JPH118328A - 半導体装置およびその製造方法並びにその識別方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法並びにその識別方法

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JPH118328A
JPH118328A JP9176453A JP17645397A JPH118328A JP H118328 A JPH118328 A JP H118328A JP 9176453 A JP9176453 A JP 9176453A JP 17645397 A JP17645397 A JP 17645397A JP H118328 A JPH118328 A JP H118328A
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mark
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manufacturing
wafer
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Yasuaki Tanaka
靖朗 田中
Fumihisa Shimura
文寿 志村
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ペレット自体に所定の情報を付与することが
できる。 【解決手段】 第1ペレット1Aの表面には第1マーク
9Aが左上隅に付され、第2ペレット1Bには第2マー
ク9Bが左中央に付されている。任意のペレットの表面
の左上隅に付されたマークは第1マーク9Aであると認
識されるため、当該ペレットは第1ペレット1A、左中
央に付されたマークは第2マーク9Bであると認識され
るため、当該ペレットは第2ペレット1Bであると特定
できる。 【効果】 ペレットの表面に付する位置に対応しペレッ
トのグレードを表現するマークを付すことで、ペレット
ボンディング工程やワイヤボンディング工程でマークの
認識でペレットのグレードを導き出せるため、作業者は
現在扱っているワークのグレードを把握でき、作業の適
不適の検証等を確保でき、ペレットボンディング工程や
ワイヤボンディング工程でワークの混同を確実に防止で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、半導体装置を識別する技術に関し、例え
ば、半導体集積回路装置(以下、ICという。)の製造
に利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】今日、ICの製造分野においては、製造
歩留りを高めるために、同一の品種について多様な特性
(以下、グレードという。)を有する製品が製造され
る。ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリー(以
下、DRAMという。)について例示すると、パッケー
ジや回路構成が同一であっても、70ns動作製品と6
0ns動作製品、低消費電力製品と通常消費電力製品、
16M良品と8Mパーシャル品等が製造される。
【0003】一般に、DRAMの製造方法は、半導体ウ
エハ(以下、ウエハという。)にDRAM素子を含む集
積回路が半導体ペレット(以下、ペレットという。)毎
に作り込まれる所謂前工程と、ウエハがペレットに分断
されてパッケージングされる所謂組立工程(後工程とも
称されている。)とから構成されている。このDRAM
の製造方法において、前記グレードは前工程の最終段階
であるプローブ検査工程の検査データに基づいて指定す
ることができる。すなわち、プローブ検査工程は各ペレ
ットの電気的特性を測定する工程であるから、その測定
データによって各ペレットのグレードをそれぞれ指定す
ることができる。
【0004】従来、このプローブ検査データによる各ペ
レット毎のグレードの指定情報は、フロッピー・ディス
クによって組立工程に伝達されている。組立工程に投入
された各ペレットはペレット・ボンディング工程におい
て、ウエハから一個ずつピックアップされてリードフレ
ームやベース等の基板にペレット・ボンディングされ
る。このペレット・ボンディングに際して、前記したフ
ロッピー・ディスクから各ペレットに対応した各グレー
ドに関するデータが逐次読み出され、各グレード毎のペ
レット・ボンディングが順次実施される。
【0005】なお、ペレット自体の識別を可能にした半
導体装置の製造技術を述べてある例としては、特開平9
−7905号公報がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プロー
ブ検査データによる各ペレット毎のグレードの指定情報
をフロッピー・ディスクによって組立工程に伝達する方
法においては、ウエハの大口径化や製造歩留りの向上に
伴うペレット取得数の増大およびグレード分けの多様化
に伴って情報量が膨大になるため、情報処理設備の再構
築費用や管理費用等が必要になり、全体としての生産性
が低下するという問題点があることが、本発明者によっ
て明らかにされた。
【0007】本発明の目的は、ペレット自体に所定の情
報を付与することができる半導体装置の製造技術を提供
することにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0010】すなわち、半導体ペレットの表面にマーク
が付され、このマークの付された位置にそれぞれ対応さ
れて特定の情報が表現されることを特徴とする。
【0011】前記した手段によれば、例えば、ペレット
・ボンディング工程において、マークが付された位置を
認識することにより、ペレットのグレード等の固有の情
報を導き出すことができるため、ペレット・ボンディン
グ装置はグレード分けしたペレット・ボンディングを実
施することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1(a)、(b)は本発明の一
実施形態である異なるグレードを有するDRAMのそれ
ぞれを示す各一部切断斜視図である。図2以降は本発明
の一実施形態であるDRAMの製造方法を示している。
【0013】本実施形態において、本発明に係る半導体
装置は、内部構造的にはチップ・オン・リードパッケー
ジ(以下、COLという。)を備えているDRAMとし
て構成されており、図1には第1グレードのDRAM
(以下、第1グレード品という。)Aおよび第2グレー
ドのDRAM(以下、第2グレード品という。)Bが例
示されている。第1グレード品Aと第2グレード品Bと
はその構成各部の外形が実質的に同一にそれぞれ構成さ
れており、その電気的特性の一例である動作速度だけが
それぞれ互いに相違されることによりグレード分けされ
ている。
【0014】第1グレード品Aと第2グレード品Bとの
共通する構成を、第1グレード品Aを代表例にして説明
する。第1グレード品AはDRAM素子を含む集積回路
(図示せず)が作り込まれた長方形板形状のペレット1
を備えており、ペレット1の一主面の両方の短辺側には
電極パッド2が複数個ずつ形成されている。ペレット1
は電極パッド2と反対側の主面において絶縁層3を介し
てインナリード4群の上にボンディングされており、各
インナリード4には各アウタリード5がそれぞれ一体的
に連結されている。インナリード4の先端群はペレット
1の両方の短辺側にそれぞれ配列されており、各インナ
リード4の先端と各電極パッド2との間にはワイヤ6が
橋絡されている。すなわち、第1グレード品Aのパッケ
ージは内部構造的にはCOLに構成されている。
【0015】ペレット1、絶縁層3、インナリード4群
およびワイヤ6は樹脂封止体7によって樹脂封止されて
いる。アウタリード5群は樹脂封止体7における長辺側
の両側面から外部に突出されて、デュアル・インライン
・パッケージのリード形状に成形されている。すなわ
ち、第1グレード品Aのパッケージは外部構造的には樹
脂封止形デュアル・インライン・パッケージ(以下、パ
ッケージという。)8に構成されている。
【0016】図1に示されている第1グレード品Aおよ
び第2グレード品Bの2種類のDRAMは、パッケージ
8の外形が実質的に同一にそれぞれ構成されているた
め、外形だけでは識別することができない。そこで、第
1グレード品Aにおける樹脂封止体7の一主面には、動
作速度が70nsである第1グレードを表現するグレー
ド名(以下、第1グレード名という。)10Aが、レー
ザマーキング法や印刷法等によるマーキング法によって
マーキングされており、第2グレード品Bにおける樹脂
封止体7の一主面には、動作速度が60nsである第2
グレードを表現するグレード名(以下、第2グレード名
という。)10Bが、同様にマーキングされている。ち
なみに、第1グレード名10Aおよび第2グレード名1
0Bは、DRAMの製造工程における最終検査工程(後
述する。)における検査結果に対応されてそれぞれマー
キングされる。
【0017】また、第1グレード品Aのペレット(以
下、第1ペレット1Aという。)と、第2グレード品B
のペレット(以下、第2ペレット1Bという。)とは、
互いに外形が実質的に同一にそれぞれ構成されているた
め、第1ペレット1Aの外形および第2ペレット1Bの
外形によっては互いに識別することができない。そこ
で、本実施形態においては、図1(a)および(b)に
示されているように、付された位置にそれぞれ対応して
第1グレードであることを表現するマーク(以下、第1
マークという。)9Aおよび第2グレードであることを
表現するマーク(以下、第2マークという。)9Bが、
第1ペレット1Aの表面および第2ペレット1Bの表面
における指定された位置にそれぞれ付されている。つま
り、第1ペレット1Aと第2ペレット1Bとは第1マー
ク9Aと第2マーク9Bとの相違によって互いに識別す
ることができるように構成されており、第1マーク9A
と第2マーク9Bとはペレットに付された位置の相違に
よって互いに識別することができるように設定されてい
る。そして、これらの関係はホストコンピュータ等に製
品の履歴として記録されている。
【0018】すなわち、図1(a)、(b)に示されて
いるように、第1ペレット1Aの表面には第1マーク9
Aが長方形の四隅の所定の一隅(以下、左上隅とす
る。)に付されており、第2ペレット1Bには第2マー
ク9Bが長方形の一方の長辺の中央部(以下、左中央と
する。)に付されている。任意のペレットにおいて、そ
の表面における左上隅に付されたマークは第1マーク9
Aであると認識されるため、当該ペレットは第1ペレッ
ト1Aであると特定することができる。同様に、左中央
に付されたマークは第2マーク9Bであると認識される
ため、当該ペレットは第2ペレット1Bであると特定す
ることができる。
【0019】次に、前記構成に係るDRAMの製造方法
の一実施形態を、図2および図3以降について説明す
る。ここで、グレード毎に区別して特に説明する必要が
ある場合以外は、各グレードについて共通的に説明す
る。例外的に区別して説明する場合には、第1グレード
品Aを代表例にして説明する。
【0020】まず、図2に示されているように、ペレッ
ト形成工程において、各品種に対応したDRAM素子を
含む集積回路がウエハ11(図3参照)に各ペレット1
毎に作り込まれるとともに、絶縁性および機械的強度を
有する保護膜(図示せず)がポリイミド樹脂やガラス層
等によって被着される。また、ペレット1の一主面(以
下、上面とする。)には電極パッド2(図1参照)が形
成される。
【0021】その後、プローブ検査マーク付け工程にお
いて、図3に示されているように、ウエハ11における
各ペレット1の上面には第1マーク9Aや第2マーク9
B等の各グレードを表現するマークがプローブ検査デー
タに対応して指定された位置にそれぞれ付される。図3
においては、6種類のグレードを表現する場合が例示さ
れている。例えば、図3(b)のペレット1において、
左上隅に付された第1マーク9Aは動作速度が70ns
であるグレード、左中央に付された第2マーク9Bは動
作速度が60nsであるグレード、左下隅に付された第
3マーク9Cは低消費電力のグレード、右上隅に付され
た第4マーク9Dは通常消費電力のグレード、右中央に
付された第5マーク9Eは16Mのグレード、右下隅に
付された第6マーク9Fは8Mパーシャルのグレード、
をそれぞれ表現している。第1マーク9A〜第6マーク
9Fは図3(a)に示されているように各ペレット1に
それぞれ1個ずつ付される。ちなみに、ペレットの表面
のいずれの場所にもマークが付されていない場合には、
ペレットが不良品であることを表現している。
【0022】第1マーク9A〜第6マーク9Fはウエハ
11における所定のグレードを呈する各ペレットに、図
4に示されているプローブ検査装置20およびマーク付
け装置30によって順次付される。プローブ検査装置2
0はウエハ11を保持してXY方向に移動させるXYテ
ーブル21を備えており、XYテーブル21はコントロ
ーラ22によって制御されるように構成されている。X
Yテーブル21の真上には複数本のプローブ針23を有
するプローブカード24が配置されており、プローブカ
ード24はプローブ針23群をペレット1の電極パッド
2(図1参照)にプロービングするように構成されてい
る。プローブ針23群はテスタ25に電気的に接続され
ており、テスタ25はプローブ針23群からの送信デー
タに基づいて各ペレットのグレードを判定するように構
成されている。テスタ25には中央演算処理ユニット
(以下、プローブ検査側CPUという。)26が接続さ
れており、プローブ検査側CPU26は各ペレット1の
ウエハ11における位置を記憶するとともに、それに対
応させて各ペレット1のグレードをそれぞれ記憶するよ
うに構成されている。
【0023】マーク付け装置30はウエハ11を保持し
てXY方向に移動させるXYテーブル31を備えてお
り、XYテーブル31はコントローラ32によって制御
されるように構成されている。XYテーブル31の真上
にはインクドットプリンタのヘッド等が使用されて構成
されたマーク付け器33が配置されており、マーク付け
器33はインクドット34をペレット1の上面に付着さ
せることによってペレット1の上面にマークを付するよ
うに構成されている。XYテーブル31およびマーク付
け器33は中央演算処理ユニット(以下、マーク付け側
CPUという。)35によって制御されるように構成さ
れており、マーク付け側CPU35にはプローブ検査側
CPU26が接続されている。
【0024】マーク付けに際して、まず、プローブ検査
がウエハ11に対してプローブ検査装置20によって実
施される。XYテーブル21に保持されたウエハ11は
コントローラ22によって制御されてXY方向にピッチ
送りされる。各ペレット1が真下にピッチ送りされて来
る都度、プローブカード24はプローブ針23群をペレ
ット1の電極パッド2(図1参照)にプロービングす
る。テスタ25はペレット1とプローブ針23群を介し
て交信することにより、ペレット1の電気的特性を測定
し、ペレット1のグレードを判定する。判定結果はテス
タ25からプローブ検査側CPU26に送信される。プ
ローブ検査側CPU26は各ペレット1のウエハ11に
おける位置を記憶するとともに、それに対応させて各ペ
レット1のグレードをそれぞれ記憶する。
【0025】次に、マーク付けがウエハ11の各ペレッ
ト1に対してマーク付け装置30によって実施される。
XYテーブル31にウエハ11が保持されると、マーク
付け側CPU35はプローブ検査側CPU26からウエ
ハ11の各ペレット1の位置とグレードに関するデータ
を呼び出す。マーク付け側CPU35は各ペレット1の
位置とグレードに関するデータに対応した指令信号をコ
ントローラ32に送信し、XYテーブル31の移動によ
ってペレット1の所定位置をマーク付け器33の真下に
配置させるとともに、マーク付け器33にインクを付着
させる信号を送信してマークを付させる。例えば、第1
マーク9Aが付される場合には、ペレット1の左上隅が
マーク付け器33の真下に配置されて、その左上隅にイ
ンクが付着されることによって第1マーク9Aが付され
ることになる。
【0026】以上のようにして各ペレットに指定された
グレードのマークがそれぞれ付された後に、図2に示さ
れているように、ウエハ11はダイシング工程に送られ
る。ダイシング工程において、ウエハ11は図5に示さ
れているように各ペレット1毎にダイシングされる。
【0027】すなわち、ダイシング工程において、ま
ず、ウエハ11の裏面に樹脂等の伸縮性を有する材料を
用いられてウエハよりも大径の円形の薄膜形状に形成さ
れたウエハシート12が貼着される。続いて、ウエハ1
1は各ペレット1に分断される。このとき、ウエハ11
に裏面に粘着されたウエハシート12は切断されないた
め、ペレット1群はばらばらにならずに一群にまとまっ
た状態で、かつ、碁盤の目のように縦横に整列された状
態になっている。次いで、ウエハシート12の外周部に
ステンレス鋼等の剛性材料を用いられてウエハよりも大
径の円形リング形状に形成されたウエハリング13が装
着される。ウエハシート12はウエハリング13の枠内
に対向配置された後に径方向外向きに引き伸ばされてそ
の外周辺部がウエハリング13に固定される。このウエ
ハシート12の伸びに伴って隣合うペレット1、1間が
等間隔に離れることになる。
【0028】以上のようにしてダイシングされたペレッ
ト1群はウエハシート12およびウエハリング13に保
持された状態で、図2に示されているようにペレットボ
ンディング工程に送られる。ペレットボンディング工程
において、図6に示されているように、ペレット1はペ
レットボンディング装置40によってウエハシート12
からピックアップされて、リードフレーム準備工程から
送られて来たリードフレーム14のインナリード4群の
上にボンディングされる。
【0029】すなわち、ペレットボンディング装置40
は一方のワークとしてのペレット群付きのウエハシート
12を保持するピックアップステージ41を備えてい
る。ピックアップステージ41にはウエハシート12を
下から押し上げるヘッド42が形成されている。ヘッド
42の中心線上にはニードル孔43が上下方向に貫通す
るように形成されており、ニードル孔43には上下動さ
れるニードル44が挿入されている。ニードル44の上
方位置にはテレビカメラ等から構成された撮像装置45
が設備されており、撮像装置45はニードル44によっ
てピックアップすべきペレット1を撮映するように構成
されている。撮像装置45には認識装置46が電気的に
接続されており、認識装置46は撮像装置45の撮像信
号に基づいて、ペレット1の位置およびマークの付され
た位置等を認識するように構成されている。認識装置4
6はコンピュータ等から構築されたコントローラ47に
認識結果を送信するようになっている。
【0030】ペレットボンディング装置40は他方のワ
ークとしてのリードフレーム14を保持するためのボン
ディングステージ50を備えており、このボンディング
ステージ50とピックアップステージ41との間にはコ
レット48がロボット49によって往復して昇降される
ように設備されている。コレット48のロボット49は
コントローラ47によって制御されるようになってい
る。
【0031】以上のように構成されたペレットボンディ
ング装置40によって、ペレット1がリードフレーム1
4のインナリード4群の上に絶縁層3を介してボンディ
ングされるに際して、まず、撮像装置45がペレット1
を撮映する。この撮像装置45の撮像信号に基づいて認
識装置46によってペレット1の形状が認識され、その
認識結果をコントローラ47に送信する。コントローラ
47はシーケンスに予め記憶されたこれからペレットボ
ンディングすべきグレードのペレットと、認識装置46
によって認識されたペレットのマークが示す実際のグレ
ードとが一致しているか否かを照合する。一致していな
い場合には、コントローラ47はこれから取り扱うペレ
ットに誤りがあることを作業者に警報する。この警報に
よって、予め設定されたグレード以外のペレットが誤っ
て組み立てられてしまう事故が発生するのは未然に回避
されることになる。
【0032】認識されたマークによって示されたグレー
ドがこれからボンディングすべきペレットのグレードと
一致している場合には、認識装置46はペレット1に欠
けがあるか否かを認識し、不良品の場合はその認識結果
により、ピックアップステージ41が適宜移動されて、
次のピックアップすべきペレット1が撮像装置45によ
って撮映される。
【0033】ペレット1が良品であると、コントローラ
47の指令によってコレット48がロボット49により
ピックアップされるべきペレット1の真上位置へ移動さ
れる。続いて、ヘッド42が上昇されると、ウエハシー
ト12は外周辺部をウエハリング13に保持されている
ため、ヘッド42に対向したペレット1が隆起する。次
いで、ニードル44がヘッド42に対して上昇される
と、隆起したペレット1のみがニードル44により剥離
されて持ち上げられる。ニードル44により突き上げら
れたペレット1は、その真上に待機されているコレット
48に真空吸着保持されるとともに、ニードル44の下
降作動に伴って、コレット48に受け渡される。
【0034】このようにしてペレット1を受け渡された
コレット48はロボット49によって、ニードル44の
真上位置からボンディングステージ50に保持されたリ
ードフレーム14のインナリード4群の真上に移動さ
れ、ペレット1をインナリード4群の上に絶縁層3を介
してボンディングする。その後、コレット48はニード
ル44によって突き上げられるべきペレット1の真上位
置に前記と同様にして移動され、次のペレットボンディ
ング作動が実施される。以降、前記作動が繰り返される
ことにより、ウエハシート12からペレット1が1個宛
ピックアップされて、リードフレーム14のインナリー
ド4群にボンディングされて行く。
【0035】次いで、図示は省略するが、ワイヤボンデ
ィング工程において、ペレット1の電極パッド2とイン
ナリード4との間にワイヤ6(図1参照)がワイヤボン
ディング装置によって橋絡される。このワイヤボンディ
ング工程においても、前述したペレットボンディング工
程と同様にして、ワイヤボンディング装置の撮像装置お
よび認識装置によってペレット1のマークが認識される
とともに、コントローラによってシーケンスに予め記憶
されたこれからワイヤボンディングすべきペレット1の
グレードと、現実に認識されたマークが示す実際のグレ
ードとが一致しているか否かが照合される。一致してい
ない場合には、コントローラはこれから取り扱うペレッ
ト1とリードフレーム14(図6参照)との組立体(ワ
ーク)のグレードに誤りがあることを作業者に警報す
る。この警報によって、予め想定されたグレード以外の
グレードが誤って組み立てられてしまう事故が発生する
のは未然に回避されることになる。
【0036】その後、図示は省略するが、樹脂封止体成
形工程において、トランスファモールド装置によって樹
脂封止体7(図1参照)が成形される。この樹脂封止体
7によってペレット1は樹脂封止されるため、これ以
降、マークは認識することができなくなるが、これ以前
の工程において、取り扱いに誤りがないことを常に検証
されているため、取り扱いグレードに誤りが起こること
はない。
【0037】続いて、図示は省略するが、マーキング工
程において、樹脂封止体7の表面に各グレード名(図1
の9A、9B参照)がそれぞれマーキングされる。この
際、樹脂封止体7に樹脂封止されたペレットのマーク
(図1の1A、1B参照)をX線照射装置等の透視装置
によって認識し、マーキング装置のコントローラによっ
てシーケンスに予め記憶されたこれからマーキングすべ
きグレードと、現実に透視されたペレットのマークが示
す実際のグレードとが一致しているか否かを照合するこ
とが望ましい。この場合、マークを形成するドットのイ
ンクにX線に対する造影剤を混合することが望ましい。
この照合によって、実際のDRAMのグレードとそれに
明記されたグレード名との不整合の事故が発生するのは
未然に回避されることになる。
【0038】その後、リード切断成形工程において、リ
ードフレームの外枠(フレーム)が切り落とされるとと
もに、アウタリード5群がDIPのリード形状に屈曲成
形される。これによって、DRAMのパッケージ8(図
1参照)が製造されたことになる。
【0039】最後に、最終検査工程において、パッケー
ジ8の外観検査およびDRAMの電気的特性検査(オー
トハンドラ)が実施される。そして、パッケージに明記
されたグレード名(図1の9A、9B参照)と、電気的
特性検査によって測定された電気的特性が示すグレード
名とが照合される。この照合により、実際のDRAMの
グレードと、それに明記されたグレード名との不整合の
事故が発生するのを防止される。
【0040】前記実施形態によれば次の効果が得られ
る。 (1) ペレットの表面に付する位置に対応してペレッ
トのグレードを表現するマークを付すことにより、ペレ
ットボンディング工程およびワイヤボンディング工程に
おいてマークの認識によってペレットのグレードを導き
出すことができるため、作業者は現在扱っているワーク
についてのグレードを把握することができ、作業の適正
不適正の検証等を確保することができ、その結果、ペレ
ットボンディング工程およびワイヤボンディング工程に
おいてワークの混同を確実に防止することができる。
【0041】(2) マークの付する位置に対応してペ
レットのグレードを識別することができるように設定し
ておくことにより、出荷されたDRAMについての不良
解析に際して、ペレットに付されたマークからグレード
を導き出し、そのペレットからのグレードとパッケージ
に明記されたグレード名とが一致しているか否かを照合
することができるため、仮に、ペレットからのグレード
とパッケージに明記されたグレード名とが一致しない場
合には、ペレットは不良ではなく、パッケージのグレー
ド名のマーキング工程にミスが有ったとの解析が可能に
なる。つまり、出荷されたDRAMについての不良解析
の精度や信頼性を高めることができる。
【0042】(3) ペレットにマークを付することに
より、コンピュータ側の情報量を軽減することができる
ため、ウエハの大口径化や製造歩留りの向上に伴うペレ
ット取得数の増大およびグレード分けの多様化に伴って
情報量が膨大になることに伴う情報処理設備の再構築費
用や管理費用等の増加を回避することができ、ひいて
は、全体としての生産性が低下を防止することができ
る。
【0043】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0044】例えば、マークによって表現される情報は
製品のグレードに限らず、半導体ウエハにおけるペレッ
トの位置、製造時期、ロット番号、製造地域等々であっ
てもよく、マークはそれらを同時に表現するように構成
してもよい。
【0045】マークはペレットの表面に1個ずつ付する
に限らず、2個以上付してもよい。例えば、ペレットに
マークを1〜6個付する場合には、64通りの情報を表
現することができる。64通りの情報の利用方法として
は、例えば、一枚のウエハを64の領域に分割して表現
し、ウエハにおけるペレットの位置することが考えられ
る。
【0046】マークはペレットの電極パッド側主面に付
するに限らず、電極パッド側と反対側の主面に付しても
よい。
【0047】また、マークはインクドットによって形成
するに限らず、レーザ照射による焼痕等によって形成し
てもよい。
【0048】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるDRA
Mの生産技術に適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、ICやトランジスタの生産
技術等の半導体装置の生産技術全般に適用することがで
きる。
【0049】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0050】付された位置にそれぞれ対応して特定の情
報を表現するマークを半導体ペレットの表面に付するこ
とにより、例えば、ペレット・ボンディング工程におい
て、マークが付された位置を認識することにより、その
ペレットのグレード等の固有の情報を導き出すことがで
きるため、グレード分けしたペレット・ボンディングを
実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)、(b)は本発明の一実施形態である異
なるグレードを有するDRAMのそれぞれを示す各一部
切断斜視図である。
【図2】本発明の一実施形態であるDRAMの製造方法
を示す工程図である。
【図3】プローブ検査マーク付け工程後を示しており、
(a)はウエハの平面図、(b)はペレットの平面図で
ある。
【図4】プローブ検査マーク付け工程を示す模式図であ
る。
【図5】ダイシング工程後のウエハを示しており、
(a)は平面図、(b)は正面縦断面図である。
【図6】ペレットボンディング工程を示す一部省略一部
切断正面図である。
【符合の説明】
A…第1グレードのDRAM(第1グレード品)、B…
第2グレードのDRAM(第2グレード品)、1…ペレ
ット、2…電極パッド、3…絶縁層、4…インナリー
ド、5…アウタリード、6…ワイヤ、7…樹脂封止体、
8…パッケージ、9A…第1マーク(第1グレードを表
現するマーク)、9B…第2マーク(第1グレードを表
現するマーク)、10A…第1グレード名、10B…第
2グレード名、11…ウエハ、12…ウエハシート、1
3…ウエハリング、14…リードフレーム、20…プロ
ーブ検査装置、21…XYテーブル、22…コントロー
ラ、23…プローブ針、24…プローブカード、25…
テスタ、26…プローブ検査側CPU、30…マーク付
け装置、31…XYテーブル、32…コントローラ、3
3…マーク付け器、34…インクドット、35…マーク
付け側CPU、40…ペレットボンディング装置、41
…ピックアップステージ、42…ヘッド、43…ニード
ル孔、44…ニードル、45…撮像装置、46…認識装
置、47…コントローラ、48…コレット、49…ロボ
ット、50…ボンディングステージ。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ペレットの表面にマークが付され
    ており、このマークは表面に付された位置にそれぞれ対
    応して特定の情報を表現するように設定されていること
    を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記情報が、グレード、半導体ウエハに
    おけるペレットの位置、製造時期、ロット番号、製造地
    域の少なくとも一つであることを特徴とする請求項1に
    記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記マークが、インクドットによって構
    成されていることを特徴とする請求項1または2に記載
    の半導体装置。
  4. 【請求項4】 半導体ペレットの表面における指定され
    た位置に、付された位置にそれぞれ対応して特定の情報
    を表現するマークが付されることを特徴とする半導体装
    置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記マークが、前記半導体ペレットを製
    造するための半導体ウエハに対する電気的特性検査のデ
    ータに基づいて指定された各位置にそれぞれ付されるこ
    とを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 前記情報が、前記半導体ペレットを製造
    するための半導体ウエハに対する電気的特性検査のデー
    タに基づいて作成されたグレードであることを特徴とす
    る請求項4または5に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記情報が、半導体ウエハの位置、製造
    時期、ロット番号、製造地域の少なくとも一つであるこ
    とを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 前記マークが、インクドットを形成する
    マーク付け器によって付されることを特徴とする請求項
    4、5、6または7に記載の半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 半導体ペレットの表面にマークが付さ
    れ、このマークの付された位置にそれぞれ対応されて半
    導体ペレットを識別するための情報が表現されることを
    特徴とする半導体装置の識別方法。
  10. 【請求項10】 前記マークが付される位置が、前記半
    導体ペレットを製造するための半導体ウエハに対する電
    気的特性検査のデータに基づいて指定されることを特徴
    とする請求項9に記載の半導体装置の識別方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002236012A (ja) * 2001-02-09 2002-08-23 Nec Corp ピッチ送り機構
JP2004319639A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Toshiba Components Co Ltd 特殊コードが表示された半導体製品
EP1729344A2 (en) * 2005-05-31 2006-12-06 Delphi Technologies, Inc. First die indicator for integrated circuit wafer
JP2009105210A (ja) * 2007-10-23 2009-05-14 Toray Eng Co Ltd 半導体チップのチップidマーキング方法及びマーキング装置
JP2010040880A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Spansion Llc 半導体装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002236012A (ja) * 2001-02-09 2002-08-23 Nec Corp ピッチ送り機構
JP4716066B2 (ja) * 2001-02-09 2011-07-06 日本電気株式会社 ピッチ送り機構
JP2004319639A (ja) * 2003-04-14 2004-11-11 Toshiba Components Co Ltd 特殊コードが表示された半導体製品
EP1729344A2 (en) * 2005-05-31 2006-12-06 Delphi Technologies, Inc. First die indicator for integrated circuit wafer
EP1729344A3 (en) * 2005-05-31 2008-03-26 Delphi Technologies, Inc. First die indicator for integrated circuit wafer
JP2009105210A (ja) * 2007-10-23 2009-05-14 Toray Eng Co Ltd 半導体チップのチップidマーキング方法及びマーキング装置
JP2010040880A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Spansion Llc 半導体装置

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