JPH1170415A - ワイヤカット放電加工機のダイス状ガイドの摩耗量を測定する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加工部のワイヤ電極を位置決めする上下一対
のガイドとしてダイス状ガイドを用いたワイヤカット放
電加工機に於て、加工機に取付けたままの状態で該ダイ
ス状ガイドの摩耗量を簡単に測定すること。 【解決手段】 ワイヤ電極との接触を電気的に検知する
所定半径の円孔が形成された平板状の測定治具をＸＹ二
軸平面に取付け、ワイヤ電極を前記円孔に挿通させた状
態でＸＹ二軸平面と垂直に位置決めし、垂直出しされた
ワイヤ電極の中心軸に前記円孔の中心が一致するように
測定治具を位置決めした後、一対のダイス状ガイドの一
方のガイドにＵＶ座標系に於ける所定の運動を、あるい
は更に測定治具にＸＹ座標系に於ける所定の運動を付与
して、傾斜状態のワイヤ電極と前記円孔内周面との接触
を検知し、該接触が検知されたときのＵＶ座標位置と座
標基準点間の距離、あるいは更に測定治具の位置するＸ
Ｙ座標位置と座標基準点間の距離を演算し、算出された
前記距離を所定数式に代入して演算することにより、ダ
イス状ガイドの摩耗量を測定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、上下一対のガイド
間を軸方向に走行移動するワイヤ電極に、載物台の載物
平面上に取付けた被加工物を対向させ、一対のガイドの
内の一方のガイドを載物平面に垂直のＺ軸方向に移動す
るガイドＺ軸移動機構と、一対の両ガイド間に載物平面
と平行で互いに直交するＵ軸とＶ軸のＵＶ座標系に於け
る相対的な移動を与えるワイヤ電極傾動機構とにより、
各ガイドをＵＶＺ各軸の所定の位置に配置して両ガイド
間のワイヤ電極をＺ軸に対して所定角度傾斜させ、ワイ
ヤ電極と被加工物の対向間隙に加工液を供給した状態
で、両者間に間歇的に電圧パルスを印加して繰返し放電
を発生させると共に、加工送り機構によりＵ軸と平行な
Ｘ軸及びＶ軸と平行なＹ軸方向の相対的な送りを与え
て、所望輪郭形状の切断加工を行なうワイヤカット放電
加工機に関し、特に、前記上下一対のガイドとして用い
られるダイス状ガイドのワイヤ電極摺動による摩耗量を
測定する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】前記上下一対のガイドとしてダイス状ガ
イドを用いたワイヤカット放電加工に於ては、ワイヤ電
極をＸＹ二軸平面と直角に位置決めして加工送りを与え
た場合にも、通電コマ等により強制的に押し付けられる
以外にワイヤ電極は作用する放電圧力により加工送りと
反対向きに押されて撓むため、ガイド孔の内周面はワイ
ヤ電極が押圧状態で摺動することにより摩耗する。ま
た、加工送り機構によるＸＹ各軸方向の送りとワイヤ電
極傾動機構による一方のダイス状ガイドのＵＶ各軸方向
の移動を関連制御することにより、ワイヤ電極を加工送
りの向きに対して所定角度傾斜させて、上拡がりまたは
下拡がりのテーパ加工を行なう場合には、放電圧力の作
用に加えワイヤ電極が傾斜して摺動することによりガイ
ド孔の内周面が摩耗する。また、いずれの場合にも、摩
耗する部位は加工送りの向きに応じて変化するから、摩
耗の程度はガイド孔内周面の各部位で均一ではない。そ
して、ガイドが摩耗すると、加工送り量に対して摩耗し
た分だけ加工遅れを生じるため、加工送り方向を変更す
る角部等の加工寸法精度を悪化させる。また、テーパ加
工を行なう場合には、摩耗量に応じてワイヤ電極の傾斜
角度が減少し、所期のテーパ角度での加工を阻害する。
また、テーパ角度の誤差量は摩耗量に依存すると共に、
摩耗量が同じでも初期設定テーパ角度が小さいほど大き
く現れる。また、ガイドはサファイアやダイアモンド等
で作製されていて高価であるから、不要な交換は避けな
ければならない。従って、摩耗の程度を検知して交換の
必要性を適確に判断することが望まれるが、従来はダイ
ス状ガイドを加工機に取付けたままで摩耗量を測定する
方法が知られていなかったため、角形状のテスト加工や
あるいは実際の加工のテーパ角度に近い傾斜をワイヤ電
極に与えてのテスト加工を、定期的にまたは要求される
精度公差に応じて適宜行ない、加工品の寸法を測定し誤
差が許容値内であるかどうか検査して、ダイス状ガイド
の使用の可否、交換の必要性を判断することが作業者に
求められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実際に
テスト加工を行ない、加工品の寸法を測定してダイス状
ガイドの使用の可否を判断するには、長時間を要し、ま
た加工品の寸法を正確に測定するには高精度のプロジェ
クタを用いた煩雑な操作を必要とすることもあり、実際
には定期的なテスト加工等はあまり行なわれず、加工不
良が発生してから原因究明のためのテスト加工を行なっ
て、ガイドに問題があると判断された場合に交換するの
が実状であった。また、テスト加工に代えて、ダイス状
ガイドを加工機から取外し、ガイド孔の寸法形状を測定
して使用の可否を検査することも可能ではあるが、ガイ
ドの取外し、測定、再取付け等に煩雑な操作と長時間を
必要とするため実用的でない。本発明は、叙上の問題点
に鑑み、加工機に取付けたままの状態でダイス状ガイド
の摩耗量を簡単に測定し得る方法の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明の測定方法は、所定半径の円孔が形成された平板状
で、ワイヤ電極との接触を電気的に検知するため前記円
孔のワイヤ電極接触内周面が導電材で構成されている測
定治具を用い、該測定治具を載物台の載物平面に取付
け、所定の直径を有するワイヤ電極を前記円孔に挿通さ
せて走行経路に張架した状態で、ワイヤ電極傾動機構を
駆動制御して、上下一対のダイス状ガイド間のワイヤ電
極がＺ軸と平行になるように位置決めしてＵＶ座標の基
準点を設定し、また、加工送り機構を駆動制御すること
により、測定治具の円孔の中心Ｏが、Ｚ軸と平行に位置
決めされたワイヤ電極の中心軸に一致するように位置決
めして、ＸＹ座標の基準点を設定した後、ガイドＺ軸移
動機構と加工送り機構を駆動制御することにより、一方
のガイドをＺ軸の所定位置に配置した状態で、ガイドに
ＵＶ座標系に於ける所定の運動を、あるいは更に測定治
具にＸＹ座標系に於ける所定の運動を行なわせて、傾斜
状態のワイヤ電極と前記円孔のワイヤ電極接触内周面と
の接触を検知し、該接触が検知されたときのＵＶ座標位
置とＵＶ座標基準点間の距離、あるいは更に測定治具の
位置するＸＹ座標位置とＸＹ座標基準点間の距離を演算
し、算出された前記距離を所定数式に代入して演算する
ことにより、一対のダイス状ガイドの一方のガイドまた
は両方のガイドの摩耗量を測定する方法であり、前記一
方のガイドのＺ軸の配置状態、ガイドのＵＶ座標系に於
ける所定の運動、及び測定治具のＸＹ座標系に於ける所
定の運動のありかたによって以下に示す複数の発明が構
成される。

【０００５】即ち、請求項１乃至請求項４に記載の第１
の発明は、一方のガイドを前記円孔のワイヤ電極接触内
周面から所定距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1と、所定距
離Ｚａ＋Ｚｂ離隔したＺ軸位置ｚ2とに配置した状態
で、該ガイドにＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φ
をなす直線運動、または他方のガイドと測定治具に夫々
ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を通りＵ軸及びＸ軸
と所定角度φをなす同期した直線運動（請求項３）、あ
るいは前記一方のガイドにＵＶ座標基準点を中心とした
次第に半径を増大させる円運動、または他方のガイドと
測定治具に夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を中
心とした同じように次第に半径を増大させる同期した円
運動（請求項４）を行なわせ、一方のガイドがＺ軸位置
ｚ1とｚ2に於て夫々ＵＶ座標基準点を通る平行な第１と
第２の直線上の該基準点の一方の側に位置して、ワイヤ
電極と前記ワイヤ電極接触内周面との接触が検知された
ときのＵＶ座標位置α1（Ｚ軸位置ｚ1に於けるＵＶ座標
位置）及びβ1（Ｚ軸位置ｚ2に於けるＵＶ座標位置）の
各座標値を検出すると共に、該ガイドが前記一方の側と
反対の側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接触内
周面との接触が検知されたときのＵＶ座標位置α2（Ｚ
軸位置ｚ1に於けるＵＶ座標位置）及びβ2 （Ｚ軸位置
ｚ2に於けるＵＶ座標位置）の各座標値を検出し、各Ｕ
Ｖ座標位置α1、α2、β1、β2とＵＶ座標基準点間の各
距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2を夫々演算し、算出さ
れた該各距離を所定数式に代入して演算することによ
り、一方のガイドの摩耗量ＲUと他方のガイドの摩耗量
ＲLとを求めることを特徴とする。

【０００６】請求項５乃至請求項８に記載の第２の発明
は、一方のガイドをＺ軸位置ｚ1とｚ2とに配置した状態
で、該ガイドと測定治具に相互の相対位置関係を変化さ
せないＵＶ座標系及びＸＹ座標系に於ける所定の運動、
または他方のガイドにＵＶ座標系に於ける所定の運動を
行なわせて、第１の発明と同様に前記各ＵＶ座標位置α
1、α2、β1、β2とＵＶ座標基準点間の各距離Ｇα1、
Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2を夫々演算し、算出された該各距
離を所定数式に代入して演算することにより、一方のガ
イドの摩耗量ＲUと他方のガイドの摩耗量ＲLとを求める
ことを特徴し、前記相対位置関係を変化させない所定の
運動が、一方のガイドと測定治具の夫々ＵＶ座標基準点
及びＸＹ座標基準点を通りＵ軸及びＸ軸と所定角度φを
なす同期した直線運動であり、また他方のガイドの所定
の運動がＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φをなす
直線運動である場合（請求項７）と、前記相対位置関係
を変化させない所定の運動が、一方のガイドと測定治具
の夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を中心とした
同じように次第に半径を増大させる同期した円運動であ
り、また他方のガイドの所定の運動がＵＶ座標基準点を
中心とした次第に半径を増大させる円運動である場合
（請求項８）とがある。

【０００７】請求項９乃至請求項１２に記載の第３の発
明は、一方のガイドをＺ軸位置ｚ2に配置した状態で、
該ガイドにＵＶ座標系に於て基準点から所定距離Ｇβ離
隔する所定の運動を行なわせると共に、測定治具に、前
記ガイドの位置するＵＶ座標位置とＵＶ座標基準点を通
る直線のＸＹ座標系への投影線上に前記円孔の中心が位
置する関係を維持する、前記ガイドの前記所定の運動と
相互に関連したＸＹ座標系に於ける所定の運動を行なわ
せて、前記ガイドをＵＶ座標基準点に関し対称な夫々該
基準点から前記所定距離Ｇβ離隔した二箇所のＵＶ座標
位置に位置させた状態でワイヤ電極と前記ワイヤ電極接
触内周面との接触を検知し、該基準点の一方の側で接触
が検知されたときの、ＵＶ座標位置β1の座標値と測定
治具の位置するＸＹ座標位置γ1の座標値、及び該基準
点の他方の側で接触が検知されたときの、ＵＶ座標位置
β2の座標値と測定治具の位置するＸＹ座標位置γ2の座
標値を検出し、前記ＸＹ座標位置γ1とＸＹ座標基準点
間の距離Ｊγ1、及び前記ＸＹ座標位置γ2とＸＹ座標基
準点間の距離Ｊγ2を演算して記憶しておき、次いで、
前記ガイドをＺ軸位置ｚ1に配置した状態で、前記ガイ
ドを前記ＵＶ座標位置β1に、測定治具を前記ＸＹ座標
位置γ1に夫々位置させてから、前記ガイドをＵＶ座標
基準点に向け直線移動させて接触を検知し、接触が検知
されたときのＵＶ座標位置α1の座標値を検出して該Ｕ
Ｖ座標位置α1とＵＶ座標基準点間の距離Ｇα1を演算し
て記憶し、更に、前記ガイドを前記ＵＶ座標位置β2
に、測定治具を前記ＸＹ座標位置γ2に夫々位置させて
から、前記ガイドをＵＶ座標基準点に向け直線移動させ
て接触を検知し、接触が検知されたときのＵＶ座標位置
α２の座標値を検出して該ＵＶ座標位置α2とＵＶ座標
基準点間の距離Ｇα2を演算して記憶し、前記各演算に
より求めた各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｊγ1、Ｊγ2を所定数
式に代入して演算することにより、一方のガイドの摩耗
量ＲUと他方のガイドの摩耗量ＲLとを求めることを特徴
とし、一方のガイドと測定治具との前記関係を維持する
相互に関連した各所定の運動が、ＵＶ座標基準点からＵ
軸と所定角度φをなして所定距離Ｇα離隔する前記一方
のガイドのＵＶ座標系に於ける直線運動と、ＸＹ座標基
準点からＸ軸と所定角度φをなして一方のガイドの直線
運動と同じ向きに移動する測定治具のＸＹ座標系に於け
る直線運動により行なわれる場合（請求項１１）と、一
方のガイドのＵＶ座標基準点を中心とした所定半径Ｇβ
のＵＶ座標系に於ける円運動と、測定治具のＸＹ座標基
準点を中心とした次第に半径を増大させるＸＹ座標系に
於ける円運動により行なわれる場合（請求項１２）とが
ある。

【０００８】請求項１３乃至請求項１６に記載の第４の
発明は、一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から
所定距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1に配置した状態で、
該ガイドにＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φをな
す直線運動、または他方のガイドと測定治具に夫々ＵＶ
座標基準点及びＸＹ座標基準点を通りＵ軸及びＸ軸と所
定角度φをなす同期した直線運動（請求項１５）、ある
いは一方のガイドにＵＶ座標基準点を中心とした次第に
半径を増大させる円運動、または他方のガイドと測定治
具に夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を中心とし
た同じように次第に半径を増大させる同期した円運動
（請求項１６）を行なわせ、一方または他方のガイドが
ＵＶ座標基準点を通る直線上の該基準点の一方の側に位
置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接触内周面との接触
が検知されたときのＵＶ座標位置α1の座標値を検出す
ると共に、前記一方の側と反対の側に位置してワイヤ電
極と前記ワイヤ電極接触内周面との接触が検知されたと
きのＵＶ座標位置α2の座標値を検出し、各ＵＶ座標位
置α1、α2とＵＶ座標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2を
夫々演算し、算出された該各距離を所定数式に代入して
演算することにより、一方のガイドの摩耗量ＲUを求め
ることを特徴とする。

【０００９】尚、第１乃至第４の各発明に於て演算に使
用する各所定数式については、重複することになるの
で、後述の発明の実施の形態の項に於て説明する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき、本発明の第
１乃至第４の各発明の実施の形態について具体的に説明
する。図１は本発明の摩耗量測定方法を実施する装置の
一実施例を示す概略構成図であり、１はワイヤカット放
電加工機のベッド、２は該ベッド１上に互いに直交する
Ｘ及びＹ軸方向に移動可能に設けたＸＹクロステーブ
ル、３，４は該ＸＹクロステーブル２を移動させるＸ軸
及びＹ軸駆動モータ、５，６は各モータ３，４の回転角
を検出するロータリエンコーダであり、これ等ＸＹクロ
ステーブル２、モータ３，４、及びエンコーダ５，６に
よって加工送り機構が構成され、各エンコーダ５，６に
より各軸移動量が検出されてフィードバック制御され
る。７はＸＹクロステーブル２上に固定して設けた載物
台であり、該載物台７は上面に被加工物を取付ける載物
平面を有し、摩耗量測定時には、載物平面に測定治具８
が取付けられる。載物平面はＸＹ二軸平面と平行に形成
されている。

【００１１】測定治具８は、図２に示すとおり平板状
で、所定半径の円孔８ａが形成されており、ワイヤ電極
９との接触を電気的に検知するため、少なくとも円孔８
ａの内周面は導電材で構成されている。また、円孔８ａ
は図２（ａ）のように截頭円錐状（断面楔状）に形成さ
れる他、一部円筒状（ｂ）や円筒状（ｃ）、あるいは段
差のある円筒状（ｄ）等の各種形状を取り得る。

【００１２】１０はベッド１に起立させて設けたコラ
ム、１１，１２はコラム１０からＸＹクロステーブル２
上に伸長させて設けた上下一対の上アームと下アームで
ある。１３，１４は加工部に加工液を噴射供給する上下
一対のノズル装置であり、被加工物と対向する加工部の
ワイヤ電極９を位置決めするダイス状ガイド１５，１６
が該ノズル装置１３，１４内に夫々固定支持されてい
る。１７は上アーム１１に設けたＺ軸移動機構であり、
該Ｚ軸移動機構１７の先端部にＸ軸と平行なＵ軸及びＹ
軸と平行なＶ軸方向に移動可能にＵＶクロステーブル１
８が設けられ、該テーブル１８に上部ノズル装置１３が
固定支持されている。１９はＵＶクロステーブル１８を
ＸＹ二軸平面と直交するＺ軸方向に移動するＺ軸駆動モ
ータ、２０は該モータ１９の回転角を検出するロータリ
エンコーダであり、Ｚ軸移動機構１７、モータ１９、エ
ンコーダ２０によりガイドＺ軸移動機構が構成され、エ
ンコーダ２０によりＺ軸移動量が検出されてフィードバ
ック制御される。下部ノズル装置１４は下アーム１２の
先端部に固定支持されており、従って、下側のダイス状
ガイド１６は固定状態であり、上側のダイス状ガイド１
５はＵ，Ｖ，及びＺ軸方向に移動可能である。

【００１３】２１，２２はＵＶクロステーブル１８を移
動するＵ軸駆動モータ及びＶ軸駆動モータ、２３，２４
は各モータ２１，２２の回転角を検出するロータリエン
コーダであり、これ等ＵＶクロステーブル１８、モータ
２１，２２、及びエンコーダ２３，２４によってワイヤ
電極傾動機構が構成され、各エンコーダ２３，２４によ
り各軸移動量が検出されてフィードバック制御される。

【００１４】ワイヤ電極９は供給リール２５から繰出さ
れ、ローラ２６に案内されて、上側ダイス状ガイド１５
から測定治具の円孔８ａに挿通した状態で下側ダイス状
ガイド１６を通り、ローラ２７を経て回収容器２８に至
る走行経路に張架され、引っ張り駆動機構２９とブレー
キ機構３０の作動によって所定の張力と速さをもって走
行移動し、本発明の摩耗量測定方法は、ワイヤ電極走行
状態で行なわれる。また、測定治具８による接触検知に
先立って、ワイヤ電極９をＸＹ二軸平面と垂直（Ｚ軸と
平行）に位置決めするため、垂直出し用治具３１が測定
治具８の上面に載置されている。

【００１５】ワイヤ電極の垂直出しは、底面と直角の側
面に上下二箇所の接触子を有するブロック状の垂直出し
用治具３１を用い、プログラムに従って、先ずワイヤ電
極にＸ軸方向から該治具３１を対向させて近接送りを与
え、上下二箇所の接触子のどちらと先に接触したか検知
し、該検知データに応じて上側ガイド１５をＵ軸方向に
所定量移動させ、再びＸ軸駆動により近接させてどちら
の接触子と先に接触するか検知して上側ガイド１５をＵ
軸方向に移動させる操作を、上下二箇所の接触子と同時
に接触するまで繰返してＸ軸方向の傾きを修正し、次い
で同様の操作によりＹ軸方向の傾きを修正して、ワイヤ
電極をＸＹ二軸平面に垂直に位置決めする態様で行なわ
れる。そして、ワイヤ電極の垂直出し終了後、該治具３
１は除去される。

【００１６】３２はワイヤ電極９と垂直出し用治具３１
及び測定治具８との接触を検知する接触検知装置であ
り、ワイヤ電極９に接触して設けた通電子３３と各治具
８及び３１が電気的に接続され、低電圧印加により接触
・非接触状態が電気信号として検出されて判別される。
各治具８及び３１とワイヤ電極間に印加する電圧として
は交流電圧を用いることが安定した接触検知を行なう上
で好ましい。

【００１７】３４はキーボード等の入力装置であり、該
入力装置３４により、円孔８ａのワイヤ電極接触内周面
と上側ガイド１５のＺ軸位置ｚ1及びｚ2との距離を規定
する前記ＺａとＺｂの値、また下側ガイド１６とワイヤ
電極接触内周面間の距離Ｚｃの値（距離Ｚｃは加工機固
有の値）、測定治具の円孔８ａの半径、ワイヤ電極９の
直径、上下のダイス状ガイド１５，１６の夫々の使用前
に於けるガイド孔の直径（製作設計値あるいは使用前に
実測した値）とワイヤ電極の直径との差（以下、初期ク
リアランス値と言う）、上側ガイド１５を直線移動させ
る場合の移動距離Ｇβ、または所定半径で円運動させる
場合の半径の値Ｇβ、あるいはワイヤ電極に与える傾斜
角度（テーパ角度）等が入力設定される。

【００１８】また、３５は中央処理装置（ＣＰＵ）であ
り、データ等の記憶に用いるレジスタ部とデータの演算
を行なう演算部とデータの転送を制御する制御部を有す
る。３６は垂直出しのプログラムと摩耗量測定のプログ
ラムが格納される記憶装置（ＲＯＭ）、３７は入力装置
３４により設定された前記各データ、及び測定治具８を
用いて接触検知したＵＶ座標値、ＸＹ座標値、ＣＰＵ３
５により演算された各座標値と座標基準点間の各距離が
格納される記憶装置（ＲＡＭ）、３８はＣＰＵ３５の指
令に従いＸＹ各軸ドライバ３９、及びＵＶＺ各軸ドライ
バ４０にパルス分配して、各モータ３，４，１９，２
１，２２の動作を数値制御するＮＣ装置である。４１は
ＣＲＴ等の表示装置であり、ＣＰＵ３５で算出された摩
耗量を表示して作業者に知らせる。４２は入力インター
フェース、４３は出力インターフェースである。

【００１９】以上の構成により、ＲＯＭ３６に格納され
たプログラムに従って行われる本発明の第１の発明の測
定方法を、図３のフローチャート及び接触検知時のガイ
ドとワイヤ電極との位置関係を示す図４の模式図に基づ
いて説明する。図３に於けるＳ１０１乃至Ｓ１０８はス
テップ番号を示す。

【００２０】先ず、垂直出し用治具３１を測定治具８の
上面の所定の位置に載置し、上述した操作手順によりワ
イヤ電極をＺ軸と平行に位置決めして、ＵＶ座標基準点
を設定する（ステップＳ１０１）。次いで、測定治具の
円孔８ａの中心を垂直出しされたワイヤ電極の中心軸に
一致させるように位置決めして、ＸＹ座標基準点を設定
する。この位置決めは、治具３１の上下の接触子の端面
と円孔８ａの中心との間隔及びワイヤ電極の半径の長さ
分（接触子の端面を円孔８ａの中心に一致させて治具３
１を配置した場合は、ワイヤ電極の半径の長さ分）Ｘ軸
及びＹ軸に補正送りを与えることにより行なう（ステッ
プＳ１０２）。この状態でモータ１９を駆動制御し、上
側ガイド１５を円孔８ａのワイヤ電極接触内周面から所
定距離Ｚａ上方のＺ軸位置ｚ１に配置して、上側ガイド
にＵＶ座標系に於ける所定の運動を与える（ステップＳ
１０３）。上側ガイドには、所定の運動としてＵＶ座標
基準点を通りＵ軸と所定角度φをなす直線運動（請求項
３）、またはＵＶ座標基準点を中心として次第に半径を
増大させる円運動（請求項４）が与えられる。この運動
により傾斜したワイヤ電極とワイヤ電極接触内周面との
接触を検知し、上側ガイド１５がＵＶ座標基準点を通り
Ｕ軸と所定角度φをなす第１の直線上の該基準点の一方
の側に位置して接触が検知されたときのＵＶ座標位置α
1の座標値（ｕα1、ｖα1）と、該ガイド１５が前記直
線上他方の側に位置して接触が検知されたときのＵＶ座
標位置α2の座標値（ｕα2、ｖα2）を夫々エンコーダ
２３，２４の出力信号により検出してＲＡＭ３７に記憶
する（ステップＳ１０４）。

【００２１】この接触検知と記憶は、ガイド１５の所定
の運動が前記直線運動の場合は、該直線運動によりワイ
ヤ電極の傾きが次第に大きくなってワイヤ電極接触内周
面に接触したときのガイド１５の位置するＵＶ座標値を
検出してＲＡＭ３７に格納する態様で、またガイド１５
の所定の運動が前記円運動の場合は、ガイド１５が現在
する位置とＵＶ座標基準点を結ぶ直線のＵ軸となす角度
を、エンコーダ２３，２４の出力信号により所定角度ピ
ッチ（１°，５°，１０°，３０°，４５°等適宜の角
度ピッチ）で検知し、該角度ピッチ毎に接触・非接触状
態を判別し、非接触状態から接触状態に判別信号が変化
したときのガイド１５の位置するＵＶ座標値と、そのと
きのＵ軸からの回転角度を組にしてＲＡＭ３７に格納す
る態様で行なわれる。

【００２２】次いで、上側ガイド１５をワイヤ電極接触
内周面から更に所定距離Ｚｂだけ上方のＺ軸位置ｚ2に
配置して再び前記所定の運動を与え（ステップＳ１０
５）、Ｚ軸位置ｚ1のときと同様に接触を検知して、上
側ガイド１５がＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φ
をなす第２の直線上の該基準点の一方の側に位置して接
触が検知されたときのＵＶ座標位置β1の座標値（ｕβ
1、ｖβ1）と、該ガイド１５が前記直線上他方の側に位
置して接触が検知されたときのＵＶ座標位置β2の座標
値（ｕβ2、ｖβ2）を夫々エンコーダ２３，２４の出力
信号により検出してＲＡＭ３７に記憶し（ステップＳ１
０６）、記憶された前記各座標値データを用いて各ＵＶ
座標位置α1、α2、β1、β2とＵＶ座標基準点間の各距
離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2をＣＰＵ３５により演算
して記憶する（ステップＳ１０７）。この際、前記所定
の運動が前記円運動の場合は、所定角度ピッチ毎にＲＡ
Ｍ３７に格納されている各座標値データから、前記所定
角度φに対応する座標値データを選択的に読み出して演
算に使用する。次いで、前記各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ
1、Ｇβ2を用いＣＰＵ３５で所定数式により演算するこ
とによって、上側及び下側のダイス状ガイド１５，１６
の前記所定角度φ方向の各摩耗量ＲUとＲLを算出する。
この結果、摩耗量がガイド孔の任意の前記所定角度φ方
向の直径の増大量として求められる（ステップＳ１０
８）。

【００２３】ここで、摩耗量ＲU及びＲLを算出する方法
について説明する。ステップＳ１０１でワイヤ電極を垂
直出ししたが、上下のダイス状ガイドのガイド孔の直径
はワイヤ電極の直径よりも初期クリアランス値に摩耗量
を加えた分だけ大きいため、ガイド孔の中心はワイヤ電
極の中心軸と一致しているとは限らず、一般にガイド孔
の中心位置は不明であって不確定である。即ち、図１１
に上側ガイド１５について示すように、ＵＶ座標基準点
Ｏに対してガイド孔の中心Ｇoは位置がずれており、こ
のずれは、第１及び第２の直線方向の成分ｄU1と該直線
と直角方向の成分ｄU2とを有し、前記直線方向のずれ成
分ｄU1がガイドのＵＶ座標系に於ける移動量とワイヤ電
極の移動量との間に差異を生じさせる。また摩耗量はガ
イド孔内周面各部に於て不均一であるから、ガイド孔の
仮想中心から内周面までの長さは、該中心の両側で異な
っている。これ等の事情を考慮して接触検知時のガイド
とワイヤ電極との位置関係を模式的に示すと図４のよう
になり、ワイヤ電極の中心軸を基準にして相似三角形の
比例関係を用いると下記の数１に示す関係式が成立す
る。

【００２４】尚、各図共通して、Ｏは円孔８ａの中心
（ＵＶ座標及びＸＹ座標の基準点）、Ｈｒは円孔８ａの
半径、Ｗｄはワイヤ電極の直径、δU1及びδU2は上側ガ
イドの仮想中心にワイヤ電極の中心軸が一致していると
仮定した場合のワイヤ電極の左右両側面からガイド孔内
周面までの各長さ、δL1及びδL2は下側ガイドについて
の前記δU1及びδU2に相当する各長さ、ｄU1は前述説明
した上側ガイドに於ける前記直線方向のずれ成分、ｄL1
は下側ガイドに於ける前記ｄU1に相当するずれ成分であ
る。

【００２５】

【数１】

【００２６】ここで、上側ガイドの初期クリアランス値
をＣU、下側ガイドの初期クリアランス値をＣLとする
と、上側ガイドの摩耗量ＲUと下側ガイドの摩耗量ＲL
は、下記に示す数２により与えられる。

【００２７】

【数２】

【００２８】このようにして、式(1-11)と式(1-12)によ
り、上下ガイドの夫々の摩耗量ＲＵとＲＬを求めること
ができ（請求項２）、第１の発明によれば、上側ガイド
に直線運動または円運動を行なわせるだけで、容易に摩
耗量を測定することができる。

【００２９】このように、垂直出しされたワイヤ電極の
中心軸の位置（ＵＶ座標及びＸＹ座標の基準点）とガイ
ド孔の中心との間のずれの存在にかかわりなく、ダイス
状ガイドの摩耗量をガイド孔の直径の増大量として測定
することができ、このことは、後述の第２、第３、第４
の各発明に於ても同様であるので、重複した説明は省略
する。

【００３０】次に、ＲＯＭ３６に格納されたプログラム
に従って行なわれる本発明の第２の発明の測定方法を、
図５のフローチャート及び接触検知時のガイドとワイヤ
電極との位置関係を示す図６の模式図に基づいて説明す
る。図５に於けるＳ２０１乃至Ｓ２０８はステップ番号
を示す。

【００３１】ステップＳ２０１に於けるワイヤ電極の垂
直出しとＵＶ座標基準点の設定、及びにステップＳ２０
２於ける円孔８ａの中心をワイヤ電極の中心軸に位置決
めしてＸＹ座標の基準点を設定する操作は、第１の発明
に於けるステップＳ１０１及びＳ１０２と同様であるの
で省略する。次いで、テップＳ２０３に於て、上側ガイ
ドを円孔８ａのワイヤ電極接触内周面から所定距離Ｚａ
上方のＺ軸位置ｚ1に配置して、上側ガイドと測定治具
に相互の相対位置関係を変化させないＵＶ座標系及びＸ
Ｙ座標系に於ける所定の運動を与える。この所定の運動
としては、上側ガイドと測定治具の両者に、夫々ＵＶ座
標基準点及びＸＹ座標基準点を通りＵ軸及びＸ軸と所定
角度φをなす同期した直線運動（請求項７）、または夫
々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を中心とした同じ
ように次第に半径を増大させる同期した円運動（請求項
８）が与えられ、上側ガイドと測定治具は、垂直出しさ
れたワイヤ電極の中心軸に円孔８ａの中心を一致させた
ときの相対位置関係を維持して見掛上一体の運動を行な
う。この所定の運動は、Ｕ軸Ｖ軸駆動系とＸ軸Ｙ軸駆動
系に同じ数値制御信号を同期して与えるだけの簡単な制
御で行なわせることができる。

【００３２】そして、この運動により傾斜したワイヤ電
極とワイヤ電極接触内周面との接触を検知し、上側ガイ
ド１５がＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φをなす
第１の直線上の該基準点の一方の側に位置して接触が検
知されたときのＵＶ座標位置α1の座標値（ｕα1、ｖα
1）と、該ガイド１５が前記直線上他方の側に位置して
接触が検知されたときのＵＶ座標位置α2の座標値（ｕ
α2、ｖα2）を夫々エンコーダ２３，２４の出力信号に
より検出してＲＡＭ３７に記憶する（ステップＳ２０
４）。この接触検知と記憶に関する態様は、第１の発明
と同様である。

【００３３】次いで、上側ガイド１５と測定治具８を元
の位置（ステップＳ２０３で所定の運動を付与する前の
状態）に戻してから、上側ガイドを更に所定距離Ｚｂだ
け上方のＺ軸位置ｚ2に配置して再び前記所定の運動を
与え（ステップＳ２０５）、Ｚ軸位置ｚ1のときと同様
に接触を検知して、上側ガイドがＵＶ座標基準点を通り
Ｕ軸と所定角度φをなす第２の直線上の該基準点の一方
の側に位置して接触が検知されたときのＵＶ座標位置β
1の座標値（ｕβ1、ｖβ1）と、該ガイド１５が前記直
線上他方の側に位置して接触が検知されたときのＵＶ座
標位置β2の座標値（ｕβ2、ｖβ2）を夫々エンコーダ
２３，２４の出力信号により検出してＲＡＭ３７に記憶
し（ステップＳ２０６）、記憶された前記各座標値デー
タを用いて各ＵＶ座標位置α1、α2、β1、β2とＵＶ座
標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2をＣＰ
Ｕ３５で演算して記憶する（ステップＳ２０７）。この
際、演算に用いる該当座標値データがＲＡＭ３７から選
択的に読み出されることは第１の発明と同様である。次
いで、ＣＰＵ３５で前記各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、
Ｇβ2を用い所定数式により演算することによって、上
側及び下側のダイス状ガイド１５，１６の任意の前記所
定角度φ方向の各摩耗量ＲUとＲLが算出される（ステッ
プＳ２０８）。

【００３４】各摩耗量ＲUとＲLを算出する方法を図６の
模式図に基づいて説明する。ワイヤ電極の中心軸を基準
にした相似三角形の比例関係より、第１の発明の場合と
同様に、第１及び第２の直線上の座標基準点の一方の側
で成立する関係式と他方の側で成立する関係式を加算す
るとｄU1とｄL1が消去されて、下記の数３に示す関係式
が成立する。

【００３５】

【数３】

【００３６】このようにして、式(2-5) と式(2-6) によ
り、上側ガイドの摩耗量ＲUと下側ガイドの摩耗量ＲLを
ガイド孔の直径の増大量として求めることができ（請求
項６）、第２の発明によれば、Ｕ軸Ｖ軸駆動系とＸ軸Ｙ
軸駆動系に直線運動または円運動を行なわせる同じ数値
制御信号を同期して与えるだけの簡単な運動制御によ
り、下拡がりのテーパ加工の態様で摩耗量を測定するこ
とができる。

【００３７】次に、ＲＯＭ３６に格納されたプログラム
に従って行なわれる本発明の第３の発明の測定方法を、
図７のフローチャート及び接触検知時のガイドとワイヤ
電極との位置関係を示す図８の模式図に基づいて説明す
る。図７に於けるＳ３０１乃至Ｓ３０７はステップ番号
を示す。

【００３８】ステップＳ３０１に於けるワイヤ電極の垂
直出しとＵＶ座標基準点の設定、及びにステップＳ３０
２於ける円孔８ａの中心をワイヤ電極の中心軸に位置決
めしてＸＹ座標の基準点を設定する操作は、第１の発明
に於けるステップＳ１０１及びＳ１０２と同様であるの
で省略する。次いで、ステップＳ３０３に於て、上側ガ
イド１５を円孔８ａのワイヤ電極接触内周面から所定距
離Ｚａ＋Ｚｂ上方のＺ軸位置ｚ2に配置して、該ガイド
１５にＵＶ座標基準点から所定距離Ｇβ離隔する所定の
運動を行なわせると共に、測定治具８に該ガイド１５の
位置するＵＶ座標位置とＵＶ座標基準点を通る直線のＸ
Ｙ座標系への投影線上に円孔８ａの中心が位置する関係
を維持する、上側ガイドの前記所定の運動と相互に関連
した所定の運動を行なわせる。この相互に関連した所定
の運動は、ＵＶ座標基準点からＵ軸と所定角度φをなし
て所定距離Ｇβ離隔する上側ガイドの直線運動と、ＸＹ
座標基準点からＸ軸と所定角度φをなして上側の直線運
動と同じ向きに移動する測定治具の直線運動との組合わ
せ（請求項１１）、または上側ガイドのＵＶ座標基準点
を中心とした所定半径Ｇβの円運動と、測定治具のＸＹ
座標基準点を中心とした次第に半径を増大させる円運動
との組合わせ（請求項１２）により行なわれる。

【００３９】この運動により、前記設定距離Ｇβの離隔
によって所定角度傾斜したワイヤ電極に円孔８ａのワイ
ヤ電極接触内周面を近接させて接触を検知し、接触が検
知されたときのＵＶ座標位置β1の座標値（ｕβ1、ｖβ
1）と測定治具の位置するＸＹ座標位置γ1の座標値（ｘ
γ1、ｙγ1）を夫々エンコーダ２３，２４，及び５，６
の出力信号により検出すると共に、ＵＶ座標基準点に関
しＵＶ座標位置β1と対称なＵＶ座標位置β2に上側ガイ
ド１５が位置して接触が検知されたときのＵＶ座標位置
β2の座標値（ｕβ2、ｖβ2）と測定治具の位置するＸ
Ｙ座標位置γ2の座標値（ｘγ2、ｙγ2）を同じくエン
コーダの出力信号により検出してＲＡＭ３７に記憶する
（ステップＳ３０４）。この接触検知と記憶に関する態
様は、第１の発明と同様である。

【００４０】次いで、上側ガイド１５を所定距離Ｚｂ下
方に移動して前記ワイヤ電極接触内周面から所定距離Ｚ
ａ離隔したＺ軸位置ｚ1に配置する。この下方の移動に
よりワイヤ電極は傾斜が大きくなって前記ワイヤ電極接
触内周面から離れる。この状態で上側ガイドを前記ＵＶ
座標位置β1に、測定治具を前記ＸＹ座標位置γ1に夫々
位置させてから、上側ガイドをＵＶ座標基準点に向け直
線運動させることによりワイヤ電極を前記ワイヤ電極接
触内周面に近接させて接触を検知し、接触が検知された
ときのＵＶ座標位置α1の座標値（ｕα1、ｖα1）をエ
ンコーダ２３，２４の出力信号により検出してＲＡＭ３
７に記憶し、次いで、上側ガイドを前記ＵＶ座標位置β
2に、測定治具を前記ＸＹ座標位置γ2に夫々位置させて
から、上側ガイドをＵＶ座標基準点に向け直線運動させ
て接触を検知し、接触が検知されたときのＵＶ座標位置
α2の座標値（ｕα2、ｖα2）を同じくエンコーダの出
力信号により検出してＲＡＭ３７に記憶する（ステップ
Ｓ３０５）。

【００４１】次に、前記検出した各ＵＶ座標位置α1、
α2とＵＶ座標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2、及び各
ＸＹ座標位置γ1、γ2とＸＹ座標基準点間の各距離Ｊγ
1、Ｊγ2をＣＰＵ３５により演算して記憶する（ステッ
プＳ３０６）。この際、演算に用いる該当座標値データ
がＲＡＭ３７から選択的に読み出されることは第１の発
明と同様である。次いで、ＣＰＵ３５で前記各距離Ｇα
1、Ｇα2、Ｊγ1、Ｊγ2を用い所定数式により演算する
ことによって、上側及び下側のダイス状ガイド１５，１
６の任意の前記所定角度φ方向の各摩耗量ＲUとＲLが算
出される（ステップＳ２０８）。

【００４２】各摩耗量ＲUとＲLを算出する方法を図８の
模式図に基づいて説明する。ワイヤ電極の中心軸を基準
にした相似三角形の比例関係より、第１の発明の場合と
同様に、第１及び第２の直線上の座標基準点の一方の側
で成立する関係式と他方の側で成立する関係式を加算す
るとｄU1とｄL1が消去されて、下記の数４に示す関係式
が成立する。

【００４３】

【数４】

【００４４】このようにして、式(3-5) と式(3-6) によ
り、上側ガイドの摩耗量ＲUと下側ガイドの摩耗量ＲLを
ガイド孔の直径の増大量として求めることができる（請
求項１０）。

【００４５】また第３の発明によれば、上側ガイドが配
置されるｚ1とｚ2の各Ｚ軸位置に於て、共に同じ傾斜角
度をワイヤ電極に付与した状態で下拡がりのテーパ加工
の態様をもって摩耗量を測定することができるから、実
際のテーパ加工の設定テーパ角度と略等しい適宜の傾斜
をワイヤ電極に与えた状態で摩耗量を測定することがで
き、実際の加工に即した摩耗量の測定が可能である。ま
た前記所定の運動を付与するための各駆動軸の制御に
は、テーパ加工のプログラムを利用することができるか
ら、制御も容易である。また第１及び第２の発明では、
上側ガイドのＵ軸及びＶ軸の可動ストローク長によって
測定治具の円孔の大きさが制限を受けるが、第３の発明
ではそのような制約がなく、適宜の半径の円孔を形成し
た測定治具を使用することができる。

【００４６】また第３の発明では、下拡がりのテーパ加
工の態様で摩耗量を測定したが、第３の発明に於て、上
側ガイドをＺ軸位置ｚ2に配置して行なった操作をＺ軸
位置ｚ１に於て行ない、Ｚ軸位置ｚ1に配置して行なっ
た操作をＺ軸位置ｚ2に於て行なうようにすれば（但
し、ステップＳ３０５に於て上側ガイドをＵＶ座標基準
点に向け直線運動させている操作を、上側ガイドを前記
ＵＶ座標位置β1とＵＶ座標基準点を通る直線上で該基
準点から離れる向きに直線運動させる操作に変更）、上
拡がりのテーパ加工の態様での摩耗量の測定も容易に行
なうことができ、その場合は、前記式(3-5) と式(3-6)
に代えて、下記の数５に示す式(3-7) と式(3-8) により
演算すれば良い。

【００４７】

【数５】

【００４８】次に、ＲＯＭ３６に格納されたプログラム
に従って行なわれる本発明の第４の発明の測定方法を、
図９のフローチャート及び接触検知時のガイドとワイヤ
電極との位置関係を示す図１０の模式図に基づいて説明
する。図９に於けるＳ４０１乃至Ｓ４０６はステップ番
号を示す。

【００４９】第４の発明は、上側ガイドの摩耗量を測定
する発明であり、例えば、上側のダイス状ガイドにサフ
ァイア製のガイドを用い、下側のダイス状ガイドにダイ
アモンド製のガイドを用いる場合のように、摩耗が一方
的に上側のガイドに生じて下側ガイドの摩耗は無視し得
るような場合に、簡単に上側のガイドの摩耗量を測定す
る発明である。

【００５０】ステップＳ４０１からステップＳ４０４に
到る操作手順は第１の発明に於けるステップＳ１０１乃
至Ｓ１０４と同様であるので説明を省略する。尚、上側
ガイドに所定の運動として、ＵＶ座標基準点を通りＵ軸
と所定角度φをなす直線運動（請求項１５）、またはＵ
Ｖ座標基準点を中心として次第に半径を増大させる円運
動（請求項１６）を行なわせる点も第１の発明と同様で
ある。第１の発明ではステップＳ１０５で上側ガイドを
Ｚ軸位置ｚ2に移動しているが、この第４の発明ではＺ
軸位置ｚ1に於てのみ接触検知を行ない、得られたＵＶ
座標位置α1の座標値（ｕα1、ｖα1）とＵＶ座標位置
α2の座標値（ｕα2、ｖα2）を用いて、各ＵＶ座標位
置α1、α2とＵＶ座標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2を
ＣＰＵ３５で演算してＲＡＭ３７に記憶し（ステップＳ
４０５）、次いで、この各距離Ｇα1、Ｇα2を用いて所
定数式により演算することによって上側のダイス状ガイ
ドの任意の前記所定角度φ方向の摩耗量ＲUが算出され
る（ステップＳ４０６）。

【００５１】摩耗量ＲUを算出する方法を図１０の模式
図に基づいて説明する。ワイヤ電極の中心軸を基準にし
た相似三角形の比例関係より、第１の発明の場合と同様
に、ＵＶ座標基準点を通る直線上の該基準点の一方の側
で成立する関係式と他方の側で成立する関係式を加算す
るとｄU1とｄL1が消去されて、下記の数６に示す関係式
が成立する。

【００５２】

【数６】

【００５３】このようにして、式(4-3) により、上側ガ
イドの摩耗量ＲUをガイド孔の直径の増大量として求め
ることができ（請求項１４）、第４の発明によれば、極
めて簡単に上側ガイドの摩耗量を測定することができ
る。

【００５４】第１乃至第４の発明に於て、前記所定の運
動として前記直線運動または円運動を行なわせたが、使
用前のガイド孔の直径とワイヤ電極の太さとの差（初期
クリアランス値）は、例えば０．２mmφのワイヤ電極用
のダイス状ガイドで１０〜２０μｍ程度なので、ガイド
孔内周面の摩耗は局部的に極端に摩耗することはなく、
内周面は曲率の変化の少ない滑らかな曲面を呈するか
ら、直線運動を行なわせる場合には、前記所定角度φと
して０°（Ｕ軸）と９０°（Ｖ軸）を設定するだけで、
ガイドのおおよその摩耗の状態を知ることができる。ま
た角度φをもっと細かく設定して摩耗の状態を的確に知
るには、直線運動の回数が多くなって時間を要すること
になるが、円運動を行なわせれば、接触検知する角度ピ
ッチを細かくすることにより内周面の摩耗の状態を短時
間に詳細に精査することができる。

【００５５】また図１１により既に説明したが、ワイヤ
電極を垂直出しした状態で、座標基準点Ｏとワイヤ電極
の中心ＧOは一般に一致しておらず、Ｕ軸と角度φをな
す直線方向のずれ成分ｄU1と該直線と直交する方向のず
れ成分ｄU2がある。そして、このずれ成分ｄU2が接触検
知に誤差要因として作用することが予想されるが、図１
１に於て、円孔８ａの直径ａｂの長さ（２・Ｈｒ）と、
中心ＧOを通り前記直径ａｂと平行な直線が円孔８ａの
内周面と交わる各点ｃｄ間の長さとの差は、ずれ成分ｄ
U2が数１０μｍ程度、大きくても３０μｍ前後程度以下
であるのに対して、円孔８ａの直径はＵ軸及びＶ軸の可
動ストローク長に応じて制限される第１、第２及び第４
の発明の場合でも２〜３cm程度はあることから、数μｍ
程度以下であり、この程度の誤差は、接触検知のバラツ
キ誤差と同程度であって無視し得る。

【００５６】また、前記各発明に於て摩耗量を演算する
各数式でワイヤ電極の直径Ｗdを用いているが、図１２
に示すように、接触検知時のワイヤ電極のＺ軸に対する
傾斜角度θに応じて、ワイヤ電極を斜めに切る水平方向
の長さｘは、ｘ＝Ｗd・ｓｅｃθとなり、前記各数式で
は、ｘ−Ｗｄの誤差を含む。しかしながら、通常のテー
パ加工のテーパ角度θは５〜６°程度であり、例えば
０．２mmφのワイヤ電極を用いてθ＝１０°のとき、ｘ
−Ｗdは３μｍ程度であるから、θ＝１０°程度までは
この誤差は無視し得る。しかしθ＝２０°のときはｘ−
Ｗdが１３μｍ程度となり式中の他の項と比較して無視
することができなくなるから、θ＝２０°以上のテーパ
角度で摩耗量の測定を行なうときは、Ｗdに代えてＷd・
ｓｅｃθを用いることが望ましい。

【００５７】また、上述した第１及び第２の発明の実施
の形態では、上側ガイドをＺ軸位置ｚ１ に配置して接
触検知操作を行なった後、距離Ｚｂ上方のＺ軸位置ｚ2
に移動したが、先にＺ軸位置ｚ2で接触検知操作を行な
ってから、Ｚ軸位置ｚ1に移動するようにしても良い。
また、接触検知後、例えば１mm程度反転移動させて接触
状態を解消する操作等が必要に応じて採用される。ま
た、ＸＹＵＶ各軸のバックラッシュに対する補正やガイ
ド形状に起因するワイヤ支点位置に対する補正等、本発
明実施以前に分かっている補正を本発明の操作手順に追
加しても良い。

【００５８】以上、具体的な実施の形態として、載物台
がＸＹクロステーブル上に設置され、一対のダイス状ガ
イドの内の上側ガイドがＵＶクロステーブル上に設置さ
れていると共にＺ軸に移動する図１の形式のワイヤカッ
ト放電加工機に本発明のガイド摩耗量測定方法を適用し
た場合について説明したが、この形式のワイヤカット放
電加工機の他、例えば、図１と同様に載物台はＸＹクロ
ステーブル上に設置されて、下側ガイドがＵＶクロステ
ーブル上に設置され、あるいは下側ガイドにＺ軸移動が
付与される形式、また、載物台がＹ軸テーブル上に、上
下アームを有するコラムがＸ軸テーブル上に夫々設置さ
れて、上側または下側ガイドがアーム先端部のＵＶクロ
ステーブル上に設置される形式、載物台は固定で、コラ
ムがＸＹクロステーブル上に設置され、上側または下側
ガイドがアーム先端部のＵＶクロステーブル上に設置さ
れる形式、載物台は固定として、ベッド上に下からＸ軸
テーブル、Ｙ軸テーブル、Ｕ軸テーブル、Ｖ軸テーブル
を積層して設け、Ｙ軸テーブルに下アームを設けて該ア
ームの先端に下側ガイドを設けると共に、Ｖ軸テーブル
に上アームを設けて該アームの先端に上側ガイドを設け
る形式、またあるいは、載物台は固定として、ベッド上
に第１のＸＹクロステーブルと第２のＸＹクロステーブ
ルを並置し、第１のＸＹクロステーブルに下アームを設
けて該アームの先端に下側ガイドを設けると共に、第２
のＸＹクロステーブルに上アームを設けて該アームの先
端に上側ガイドを設ける形式等、各種形式のワイヤカッ
ト放電加工機に本発明は適用可能である。

【００５９】また、本発明の第１及び第４発明に於て、
一方のガイドに所定の運動を付与することと、他方のガ
イドと測定治具に相互の相対位置関係を変化させない所
定の運動を付与することは、相対的な事項であって奏さ
れる作用は等価である。また、本発明の第２発明に於
て、一方のガイドと測定治具に相互の相対位置関係を変
化させない所定の運動を付与することと、他方のガイド
に所定の運動を付与することも、相対的な事項であって
奏される作用は等価である。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、ワイヤカット放電加工
機に取付けたままの状態でダイス状ガイドの摩耗量をガ
イド孔の直径の増大量として短時間に簡単に測定するこ
とができ、作業者がダイス状ガイドの交換の必要性を容
易に適確に判断することができるから、加工不良の発生
を未然に防止し得ると共に、高価なダイス状ガイドをそ
の寿命をまっとうさせて十分に使用することができる。

【００６１】また、第１の発明によれば、上下のダイス
状ガイドの夫々の摩耗量ＲUとＲLを、上拡がりのテーパ
加工の態様で容易に測定することができる。また、第２
の発明によれば、上下のダイス状ガイドの夫々の摩耗量
ＲUとＲLを、下拡がりのテーパ加工の態様で容易に測定
することができる。また、第１の発明では測定治具の円
孔の直径により接触検知時のワイヤ電極の傾斜角度が規
定され、第２の発明ではＺ軸位置ｚ1とｚ2で接触検知時
のワイヤ電極の傾斜角度が異なるのに対し、第３の発明
によれば、実際のテーパ加工の設定テーパ角度と略等し
い適宜の傾斜をワイヤ電極に与えて、下拡がりのテーパ
加工の態様で上下のダイス状ガイドの夫々の摩耗量ＲU
とＲLを測定することができ、実際の加工に即した摩耗
量の測定が可能である。また、第４の発明によれば、下
側ガイドの摩耗が無視し得るような場合に、極めて簡単
に上側ガイドの摩耗量を測定することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の摩耗量測定方法を実施する装置の一実
施例を示す概略構成図。

【図２】本発明の摩耗量測定方法に使用する測定治具の
正断面図。

【図３】本発明の第１の発明の一実施例のフローチャー
ト。

【図４】図３のフローチャートに示す一実施例を説明す
る模式図。

【図５】本発明の第２の発明の一実施例のフローチャー
ト。

【図６】図５のフローチャートに示す一実施例を説明す
る模式図。

【図７】本発明の第３の発明の一実施例のフローチャー
ト。

【図８】図７のフローチャートに示す一実施例を説明す
る模式図。

【図９】本発明の第４の発明の一実施例のフローチャー
ト。

【図１０】図９のフローチャートに示す一実施例を説明
する模式図。

【図１１】本発明の摩耗量測定方法を説明する模式図。

【図１２】本発明の摩耗量測定方法を説明する模式図。

【符号の説明】

１ ベッド ２ ＸＹクロステーブル ３，４ Ｘ軸及びＹ軸駆動モータ ５，６ ロータリエンコーダ ７ 載物台 ８ 測定治具 ９ ワイヤ電極 １０ コラム １１，１２ 上アームと下アーム １３，１４ 上下のノズル装置 １５，１６ 上下のダイス状ガイド １７ Ｚ軸移動機構 １８ ＵＶクロステーブル １９ Ｚ軸駆動モータ ２０ ロータリエンコーダ ２１，２２ Ｕ軸及びＶ軸駆動モータ ２３，２４ ロータリエンコーダ ２５ 供給リール ２６，２７ ローラ ２８ 回収容器 ２９ 引っ張り駆動機構 ３０ ブレーキ機構 ３１ 垂直出し用治具 ３２ 接触検知装置 ３３ 通電子 ３４ 入力装置 ３５ ＣＰＵ ３６ ＲＯＭ ３７ ＲＡＭ ３８ ＮＣ装置 ３９ ＸＹ各軸ドライバ ４０ ＵＶＺ各軸ドライバ ４１ 表示装置 ４２，４３ 入力及び出力インターフェース 2 1

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 麻原 俊一 神奈川県横浜市緑区長津田町字道正5289 株式会社ケイ・エッチ・エス長津田事業所 内

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加工物が取付けられる載物平面を有す
   る載物台と、所定の走行経路に張架されたワイヤ電極を
   軸方向に所定の張力と速さをもって走行移動させるワイ
   ヤ電極走行機構と、前記走行経路の被加工物と対向する
   部位のワイヤ電極を位置決めして案内するため被加工物
   の上下に設けられる一対のダイス状ガイドと、該一対の
   ダイス状ガイドと載物台との間に前記載物平面と平行で
   互いに直交するＸ軸及びＹ軸のＸＹ座標系に於ける相対
   的な移動を与える加工送り機構と、前記一対のダイス状
   ガイドの内の一方のガイドを前記載物平面に垂直のＺ軸
   方向に移動するガイドＺ軸移動機構と、前記一対のダイ
   ス状ガイドの前記一方のガイドと他方のガイドとの間に
   Ｘ軸と平行なＵ軸及びＹ軸と平行なＶ軸のＵＶ座標系に
   於ける相対的な移動を与えて前記両ガイド間のワイヤ電
   極をＺ軸に対して傾斜させるワイヤ電極傾動機構とを備
   えて成るワイヤカット放電加工機の前記ダイス状ガイド
   の摩耗量を測定する方法に於て、 所定半径の円孔が形成された平板状でワイヤ電極との接
   触を電気的に検知する前記円孔のワイヤ電極接触内周面
   が導電材で構成されて成る測定治具を載物台の載物平面
   上に取付け、所定の直径を有するワイヤ電極を前記円孔
   に挿通させて走行経路に張架した状態で、 （イ）ワイヤ電極傾動機構を駆動制御して前記一対のダ
   イス状ガイド間のワイヤ電極がＺ軸と平行になるように
   位置決めし、該位置決めした状態でＵＶ座標の基準点を
   設定し、 （ロ）加工送り機構を駆動制御して前記（イ）項でＺ軸
   と平行に位置決めされたワイヤ電極の中心軸の位置に測
   定治具の円孔の中心Ｏを位置決めし、該位置決めした状
   態でＸＹ座標の基準点を設定し、 （ハ）ガイドＺ軸移動機構を駆動制御することにより、
   前記一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から所定
   距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1と、所定距離Ｚａ＋Ｚｂ
   離隔したＺ軸位置ｚ2とに配置した状態で、ワイヤ電極
   傾動機構を駆動制御して前記一方のガイドにＵＶ座標系
   に於ける所定の運動を行なわせるか、またはワイヤ電極
   傾動機構と加工送り機構を駆動制御して前記他方のガイ
   ドと測定治具に相互の相対位置関係を変化させないＵＶ
   座標系及びＸＹ座標系に於ける所定の運動を行なわせ、
   前記一方のガイドがＺ軸位置ｚ1に配置された状態で前
   記一方または他方のガイドがＵＶ座標基準点を通りＵ軸
   と所定角度φをなす第１の直線上の該基準点の一方の側
   及び他方の側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接
   触内周面との接触が検知されたときのＵＶ座標位置α1
   及びα2の各座標値を検出すると共に、前記一方のガイ
   ドがＺ軸位置ｚ2に配置された状態で前記一方または他
   方のガイドがＵＶ座標基準点を通りＵ軸と前記所定角度
   φをなす第２の直線上の該基準点の一方の側及び他方の
   側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接触内周面と
   の接触が検知されたときのＵＶ座標位置β1及びβ2の各
   座標値を検出して記憶し、 （ニ）前記各ＵＶ座標位置α1、α2、β1、β2とＵＶ座
   標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2を夫々
   演算して記憶し、 （ホ）前記演算により求めた各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ
   1、Ｇβ2を用いて所定数式により演算することによっ
   て、前記一対のダイス状ガイドの内の前記一方のガイド
   の摩耗量ＲUと前記他方のガイドの摩耗量ＲLとを求め
   る、ことを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイス
   状ガイドの摩耗量を測定する方法。
2. 【請求項２】 請求項１の前記（ホ）項に於て演算する
   所定数式が、 ＲU ＝（Ｇα1＋Ｇα2−２・Ｈr＋Ｗd−ＣU）−Ｚａ
   （Ｇβ1＋Ｇβ2−Ｇα1−Ｇα2）／Ｚｂ ＲL ＝（２・Ｈr−Ｗd−ＣL）−Ｚc（Ｇβ1＋Ｇβ2−Ｇ
   α1−Ｇα2）／Ｚｂ 但し、前記各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2、前記各
   Ｚ軸距離Ｚａ、Ｚｂの他、Ｚｃは前記他方のガイドと前
   記ワイヤ電極接触内周面間のＺ軸距離、Ｈrは測定治具
   の円孔の半径、Ｗdはワイヤ電極の直径、ＣUは前記一方
   のガイドの使用前に於けるガイド孔の直径とワイヤ電極
   の直径Ｗdとの差、ＣLは前記他方のガイドに於ける前記
   差 であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
   ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
3. 【請求項３】 請求項１の前記（ハ）項に記載の所定の
   運動が、前記一方のガイドのＵＶ座標基準点を通りＵ軸
   と所定角度φをなす直線運動、または前記他方のガイド
   と測定治具の夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準点を
   通りＵ軸及びＸ軸と所定角度φをなす同期した直線運動
   であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
   ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
4. 【請求項４】 請求項１の前記（ハ）項に記載の所定の
   運動が、前記一方のガイドのＵＶ座標基準点を中心とし
   た次第に半径を増大させる円運動、または前記他方のガ
   イドと測定治具の夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準
   点を中心とした同じように次第に半径を増大させる同期
   した円運動であることを特徴とするワイヤカット放電加
   工機のダイス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
5. 【請求項５】 被加工物が取付けられる載物平面を有す
   る載物台と、所定の走行経路に張架されたワイヤ電極を
   軸方向に所定の張力と速さをもって走行移動させるワイ
   ヤ電極走行機構と、前記走行経路の被加工物と対向する
   部位のワイヤ電極を位置決めして案内するため被加工物
   の上下に設けられる一対のダイス状ガイドと、該一対の
   ダイス状ガイドと載物台との間に前記載物平面と平行で
   互いに直交するＸ軸及びＹ軸のＸＹ座標系に於ける相対
   的な移動を与える加工送り機構と、前記一対のダイス状
   ガイドの内の一方のガイドを前記載物平面に垂直のＺ軸
   方向に移動するガイドＺ軸移動機構と、前記一対のダイ
   ス状ガイドの前記一方のガイドと他方のガイドとの間に
   Ｘ軸と平行なＵ軸及びＹ軸と平行なＶ軸のＵＶ座標系に
   於ける相対的な移動を与えて前記両ガイド間のワイヤ電
   極をＺ軸に対して傾斜させるワイヤ電極傾動機構とを備
   えて成るワイヤカット放電加工機の前記ダイス状ガイド
   の摩耗量を測定する方法に於て、 所定半径の円孔が形成された平板状でワイヤ電極との接
   触を電気的に検知する前記円孔のワイヤ電極接触内周面
   が導電材で構成されて成る測定治具を載物台の載物平面
   上に取付け、所定の直径を有するワイヤ電極を前記円孔
   に挿通させて走行経路に張架した状態で、 （イ）ワイヤ電極傾動機構を駆動制御して前記一対のダ
   イス状ガイド間のワイヤ電極がＺ軸と平行になるように
   位置決めし、該位置決めした状態でＵＶ座標の基準点を
   設定し、 （ロ）加工送り機構を駆動制御して前記（イ）項でＺ軸
   と平行に位置決めされたワイヤ電極の中心軸の位置に測
   定治具の円孔の中心Ｏを位置決めし、該位置決めした状
   態でＸＹ座標の基準点を設定し、 （ハ）ガイドＺ軸移動機構を駆動制御することにより、
   前記一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から所定
   距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1と、所定距離Ｚａ＋Ｚｂ
   離隔したＺ軸位置ｚ2とに配置した状態で、ワイヤ電極
   傾動機構と加工送り機構を駆動制御して前記一方のガイ
   ドと測定治具に相互の相対位置関係を変化させないＵＶ
   座標系及びＸＹ座標系に於ける所定の運動を行なわせる
   か、またはワイヤ電極傾動機構を駆動制御して前記他方
   のガイドにＵＶ座標系に於ける所定の運動を行なわせ、
   前記一方のガイドがＺ軸位置ｚ1に配置された状態で前
   記一方または他方のガイドがＵＶ座標基準点を通りＵ軸
   と所定角度φをなす第１の直線上の該基準点の一方の側
   及び他方の側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接
   触内周面との接触が検知されたときのＵＶ座標位置α1
   及びα2の各座標値を検出すると共に、前記一方のガイ
   ドがＺ軸位置ｚ2に配置された状態で前記一方または他
   方のガイドがＵＶ座標基準点を通りＵ軸と前記所定角度
   φをなす第２の直線上の該基準点の一方の側及び他方の
   側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接触内周面と
   の接触が検知されたときのＵＶ座標位置β1及びβ2の各
   座標値を検出して記憶し、 （ニ）前記各ＵＶ座標位置α1、α2、β1、β2とＵＶ座
   標基準点間の各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2を夫々
   演算して記憶し、 （ホ）前記演算により求めた各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ
   1、Ｇβ2を用いて所定数式により演算することによっ
   て、前記一対のダイス状ガイドの内の前記一方のガイド
   の摩耗量ＲUと前記他方のガイドの摩耗量ＲLとを求め
   る、 ことを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイス状ガ
   イドの摩耗量を測定する方法。
6. 【請求項６】 請求項５の前記（ホ）項に於て演算する
   所定数式が、 ＲU＝（２・Ｈr−Ｗd−ＣU）−Ｚａ（Ｚａ＋Ｚｂ)(Ｇα
   1＋Ｇα2−Ｇβ1−Ｇβ2）／（Ｚｂ・Ｚｃ） ＲL＝（Ｇβ1＋Ｇβ2−２・Ｈr＋Ｗd−ＣL）−Ｚａ（Ｇ
   α1＋Ｇα2−Ｇβ1−Ｇβ2）／Ｚｂ 但し、前記各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ1、Ｇβ2、前記各
   Ｚ軸距離Ｚａ、Ｚｂの他、Ｚｃは前記他方のガイドと前
   記ワイヤ電極接触内周面間のＺ軸距離、Ｈｒは測定治具
   の円孔の半径、Ｗdはワイヤ電極の直径、ＣUは前記一方
   のガイドの使用前に於けるガイド孔の直径とワイヤ電極
   の直径Ｗdとの差、ＣLは前記他方のガイドに於ける前記
   差 であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
   ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
7. 【請求項７】 請求項５の前記（ハ）項に記載の所定の
   運動が、前記一方のガイドと測定治具の夫々ＵＶ座標基
   準点及びＸＹ座標基準点を通りＵ軸及びＸ軸と所定角度
   φをなす同期した直線運動、または前記他方のガイドの
   ＵＶ座標基準点を通りＵ軸と所定角度φをなす直線運動
   であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
   ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
8. 【請求項８】 請求項５の前記（ハ）項に記載の所定の
   運動が、前記一方のガイドと測定治具の夫々ＵＶ座標基
   準点及びＸＹ座標基準点を中心とした同じように次第に
   半径を増大させる同期した円運動、または前記他方のガ
   イドのＵＶ座標基準点を中心とした次第に半径を増大さ
   せる円運動であることを特徴とするワイヤカット放電加
   工機のダイス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
9. 【請求項９】 被加工物が取付けられる載物平面を有す
   る載物台と、所定の走行経路に張架されたワイヤ電極を
   軸方向に所定の張力と速さをもって走行移動させるワイ
   ヤ電極走行機構と、前記走行経路の被加工物と対向する
   部位のワイヤ電極を位置決めして案内するため被加工物
   の上下に設けられる一対のダイス状ガイドと、該一対の
   ダイス状ガイドと載物台との間に前記載物平面と平行で
   互いに直交するＸ軸及びＹ軸のＸＹ座標系に於ける相対
   的な移動を与える加工送り機構と、前記一対のダイス状
   ガイドの内の一方のガイドを前記載物平面に垂直のＺ軸
   方向に移動するガイドＺ軸移動機構と、前記一対のダイ
   ス状ガイドの前記一方のガイドと他方のガイドとの間に
   Ｘ軸と平行なＵ軸及びＹ軸と平行なＶ軸のＵＶ座標系に
   於ける相対的な移動を与えて前記両ガイド間のワイヤ電
   極をＺ軸に対して傾斜させるワイヤ電極傾動機構とを備
   えて成るワイヤカット放電加工機の前記ダイス状ガイド
   の摩耗量を測定する方法に於て、 所定半径の円孔が形成された平板状でワイヤ電極との接
   触を電気的に検知する前記円孔のワイヤ電極接触内周面
   が導電材で構成されて成る測定治具を載物台の載物平面
   上に取付け、所定の直径を有するワイヤ電極を前記円孔
   に挿通させて走行経路に張架した状態で、 （イ）ワイヤ電極傾動機構を駆動制御して前記一対のダ
   イス状ガイド間のワイヤ電極がＺ軸と平行になるように
   位置決めし、該位置決めした状態でＵＶ座標の基準点を
   設定し、 （ロ）加工送り機構を駆動制御して前記（イ）項でＺ軸
   と平行に位置決めされたワイヤ電極の中心軸の位置に測
   定治具の円孔の中心Ｏを位置決めし、該位置決めした状
   態でＸＹ座標の基準点を設定し、 （ハ）ガイドＺ軸移動機構を駆動制御することにより、
   前記一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から所定
   距離Ｚａ＋Ｚｂ離隔したＺ軸位置ｚ2に配置した状態
   で、ワイヤ電極傾動機構を駆動制御して、前記一方のガ
   イドに、ＵＶ座標系に於て基準点から所定距離Ｇβ離隔
   する所定の運動を行なわせると共に、加工送り機構を駆
   動制御して、測定治具に、前記一方のガイドの位置する
   ＵＶ座標位置とＵＶ座標基準点を通る直線のＸＹ座標系
   への投影線上に前記円孔の中心が位置する関係を維持す
   る、前記一方のガイドの前記所定の運動と相互に関連し
   たＸＹ座標系に於ける所定の運動を行なわせて、前記一
   方のガイドがＵＶ座標基準点から前記所定距離Ｇβ離隔
   したＵＶ座標位置β1に位置してワイヤ電極と前記ワイ
   ヤ電極接触内周面との接触が検知されたときの該ＵＶ座
   標位置β1の座標値と測定治具の位置するＸＹ座標位置
   γ1の座標値を検出すると共に、前記一方のガイドがＵ
   Ｖ座標基準点に関し前記ＵＶ座標位置β1と対称なＵＶ
   座標位置β2に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極接
   触内周面との接触が検知されたときの該ＵＶ座標位置β
   2の座標値と測定治具の位置するＸＹ座標位置γ2の座標
   値を検出して記憶し、 （ニ）ガイドＺ軸移動機構を駆動制御することにより、
   前記一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から所定
   距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1に配置した状態で、ワイ
   ヤ電極傾動機構と加工送り機構を駆動制御して、前記一
   方のガイドを前記ＵＶ座標位置β1に、測定治具を前記
   ＸＹ座標位置γ1に夫々位置させてから、前記一方のガ
   イドをＵＶ座標基準点に向け直線移動させて、前記ワイ
   ヤ電極接触内周面とワイヤ電極との接触を検知し、該接
   触が検知されたときのＵＶ座標位置α1の座標値を検出
   して記憶し、次いで、前記一方のガイドを前記ＵＶ座標
   位置β2に、測定治具を前記ＸＹ座標位置γ2に夫々位置
   させてから、前記一方のガイドをＵＶ座標基準点に向け
   直線移動させて、前記ワイヤ電極接触内周面とワイヤ電
   極との接触を検知し、該接触が検知されたときのＵＶ座
   標位置α2の座標値を検出して記憶し、 （ホ）前記各ＵＶ座標位置α1、α2とＵＶ座標基準点間
   の各距離Ｇα1、Ｇα2及び前記各ＸＹ座標位置γ1、γ2
   とＸＹ座標基準点間の各距離Ｊγ1、Ｊγ2、を夫々演算
   して記憶し、 （ヘ）前記演算により求めた各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｊγ
   1、Ｊγ2を用いて所定数式により演算することによっ
   て、前記一対のダイス状ガイドの内の前記一方のガイド
   の摩耗量ＲUと前記他方のガイドの摩耗量ＲLとを求め
   る、ことを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイス
   状ガイドの摩耗量を測定する方法。
10. 【請求項１０】 請求項９の前記（ヘ）項に於て演算す
    る所定数式が、 ＲU＝（Ｇα1＋Ｇα2−Ｊγ1−Ｊγ2＋２・Ｈr−Ｗd−
    ＣU）−Ｚａ（２・Ｇβ−Ｇα1−Ｇα2）／Ｚｂ ＲL＝（Ｊγ1＋Ｊγ2−２・Ｈr＋Ｗd−ＣL）−Ｚｃ（２
    ・Ｇβ−Ｇα1−Ｇα2）／Ｚｂ 但し、前記各距離Ｇα1、Ｇα2、Ｇβ、Ｊγ1、Ｊγ2、
    前記各Ｚ軸距離Ｚａ、Ｚｂの他、Ｚｃは前記他方のガイ
    ドと前記ワイヤ電極接触内周面間のＺ軸距離、Ｈrは測
    定治具の円孔の半径、Ｗdはワイヤ電極の直径、ＣUは前
    記一方のガイドの使用前に於けるガイド孔の直径とワイ
    ヤ電極の直径Ｗdとの差、ＣLは前記他方のガイドに於け
    る前記差 であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
    ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
11. 【請求項１１】 請求項９に記載の前記（ハ）項に於て
    ワイヤ電極傾動機構と加工送り機構を駆動制御すること
    により行なわれる、前記一方のガイドと測定治具との前
    記関係を維持する相互に関連した各所定の運動が、ＵＶ
    座標基準点からＵ軸と所定角度φをなして所定距離Ｇβ
    離隔する前記一方のガイドのＵＶ座標系に於ける直線運
    動と、ＸＹ座標基準点からＸ軸と所定角度φをなして前
    記一方のガイドの直線運動と同じ向きに移動する測定治
    具のＸＹ座標系に於ける直線運動により行なわれること
    を特徴とするワイヤカット放電加工機のダイス状ガイド
    の摩耗量を測定する方法。
12. 【請求項１２】 請求項９に記載の前記（ハ）項に於て
    ワイヤ電極傾動機構と加工送り機構を駆動制御すること
    により行なわれる、前記一方のガイドと測定治具との前
    記関係を維持する相互に関連した各所定の運動が、前記
    一方のガイドのＵＶ座標基準点を中心とした所定半径Ｇ
    βのＵＶ座標系に於ける円運動と、測定治具のＸＹ座標
    基準点を中心とした次第に半径を増大させるＸＹ座標系
    に於ける円運動により行なわれることを特徴とするワイ
    ヤカット放電加工機のダイス状ガイドの摩耗量を測定す
    る方法。
13. 【請求項１３】 被加工物が取付けられる載物平面を有
    する載物台と、所定の走行経路に張架されたワイヤ電極
    を軸方向に所定の張力と速さをもって走行移動させるワ
    イヤ電極走行機構と、前記走行経路の被加工物と対向す
    る部位のワイヤ電極を位置決めして案内するため被加工
    物の上下に設けられる一対のダイス状ガイドと、該一対
    のダイス状ガイドと載物台との間に前記載物平面と平行
    で互いに直交するＸ軸及びＹ軸のＸＹ座標系に於ける相
    対的な移動を与える加工送り機構と、前記一対のダイス
    状ガイドの内の一方のガイドを前記載物平面に垂直のＺ
    軸方向に移動するガイドＺ軸移動機構と、前記一対のダ
    イス状ガイドの前記一方のガイドと他方のガイドとの間
    にＸ軸と平行なＵ軸及びＹ軸と平行なＶ軸のＵＶ座標系
    に於ける相対的な移動を与えて前記両ガイド間のワイヤ
    電極をＺ軸に対して傾斜させるワイヤ電極傾動機構とを
    備えて成るワイヤカット放電加工機の前記ダイス状ガイ
    ドの摩耗量を測定する方法に於て、 所定半径の円孔が形成された平板状でワイヤ電極との接
    触を電気的に検知する前記円孔のワイヤ電極接触内周面
    が導電材で構成されて成る測定治具を載物台の載物平面
    上に取付け、所定の直径を有するワイヤ電極を前記円孔
    に挿通させて走行経路に張架した状態で、 （イ）ワイヤ電極傾動機構を駆動制御して前記一対のダ
    イス状ガイド間のワイヤ電極がＺ軸と平行になるように
    位置決めし、該位置決めした状態でＵＶ座標の基準点を
    設定し、 （ロ）加工送り機構を駆動制御して前記（イ）項でＺ軸
    と平行に位置決めされたワイヤ電極の中心軸の位置に測
    定治具の円孔の中心Ｏを位置決めし、該位置決めした状
    態でＸＹ座標の基準点を設定し、 （ハ）ガイドＺ軸移動機構を駆動制御することにより、
    前記一方のガイドを前記ワイヤ電極接触内周面から所定
    距離Ｚａ離隔したＺ軸位置ｚ1に配置した状態で、ワイ
    ヤ電極傾動機構を駆動制御して前記一方のガイドにＵＶ
    座標系に於ける所定の運動を行なわせるか、またはワイ
    ヤ電極傾動機構と加工送り機構を駆動制御して前記他方
    のガイドと測定治具に相互の相対位置関係を変化させな
    いＵＶ座標系及びＸＹ座標系に於ける所定の運動を行な
    わせ、前記一方または他方のガイドがＵＶ座標基準点を
    通りＵ軸と所定角度φをなす直線上の該基準点の一方の
    側及び他方の側に位置してワイヤ電極と前記ワイヤ電極
    接触内周面との接触が検知されたときのＵＶ座標位置α
    1及びα2の各座標値を検出して記憶し、 （ニ）前記各ＵＶ座標位置α1、α2とＵＶ座標基準点間
    の各距離Ｇα1、Ｇα2を夫々演算して記憶し、 （ホ）前記演算により求めた各距離Ｇα1、Ｇα2を用い
    て所定数式により演算することによって、前記一対のダ
    イス状ガイドの内の前記一方のガイドの摩耗量ＲUを求
    める、 ことを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイス状ガ
    イドの摩耗量を測定する方法。
14. 【請求項１４】 請求項１４の前記（ホ）項に於て演算
    する所定数式が、 ＲU＝（Ｇα1＋Ｇα2−２・Ｈr＋Ｗd−ＣU）−Ｚａ（２
    ・Ｈr−Ｗd−ＣL）／Ｚｃ 但し、前記各距離Ｇα1、Ｇα2、前記Ｚ軸距離Ｚａの
    他、Ｚｃは前記他方のガイドと前記ワイヤ電極接触内周
    面間のＺ軸距離、Ｈrは測定治具の円孔の半径、Ｗｄは
    ワイヤ電極の直径、ＣUは前記一方のガイドの使用前に
    於けるガイド孔の直径とワイヤ電極の直径Ｗdとの差、
    ＣLは前記他方のガイドに於ける前記差 であることを特徴とするワイヤカット放電加工機のダイ
    ス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
15. 【請求項１５】 請求項１４の前記（ハ）項に記載の所
    定の運動が、前記一方のガイドのＵＶ座標基準点を通り
    Ｕ軸と所定角度φをなす直線運動、または前記他方のガ
    イドと測定治具の夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標基準
    点を通りＵ軸及びＸ軸と所定角度φをなす同期した直線
    運動であることを特徴とするワイヤカット放電加工機の
    ダイス状ガイドの摩耗量を測定する方法。
16. 【請求項１６】 請求項１４の前記（ハ）項に記載の所
    定の運動が、前記一方のガイドのＵＶ座標基準点を中心
    とした次第に半径を増大させる円運動、または前記他方
    のガイドと測定治具の夫々ＵＶ座標基準点及びＸＹ座標
    基準点を中心とした同じように次第に半径を増大させる
    同期した円運動であることを特徴とするワイヤカット放
    電加工機のダイス状ガイドの摩耗量を測定する方法。