JPH118185A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
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- JPH118185A JPH118185A JP9161004A JP16100497A JPH118185A JP H118185 A JPH118185 A JP H118185A JP 9161004 A JP9161004 A JP 9161004A JP 16100497 A JP16100497 A JP 16100497A JP H118185 A JPH118185 A JP H118185A
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- JP
- Japan
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- reticle
- exposure
- wafer
- rotation angle
- exposure method
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 限られた露光装置の中から最適な組み合わせ
を求めることには限界があり、露光装置のミックスアン
ドマッチ使用は、生産性の向上、コストの低減等による
強い必要性にもかかわらず非常に困難になっている。 【解決手段】 露光装置をミックスアンドマッチによっ
て運用する場合に、下層のパターンを作製するために露
光を行った露光装置と、上層のパターンを作製するため
に露光を行う露光装置との組み合わせのなかで、露光装
置の組み合わせ誤差が最小となるレチクルおよびウエハ
の回転角を選択して、その選択した回転角にレチクルお
よびウエハを露光装置にセットして露光を行うという露
光方法であり、上記レチクルおよびウエハの回転角は、
事前に各露光装置の組み合わせのなかで最適な回転角を
求めておき、例えばレチクルおよびウエハの回転角は、
０°（回転なし）、９０°、１８０°および２７０°よ
り選択する。
を求めることには限界があり、露光装置のミックスアン
ドマッチ使用は、生産性の向上、コストの低減等による
強い必要性にもかかわらず非常に困難になっている。 【解決手段】 露光装置をミックスアンドマッチによっ
て運用する場合に、下層のパターンを作製するために露
光を行った露光装置と、上層のパターンを作製するため
に露光を行う露光装置との組み合わせのなかで、露光装
置の組み合わせ誤差が最小となるレチクルおよびウエハ
の回転角を選択して、その選択した回転角にレチクルお
よびウエハを露光装置にセットして露光を行うという露
光方法であり、上記レチクルおよびウエハの回転角は、
事前に各露光装置の組み合わせのなかで最適な回転角を
求めておき、例えばレチクルおよびウエハの回転角は、
０°（回転なし）、９０°、１８０°および２７０°よ
り選択する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光方法に関し、
詳しくはミックスアンドマッチを用いた露光方法に関す
る。
詳しくはミックスアンドマッチを用いた露光方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近の半導体装置の製造プロセスでは、
ＣＯＯ（Cost of Ownership ）の観点から、露光工程に
おける露光装置のミックスアンドマッチ（Mix and Matc
h ）運用への要求が高い。特にクリプトンフッ素（Ｋｒ
Ｆ）エキシマレーザ光を用いる露光を採用した半導体装
置の製造プロセスでは、プロセスコスト（装置、材料等
のコスト）の上昇を抑えるために、異波長露光装置間の
ミックスアンドマッチ、具体的にはＫｒＦエキシマレー
ザ露光装置とｉ線露光装置とを用いることが必須であり
できるだけｉ線露光装置の使用比率を高めようという努
力がなされている。
ＣＯＯ（Cost of Ownership ）の観点から、露光工程に
おける露光装置のミックスアンドマッチ（Mix and Matc
h ）運用への要求が高い。特にクリプトンフッ素（Ｋｒ
Ｆ）エキシマレーザ光を用いる露光を採用した半導体装
置の製造プロセスでは、プロセスコスト（装置、材料等
のコスト）の上昇を抑えるために、異波長露光装置間の
ミックスアンドマッチ、具体的にはＫｒＦエキシマレー
ザ露光装置とｉ線露光装置とを用いることが必須であり
できるだけｉ線露光装置の使用比率を高めようという努
力がなされている。
【０００３】露光装置のミックスアンドマッチの因子と
しては、レンズディストーション、ステージ、積算露光
量等がある。そのなかで最大の因子はショット内重ね合
わせであるレンズディストーションマッチングである。
このレンズディストーションマッチングをさらに分類す
ると、補正可能成分（シフト、倍率、回転等）と補正不
可能成分に分類できる。ショット内の重ね合わせ精度へ
の寄与としては、圧倒的に後者が大きいが、これはレン
ズ製造時にそのほとんどの性能が決定されるものであ
り、ユーザーでの改善（修正）はほとんど不可能であ
る。したがって、実際にはユーザーがミックスアンドマ
ッチ運用のための装置グルーピングを行う場合には、限
られた台数の中からその最適な組み合わせを求めること
になる。
しては、レンズディストーション、ステージ、積算露光
量等がある。そのなかで最大の因子はショット内重ね合
わせであるレンズディストーションマッチングである。
このレンズディストーションマッチングをさらに分類す
ると、補正可能成分（シフト、倍率、回転等）と補正不
可能成分に分類できる。ショット内の重ね合わせ精度へ
の寄与としては、圧倒的に後者が大きいが、これはレン
ズ製造時にそのほとんどの性能が決定されるものであ
り、ユーザーでの改善（修正）はほとんど不可能であ
る。したがって、実際にはユーザーがミックスアンドマ
ッチ運用のための装置グルーピングを行う場合には、限
られた台数の中からその最適な組み合わせを求めること
になる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、限られ
た台数の中からその最適な組み合わせを求めることにも
限界があり、例えばダイナミックランダムアクセスメモ
リ（ＤＲＡＭ）の場合には６４Ｍｂｉｔ世代以降のデザ
インルール（例えば０．３５μｍ以下のデザインルー
ル）での露光装置のミックスアンドマッチ使用は、生産
性の向上、コストの低減等による強い必要性にもかかわ
らず非常に困難になっている。
た台数の中からその最適な組み合わせを求めることにも
限界があり、例えばダイナミックランダムアクセスメモ
リ（ＤＲＡＭ）の場合には６４Ｍｂｉｔ世代以降のデザ
インルール（例えば０．３５μｍ以下のデザインルー
ル）での露光装置のミックスアンドマッチ使用は、生産
性の向上、コストの低減等による強い必要性にもかかわ
らず非常に困難になっている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされた露光方法である。すなわち、露光
方法は、露光装置をミックスアンドマッチによって運用
する場合に、下層のパターンを作製するために露光を行
った露光装置と、上層のパターンを作製するために露光
を行う露光装置との組み合わせのなかで、露光装置の組
み合わせ誤差が最小となるレチクルおよびウエハの回転
角を選択して、その選択した回転角を該露光装置に設定
し、その露光装置にレチクルおよびウエハをセットして
露光を行うという方法である。上記レチクルおよびウエ
ハの回転角は、事前に各露光装置の組み合わせのなかで
最適な回転角を求めておき、例えばレチクルおよびウエ
ハの回転角は、０°、９０°、１８０°および２７０°
より選択する。
決するためになされた露光方法である。すなわち、露光
方法は、露光装置をミックスアンドマッチによって運用
する場合に、下層のパターンを作製するために露光を行
った露光装置と、上層のパターンを作製するために露光
を行う露光装置との組み合わせのなかで、露光装置の組
み合わせ誤差が最小となるレチクルおよびウエハの回転
角を選択して、その選択した回転角を該露光装置に設定
し、その露光装置にレチクルおよびウエハをセットして
露光を行うという方法である。上記レチクルおよびウエ
ハの回転角は、事前に各露光装置の組み合わせのなかで
最適な回転角を求めておき、例えばレチクルおよびウエ
ハの回転角は、０°、９０°、１８０°および２７０°
より選択する。
【０００６】上記露光方法では、露光装置間の組み合わ
せに加えてレチクルとウエハの回転角の組み合わせもあ
るので、ミックスアンドマッチにおける露光装置間の組
み合わせ数が増加する。そのため、より最適なマッチン
グを成しえる露光装置の組み合わせが選択し易くなる。
例えばｍ（ｍ≧２）台の露光装置を２台１組に組み合わ
せる方法は（ｍ−ｒ0 ）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒ
n ）通り〔ただし、ｍが偶数の場合はｍ＞ｒn ＝２ｎ＋
１、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２、ｍが奇数の場合
はｍ＞ｒn ＝２ｎ、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２〕
であり、一方１組の露光装置に対するレチクルおよびウ
エハの回転角（０°、９０°、１８０°、２７０°）の
組み合わせは４×４＝１６通りである。したがって、
（ｍ−ｒ0）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒn ）×１６
通りの組み合わせになる。このようにレチクルおよびウ
エハの回転角の組み合わせ分だけ、すなわち、露光装置
の選択の幅は従来の１６倍に増加することになる。
せに加えてレチクルとウエハの回転角の組み合わせもあ
るので、ミックスアンドマッチにおける露光装置間の組
み合わせ数が増加する。そのため、より最適なマッチン
グを成しえる露光装置の組み合わせが選択し易くなる。
例えばｍ（ｍ≧２）台の露光装置を２台１組に組み合わ
せる方法は（ｍ−ｒ0 ）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒ
n ）通り〔ただし、ｍが偶数の場合はｍ＞ｒn ＝２ｎ＋
１、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２、ｍが奇数の場合
はｍ＞ｒn ＝２ｎ、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２〕
であり、一方１組の露光装置に対するレチクルおよびウ
エハの回転角（０°、９０°、１８０°、２７０°）の
組み合わせは４×４＝１６通りである。したがって、
（ｍ−ｒ0）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒn ）×１６
通りの組み合わせになる。このようにレチクルおよびウ
エハの回転角の組み合わせ分だけ、すなわち、露光装置
の選択の幅は従来の１６倍に増加することになる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の露光方法に係わる実施形
態の一例を、図１のフローチャートによって説明する。
態の一例を、図１のフローチャートによって説明する。
【０００８】図１に示すように、複数の露光装置をミッ
クスアンドマッチによって運用する場合には、まず事前
に、「露光装置の組み合わせ誤差をレチクルおよびウエ
ハの回転角に応じて求める」Ｓ１により、下層のパター
ンを作製するために露光を行った露光装置と、上層のパ
ターンを作製するために露光を行う露光装置との組み合
わせにおける、レチクルおよびウエハの回転角ごとに露
光装置の組み合わせ誤差を求める。その際、回転角は、
一例として、０°（回転なし）、９０°、１８０°、２
７０°とする。
クスアンドマッチによって運用する場合には、まず事前
に、「露光装置の組み合わせ誤差をレチクルおよびウエ
ハの回転角に応じて求める」Ｓ１により、下層のパター
ンを作製するために露光を行った露光装置と、上層のパ
ターンを作製するために露光を行う露光装置との組み合
わせにおける、レチクルおよびウエハの回転角ごとに露
光装置の組み合わせ誤差を求める。その際、回転角は、
一例として、０°（回転なし）、９０°、１８０°、２
７０°とする。
【０００９】次いで「組み合わせ誤差最小の回転角の選
択」Ｓ２により、露光装置間の組み合わせ誤差が最小と
なるレチクルおよびウエハの最適な回転角を選択する。
択」Ｓ２により、露光装置間の組み合わせ誤差が最小と
なるレチクルおよびウエハの最適な回転角を選択する。
【００１０】続いて「選択した回転角を露光装置に設
定」Ｓ３により、ウエハに露光を行う露光装置に上記選
択した回転角を設定する。
定」Ｓ３により、ウエハに露光を行う露光装置に上記選
択した回転角を設定する。
【００１１】その後、その露光装置にレチクルをセット
するともにウエハを所定の露光位置に搬送して、「ウエ
ハ露光」Ｓ４により、ウエハを露光する。
するともにウエハを所定の露光位置に搬送して、「ウエ
ハ露光」Ｓ４により、ウエハを露光する。
【００１２】上記露光方法では、露光装置の組み合わせ
誤差をレチクルおよびウエハの回転角に応じて求めた
後、組み合わせ誤差が最小となるの回転角を選択するこ
とから、露光装置間の組み合わせに加えてレチクルとウ
エハの回転角の組み合わせも考慮されるので、ミックス
アンドマッチにおける露光装置間の組み合わせ数が増加
する。そのため、より最適なマッチングを成しえる露光
装置の組み合わせが選択し易くなる。
誤差をレチクルおよびウエハの回転角に応じて求めた
後、組み合わせ誤差が最小となるの回転角を選択するこ
とから、露光装置間の組み合わせに加えてレチクルとウ
エハの回転角の組み合わせも考慮されるので、ミックス
アンドマッチにおける露光装置間の組み合わせ数が増加
する。そのため、より最適なマッチングを成しえる露光
装置の組み合わせが選択し易くなる。
【００１３】例えばｍ（ｍ≧２）台の露光装置を２台１
組に組み合わせる方法は（ｍ−ｒ0）・（ｍ−ｒ1 ）・
・・（ｍ−ｒn ）通り〔ただし、ｍが偶数の場合はｍ＞
ｒn＝２ｎ＋１、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２、ｍ
が奇数の場合はｍ＞ｒn ＝２ｎ、ｎ＝０，１，２，・・
・＜ｍ／２〕であり、一方１組の露光装置に対するレチ
クルおよびウエハの回転角（０°、９０°、１８０°、
２７０°）の組み合わせは４×４＝１６通りである。し
たがって、（ｍ−ｒ0 ）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒ
n ）×１６通りの組み合わせになる。このようにレチク
ルおよびウエハの回転角の組み合わせ分だけ、すなわ
ち、露光装置の選択の幅が従来の１６倍に増加すること
になる。
組に組み合わせる方法は（ｍ−ｒ0）・（ｍ−ｒ1 ）・
・・（ｍ−ｒn ）通り〔ただし、ｍが偶数の場合はｍ＞
ｒn＝２ｎ＋１、ｎ＝０，１，２，・・・＜ｍ／２、ｍ
が奇数の場合はｍ＞ｒn ＝２ｎ、ｎ＝０，１，２，・・
・＜ｍ／２〕であり、一方１組の露光装置に対するレチ
クルおよびウエハの回転角（０°、９０°、１８０°、
２７０°）の組み合わせは４×４＝１６通りである。し
たがって、（ｍ−ｒ0 ）・（ｍ−ｒ1 ）・・・（ｍ−ｒ
n ）×１６通りの組み合わせになる。このようにレチク
ルおよびウエハの回転角の組み合わせ分だけ、すなわ
ち、露光装置の選択の幅が従来の１６倍に増加すること
になる。
【００１４】このように、本発明の露光方法は、レンズ
マッチングを可能にする一つの方法として、レチクルお
よびウエハを、０°、９０°、１８０°、２７０°のい
ずれかに回転させて所定の露光位置にセットして露光を
行う方法であり、これにより組み合わせ数は格段に増加
するため、限られた装置数内の組み合わせにおいてもレ
ンズマッチングが可能になる。
マッチングを可能にする一つの方法として、レチクルお
よびウエハを、０°、９０°、１８０°、２７０°のい
ずれかに回転させて所定の露光位置にセットして露光を
行う方法であり、これにより組み合わせ数は格段に増加
するため、限られた装置数内の組み合わせにおいてもレ
ンズマッチングが可能になる。
【００１５】以下に具体例をあげて説明する。例えば
Ａ号機、Ｂ号機 Ｃ号機、Ｄ号機の４台で２台１組のペ
アを作るとする。従来の方法では、以下の表１に示すの
３通りの組み合わせになる。
Ａ号機、Ｂ号機 Ｃ号機、Ｄ号機の４台で２台１組のペ
アを作るとする。従来の方法では、以下の表１に示すの
３通りの組み合わせになる。
【００１６】
【表１】
【００１７】それに対して上記説明した本発明の露光方
法では、上記Ａ号機とＢ号機、Ｃ号機とＤ号機という組
み合わせの場合だけでも表２のように１６通りになる。
法では、上記Ａ号機とＢ号機、Ｃ号機とＤ号機という組
み合わせの場合だけでも表２のように１６通りになる。
【００１８】
【表２】
【００１９】したがって、全体では〔露光装置間の組み
合わせ〕×〔回転角の組み合わせ〕＝３×１６＝４８通
りの組み合わせが可能になる。このように組み合わせ数
が多くなればなるほど、レンズマッチング性能は向上す
る確率が増加するといえる。
合わせ〕×〔回転角の組み合わせ〕＝３×１６＝４８通
りの組み合わせが可能になる。このように組み合わせ数
が多くなればなるほど、レンズマッチング性能は向上す
る確率が増加するといえる。
【００２０】次に、実際のデータでレンズマッチング性
能の向上について説明する。表３に示す測定座標は、シ
ョット内の測定位置であり、ショットの中心を（Ｘ，
Ｙ）＝（０，０）としている。また表３には、２台の露
光装置〔ＫｒＦエキシマレーザ露光装置（Ａ号機）とｉ
線露光装置（Ｂ号機）〕の各レンズディストーションデ
ータ、この組み合わせでのレンズマッチング性能を従来
の方法（回転なし）と本発明の方法（９０°回転、１８
０°回転、２７０°回転）で計算した結果を示した。
能の向上について説明する。表３に示す測定座標は、シ
ョット内の測定位置であり、ショットの中心を（Ｘ，
Ｙ）＝（０，０）としている。また表３には、２台の露
光装置〔ＫｒＦエキシマレーザ露光装置（Ａ号機）とｉ
線露光装置（Ｂ号機）〕の各レンズディストーションデ
ータ、この組み合わせでのレンズマッチング性能を従来
の方法（回転なし）と本発明の方法（９０°回転、１８
０°回転、２７０°回転）で計算した結果を示した。
【００２１】
【表３】
【００２２】表３の下段に示すように、従来の方法では
最悪値（絶対値）が０．０９０μｍであったが、レンズ
マッチング誤差がレチクルおよびウエハを２７０°回転
させて露光位置にセットして露光することにより０．０
６１μｍに低減された。上記結果からも明らかなよう
に、レチクルおよびウエハを回転させることにより、露
光装置の選択の幅が広がった。
最悪値（絶対値）が０．０９０μｍであったが、レンズ
マッチング誤差がレチクルおよびウエハを２７０°回転
させて露光位置にセットして露光することにより０．０
６１μｍに低減された。上記結果からも明らかなよう
に、レチクルおよびウエハを回転させることにより、露
光装置の選択の幅が広がった。
【００２３】なお、レンズマッチング性の評価方法は幾
つかの方法がある。ここでは、最も一般的かつ現実的な
最悪値の絶対値にて評価を行った。その際、レンズマッ
チング解析ソフトウエアーには、ＮＳＶ社製のＬＥＭＳ
ＹＳのMaximum Absolute Value（最大絶対値）を用い
た。
つかの方法がある。ここでは、最も一般的かつ現実的な
最悪値の絶対値にて評価を行った。その際、レンズマッ
チング解析ソフトウエアーには、ＮＳＶ社製のＬＥＭＳ
ＹＳのMaximum Absolute Value（最大絶対値）を用い
た。
【００２４】上記露光方法の実際の運用方法としては、
おおよそ以下のようになる。 （１）従来法による露光装置の各号機の組み合わせによ
るレンズマッチングの最適化の際に、本発明の方法のよ
うに、レチクルおよびウエハの回転による組み合わせも
含めた検討を事前に実施する。次いで、（２）製品ロッ
トが仕掛かったら、下層（ターゲットレイヤ）を処理し
た露光装置の号機を確認し、その号機との組み合わせ誤
差が最小となる号機およびその号機における最適回転角
を選択し、レチクルおよびウエハをその指示通りの露光
装置の露光位置にセットする。さらに最終的な回転角の
最適化を露光装置のウエハテーブルを回転（例えば±１
０ｐｐｍ程度以下）させて行った後、露光を行う。
おおよそ以下のようになる。 （１）従来法による露光装置の各号機の組み合わせによ
るレンズマッチングの最適化の際に、本発明の方法のよ
うに、レチクルおよびウエハの回転による組み合わせも
含めた検討を事前に実施する。次いで、（２）製品ロッ
トが仕掛かったら、下層（ターゲットレイヤ）を処理し
た露光装置の号機を確認し、その号機との組み合わせ誤
差が最小となる号機およびその号機における最適回転角
を選択し、レチクルおよびウエハをその指示通りの露光
装置の露光位置にセットする。さらに最終的な回転角の
最適化を露光装置のウエハテーブルを回転（例えば±１
０ｐｐｍ程度以下）させて行った後、露光を行う。
【００２５】ところで、実際にこのようなレチクルおよ
びウエハを９０°（または１８０°，２７０°）回転さ
せて露光位置にセットする場合に、レチクルセット時の
レチクルアライメントマークの位置が問題になる。
びウエハを９０°（または１８０°，２７０°）回転さ
せて露光位置にセットする場合に、レチクルセット時の
レチクルアライメントマークの位置が問題になる。
【００２６】ここで、通常のアライメント方法を図２に
よって説明する。図２に示すように、レチクルアライメ
ントスコープ４１によるアライメント位置にレチクルア
ライメントマーク１２が合うようにレチクル１１をセッ
トする。その後、レチクル１１に露光のための光を照射
し、その像を投影レンズ系３１を通してウエハ５１に縮
小転写する。このようにして、レチクル１１に描かれた
パターン１７をウエハ５１に形成されているレジスト膜
（図示省略）に縮小転写する。
よって説明する。図２に示すように、レチクルアライメ
ントスコープ４１によるアライメント位置にレチクルア
ライメントマーク１２が合うようにレチクル１１をセッ
トする。その後、レチクル１１に露光のための光を照射
し、その像を投影レンズ系３１を通してウエハ５１に縮
小転写する。このようにして、レチクル１１に描かれた
パターン１７をウエハ５１に形成されているレジスト膜
（図示省略）に縮小転写する。
【００２７】したがって、レチクルは回転させない状態
でアライメントを行うようにレチクルアライメントマー
クが形成されている。そのため、回転させた場合にはそ
のレチクルアライメントマークを用いてアライメントを
行うことができなくなる。そこで、レチクルを回転して
もアライメントを行うことができるレチクルに係わる実
施形態の一例を、図３の概略構成図によって説明する。
でアライメントを行うようにレチクルアライメントマー
クが形成されている。そのため、回転させた場合にはそ
のレチクルアライメントマークを用いてアライメントを
行うことができなくなる。そこで、レチクルを回転して
もアライメントを行うことができるレチクルに係わる実
施形態の一例を、図３の概略構成図によって説明する。
【００２８】図３に示すように、レチクル１１には、実
素子パターン領域１４とその周辺に設けられている遮光
領域１５が形成されていて、この遮光領域１５にレチク
ルアライメントマーク１２が形成されている。このレチ
クルアライメントマーク１２は、レチクル１１を回転し
ない状態（０°）、０°の位置から９０°回転させた状
態、０°の位置から１８０°回転させた状態、および０
°の位置から２７０°回転させた状態において、露光装
置に備えられているアライメントスコープ（図示省略）
に対応した位置に形成されている。例えばレチクル１１
の回転中心Ｏに対して点対称位置に、しかもレチクル１
１を図面上、レチクル１１を上下に２分する線Ｌｘに対
して線対称位置にレチクルアライメントマーク１２（第
１アライメントマーク１２Ａ，１２Ｂ）が形成されてい
て、この第１アライメントマーク１２Ａ，１２Ｂより上
記回転中心Ｏに対して９０°回転させた位置に、しかも
レチクル１１を図面上、左右に２分する線Ｌｙ（Ｌｘに
対して回転中心Ｏで直交する線）に対して線対称位置に
レチクルアライメントマーク１２（第２アライメントマ
ーク１２Ｃ，１２Ｄ）が形成されている。なお、上記各
レチクルアライメントマーク１２は、使用する露光装置
のレチクルアライメントスコープの読み取り可能な形状
（図示省略）に形成されている。
素子パターン領域１４とその周辺に設けられている遮光
領域１５が形成されていて、この遮光領域１５にレチク
ルアライメントマーク１２が形成されている。このレチ
クルアライメントマーク１２は、レチクル１１を回転し
ない状態（０°）、０°の位置から９０°回転させた状
態、０°の位置から１８０°回転させた状態、および０
°の位置から２７０°回転させた状態において、露光装
置に備えられているアライメントスコープ（図示省略）
に対応した位置に形成されている。例えばレチクル１１
の回転中心Ｏに対して点対称位置に、しかもレチクル１
１を図面上、レチクル１１を上下に２分する線Ｌｘに対
して線対称位置にレチクルアライメントマーク１２（第
１アライメントマーク１２Ａ，１２Ｂ）が形成されてい
て、この第１アライメントマーク１２Ａ，１２Ｂより上
記回転中心Ｏに対して９０°回転させた位置に、しかも
レチクル１１を図面上、左右に２分する線Ｌｙ（Ｌｘに
対して回転中心Ｏで直交する線）に対して線対称位置に
レチクルアライメントマーク１２（第２アライメントマ
ーク１２Ｃ，１２Ｄ）が形成されている。なお、上記各
レチクルアライメントマーク１２は、使用する露光装置
のレチクルアライメントスコープの読み取り可能な形状
（図示省略）に形成されている。
【００２９】上記レチクル１１では、レチクルを９０°
（または１８０°、２７０°）回転させた状態であって
も現行のレチクルアライメントスコープで計測できる位
置にレチクルアライメントマーク１２が形成されている
ため、そのレチクル１１を使用して露光を行うことによ
り、レチクルアライメントを容易にかつ高精度に行うこ
とが可能になる。これによって、レチクルおよびウエハ
の回転をミックスアンドマッチの選択要因に取り入れた
本発明の露光方法の運用がより円滑に行えるようにな
る。
（または１８０°、２７０°）回転させた状態であって
も現行のレチクルアライメントスコープで計測できる位
置にレチクルアライメントマーク１２が形成されている
ため、そのレチクル１１を使用して露光を行うことによ
り、レチクルアライメントを容易にかつ高精度に行うこ
とが可能になる。これによって、レチクルおよびウエハ
の回転をミックスアンドマッチの選択要因に取り入れた
本発明の露光方法の運用がより円滑に行えるようにな
る。
【００３０】因みに、ウエハに関しては、現行の露光装
置のままでほぼ対応は可能であるが、例えば露光装置の
プリアライメントに関するソフトウエアーおよびハード
ウエアーでの若干の改造が必要になることもある。
置のままでほぼ対応は可能であるが、例えば露光装置の
プリアライメントに関するソフトウエアーおよびハード
ウエアーでの若干の改造が必要になることもある。
【００３１】なお、本発明の露光方法のようにレチクル
を回転させて露光を行う方法を実現させるために、レチ
クルアライメントスコープ（例えば２本で一組）を少な
くとも２組以上用意してもよい。例えばレチクルの左右
および上下の対称の位置にレチクルアライメントマーク
が形成されているものでは２組のレチクルアライメント
スコープで０°、９０°、１８０°、２７０°に回転さ
せた場合のレチクルアライメントが可能になるが、それ
以外の位置にレチクルアライメントマークが形成されて
いる場合には、それぞれのレチクルアライメントマーク
に対応したレチクルアライメントスコープが必要とな
り、その数は最大４組となる。しかしながら、レチクル
アライメントマーク数に対応させてレチクルアライメン
トスコープを増やすような構成では、アライメント装置
のコストを上昇させることになり好ましいとはいえな
い。したがって、２本で一組のレチクルアライメントス
コープで０°、９０°、１８０°、２７０°に回転させ
た場合のレチクルアライメントが可能になる前記図３に
よって説明したレチクル１１を露光に使用することは、
レチクルアライメント精度を低下させることなく、しか
も露光装置のコストを増加させることがないので、最良
の露光方法といえる。
を回転させて露光を行う方法を実現させるために、レチ
クルアライメントスコープ（例えば２本で一組）を少な
くとも２組以上用意してもよい。例えばレチクルの左右
および上下の対称の位置にレチクルアライメントマーク
が形成されているものでは２組のレチクルアライメント
スコープで０°、９０°、１８０°、２７０°に回転さ
せた場合のレチクルアライメントが可能になるが、それ
以外の位置にレチクルアライメントマークが形成されて
いる場合には、それぞれのレチクルアライメントマーク
に対応したレチクルアライメントスコープが必要とな
り、その数は最大４組となる。しかしながら、レチクル
アライメントマーク数に対応させてレチクルアライメン
トスコープを増やすような構成では、アライメント装置
のコストを上昇させることになり好ましいとはいえな
い。したがって、２本で一組のレチクルアライメントス
コープで０°、９０°、１８０°、２７０°に回転させ
た場合のレチクルアライメントが可能になる前記図３に
よって説明したレチクル１１を露光に使用することは、
レチクルアライメント精度を低下させることなく、しか
も露光装置のコストを増加させることがないので、最良
の露光方法といえる。
【００３２】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の露光方法
によれば、露光装置間の組み合わせに加えてレチクルと
ウエハの回転角の組み合わせが増加するので、ミックス
アンドマッチにおける露光装置間の組み合わせ数が増え
る。そのため、より最適なマッチングを成しえる露光装
置の組み合わせが選択し易くなるので、露光装置の組み
合わせ誤差を縮小することができる。それによって、ミ
ックスアンドマッチ性能を向上することができるため、
パターンずれを低減することが可能になるのでウエハの
再生処理を低減することができる。よって、生産性の向
上およびコストの削減を図ることが可能になる。
によれば、露光装置間の組み合わせに加えてレチクルと
ウエハの回転角の組み合わせが増加するので、ミックス
アンドマッチにおける露光装置間の組み合わせ数が増え
る。そのため、より最適なマッチングを成しえる露光装
置の組み合わせが選択し易くなるので、露光装置の組み
合わせ誤差を縮小することができる。それによって、ミ
ックスアンドマッチ性能を向上することができるため、
パターンずれを低減することが可能になるのでウエハの
再生処理を低減することができる。よって、生産性の向
上およびコストの削減を図ることが可能になる。
【図１】本発明の露光方法を説明するフローチャートで
ある。
ある。
【図２】レチクルアライメントを説明する概略構成図で
ある。
ある。
【図３】レチクルを説明する概略構成図である。
Ｓ１…露光装置の組み合わせ誤差をレチクルおよびウエ
ハの回転角に応じて求める、Ｓ２…組み合わせ誤差最小
の回転角の選択、Ｓ３…選択した回転角を露光装置に設
定、Ｓ４…ウエハ露光
ハの回転角に応じて求める、Ｓ２…組み合わせ誤差最小
の回転角の選択、Ｓ３…選択した回転角を露光装置に設
定、Ｓ４…ウエハ露光
Claims (8)
- 【請求項１】 露光装置をミックスアンドマッチによっ
て運用する露光方法において、 下層のパターンを作製するために露光を行った露光装置
と、上層のパターンを作製するために露光を行う露光装
置との組み合わせのなかで、露光装置の組み合わせ誤差
が最小となるレチクルおよびウエハの回転角を選択し、 前記選択した回転角を前記上層のパターンを作製するた
めに露光を行う露光装置に設定し、該露光装置にレチク
ルおよびウエハをセットして露光を行うことを特徴とす
る露光方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の露光方法において、 前記レチクルおよびウエハの回転角は、事前に各露光装
置の組み合わせのなかで最適な回転角を求めておくこと
を特徴とする露光方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の露光方法において、 前記レチクルおよびウエハの回転角は、０°、９０°、
１８０°および２７０°より選択することを特徴とする
露光方法。 - 【請求項４】 請求項２記載の露光方法において、 前記レチクルおよびウエハの回転角は、０°、９０°、
１８０°および２７０°より選択することを特徴とする
露光方法。 - 【請求項５】 請求項３記載の露光方法において、 前記レチクルには、該レチクルを０°、９０°、１８０
°および２７０°回転させた際のそれぞれの回転角に対
応した位置にレチクルアライメントマークを設けたもの
を用いることを特徴とする露光方法。 - 【請求項６】 請求項４記載の露光方法において、 前記レチクルには、該レチクルを０°、９０°、１８０
°および２７０°回転させた際のそれぞれの回転角に対
応した位置にレチクルアライメントマークを設けたもの
を用いることを特徴とする露光方法。 - 【請求項７】 請求項５記載の露光方法において、 前記レチクルの回転中心に対して点対称位置に形成され
た第１アライメントマークと、 前記第１アライメントマークより前記レチクルの回転中
心に対して９０°回転させた位置に形成された第２アラ
イメントマークとを備えたレチクルを用いることを特徴
とする露光方法。 - 【請求項８】 請求項６記載の露光方法において、 前記レチクルの回転中心に対して点対称位置に形成され
た第１アライメントマークと、 前記第１アライメントマークより前記レチクルの回転中
心に対して９０°回転させた位置に形成された第２アラ
イメントマークとを備えたレチクルを用いることを特徴
とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9161004A JPH118185A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9161004A JPH118185A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH118185A true JPH118185A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15726756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9161004A Pending JPH118185A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH118185A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004118134A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子の製造システム |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP9161004A patent/JPH118185A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004118134A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子の製造システム |
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