JPH1179960A - 口腔用組成物 - Google Patents

口腔用組成物

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JPH1179960A
JPH1179960A JP25288797A JP25288797A JPH1179960A JP H1179960 A JPH1179960 A JP H1179960A JP 25288797 A JP25288797 A JP 25288797A JP 25288797 A JP25288797 A JP 25288797A JP H1179960 A JPH1179960 A JP H1179960A
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JP
Japan
Prior art keywords
anethole
xylitol
menthone
composition
sodium
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Application number
JP25288797A
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English (en)
Inventor
Mikio Miyake
幹雄 三宅
Ichiro Fukuda
一朗 福田
Toshiaki Kobayashi
利彰 小林
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Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 キシリトール、アネトール及びメントン
を含有することを特徴とする口腔用組成物。 【効果】 本発明の口腔用組成物は、う蝕原因菌の抑制
効果が高いものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、う蝕原因菌の抑制
効果の高い口腔用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
口腔用組成物にキシリトールを配合すること(特開昭5
0−121444号公報)が提案されており、またキシ
リトールがう蝕予防に有効であることも知られている。
【0003】しかしながら、キシリトールのう蝕原因菌
の抑制効果についてはなお検討の余地があり、更にう蝕
原因菌の抑制効果を高めた口腔用組成物の開発が望まれ
ている。
【0004】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は上記要望に応えるため鋭意検討を重ねた結果、
キシリトール、アネトール及びメントンの3成分を組み
合わせることにより、口腔内のう蝕原因菌のストレプト
コッカス・ミュータンス(S.mutans)の菌数を
減少させることを知見し、本発明をなすに至ったもので
ある。なお、特開平1−287016号公報には、チモ
ールの不快味をマスキングするため、糖アルコールとチ
モールとアネトールの組み合わせが開示されているが、
アネトールやメントンがキシリトールと相乗的に作用
し、う蝕原因菌を効果的に抑制することは知られていな
い。
【0005】従って、本発明の口腔用組成物は、キシリ
トール、アネトール及びメントン(menthone)
を併用したもので、これにより優れたう蝕原因菌の抑制
効果を確保するものである。
【0006】以下、本発明について更に詳述する。キシ
リトールは、例えば東和化成工業(株)、カルター・フ
ードサイエンス(株)などから入手でき、本発明の組成
物中に存在するキシリトールの量は、組成物全体の1〜
95%(重量%、以下同様)、通常5〜80%、好まし
くは30〜80%である。
【0007】一方、アネトールとメントンは精油から単
離したものでも合成したものでもよく、また、アネトー
ルを含む精油、例えば、アニス油(Anise Oi
l)、フェンネル油(Fennel Oil)、スター
アニス油(Star Anise Oil)等や、メン
トンを含む精油、例えば、ペパーミント油(Peppe
rmint Oil)、スペアミント油(Spearm
int Oil)、和種ハッカ油(Japanese
Mint Oil)等をそのまま用いても差し支えな
い。
【0008】この場合、アネトール、メントンは、単離
又は合成したアネトールやメントンとこれらの精油とを
組み合わせて用いても差し支えない。
【0009】本発明の組成物中に存在するアネトールの
量は組成物全体の0.01〜1%であり、通常0.01
〜0.5%、好ましくは0.01〜0.2%である。本
発明の組成物中に存在するメントンの量は組成物全体の
0.01〜1%であり、通常0.01〜0.5%、好ま
しくは0.01〜0.2%である。
【0010】本発明に従って、キシリトールにアネトー
ルとメントンとを併用すると、キシリトール単独より優
れたう蝕原因菌の抑制効果が得られるものであり、本発
明の口腔用組成物は、練歯磨等の歯磨類、洗口剤、チュ
ーインガムなどとして好適に用いられる。この場合、練
歯磨、歯科用クリーム又はゲルでは、湿潤剤は約5〜8
0%使用されるが、キシリトールは湿潤剤の一部又は全
部として使用することができる。他の湿潤剤としては、
ソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール(例えば400〜60)等が使用
できる。
【0011】本発明の口腔用組成物は、上述した有効成
分の他にその種類に応じて適宜成分を配合することがで
きる。例えば、歯磨の場合は、研磨剤、粘結剤、界面活
性剤、甘味料、アネトールやメントン以外の香料、着色
剤などを配合できる。洗口剤の場合は、粘結剤、界面活
性剤、甘味料、香料、着色剤などを配合できる。ガム、
タブレット等においても従来使用されている成分を常量
で用いることができる。
【0012】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、う蝕原因菌の
抑制効果が高いものである。
【0013】
【実施例】以下、実験例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は以下の実施例に制限される
ものではない。
【0014】〔実験例〕以下の試験薬剤No.1〜7を
含むBHI培地(BBL社製)を調製した。これらの培
地に前培養したストレプトコッカス・ミュータンス10
449を1/100量加え、嫌気条件下(80%N2
10%H2,10%CO2)において37℃で2日間培養
した後、細菌の増殖の程度を550nmの吸光度により
測定した。結果を表1に示す。 No.1.1%キシリトール No.2.0.05%アネトール No.3.0.05%メントン No.4.1%キシリトール+0.05%アネトール No.5.1%キシリトール+0.05%メントン No.6.1%キシリトール+0.05%アネトール+
0.05%メントン No.7.コントロール(無添加)
【0015】
【表1】
【0016】表1の結果より、10%キシリトールに、
0.05%アネトール、0.05%メントンをそれぞれ
加えた2成分系は、キシリトール単独よりう蝕原因菌の
抑制効果が高かった。更に、キシリトール、アネトー
ル、メントンの3成分系はより優れたう蝕原因菌の抑制
効果が得られることがわかった。
【0017】以下、実施例を示す。 〔実施例1〕練歯磨 増粘性シリカ 2.0% リン酸カルシウム2水塩 45.0 キシリトール 15.0 プロピレングリコール 3.0 85%グリセリン 8.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.18 サッカリンナトリウム 0.03 アネトール 0.1 メントン 0.07 ペパーミント油 0.8 アニス油 0.1水 残 合 計 100.0%
【0018】 〔実施例2〕練歯磨 シリカ 18.0% 増粘性シリカ 3.0 キシリトール 25.0 ポリエチレングリコール400 3.0 70%ソルビット 3.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.5 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.38 フッ化ナトリウム 0.12 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.2 二酸化チタン 0.4 アネトール 0.2 ペパーミント油 0.8水 残 合 計 100.0%
【0019】 〔実施例3〕練歯磨 シリカ 10.0% 増粘性シリカ 3.0 キシリトール 60.0 ポリエチレングリコール400 5.0 70%ソルビット 5.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.0 ラウリル硫酸ナトリウム 1.3 フッ化ナトリウム 0.34 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.2 二酸化チタン 0.3 アネトール 0.2 メントン 0.01 スペアミント油 1.5水 残 合 計 100.0%
【0020】 〔実施例4〕練歯磨 増粘性シリカ 2.0% 水酸化アルミニウム 35.0 キシリトール 25.0 プロピレングリコール 5.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 1.2 モノフルオロリン酸ナトリウム 1.14 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.2 サッカリンナトリウム 0.02 アネトール 0.02 メントン 0.1 スペアミント油 1.0水 残 合 計 100.0%
【0021】 〔実施例5〕練歯磨 増粘性シリカ 3.0% リン酸カルシウム2水塩 37.0 キシリトール 5.0 プロピレングリコール 3.0 85%グリセリン 20.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.3 ラウリル硫酸ナトリウム 1.2 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.1 ペパーミント油 0.9 アニス油 0.3水 残 合 計 100.0%
【0022】 〔実施例6〕練歯磨 シリカ 15.0% 増粘性シリカ 3.0 キシリトール 15.0 プロピレングリコール 3.0 70%ソルビット 12.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 フッ化ナトリウム 0.23 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.2 二酸化チタン 0.2 アネトール 0.5 メントン 0.05 スペアミント油 1.0水 残 合 計 100.0%
【0023】 〔実施例7〕練歯磨 増粘性シリカ 2.0% 水酸化アルミニウム 30.0 キシリトール 20.0 プロピレングリコール 5.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.2 ラウリル硫酸ナトリウム 0.8 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.76 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.1 サッカリンナトリウム 0.02 アネトール 0.2 メントン 0.1 和製ハッカ油 1.0水 残 合 計 100.0%
【0024】 〔実施例8〕練歯磨 シリカ 20.0% 増粘性シリカ 3.0 キシリトール 30.0 ポリエチレングリコール400 5.0 カルボキシメチルセルロースナトリウム 1.1 ラウリル硫酸ナトリウム 0.5 フッ化ナトリウム 0.23 p−ヒドロキシ安息香酸メチル 0.2 サッカリンナトリウム 0.01 二酸化チタン 0.5 アネトール 0.03 ペパーミント油 1.0水 残 合 計 100.0%
【0025】 〔実施例9〕洗口剤 エタノール 10.0% キシリトール 20.0 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 0.05 スペアミント油 0.8 アネトール 0.1 メントン 0.05 フッ化ナトリウム 0.23水 残 合 計 100.0%
【0026】 〔実施例10〕粉歯磨(潤製) 炭酸カルシウム 35.0% カルボキシメチルセルロース 0.2 グリセリン 5.0 キシリトール 50.0 ペパーミント油 0.8 アニス油 0.1水 残 合 計 100.0%
【0027】 〔実施例11〕ガム ガムベース 20.0% シロップ 5.0 グリセリン 2.0 キシリトール 71.8 スペアミント油 1.1アネトール 0.1 合 計 100.0%
【0028】 〔実施例12〕ダブレット ソルビトール 27.0% キシリトール 70.0 スペアミント油 1.5 アネトール 0.2 メントン 0.3潤沢剤 1.0 合 計 100.0%

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 キシリトール、アネトール及びメントン
    を含有することを特徴とする口腔用組成物。
JP25288797A 1997-09-02 1997-09-02 口腔用組成物 Pending JPH1179960A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015158638A1 (en) * 2014-04-17 2015-10-22 Unilever Plc Solid oral care compositions

Cited By (2)

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