その一方ある
いは両方のシリコン基板の、流路部分、あるいは全ての
シリコンをエッチングし、酸化膜を露出させた構造とし
てもかまわない。
板を接合して電気泳動部材を作製しているが、２枚のシ
リコン基板を接合し、その両方の基板の測定室部分にシ
リコン酸化膜を露出させる窓を形成する事により、電気
泳動部材を作製してもかまわない。また、その一方ある
いは両方のシリコン基板の、流路部分、あるいは全ての
シリコンをエッチングし、酸化膜を露出させた構造とし
てもかまわない。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による電気
泳動部材の流路溝は、シリコンをエッチングしそれを酸
化することで形成されたシリコン酸化膜によって構成さ
れているため、ガラスのウエットエッチングのように深
さ方向と同程度のサイドエッチングが発生することはな
く、高アスペクト比となる形状が得られ、少量の試料で
高感度な検出が可能となる。
泳動部材の流路溝は、シリコンをエッチングしそれを酸
化することで形成されたシリコン酸化膜によって構成さ
れているため、ガラスのウエットエッチングのように深
さ方向と同程度のサイドエッチングが発生することはな
く、高アスペクト比となる形状が得られ、少量の試料で
高感度な検出が可能となる。
【００３０】また、分析に用いる検出光は、シリコン基
板側では、数ミクロンの厚みの酸化膜のみを透過すれば
よく、ガラス基板を使用する場合より吸収量がすくなく
て済み、検出効率が上がる。
板側では、数ミクロンの厚みの酸化膜のみを透過すれば
よく、ガラス基板を使用する場合より吸収量がすくなく
て済み、検出効率が上がる。
【００３１】また、本発明では、２枚の基板のうち１
枚、あるいは２枚ともに、片面鏡面研磨のシリコン基板
が使用可能なため、２枚の両面鏡面研磨ガラス基板を使
用するよりも低コスト化が可能となる。
枚、あるいは２枚ともに、片面鏡面研磨のシリコン基板
が使用可能なため、２枚の両面鏡面研磨ガラス基板を使
用するよりも低コスト化が可能となる。
【００３２】また、本発明の電気泳動部材は小型である
ため、電気泳動装置自体の小型化に有利である。
ため、電気泳動装置自体の小型化に有利である。
【図１】本発明の一実施例である電気泳動部材の斜視図
である。
である。
【図２】図１の電気泳動部材の上面図である。
【図３】図２の電気泳動部材のＡ−Ａ’断面図である。
【図４】図２の電気泳動部材のＢ−Ｂ’断面図である。
【図５】本発明の一実施例である検出計セルを用いて測
定をする光学装置の概略図である。
定をする光学装置の概略図である。
【図６】図１の電気泳動部材の作成方法の概略図であ
る。
る。
Claims (2)
- 【請求項１】液体試料を導入するための流路とその流路
の両端に液体試料の導入口および排出口を有し、かつ液
体試料を分離するための流路とその流路の両端に液体試
料を分離するために使用する泳動液の導入口および排出
口を有し、前記分離流路の内の少なくとも一部の領域を
測定室として用いる電気泳動部材であり、前記部材は、
シリコン基板とガラス基板を接合、あるいは２枚のシリ
コン基板を接合して構成され、少なくとも一方のシリコ
ン基板に流路溝が形成されており、かつ、このシリコン
基板の流路内面に相当する部分にシリコン酸化膜が形成
されており、少なくとも測定室に相当する部分はシリコ
ンがエッチング除去され、シリコン酸化膜が露出してい
るとともに、少なくとも一方の基板に液体試料もしくは
泳動液の導入口および排出口が形成されていることを特
徴とする電気泳動部材。 - 【請求項２】請求項１に記載される部材に、前記流路の
両端に電位差を与えて泳動液と液体試料を電気泳動させ
る手段、検出光を照射する光源、前記部材からの検出光
を測定する光検出器、前記部材を位置決めする手段とを
備え、前記部材により液体試料を分離した結果を光学的
に検出する電気泳動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9236706A JPH1183798A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 電気泳動部材およびそれを用いた電気泳動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9236706A JPH1183798A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 電気泳動部材およびそれを用いた電気泳動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1183798A true JPH1183798A (ja) | 1999-03-26 |
Family
ID=17004565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9236706A Pending JPH1183798A (ja) | 1997-09-02 | 1997-09-02 | 電気泳動部材およびそれを用いた電気泳動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1183798A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6993826B2 (en) * | 1999-06-04 | 2006-02-07 | Ricoh Company, Ltd. | Method of manufacturing a probe array |
| JP2007225425A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 細胞電気生理センサとそれを用いた測定方法およびその製造方法 |
| WO2016038719A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2016-03-17 | 株式会社日立製作所 | デバイスおよびその形成方法 |
| US11587362B2 (en) | 2020-12-16 | 2023-02-21 | Lenovo (Singapore) Pte. Ltd. | Techniques for determining sign language gesture partially shown in image(s) |
-
1997
- 1997-09-02 JP JP9236706A patent/JPH1183798A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6993826B2 (en) * | 1999-06-04 | 2006-02-07 | Ricoh Company, Ltd. | Method of manufacturing a probe array |
| US7489616B2 (en) | 1999-06-04 | 2009-02-10 | Ricoh Company, Ltd. | Optical-pickup slide, manufacturing method thereof, probe and manufacturing method thereof, and probe array and manufacturing method thereof |
| JP2007225425A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 細胞電気生理センサとそれを用いた測定方法およびその製造方法 |
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| JPWO2016038719A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2017-04-27 | 株式会社日立製作所 | デバイスおよびその形成方法 |
| US10338057B2 (en) | 2014-09-11 | 2019-07-02 | Hitachi, Ltd. | Device and method for forming same |
| US11587362B2 (en) | 2020-12-16 | 2023-02-21 | Lenovo (Singapore) Pte. Ltd. | Techniques for determining sign language gesture partially shown in image(s) |
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