JPH1172773A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法

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JPH1172773A
JPH1172773A JP23407997A JP23407997A JPH1172773A JP H1172773 A JPH1172773 A JP H1172773A JP 23407997 A JP23407997 A JP 23407997A JP 23407997 A JP23407997 A JP 23407997A JP H1172773 A JPH1172773 A JP H1172773A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】カット不良の発生を抑制し、ガラス欠けやガラ
ス破片の発生による歩留まりの低下を防止できる液晶表
示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目
的とする。 【解決手段】アレイ基板100のガラス基板101を切
り出す際に形成されるスクライブラインSLの周辺部、
例えばスクライブラインSLに対して内側すなわちシー
ル材106側及び外側3mmの範囲内に、表示エリア1
02内より密にスペーサ210を配置し、スクライブラ
インSLの直上に位置する対向基板200のガラス基板
201側から衝撃を与え、スペーサ210を介してガラ
ス基板101側に伝える。これにより、スクライブライ
ンSLのクラックがガラス面に対して垂直な方向に進行
し、ガラス基板101をカッティングする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置等
の光学的表示装置の製造方法に係り、特に液晶表示装置
を構成するガラス基板を切り出すためのカッティング方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置は、以下のように
して製造される。すなわち、それぞれ電極を有する2枚
のガラス基板のいずれか一方の全面に、2枚の基板を張
り合わせた際に基板間を一定に保つ間隙材すなわちスペ
ーサを形成する。スペーサとしては、球状のスペーサを
散布する場合と、あらかじめフォトリソグラフィ法など
で基板に固定形成する場合とがある。スペーサは、後の
工程で塗布されるシール材によって囲まれる領域内の表
示エリアに均一に配置されているとともに、シール材の
外側の周辺エリアに表示エリアより疎な密度で均一に配
置されている。そして、一方のガラス基板上にシール材
を塗布した後に2枚の基板を張り合わせ、シール材を硬
化させる。そして、2枚のガラス基板を所望の大きさに
カッティングし、基板間に液晶を封入することによって
液晶表示装置が形成される。
【0003】ガラス基板のカッティングに際しては、ダ
イシング法やピエゾ法等があるが、その中でもスクライ
ブ法が最も広く一般的に使用されている。スクライブ法
とは、鋭利なダイヤモンドや超鋼等により、ガラス面に
スクライブと称されるクラックを形成し、このスクライ
ブを形成した面の裏側から、ブレイクと称される衝撃を
加えてスクライブによるクラックを進行させて、ガラス
をカットする方法である。スクライブを線状に連続的に
形成したものをスクライブラインと称する。そして、ブ
レイクバーと呼ばれるゴム製の部品によりスクライブラ
インに沿ったスクライブラインの裏側からブレイクす
る。すなわち均一に衝撃を加えることにより、ガラス基
板をブレイクし、ガラス基板を所望の大きさにカッティ
ングする。
【0004】液晶表示装置の製造工程におけるガラス基
板のカッティングは、2枚のガラス基板が張り合わされ
た状態で実行される。すなわち、一方のガラス基板の表
面にスクライブラインを形成し、対向配置されたもう一
方のガラス基板側をブレイクすることにより、一方のガ
ラス基板をカッティングする。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】スペーサが一方の基板
に固定して形成される液晶表示装置において、対向する
基板をブレイクするのに際して、基板間にはスペーサし
か存在せず、ブレイクの衝撃を伝えるのはスペーサであ
るため、スペーサにブレイクの衝撃が集中し、スクライ
ブによるクラックは、スペーサに向かって進行する傾向
にある。つまり、ブレイク後におけるガラス基板のカッ
ト面の断面形状と、スペーサの位置関係とは、非常に密
接に関係している。
【0006】しかしながら、ガラス基板の周辺エリアに
は、スペーサがスクライブラインから離れた位置に比較
的疎な密度で配置されているため、クラックがスペーサ
の方向へ進行することにより、ガラス基板のカット面が
鋭利な断面形状となるいわゆるソゲなどのカット不良が
発生しやすく、歩留まりが低下する。また、このような
カット不良は、その後の製造工程においてガラス欠けを
生じやすく、欠けたガラスがガラス破片となって、基板
間や、偏光板と基板との間などに入り込むゴミ噛み不良
を引き起こし、歩留まりを低下させる原因となる。
【0007】また、ブレイクバーがガラス基板をブレイ
クするブレイク位置の精度は、一般的にスクライブライ
ンに対して±1mm程度であり、ブレイク位置がスクラ
イブラインに対して大きくずれる可能性が高い。ブレイ
クバーがスクライブラインに対してずれた状態でガラス
基板をブレイクした際には、ブレイクの衝撃は、スクラ
イブラインから外れた位置に配置されたスペーサを介し
て伝えられるため、カット不良が発生することが多く、
ガラス欠けやガラス破片が発生して、歩留まりが低下す
る。
【0008】さらに、液晶駆動回路を有するアレイ基板
は、内部回路を静電気から保護するための回路をアレイ
基板の周辺エリアに配置していることが多く、特に、ス
クライブライン周辺部には、配線パターンが多く配置さ
れている。このような配線パターン上にスペーサを配置
した場合、ガラス基板上に配置されたスペーサより、配
線パターンの膜厚の分だけ高くなり、ブレイクの衝撃が
スペーサに均一に分散せずに配線パターン上のスペーサ
に集中するため、カット不良が発生する虞がある。ま
た、ブレイクの衝撃により、配線パターンを破壊してし
まう虞もあり、歩留まりを低下させる要因となる。
【0009】上述したように、スクライブラインから離
れた位置に比較的疎な密度でスペーサを配置している
と、スクライブラインに対するブレイク位置の変動、ス
ペーサと配線パターンとの相対位置などの影響により、
カット不良が発生しやすく、ガラス欠けやガラス破片が
発生し、歩留まりを低下させる問題が生ずる。
【0010】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、カット不良の発生を抑制し、ガラ
ス欠けやガラス破片の発生による歩留まりの低下を防止
できる液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供
することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、請求項1によれば、透明な絶
縁性の第1基板及び第2基板の少なくとも一方に電極を
形成し、前記第1基板に表示エリア及び表示エリアの周
辺に位置する周辺エリアを形成し、前記第1基板に前記
第2基板が対向配置された際に、前記表示エリア及び周
辺エリアに対向する前記第2基板の所定位置に2枚の基
板の間隙を一定に保持するための間隙材を形成し、前記
表示エリアと周辺エリアとを区画するとともに対向配置
された前記第1基板及び前記第2基板を接着するシール
材により、前記第1及び第2基板を組立て、前記第1及
び第2基板をそれぞれ所望のサイズに切り出すための切
り出し線を前記周辺エリアに形成し、前記切り出し線に
沿って前記第1及び第2基板を切り出し、前記第1基板
と第2基板との間に液晶を密封する液晶表示装置の製造
方法において、前記間隙材を形成する工程において、前
記切り出し線の近傍には、12個/mm2 以上の密度で
間隙材を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造
方法が提供される。
【0012】請求項4によれば、電極及びこの電極を駆
動するためのスイッチング素子を含む表示エリアと、こ
の表示エリアの周辺に位置するとともに前記スイッチン
グ素子に接続された配線パターンを含む周辺エリアとを
有する第1基板と、前記第1基板に対向配置されるとと
もに前記表示エリアに対向する位置に電極を有する第2
基板と、前記第2基板上に形成されているとともに、前
記表示エリア及び周辺エリアにおける前記第1及び第2
基板の間を一定の間隙を保つ間隙材と、前記第1基板と
第2基板との間に密封された液晶と、を備えた液晶表示
装置において、前記第1及び第2基板の周辺エリアは、
それぞれ所望のサイズに切り出すための切り出し線を有
し、前記切り出し線の近傍には、12個/mm2 以上の
密度で形成された間隙材を有することを特徴とする液晶
表示装置が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明に
係る液晶表示装置及びこの液晶表示装置の製造方法の実
施の形態について詳細に説明する。図1は、この発明の
液晶表示装置に適用される液晶表示パネルの一例を概略
的に示す斜視図である。
【0014】この発明の一実施の形態に係る液晶表示装
置は、例えば対角14インチの表示エリアを備えて構成
されるアクティブマトリクス型液晶表示装置であって、
図1に示すような液晶表示パネル10を備えている。
【0015】液晶表示パネル10は、図1に示すよう
に、画像を表示する表示エリア102、及び配線パター
ンが形成された周辺エリア104を含む第1基板として
のアレイ基板100と、このアレイ基板100に対向配
置された第2基板としての対向基板200と、アレイ基
板100と対向基板200との間に配置された液晶材料
とを備えている。表示エリア102は、アレイ基板10
0と対向基板200とを貼り合わせるシール材106に
よって囲まれた領域内に形成され、周辺エリア104
は、シール材106の外側の領域に形成されている。
【0016】アレイ基板100の表示エリア102は、
図2及び図3に示すように、絶縁性基板、例えば厚さが
0.7mmのガラス基板101上に互いに直交するよう
に配設された1024×3本の信号線103及び768
本の走査線111を備えている。走査線111は、アル
ミニウムやモリブデン−タングステンなどの低抵抗材料
によって形成されているとともに、ガラス基板101上
に直接配設されている。一方、信号線103は、アルミ
ニウムなどの低抵抗材料によって形成されているととも
に、ガラス基板101上に形成された酸化シリコンと窒
化シリコンとの多層膜からなる絶縁膜113上に配設さ
れている。
【0017】また、アレイ基板100は、各信号線10
3と各走査線111との各交点部毎の近傍に配設された
スイッチング素子としての薄膜トランジスタすなわちT
FT121と、このTFT121を介して接続された画
素電極151とを備えている。画素電極151は、透過
性の導電性部材、例えばITOによって形成されてい
る。
【0018】TFT121は、図3に示すように、走査
線111から突出した部分をゲート電極112とし、こ
の上にゲート絶縁膜113が積層されている。そして、
a−Si:H膜によって形成された半導体膜115がこ
のゲート絶縁膜113上に積層されている。さらに、窒
化シリコンによって形成されたチャネル保護膜117が
この半導体膜115上に積層されている。
【0019】半導体膜115は、n+型a−Si:H膜
によって形成された低抵抗半導体膜119、及びソース
電極131を介して画素電極151に電気的に接続され
ている。また、半導体膜115は、低抵抗半導体膜11
9、及び信号線103から延出されたドレイン電極13
2を介して信号線103に電気的に接続されている。T
FT121のチャネル保護膜117、ソース電極13
1、及びドレイン電極132は、窒化シリコン膜等の絶
縁膜からなる保護膜171によって覆われている。
【0020】また、アレイ基板100の表面は、対向基
板200との間に介在される液晶組成物300を配向さ
せるための配向膜141によって覆われている。アレイ
基板100における表示エリア102の周囲には、信号
線や走査線に接続される各種配線を有する配線エリア1
04が形成されている。
【0021】対向基板200の表示エリア102は、透
明な絶縁性基板、例えば厚さが0.7mmのガラス基板
201上にITOによって形成された対向電極204を
備えている。また、対向基板200は、アレイ基板10
0における配線パターン上、すなわちアレイ基板100
のTFT121と信号線103との隙間、画素電極15
1と信号線103との隙間、画素電極151と走査線1
11との隙間にそれぞれ対向する位置を遮光するために
配設された遮光膜202を備えている。この遮光膜20
2は、例えばクロム膜によって形成されている。また、
対向基板200は、ガラス基板201の画素電極151
に対向する位置であって、遮光膜202の間に配置され
たカラー表示を実現するための赤(R)、緑(G)、青
(B)の3原色で構成されるカラーフィルタ203R、
203G、203Bを備えている。そして、このカラー
フィルタ203R、203G、203Bの表面は、アレ
イ基板100との間に介在される液晶組成物300を配
向させるための配向膜205によって覆われている。
【0022】この液晶表示パネル10の表裏面、すなわ
ちガラス基板101及びガラス基板201の外面には、
互いに偏光方向が直交する偏光板(図示しない)が配設
されている。
【0023】この液晶表示パネル10では、アレイ基板
と対向基板との間の間隙を一定に保持するためのスペー
サすなわち間隙材は、図3に示したように、遮光膜20
2と、カラーフィルタ203R、203G、203Bと
を積層することによって形成されている。
【0024】すなわち、対向基板200に、感光性の黒
色樹脂をスピンナーにて塗布して乾燥した後、所定のパ
ターン形状すなわちアレイ基板における配線部に対応し
た形状のフォトマスクを介して露光し、現像する。そし
て、焼成処理することにより、配線部を遮光する遮光膜
202を形成する。
【0025】続いて、赤色の顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジストを対向基板200上にスピン
ナーにて全面塗布して乾燥した後、赤色の画素に対応し
た部分、及び黒色の遮光膜202上におけるTFT12
1に対向する部分に、それぞれ対応した形状のフォトマ
スクを介して露光し、現像する。そして、焼成処理する
ことにより赤色カラーフィルタ203Rを形成する。
【0026】続いて、緑の画素に対応した部分に、赤色
カラーフィルタ203Rと同様に、緑色カラーフィルタ
203Gを形成するとともに、同時に、TFT121に
対向する部分における遮光膜202上に積層された赤色
カラーフィルタ203R上にも、緑色カラーフィルタ2
03Gを形成する。
【0027】続いて、青の画素に対応した部分に、赤色
カラーフィルタ203Rと同様に、青色カラーフィルタ
203Bを形成するとともに、同時に、TFT121に
対向する部分における赤色カラーフィルタ203R及び
緑色カラーフィルタ203Gが積層された部分にも青色
カラーフィルタ203Bを形成する。
【0028】このようにして、液晶表示パネル10の表
示エリア102内では、遮光膜202及びカラーフィル
タ203R、203G、203Bを形成するフォトリソ
グラフィ工程を利用して、TFT121に対向する部分
に、黒色の遮光膜202、及び赤、緑、青のそれぞれの
カラーフィルタ203R、203G、203Bを積層す
ることにより、柱状の突起物210が形成されている。
そして、この突起物をスペーサとして利用する。なお、
この実施の形態では、TFTに対向する位置にカラーフ
ィルタを積層して突起物を形成したが、必ずしもすべて
のTFTに対向するように形成する必要はなく、他の配
線パターン上であってもよい。また、このスペーサは、
液晶表示素子のサイズ、突起物のサイズ、及び液晶表示
素子の形成プロセスに応じて最適な位置に最適な数の突
起物を形成すればよい。
【0029】一方、液晶表示パネル10の周辺エリア1
04X、104Y、すなわちシール材106の外側の領
域では、図4に示すように、黒色の遮光膜202、及び
赤、緑、青のそれぞれのカラーフィルタ203R、20
3G、203Bを積層することにより、柱状の突起物、
すなわちスペーサ210が形成されている。この周辺エ
リア104X、104Yに設けられたスペーサ210
は、表示エリア102における対向基板201の遮光膜
形成工程、及びカラーフィルタ形成工程と同時に形成さ
れる。したがって、周辺エリア104にスペーサ210
を形成するための別の製造工程を必要とすることなく、
対向基板形成時に同時に形成することが可能である。
【0030】また、この液晶表示パネル100では、図
1に示したように、液晶表示装置の外形寸法、特に額縁
サイズを小さく構成するために、詳細に図示しないが、
信号線は、アレイ基板100の周辺エリア104Yの第
1端辺201側にのみ引き出され、この第1端辺201
側で信号線に映像データを供給するX−TAB401−
1、401−2、401−3、401−4に異方性導電
接着剤を介して接続されている。この信号線が引き出さ
れた周辺エリア104Xにおけるシール材106の外端
からの幅は、約3.2mmである。
【0031】また、走査線も、アレイ基板の周辺エリア
104Yにおける第1端辺201と直交する第2端辺2
03側にのみ引き出され、この第2端辺203側で走査
線に走査パルスを供給するY−TAB411−1、41
1−2に異方性導電接着剤を介して接続されている。こ
の走査線が引き出された周辺エリア104Yにおけるシ
ール材106の外端からの幅は、約3.5mmである。
【0032】そして、X−TAB401−1、401−
2、401−3、401−4は、液晶表示パネル10の
裏面側に折り曲げられ、液晶表示パネル10の裏面に配
置された各X−TAB401−1、401−2、401
−3、401−4を制御するX制御回路基板421に異
方性導電接着剤を介して接続される。
【0033】また、Y−TAB411−1、411−2
は、液晶表示パネル10の側方に配置されて各Y−TA
B411−1、411−2を制御するY制御回路基板4
31に異方性導電接着剤を介して接続される。なお、各
X−TAB401−1、401−2、401−3、40
1−4とX制御回路基板421、あるいは、各Y−TA
B411−1、411−2とY制御回路基板431との
電気的な接続は、半田付けによるものであっても構わな
い。
【0034】なお、図4に示したスペーサ210は、対
向基板がアレイ基板に対向配置された際にアレイ基板上
の周辺エリア104に形成された配線パターン上を避け
るような位置に配置されている。
【0035】液晶表示パネルの周辺エリア104のスペ
ーサ210は、図5に示すように、表示エリア102の
スペーサより配置密度が密になるように配置されてい
る。特に、後述するように、切り出し線としてのスクラ
イブラインSL上及びこのスクライブラインSLの近
傍、例えばスクライブラインSLに対して±3mm以内
の範囲すなわちスクライブラインSLの両サイド3mm
の幅は、スペーサが密になるように、例えば12個/m
2 乃至100個/mm2 以上、好ましくは、15個/
mm2 以上の配置密度で均一に配置されている。また、
これらのスペーサ210は、図4に示すように、一辺が
20乃至50μm角の幅Wを有する角柱状に形成されて
いる。なお、これらのスペーサは、幅Wを直径とする円
柱状に形成されてもよい。
【0036】また、液晶表示パネルの表示エリア102
のスペーサは、10個/mm2 程度の配置密度で基板全
体に均一に配置されている。次に、この液晶表示装置の
製造方法について説明する。
【0037】すなわち、透明ガラス基板上の行方向に沿
って平行な複数本の走査線と、列方向に沿って平行な複
数本の信号線と、画素数分の画素電極と、画素毎に液晶
を駆動するための画素数分の薄膜トランジスタすなわち
TFTとをそれぞれ形成し、アレイ基板100を形成す
る。一方、透明ガラス基板上に透明導電性部材からなる
対向電極と、アレイ基板に対して対向配置された際に走
査線及び信号線などの配線部を遮光する遮光膜と、画素
毎に設けられるカラーフィルタと、遮光膜及びカラーフ
ィルタを積層することにより表示エリア102及び周辺
エリア104にそれぞれ所定の配置密度で配置されるス
ペーサとを形成し、対向基板200を形成する。
【0038】続いて、アレイ基板100及び対向基板2
00を洗浄した後、各基板に配向膜を塗布し、焼成す
る。その後、各基板の配向膜をラビング処理する。続い
て、再度洗浄した後、図6に示すように、アレイ基板及
び対向基板のいずれか一方にシール材106を塗布し、
2枚の基板を組み立てた後、シール材106を硬化させ
る。このシール材106を塗布する際に、その一部に、
後の工程で2枚の基板間に液晶を注入するための注入口
108を形成する。
【0039】続いて、アレイ基板100及び対向基板2
00を所望のサイズに切り出す、すなわちカッティング
を実行する。まず、図6に示すように、鋭利なダイヤモ
ンドや超鋼等により、カッティングするガラス面例えば
対向基板200を構成するガラス基板201の表面に、
スクライブラインSL、すなわちガラス基板を所望のサ
イズに切り出すための切り出し線に沿った線状のクラッ
クを形成する。このスクライブラインSLは、シール材
106に沿って略平行に形成され、その断面は、図5に
示すように、略V字型に形成されている。スクライブラ
インSLが形成される周辺部、すなわち、図7の拡大図
に示すように、スクライブラインSLから内側すなわち
シール材側3mmの範囲と、スクライブラインSLから
外側3mmの範囲内には、スペーサ210は、表示エリ
ア内と比較して密に配置されている。
【0040】なお、このスクラブラインSLは、対向基
板200側のガラス基板201に対しては、シール材1
06の外端から約0.3mmの位置に沿って形成され
る。また、アレイ基板100側のガラス基板101に対
しては、信号線が引き出された周辺エリア104Xにお
いて、スクライブラインSLは、シール材106の外端
から約3.2mmの位置に形成され、走査線が引き出さ
れた周辺エリア104Yにおいて、シール材106の外
端から約3.5mmの位置に形成される。また、表示エ
リア102とスクライブラインSLとの距離は、約5.
4mmである。
【0041】そして、このスクライブラインSLを形成
した面の裏側、すなわちアレイ基板100側から、スク
ライブラインSLに沿ってブレイクと称される衝撃を加
える。この衝撃は、スクライブラインSL周辺に均一に
且つ密に配置したスペーサ210を介して対向基板側に
伝えられ、クラックを進行させて、ガラス基板をカット
する。この時、スクライブラインに沿って略均等に衝撃
を加えるために、ブレイクバーと呼ばれる一方向に延出
されたゴム製の部品を使用する。そして、ブレイクバー
により、スクライブラインSLに沿ってアレイ基板10
0のガラス基板101側からブレイクすることにより、
対向基板200のガラス基板201をカッティングす
る。
【0042】同様のカッティングを液晶表示パネルの4
辺に沿ってそれぞれ実行することにより対向基板200
を所望のサイズに切り出す。同様に、アレイ基板100
側のガラス基板101の表面に、所望のサイズに切り出
すためのスクライブラインSLを形成した後、ブレイク
バーによりブレイクし、アレイ基板100を所望のサイ
ズに切り出す。
【0043】なお、対向基板200及びアレイ基板10
0を切り出す順序は、液晶表示パネルの構造や、製造工
程により決定されるものであり、上述した例に限定され
るものではない。
【0044】続いて、切り出された液晶表示パネルの2
枚の基板間に、注入口から液晶を注入し、封止材により
液晶を封入する。続いて、アレイ基板100の表面及び
対向基板200の表面に偏光板を取り付ける。
【0045】続いて、図1に示したように、アレイ基板
100の周辺エリア104に形成された配線パターンに
駆動用回路を取り付ける。そして、液晶表示パネルの背
面、すなわちアレイ基板側にバックライトを取り付けて
液晶表示装置を完成させる。
【0046】上述したように、例えば対向基板200を
カッティングする場合、スクライブされた対向基板20
0に対向するアレイ基板100をブレイクした衝撃は、
スクライブラインSL周辺に均一に且つ密に配置された
スペーサ210を介して対向基板200に伝えられるた
め、対向基板200のスクライブによるクラックは、基
板に垂直に進行し、カット不良の発生が防止できる。
【0047】したがって、その後の液晶注入工程や偏光
板貼り工程等で、ガラス欠けやガラス破片による不良の
発生が抑制され、歩留まりを向上させることができる。
次に、上述したような液晶表示装置の製造方法におい
て、液晶表示パネルをカッティングする際に発生するカ
ット不良について、スペーサの配置位置を変えた場合と
比較した。
【0048】すなわち、実験条件Aは、スクライブライ
ンSLから外側、すなわちシール材から遠ざかる側に
0.3mmシフトした位置に、スクライブラインに沿っ
てほぼ等間隔にスペーサが配置された液晶表示パネルを
カッティングする場合である。実験条件Bは、スクライ
ブラインSLから内側、すなわちシール材に近接する側
に0.3mmシフトした位置に、スクライブラインに沿
ってほぼ等間隔にスペーサが配置された液晶表示パネル
をカッティングする場合である。実験条件Cは、上述し
た製造方法で製造したように、スクライブラインSLの
周辺に15個/mm2 の配置密度でスペーサを分散配置
した液晶表示パネルをカッティングする場合である。
【0049】実験条件AおよびBは、ともに実験回数が
6回であり、スクライブラインに対してブレイクバーが
ブレイクする位置のバラツキは、−0.1mm乃至+
0.2mmである。また、実験条件Cは、実験回数が5
4回であり、スクライブラインに対してブレイクバーが
ブレイクする位置のバラツキは、−0.2mm乃至+
0.15mmである。ここで、−(マイナス)は、スク
ライブラインに対してシール材側にずれた場合を示し、
+(プラス)は、スクライブラインに対してシール材か
ら外側にずれた場合を示している。
【0050】これら3つの実験条件のそれぞれの実験結
果は、図8に示されている。ここで、ガラス基板をカッ
ティングした際に、スクライブラインからガラス面に対
して垂直にクラックが進行せずに、ガラス基板のカット
面の断面がスクライブラインから外れてガラス面に対し
て斜めにクラックが進行し、鋭利な断面形状となる不良
をソゲと称し、スクライブラインからの外れ量をソゲ量
とする。ソゲ量が−(マイナス)の場合は、スクライブ
ラインに対してシール材側にずれた場合を示し、+(プ
ラス)の場合は、スクライブラインに対してシール材か
ら外側にずれた場合を示している。
【0051】図8に示すように、実験条件Aにおけるソ
ゲ量の平均値は、+0.1mmであり、標準偏差をσと
すると3σ値は、0.34である。つまり、実験条件A
では、−0.24mm乃至+0.44mmのバラツキを
もってソゲが発生する可能性がある。
【0052】実験条件Bにおけるソゲ量の平均値は、−
0.11mmであり、3σ値は、0.44である。つま
り、実験条件Bでは、−0.55mm乃至+0.33m
mのバラツキをもってソゲが発生する可能性がある。
【0053】一方、実験条件Cにおけるソゲ量の平均値
は、0.04mmであり、3σ値は、0.09である。
つまり、実験条件Cでは、−0.05mm乃至+0.1
3mmのバラツキをもってソゲが発生する可能性がある
が、上述の実験条件A及びBと比較すると、ソゲ量が極
めて小さく、またバラツキも小さい。
【0054】この実験結果から分かるように、スクライ
ブラインの周辺部にスペーサを均一に分散配置すること
により、ソゲの発生を抑制できるとともに、たとえソゲ
が発生したとしても、ソゲ量は後工程に影響を及ぼさな
い程度の極微量である。したがって、カット不良の発生
を抑制することが可能となり、歩留まりを向上できる。
【0055】このように、ガラス基板をカッティングす
る場合、スクライブラインSL周辺に、スペーサを12
個/mm2 以上、好ましくは15個/mm2 以上の密度
で均一に配置することにより、スクライブによるクラッ
クが基板に対して略垂直に進行し、カット不良の発生を
防止することができる。また、ブレイク位置のバラツキ
に対しても大きなソゲを発生することがなく、ガラス欠
けやガラス破片による不良の発生が抑制され、歩留まり
を向上させることができる。
【0056】なお、この発明は、上述した実施の形態に
限定されず、種々に変形可能であり、例えば、スペーサ
をカラーフィルタなどを積層することにより形成しなく
てもよい。すなわち、透明樹脂を使用して、一工程でス
ペーサを形成してもよい。また、スクライブラインの周
辺部に配置するスペーサと、その他の部分のスペーサと
は、配置方法、材質、大きさ、形状などが必ずしも同一
である必要はなく、同時の製造工程でスペーサを配置す
る必要もない。つまり、効果的に対向基板とアレイ基板
間の間隙をスペーサが保持しており、スクライブライン
を中心として左右±3mm以内の範囲に12個/mm2
以上、好ましくは15個/mm2 以上の密度でスペーサ
が均一に配置されていれば、どのような過程を経ていて
もよい。
【0057】また、上述した実施の形態では、薄膜トラ
ンジスタで液晶を駆動する液晶表示装置に適用した場合
を説明したが、他の駆動方式の液晶表示装置にも適用す
ることができる。例えば、薄膜ダイオードすなわちTF
Dで液晶を駆動する液晶表示装置や、基板自体にスイッ
チング素子を持たない単純マトリクス型の液晶表示装置
にも適用することができる。
【0058】スペーサは、2枚の基板のどちらに形成し
てもよいが、切断した基板に対向する基板(切断後に残
る側の基板)に、外部入力端子のような電極パターンが
配置されている場合には、切断する基板側にスペーサを
設けた方が良い。これは、後工程で、外部入力端子に回
路基板などを実装するような場合、スペーサが障害とな
る可能性があるからである。
【0059】また、電極パターン上にスペーサを配置し
ないようが望ましい。これは、スクライブ後に基板を取
り除く際に、基板のずれによってスペーサが配線パター
ンを傷つけることを防止するためである。
【0060】この発明の液晶表示装置によれば、スクラ
イブラインの左右±3mmの範囲内に少なくとも12個
/mm2 以上の密度で配置されたスペーサにブレイクの
衝撃が分散することにより、カット不良の発生がなくな
り、液晶注入工程や偏光板貼り工程でのカット不良起因
のガラス欠けやガラス破片の発生が皆無となるため、歩
留まりを向上することが可能となる。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、カット不良の発生を抑制し、ガラス欠けやガラス破
片の発生による歩留まりの低下を防止できる液晶表示装
置及び液晶表示装置の製造方法を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表
示装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図2】図2は、図1に示した液晶表示装置に適用され
る液晶表示パネルのアレイ基板の表示エリアの構造を概
略的に示す平面図である。
【図3】図3は、図2に示した液晶表示パネルのA−A
‘線で切断した際の断面を概略的に示す断面図である。
【図4】図4は、図1に示した液晶表示装置に適用され
る液晶表示パネルの周辺エリアの構造を概略的に示す断
面図である。
【図5】図5は、液晶表示パネルの表示エリア及び周辺
エリアにそれぞれ配置されたスペーサを示す断面図であ
る。
【図6】図6は、図1に示した液晶表示装置を製造する
際のカッティング工程で形成されるスクライブラインの
位置を概略的に示す斜視図である。
【図7】図7は、図6に示したスクライブラインの周辺
部を拡大した拡大図である。
【図8】図8は、スペーサの配置位置を変えてカッティ
ングした際のソゲ量を測定した測定結果を示す図であ
る。
【符号の説明】
10…液晶表示パネル 100…アレイ基板 102…表示エリア 104…周辺エリア 106…シール材 121…TFT 151…画素電極 200…対向基板 202…遮光膜 203(R、G、B)…カラーフィルタ 204…対向電極 210…スペーサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/00 338 G09F 9/00 338

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明な絶縁性の第1基板及び第2基板の少
    なくとも一方に電極を形成し、 前記第1基板に表示エリア及び表示エリアの周辺に位置
    する周辺エリアを形成し、 前記第1基板に前記第2基板が対向配置された際に、前
    記表示エリア及び周辺エリアに対向する前記第2基板の
    所定位置に2枚の基板の間隙を一定に保持するための間
    隙材を形成し、 前記表示エリアと周辺エリアとを区画するとともに対向
    配置された前記第1基板及び前記第2基板を接着するシ
    ール材により、前記第1及び第2基板を組立て、 前記第1及び第2基板をそれぞれ所望のサイズに切り出
    すための切り出し線を前記周辺エリアに形成し、 前記切り出し線に沿って前記第1及び第2基板を切り出
    し、 前記第1基板と第2基板との間に液晶を密封する液晶表
    示装置の製造方法において、 前記間隙材を形成する工程において、前記切り出し線の
    近傍には、12個/mm2 以上の密度で間隙材を形成す
    ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 【請求項2】前記間隙材を形成する工程において、前記
    切り出し線の近傍には、15個/mm2 以上の密度で間
    隙材を形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶
    表示装置の製造方法。
  3. 【請求項3】前記第1基板及び第2基板の少なくとも一
    方の周辺エリアには、前記電極に接続される配線パター
    ンが形成され、前記間隙材は、前記配線パターンから外
    れる位置の前記第2基板上に形成されていることを特徴
    とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  4. 【請求項4】電極及びこの電極を駆動するためのスイッ
    チング素子を含む表示エリアと、この表示エリアの周辺
    に位置するとともに前記スイッチング素子に接続された
    配線パターンを含む周辺エリアとを有する第1基板と、 前記第1基板に対向配置されるとともに前記表示エリア
    に対向する位置に電極を有する第2基板と、 前記第2基板上に形成されているとともに、前記表示エ
    リア及び周辺エリアにおける前記第1及び第2基板の間
    を一定の間隙を保つ間隙材と、 前記第1基板と第2基板との間に密封された液晶と、を
    備えた液晶表示装置において、 前記第1及び第2基板の周辺エリアは、それぞれ所望の
    サイズに切り出すための切り出し線を有し、前記切り出
    し線の近傍には、12個/mm2 以上の密度で形成され
    た間隙材を有することを特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】前記第1及び第2基板の周辺エリアは、そ
    れぞれ所望のサイズに切り出すための切り出し線を有
    し、前記切り出し線の近傍には、15個/mm2 以上の
    密度で形成された間隙材を有することを特徴とする請求
    項4に記載の液晶表示装置。
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