JPH116971A - 光ビーム走査光学装置 - Google Patents

光ビーム走査光学装置

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JPH116971A
JPH116971A JP10112471A JP11247198A JPH116971A JP H116971 A JPH116971 A JP H116971A JP 10112471 A JP10112471 A JP 10112471A JP 11247198 A JP11247198 A JP 11247198A JP H116971 A JPH116971 A JP H116971A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光偏向器の回転速度を切り替えることなく、
瞬時に画像密度を切り替えることができる光ビーム走査
光学装置を得る。 【解決手段】 画像密度を切り替える制御回路ブロック
は、概略、画像データを記憶しておくためのRAM41
と、発光点2a〜2dを制御するためのコントローラ4
2と、発光点2a〜2dを駆動するためのドライバ43
a〜43dとで構成されている。ホストコンピュータ4
0は、例えば画像データに付加された低密度コード又は
高密度コードを読み取ると、画像密度信号をコントロー
ラ42に伝送する。コントローラ42は、この画像密度
信号に基づいてドライバ43a〜43dをそれぞれ個別
にON状態又はOFF状態にする。これにより、発光点
2a〜2dは画像密度に応じて選択的に駆動され、画像
密度の切り替えが行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ビーム走査光学
装置、詳しくはレーザプリンタやデジタル複写機の画像
書込み手段として用いられる光ビーム走査光学装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、画像密度を切り替えることが
できる光ビーム走査光学装置が知られている。特開昭5
9−117372号公報には、発光点を駆動するドライ
バのクロック周波数を変えると共に、光偏向器であるポ
リゴンミラーの回転速度(偏向速度)を切り替えること
によって、画像密度を切り替える装置が開示されてい
る。
【0003】また、特開平4−301864号公報に
は、それぞれ光ビームを発光する複数の発光点を備え、
所定の数の光ビームにより1画素を描画する装置が開示
されている。この装置では、1画素を描画する光ビーム
の数を変更することにより、画像密度を切り替える。具
体的には、上記の装置は5つの発光点を有しており、例
えば、240DPIでの描画の場合は、1画素を5つの
発光点から発光される5本すべての光ビームで描画す
る。一方、300DPIでの描画の場合は、1画素を4
本の光ビームで描画する。この場合、最初の1スキャン
においては、5つの発光点のうち最初の4つの発光点か
らの光ビームにより1ライン目の画素を描画すると同時
に、後の1つの発光点からの光ビームにより2ライン目
の画素の最初の4分の1を描画する。次のスキャンにお
いては、5つの発光点のうち最初の3つの発光点からの
光ビームにより2ライン目の画素の残り4分の3を描画
して2ライン目の画素を完成させると同時に、後の2つ
の発光点からの光ビームにより3ライン目の画素の最初
の4分の2を描画する。さらに、次のスキャンにおいて
は、5つの発光点のうち最初の2つの発光点からの光ビ
ームにより3ライン目の画素の残り4分の2を描画して
3ライン目の画素を完成させると同時に、後の3つの発
光点からの光ビームにより4ライン目の画素の最初の4
分の3を描画する。以下、同様にして描画が行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開昭59−117372号公報に記載された装置で
は、光偏向器の回転速度の切り替えには時間を要し、瞬
時に画像密度を切り替えることができなかった。そのた
め、画像密度の切り替えは、異なるページ間で、しか
も、光偏向器の回転速度が安定するまでの間は、ウォー
ミングアップ期間を確保しなければならないという制約
があった。従って、1ページ内で、例えば文字画像とグ
ラフィック画像が混在している場合、文字画像領域は低
密度で描画し、グラフィック画像領域は高密度で描画し
たくてもすることができなかった。
【0005】一方、上記の特開平4−301864号公
報に記載された装置では、1画素を描画する光ビームの
数を変更することにより、同じページ間であっても画像
密度を切り替えることができる。しかしながら、この装
置には次のような問題点がある。第1に、複数の光ビー
ムにより1画素を描画するため、上述したように、ある
スキャンとそれに続くスキャンとの間で1画素を分割し
て描画する場合がある。このため、先のスキャンと後の
スキャンとの間で、主走査方向及び・又は副走査方向の
ビーム投影位置にずれが生じた場合、画素を正確に描画
することができなくなる。また、解像度によっては、ラ
インごとに画素を分割する割合が変わる。例えば、上記
の300DPIの例では、2ライン目の画素は1:3、
3ライン目の画素は2:2、4ライン目の画素は3:1
の割合で分割される。このため、画像劣化の度合いが大
きくなる。第2に、複数の光ビームにより1画素を描画
し、しかも、1スキャンごとに各光ビームすなわち各発
光点と画素との対応関係が変化するため、各発光点の駆
動制御及び駆動回路構成が大規模、複雑となる。
【0006】そこで、本発明の目的は、光偏向器の回転
速度を切り替えることなく、瞬時に画像密度を切り替え
ることができると共に、各発光点を駆動するための制御
や回路構成が簡素で画質の優れた光ビーム走査光学装置
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段と作用】以上の目的を達成
するため、本発明に係る光ビーム走査光学装置は、
(a)少なくとも三つの発光点を有し、該三つの発光点
が前記被走査面上において光ビームの走査方向と直交す
る方向に光学的に所定の間隔で配置されている光源ユニ
ットと、(b)前記被走査面を走査するべく、前記発光
点から放射された光ビームを偏向する光偏向器と、
(c)前記光源ユニットの発光点のうち少なくとも二つ
の発光点から同時に光ビームを放射するように制御する
コントローラとを備え、(d)前記コントローラが前記
被走査面を走査するための一連の動作の開始から終了ま
での間の任意の時点において、画像密度を切り換えるべ
く、前記各発光点の組み合わせ毎に前記被走査面に入射
する光ビームの間隔が異なるように、発光させる発光点
の組み合わせを変更し、一つの前記発光点から放射され
た光ビームがそれぞれ前記被走査面上において一つの画
素を形成すること、を特徴とする。
【0008】以上の構成により、画像密度を切り替える
際には、コントローラによって、所望の画像密度に対応
する発光点を選択して発光させる。このように、副走査
方向の画像密度の切り替えを、光偏向器の偏向速度を変
更するというような応答性が比較的遅い機械的操作でな
く、発光点の選択という応答性の速い電気的操作によっ
て行うため、副走査方向の画像密度の切り替えが素早く
行われる。
【0009】さらに、本発明に係る光ビーム走査光学装
置は、発光点を1次元配列し、かつ、切り替えて使用す
るn種類の画像密度の比をa1:a2:…:an(a1<a
2<…<an)とした場合、前記発光点の数は、
【0010】
【数4】
【0011】である。そして、a1,a2,…,anの最
小公倍数をmとした場合、前記1次元配列された複数の
発光点の両端に位置する二つの発光点の間隔は、最近接
発光点間隔の(m−a1)倍である。さらに、光偏向器
の1偏向走査の間に、被走査面が副走査方向に移動する
距離は、最近接発光点から放射された光ビームの被走査
面上での間隔の略m倍である。以上の構成により、1次
元配列された発光点の数や間隔が最適値に設定される。
【0012】また、本発明に係る光ビーム走査光学装置
は、発光点を2次元配列し、切り替えて使用するn種類
の画像密度の比をa1:a2:…:an(a1<a2<…<
n)とした場合、前記発光点の数が(Σai−1)であ
り、a1,a2,…,anの最小公倍数をmとすると共
に、前記2次元配列された複数の発光点を副走査方向と
平行な軸に投影した場合、この複数の投影発光点の両端
に位置する二つの投影発光点の間隔が、最近接投影発光
点間隔の(m−a1)倍であり、光偏向器の1偏向走査
の間に、被走査面が副走査方向に移動する距離が、前記
最近接投影発光点の光ビームの被走査面上での間隔の略
m倍であることを特徴とする。
【0013】以上の構成により、2次元配列された発光
点の数や間隔が最適値に設定される。そして、発光点間
の熱的クロストークを抑えるため、発光点間隔を比較的
広く設定しても、副走査方向の発光点間隔は見掛け上狭
くできる。
【0014】また、本発明に係る光ビーム走査光学装置
は、光源ユニットが、発光点からそれぞれ放射された光
ビームを重ね合わせて同一方向に進行させるビーム結合
素子を備え、切り替えて使用するn種類の画像密度の比
をa1:a2:…:an(a1<a2<…<an)とした場
合、前記発光点の数が(Σai−1)であり、a1
2,…,anの最小公倍数をmとした場合、前記ビーム
結合素子出射面の前記複数の光ビーム出射位置の両端に
位置する二つの光ビーム出射位置間隔が、最近接光ビー
ム出射位置間隔の(m−a1)倍であり、偏向器の1偏
向走査の間に、被走査面が副走査方向に移動する距離
が、前記最近接出射位置から出射された光ビームの被走
査面上での間隔の略m倍であることを特徴とする。以上
の構成により、発光点は複数の素子に振り分けて設けら
れ、全ての発光点を一つの素子に設ける必要がなくなる
ため、さらに発光点間の熱的クロストークによる影響が
小さくなる。
【0015】また、発光点の駆動信号のクロック周波数
を画像密度に応じて変更させるクロック周波数切り替え
手段を更に備えることにより、画像密度に応じて発光点
の駆動信号のクロック周波数が切り替えられる。従っ
て、副走査方向の画像密度の切り替えと同様に主走査方
向の画像密度も応答性の速い電気的操作によって素早く
切り替わる。
【0016】また、所定の画像密度に対応する発光点を
画像密度の逆数比の発光強度に切り替えて前記発光点を
駆動させることにより、画像密度が異なっても被走査面
上での入射光量が常に一定になる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ビーム走査
光学装置の実施形態について添付図面を参照して説明す
る。
【0018】図1において、光ビーム走査光学装置は、
概略、光源ユニット1と、シリンドリカルレンズ11
と、ポリゴンミラー12と、3枚のfθレンズ13,1
4,15及びシリンドリカルレンズ16と、平面ミラー
17と、感光体ドラム25とで構成されている。
【0019】光源ユニット1は、レーザダイオードアレ
イ2と、コリメータレンズ5とからなる。コリメータレ
ンズ5は軸対称形状を有しており、その対称軸を光軸C
上に配置している。レーザダイオードアレイ2は、後に
詳述するように、複数の発光点を有したものである。レ
ーザダイオードアレイ2から放射された複数の光ビーム
Bは、それぞれコリメータレンズ5によって平行光(又
は収束光)とされる。
【0020】コリメータレンズ5から出射された光ビー
ムBは、シリンドリカルレンズ11を介してポリゴンミ
ラー12に到達する。シリンドリカルレンズ11は光ビ
ームBをポリゴンミラー12の反射面近傍に主走査方向
に長い線状に集光する。ポリゴンミラー12は矢印a方
向に一定角速度で回転駆動される。光ビームBはポリゴ
ンミラー12の回転に基づいて各反射面で等角速度に偏
向走査され、fθレンズ13,14,15及びシリンド
リカルレンズ16を透過し、平面ミラー17で下方に反
射される。その後、光ビームBは感光体ドラム25上で
結像すると共に、矢印b方向に走査する。
【0021】fθレンズ13,14,15はポリゴンミ
ラー12で等角速度に偏向された光ビームBを感光体ド
ラム25上での主走査速度を等速に補正(歪曲収差補
正)する機能を有している。シリンドリカルレンズ16
は前記シリンドリカルレンズ11と同様に副走査方向に
のみパワーを有し、二つのレンズ11,16が協働して
ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正する。
【0022】感光体ドラム25は矢印c方向に一定速度
で回転駆動され、ポリゴンミラー12及びfθレンズ1
3,14,15による矢印b方向への主走査と、感光体
ドラム25の矢印c方向への副走査によって感光体ドラ
ム25上に画像(静電潜像)が書き込まれる。
【0023】次に、レーザダイオードアレイ2の第1例
について詳説する。以下各実施例において同一部品及び
同一部分には同じ符号を付した。第1例のレーザダイオ
ードアレイ2は、図2に示すように、4個の発光点2
a,2b,2c,2dを表面に設けた基板6を内蔵して
いる。発光点2a〜2dは、副走査方向と平行な方向に
不等間隔で1次元配列している。発光点2a〜2dの最
近接発光点間隔をDとすると、発光点2aと2bの間隔
は2Dに設定され、発光点2bと2cの間隔及び発光点
2cと2dの間隔はそれぞれDに設定されている。第1
例のレーザダイオードアレイ2は、400dpi及び6
00dpiの2種類の画像密度を切り替えることができ
る。
【0024】一般に、1次元配列された発光点の必要最
少数は、切り替えて使用するn種類の画像密度の比をa
1:a2:…:an(a1<a2<…<an、かつ、a1〜an
は約分された最小値)とした場合、Σai−1で算出さ
れる。そして、a1,a2,…,anの最小公倍数をmと
した場合、1次元配列された複数の発光点の両端に位置
する二つの発光点の最適の間隔(以下、最適デバイス長
とする)は、最近接発光点間隔Dの(m−a1)倍であ
る。
【0025】従って、第1例のレーザダイオードアレイ
2の場合、画像密度の比がa1:a2=2:3であるか
ら、必要最少発光点数はΣai−1=a1+a2−1=2
+3−1=4(個)となる。また、a1=2,a2=3の
最小公倍数mは6であるから、最適デバイス長は、(m
−a1)×D=(6−2)×D=4Dとなる。
【0026】以上の構成からなるレーザダイオードアレ
イ2を用いた光ビーム走査光学装置の、感光体ドラム2
5上への画像の書き込みについて、図3及び図4を参照
して説明する。図3に示すように、発光点2a〜2dか
らそれぞれ放射された光ビームBは、感光体ドラム25
上に光ビームスポット30a〜30dを形成する。この
光ビームスポット30a〜30dは、副走査方向に不等
間隔である。光ビームスポット30a,30bの間隔は
略42.3μmである。光ビームスポット30b,30
c,30dの間隔は略21.2μmである。感光体ドラ
ム25上に画像密度600dpiの画像を形成する際に
は、図4(A)に示すように、発光点2a,2b,2d
を点灯させ、発光点2cは点灯させない。これにより、
発光点2a,2b,2dからそれぞれ放射された光ビー
ムBは、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が略4
2.3μmの三つの光ビームスポット30a,30b,
30dを形成する。この光ビームスポット30a,30
b,30dにて画像先端側から順に走査する。
【0027】一般に、ポリゴンミラー12の1偏向走査
の間に、感光体ドラム25の表面が副走査方向に移動す
る最適距離(以下、最適送りピッチとする)は、前記最
近接発光点から放射された光ビームの感光体ドラム25
上での間隔のm倍(ただし、mは前述の画像密度の比の
値a1,a2,…,anの最小公倍数)に設定される。従
って、第1例の場合、最適送りピッチは、m×21.2
=6×21.2≒127μmとされる。この最適送りピ
ッチは画像密度に依存せず常に一定に保たれる。
【0028】次に、画像密度を600dpiから400
dpiへ切り替えて、400dpiの画像を形成する際
には、図4(B)に示すように、発光点2a,2cを点
灯させ、残りの発光点2b,2dは点灯させない。これ
により、発光点2a,2cからそれぞれ放射された光ビ
ームBは、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が6
3.5μmの二つの光ビームスポット30a,30cを
形成する。この光ビームスポット30a,30cにて画
像先端側から順に走査する。
【0029】ここで、画像密度を切り替える制御回路ブ
ロックは、図5に示すように、概略、画像データを記憶
しておくためのRAM41と、レーザダイオードアレイ
2の発光点2a〜2dを制御するためのコントローラ4
2と、発光点2a〜2dを駆動するためのドライバ43
a〜43dと、発光点2a〜2dの駆動信号のクロック
周波数を決めるクロック信号発生器44とで構成されて
いる。
【0030】例えば、本実施形態の光ビーム走査光学装
置をデジタル複写機に組み込んだ場合、このデジタル複
写機に原稿読み取りの際に文字画像とグラフィック画像
を識別することができる機構を設けることにより、文字
画像とグラフィック画像が混在している1枚の原稿を読
み取って得られる画像データのうち、文字画像データに
対しては低密度コードを自動的に付加し、グラフィック
画像データに対しては高密度コードを自動的に付加する
ことができる。あるいは、デジタル複写機にパソコンを
接続し、デジタル複写機が読み取った画像をパソコン画
面上に映し出してパソコンからのキー操作によって文字
画像領域に相当する画像データに対しては低密度コード
を付加し、グラフィック画像領域に相当する画像データ
に対しては高密度コードを付加するようにしてもよい。
【0031】ホストコンピュータ40では、この画像デ
ータに付加された低密度又は高密度コードを読み取っ
て、画像密度信号を発生させる。例えば、ホストコンピ
ュータ40が、高密度コードを付加された画像データを
読み取ったとすると、ホストコンピュータ40から画像
密度信号がコントローラ42及びクロック信号発生器4
4に伝送される。コントローラ42は、この画像密度信
号に基づいてドライバON/OFF信号をドライバ43
a〜43dに伝送し、ドライバ43a,43b,43d
をON状態にし、ドライバ43cをOFF状態にする。
これにより、副走査方向の画像密度は応答性の速い電気
的操作によって素早く600dpiに切り替えることが
できる。従って、異なるページ間及び1ページ内のいず
れにおいても画像密度を切り替えることができる。さら
に、1回の走査の中で画像密度の切り替えも可能であ
る。要するに、この光ビーム走査光学装置は、一連の走
査動作の開始から終了までの間の任意の時点において、
ポリゴンミラー12の回転速度、すなわち走査速度を一
定に保ったまま画像密度を切り換えることができる。な
お、画像密度は、画像データにおける画素間隔と言い換
えることも可能である(以下、各実施例において、同様
である)。
【0032】さらに、コントローラ42は、画像密度信
号に基づいて、画像密度600dpiの画像を形成する
際に駆動される発光点2a,2b,2dが、画像密度の
逆数比の発光強度で発光するように、ドライバ43a,
43b,43dに発光強度信号を出してドライバ43
a,43b,43dの駆動電圧を制御する。すなわち、
第1例のレーザダイオード2の場合、使用する画像密度
は600dpiと400dpiの2種類だから、画像密
度の比は3:2である。
【0033】従って、画像密度600dpiの画像を形
成する際の発光点2a,2b,2dの発光強度と、画像
密度400dpiの画像を形成する際の発光点2a,2
cの発光強度との比は、1/6:1/4=2:3とな
り、発光点2a,2b,2dは、400dpiの画像を
形成する際の発光強度の2/3の発光強度で発光するよ
うに駆動電圧が調整される。これにより、画像密度が6
00dpiと稠密になっても感光体ドラム25上での入
射光量は、400dpiの画像密度のときと同じ値とな
り、画像密度に関係なく感光体ドラム25上での入射光
量を常に一定にすることができ、安定した画質の画像が
得られる。
【0034】一方、クロック信号発生器44は、クロッ
ク周波数切り替え回路45を内蔵しており、画像密度信
号に基づいてこのクロック周波数切り替え回路45が、
発光点2a〜2dの駆動信号のクロック周波数を画像密
度に応じた周波数に変更する。クロック周波数切り替え
回路45によって周波数を変更されたクロック信号はR
AM41、コントローラ42及び各ドライバ43a〜4
3dに伝送される。これにより、主走査方向の画像密度
も応答性の速い電気的操作によって素早く600dpi
に切り替えることができる。以下のレーザダイオードア
レイ2の各実施例においても、同様にクロック周波数切
り替え回路45によって主走査方向の画像密度が素早く
切り替えられる。
【0035】上述したように、本実施形態の光ビーム走
査光学装置では、解像度に応じて発光させる発光点の組
み合わせを変更するように制御しているが、いずれの解
像度においても常に1つの発光点から放出された光ビー
ムにより1つの画素を描画する。このため、いったん解
像度が決定すれば、その1画素に対応する発光点(レー
ザダイオード)が一義的に定まるため、大規模、複雑な
制御や回路は不要である。
【0036】次に、ホストコンピュータ40からの命令
信号がインターフェース(I/F)を介してRAM41
に入力されると、RAM41に記憶されていた画像デー
タが順に取り出され、コントローラ42に伝送される。
コントローラ42では、それぞれの画像データを所定の
時間後に出力する。コントローラ42から順次出力され
た画像データ信号はそれぞれドライバ43a,43b,
43dに伝送され、各ドライバ43a,43b,43d
は対応の発光点2a,2b,2dを駆動する。
【0037】次に、レーザダイオードアレイ2の第2例
について図6及び図7を参照して詳説する。第2例のレ
ーザダイオードアレイ2は、図6に示すように、6個の
発光点2a,2b,2c,2d,2e,2fを表面に設
けた基板6を内蔵している。発光点2a〜2fは、副走
査方向と平行な方向に等間隔で1次元配列している。発
光点2a〜2fの間隔はDに設定されている。
【0038】以上の構成からなる第2例のレーザダイオ
ードアレイ2を用いた光ビーム走査光学装置の、感光体
ドラム25上への画像の書き込みについて図7を参照し
て説明する。第2例の場合、400dpi,600dp
i及び1200dpiの3種類の画像密度を切り替える
ことができる。図7(A),(B),(C)に示すよう
に、発光点2a〜2fからそれぞれ放射された光ビーム
Bは、感光体ドラム25上に光ビームスポット30a〜
30fを形成する。この光ビームスポット30a〜30
fは副走査方向に等間隔であり、略21.2μmであ
る。図7(A)に示すように、感光体ドラム25上に画
像密度400dpiの画像を形成する際には、発光点2
a,2dのみを点灯させる。これにより、発光点2a,
2dからそれぞれ放射された光ビームBは、感光体ドラ
ム25上に副走査方向の間隔が63.5μmの二つの光
ビームスポット30a,30dを形成する。この光ビー
ムスポット30a,30dにて画像先端側から順に走査
する。このとき、感光体ドラム25の回転駆動による副
走査方向の送りピッチPは、127μmとされる。この
送りピッチは、画像密度に依存せず常に一定に保たれ
る。
【0039】次に、画像密度を400dpiから600
dpiへ切り替えて、600dpiの画像を形成する際
には、図7(B)に示すように、発光点2a,2c,2
eのみを点灯させる。これにより、発光点2a,2c,
2eからそれぞれ放射された光ビームBは、感光体ドラ
ム25上に副走査方向の間隔が略42.3μmの三つの
光ビームスポット30a,30c,30eを形成する。
この光ビームスポット30a,30c,30eにて画像
先端側から順に走査する。
【0040】次に、画像密度を600dpiから120
0dpiへ切り替えて、1200dpiの画像を形成す
る際には、全ての発光点2a〜2fを点灯させる。これ
により、発光点2a〜2fからそれぞれ放射された光ビ
ームBは、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が略
21.2μmの六つの光ビームスポット30a〜30f
を形成する。この光ビームスポット30a〜30fにて
画像先端側から順に走査する。この第2例のレーザダイ
オードアレイ2は、前記第1のレーザダイオードアレイ
と同様の作用効果を奏する。また、画像密度は、画像デ
ータにおける画素間隔と言い換えることも可能である。
【0041】さらに、画像密度が異なっても感光体ドラ
ム25上での入射光量が常に一定になるように、コント
ローラ42によって発光点2a〜2fの発光強度を切り
替える。すなわち、所定の画像密度に対応する発光点2
a〜2fを画像密度の逆数比の発光強度に切り替えて、
発光点2a〜2fを駆動させる。具体的に数値を用いて
説明する。使用する画像密度は400dpiと600d
piと1200dpiの3種類だから、画像密度の比は
2:3:6である。従って、画像密度400dpiの画
像を形成する際の発光点2a,2dの発光強度と、画像
密度600dpiの画像を形成する際の発光点2a,2
c,2eの発光強度と、画像密度1200dpiの画像
を形成する際の発光点2a〜2fの発光強度との比は、
1/2:1/3:1/6=3:2:1となる。従って、
例えば1200dpiの画像を形成する際の発光点2a
〜2fは、400dpiの画像を形成する際の発光強度
の1/3の発光強度で発光するように駆動電圧が調整さ
れる。
【0042】次に、レーザダイオードアレイ2の第3例
について図8及び図9を参照して詳説する。第3例のレ
ーザダイオードアレイ2は、図8に示すように、4個の
発光点2a,2b,2c,2dを表面に設けた基板6を
内蔵している。発光点2a〜2dは、副走査方向と平行
な方向に等間隔で1次元配列している。発光点2a〜2
dの間隔はDに設定されている。
【0043】以上の構成からなる第3例のレーザダイオ
ードアレイ2を用いた光ビーム走査光学装置の、感光体
ドラム25上への画像の書き込みについて図9を参照し
て説明する。第3例の場合、400dpi及び800d
piの2種類の画像密度を切り替えることができる。図
9(A),(B)に示すように、発光点2a〜2dから
それぞれ放射された光ビームBは、感光体ドラム25上
に光ビームスポット30a〜30dを形成する。この光
ビームスポット30a〜30dは副走査方向に等間隔で
あり、略31.8μmである。図9(A)に示すよう
に、感光体ドラム25上に画像密度400dpiの画像
を形成する際には、発光点2a,2cのみを点灯させ
る。これにより、発光点2a,2cからそれぞれ放射さ
れた光ビームBは、感光体ドラム25上に副走査方向の
間隔が63.5μmの二つの光ビームスポット30a,
30cを形成する。この光ビームスポット30a,30
cにて画像先端側から順に走査する。このとき、感光体
ドラム25の回転駆動による副走査方向の送りピッチP
は、127μmとされる。この送りピッチは画像密度に
依存せず常に一定に保たれる。
【0044】次に、画像密度を400dpiから800
dpiへ切り替える際には、全ての発光点2a〜2dを
点灯させる。これにより、発光点2a〜2dからそれぞ
れ放射された光ビームBは、感光体ドラム25上に副走
査方向の間隔が略31.8μmの四つの光ビームスポッ
ト30a〜30dを形成する。この光ビームスポット3
0a〜30dにて画像先端側から順に走査する。この第
3例のレーザダイオードアレイ2は、前記第1のレーザ
ダイオードアレイと同様の作用効果を奏する。また、画
像密度は、画像データにおける画素間隔と言い換えるこ
とも可能である。
【0045】さらに、画像密度が異なっても感光体ドラ
ム25上での入射光量が常に一定になるように、コント
ローラ42によって発光点2a〜2dの発光点強度を切
り替える。すなわち、所定の画像密度に対応する発光点
2a〜2dを画像密度の逆数比の発光強度に切り替え
て、発光点2a〜2dを駆動させる。具体的に数値を用
いて説明する。使用する画像密度は400dpiと80
0dpiの2種類だから、画像密度の比は1:2であ
る。従って、画像密度400dpiの画像を形成する際
の発光点2a,2cの発光強度と、画像密度800dp
iの画像を形成する際の発光点2a〜2dの発光強度と
の比は、1:1/2=2:1となる。
【0046】次に、レーザダイオードアレイ2の第4例
について図10及び図11を参照して詳説する。第4例
のレーザダイオードアレイ2は、図10に示すように、
6個の発光点2a,2b,2c,2d,2e,2fを表
面に設けた基板6を内蔵している。発光点2a〜2f
は、副走査方向と平行な方向に不等間隔で1次元配列し
ている。
【0047】以上の構成からなる第4例のレーザダイオ
ードアレイ2を用いた光ビーム走査光学装置の、感光体
ドラム25上への画像の書き込みについて図11を参照
して説明する。第4例の場合、400dpi,600d
pi及び800dpiの3種類の画像密度を切り替える
ことができる。図11(A),(B),(C)に示すよ
うに、発光点2a〜2fからそれぞれ放射された光ビー
ムBは、感光体ドラム25上に光ビームスポット30a
〜30fを形成する。この光ビームスポット30a〜3
0fは副走査方向に不等間隔である。図11(A)に示
すように、感光体ドラム25上に画像密度400dpi
の画像を形成する際には、発光点2a,2dのみを点灯
させる。これにより、発光点2a,2dからそれぞれ放
射された光ビームBは、感光体ドラム25上に副走査方
向の間隔が63.5μmの二つの光ビームスポット30
a,30dを形成する。この光ビームスポット30a,
30dにて画像先端側から順に走査する。このとき、感
光体ドラム25の回転駆動による副走査方向の送りピッ
チPは、127μmとされる。この送りピッチは画像密
度に依存せず常に一定に保たれる。
【0048】次に、画像密度を400dpiから600
dpiへ切り替えて、600dpiの画像を形成する際
には、図11(B)に示すように、発光点2a,2c,
2eのみを点灯させる。これにより、発光点2a,2
c,2eからそれぞれ放射された光ビームBは、感光体
ドラム25上に副走査方向の間隔が略42.3μmの三
つの光ビームスポット30a,30c,30eを形成す
る。この光ビームスポット30a,30c,30eにて
画像先端側から順に走査する。
【0049】次に、画像密度を600dpiから800
dpiへ切り替えて、800dpiの画像を形成する際
には、発光点2a,2b,2d,2fを点灯させる。こ
れにより、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が略
31.8μmの四つの光ビームスポット30a,30
b,30d,30fを形成する。この第4例のレーザダ
イオードアレイ2は、前記第1のレーザダイオードアレ
イと同様の作用効果を奏する。また、画像密度は、画像
データにおける画素間隔と言い換えることも可能であ
る。
【0050】さらに、画像密度が異なっても感光体ドラ
ム25上での入射光量が常に一定になるように、コント
ローラ42によって発光点2a〜2fの発光点強度を切
り替える。すなわち、所定の画像密度に対応する発光点
2a〜2fを画像密度の逆数比の発光強度に切り替え
て、発光点2a〜2fを駆動させる。具体的に数値を用
いて説明する。使用する画像密度は400dpiと60
0dpiと800dpiの3種類だから、画像密度の比
は2:3:4である。従って、画像密度400dpiの
画像を形成する際の発光点2a,2dの発光強度と、画
像密度600dpiの画像を形成する際の発光点2a,
2c,2eの発光強度と、画像密度800dpiの画像
を形成する際の発光点2a,2b,2d,2fの発光強
度との比は、1/2:1/3:1/4=6:4:3とな
る。
【0051】さらに、図12は、発光点が1次元配列さ
れているレーザダイオードアレイ2の別の実施例を示す
ものであり、高密度と低密度の2種類の画像密度を切り
替えることができる例を示すものである。図12(A)
は2個の発光点2a,2bを有し、発光点2aのみを点
灯させたときに低密度画像となり、全ての発光点2a,
2bを点灯させたときに高密度画像となる。画像密度の
比は1:2である。図12(B)は3個の発光点2a〜
2cを有し、発光点2aのみを点灯させたときに低密度
画像となり、全ての発光点2a〜2cを点灯させたとき
に高密度画像となる。画像密度の比は1:3である。図
12(C)は6個の発光点2a〜2fを有し、発光点2
a,2c,2eを点灯させたときに低密度画像となり、
発光点2a,2b,2d,2fを点灯させたときに高密
度画像となる。画像密度の比は3:4である。図12
(D)は7個の発光点2a〜2gを有し、発光点2a,
2c,2fを点灯させたときに低密度画像となり、発光
点2a,2b,2d,2e,2gを点灯させたときに高
密度画像となる。画像密度の比は3:5である。
【0052】次に、図12(A),(B),(C)及び
(D)に示した場合のそれぞれの必要最少発光点数、最
適デバイス長及び最適送りピッチを算出した結果を表1
に示す。図12(A)〜(D)は、発光点2a〜2gの
間隔の寸法と発光点2a〜2gから放射された光ビーム
の感光体ドラム25上での間隔の寸法が等しくなるよう
に設定している。従って、表1中の最近接発光点間隔D
と最近接発光点から放射された光ビームの感光体ドラム
25上での間隔dとは等しい数値となる。ただし、必ず
しもこれに限るものではなく、両者が異なっている場合
であってもよい。
【0053】
【表1】
【0054】さらに、発光点が2次元配列されているレ
ーザダイオードアレイ2の実施例について、図13〜図
15を参照して詳説する。図13に示すように、4個の
発光点2a,2b,2c,2dは、円形基板6の表面外
縁部に設けられている。これらの発光点2a〜2dは、
コリメータレンズ5の対称軸(光軸C)を中心とする円
周Q上に配置されている。この構成により、コリメータ
レンズ5に対して各発光点2a〜2dの位置が光学的に
等価になる。従って、発光点2a〜2dから放射される
光ビーム間の集光状態がばらつきにくくなり、画像の均
一性を向上させることができる。このレーザダイオード
アレイ2は、400dpiと600dpiの2種類の画
像密度を切り替えることができる。
【0055】一般に、2次元配列された発光点の必要最
少数は、切り替えて使用するn種類の画像密度の比をa
1:a2:…:an(a1<a2<…<an、かつ、a1〜an
は約分された最小値)とした場合、Σai−1で算出さ
れる。そして、a1,a2,…,anの最小公倍数をmと
すると共に、2次元配列された複数の発光点を副走査方
向と平行な軸に投影した場合、この複数の投影発光点の
両端に位置する二つの投影発光点の最適の間隔(以下、
最適投影デバイス長とする)は、最近接投影発光点間隔
D’の(m−a1)倍である。
【0056】従って、このレーザダイオードアレイ2の
場合、画像密度の比がa1:a2=2:3であるから、必
要最少発光点数はΣai−1=a1+a2−1=2+3−
1=4(個)となる。また、a1=2,a2=3の最小公
倍数mは6であるから、発光点2a〜2dを副走査方向
と平行な軸Xに投影した投影発光点2a’〜2d’の両
端に位置する投影発光点2a’と2c’の最適の間隔、
すなわち最適投影デバイス長は、(m−a1)×D’=
(6−2)×D’=4D’となる。ここに、投影発光点
2a’〜2d’は、副走査方向と平行な軸X方向に不等
間隔で1次元配列しており、投影発光点2a’と2b’
の間隔及び投影発光点2b’と2d’の間隔はそれぞれ
D’とされ、発光点2c’と2d’の間隔は2D’とさ
れる。
【0057】図14に示すように、発光点2a〜2dか
らそれぞれ放射された光ビームBは、感光体ドラム25
上に副走査方向に不等間隔で光ビームスポット30a〜
30dを形成する。副走査方向のスポット30aと30
bの間隔及びスポット30bと30dの間隔は略21.
2μm、スポット30cと30dの間隔は略42.3μ
mである。
【0058】ところで、発光点が2次元配列されている
レーザダイオードアレイ2において、各発光点2a〜2
dの位置は主走査方向に異なっている。従って、各発光
点2a〜2dを同時発光する際の、各発光点2a〜2d
の書き出し位置が主走査方向にずれることになる。そこ
で、各発光点2a〜2dの書き出し位置を揃えるために
は、発光点2bを基準にして発光点2a,2c,2dの
駆動開始のタイミングを遅延させる必要がある。すなわ
ち、基準の発光点2bは、1走査毎に印字開始位置を決
めるための垂直同期信号を検出してから時間t0後に画
像データに基づいて駆動開始される。発光点2c,2
a,2dはそれぞれさらに遅延時間t1,t2,t3後に
画像データに基づいて駆動開始される。こうして、書き
出し位置の揃った光ビーム走査光学装置が得られる。
【0059】この発光点が2次元配列されているレーザ
ダイオードアレイ2を用いた光ビーム走査光学装置の、
感光体ドラム25上への画像の書き込みについて図15
を参照して説明する。感光体ドラム25上に画像密度4
00dpiの画像を形成する際には、図15(A)に示
すように、発光点2b,2cを点灯させる。これによ
り、発光点2b,2cからそれぞれ放射された光ビーム
Bは、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が63.
5μmの二つの光ビームスポット30b,30cを形成
する。この光ビームスポット30b,30cにて画像先
端側から順に走査する。
【0060】一般に、2次元配列された発光点を有する
レーザダイオードアレイ2を用いた光ビーム走査光学装
置の場合、ポリゴンミラー12の1偏向走査の間に、感
光体ドラム25の表面が副走査方向に移動する最適距離
(以下、最適送りピッチとする)は、最近接投影発光点
の光ビームの感光体ドラム25上での間隔のm倍(ただ
し、mは前述の画像密度の比の値a1,a2,…,an
最小公倍数)に設定される。従って、この場合、最適送
りピッチは、m×21.2=6×21.2≒127μm
とされる。この最適送りピッチは画像密度に依存せず常
に一定に保たれる。
【0061】次に、画像密度を400dpiから600
dpiへ切り替える際には、図15(B)に示すよう
に、発光点2a,2c,2dを点灯させる。これによ
り、発光点2a,2c,2dからそれぞれ放射された光
ビームBは、感光体ドラム25上に副走査方向の間隔が
略42.3μmの三つの光ビームスポット30a,30
c,30dを形成する。この光ビームスポット30a,
30c,30dにて画像先端側から順に走査する。
【0062】この2次元配列された発光点2a〜2dを
有するレーザダイオードアレイ2は、前記第1例のレー
ザダイオードアレイの効果を奏すると共に、発光点2a
〜2dの間隔を比較的広く設定しても、副走査方向の発
光点2a〜2dの間隔を見掛け上狭くすることができ、
発光点2a〜2d間の熱的クロストークを抑えることが
できる。
【0063】さらに、図16に示した光源ユニット1を
備えた光ビーム走査光学装置の場合について説明する。
図17に示すように、光源ユニット1は2個の発光点5
1a,51bを有するレーザダイオードアレイ51と、
2個の発光点52a,52bを有するレーザダイオード
アレイ52と、ビーム結合素子54と、コリメータレン
ズ5とで構成されている。レーザダイオードアレイ51
と52は、レーザダイオードアレイ51の光ビームBと
レーザダイオードアレイ52の光ビームBが互いに直交
する方向に放射されるように配置されている。
【0064】ビーム結合素子54は二つのプリズムをハ
ーフミラー膜を介して接合したフィルタミラーである。
レーザダイオードアレイ51から放射された光ビームB
はハーフミラー膜で直角に反射され、コリメータレンズ
5によって平行光(又は収束光)とされる。一方、レー
ザダイオードアレイ52から放射された光ビームBはハ
ーフミラー膜を透過して直進し、コリメータレンズ5に
よって平行光(又は収束光)とされる。レーザダイオー
ドアレイ51,52から放射された光ビームBはビーム
結合素子54で同一進行方向に結合され、互いに副走査
方向に不等間隔で近接して進行する。このとき、レーザ
ダイオードアレイ51の発光点51a,51bから放射
された光ビームBの間に、レーザダイオードアレイ52
の発光点52aから放射された光ビームBが配置され
る。
【0065】光ビームBは、シリンドリカルレンズ1
1、ポリゴンミラー12、fθレンズ13〜15、シリ
ンドリカルレンズ16、平面ミラー17を介して感光体
ドラム25上で結像する。この光ビーム走査光学装置
は、400dpi及び600dpiの2種類の画像密度
を切り替えることができる。すなわち、発光点51a,
51bのみを点灯させたときに400dpiの画像が得
られ、発光点51a,52a,52bのみを点灯させた
ときに600dpiの画像が得られる。
【0066】ところで、一般に、発光点の必要最少数
は、切り替えて使用するn種類の画像密度の比をa1
2:…:an(a1<a2<…<an、かつ、a1〜an
約分された最小値)とした場合、Σai−1で算出され
る。そして、a1,a2,…,anの最小公倍数をmとし
た場合、発光点51a〜52bから放射された光ビーム
Bのビーム結合素子54の出射面でのそれぞれの出射位
置の両端に位置する二つの光ビーム出射位置の最適の間
隔は、最近接光ビーム出射位置間隔Rの(m−a1)倍
である。
【0067】従って、この光ビーム走査光学装置の場
合、画像密度の比がa1:a2=2:3であるから、必要
最少発光点数はΣai−1=a1+a2−1=2+3−1
=4(個)となる。本実施例では、この4個の発光点が
それぞれ2個づつレーザダイオードアレイ51,52に
振り分けられ、設けられている。また、a1=2,a2
3の最小公倍数mは6であるから、発光点51a〜52
bから放射された光ビームBのビーム結合素子54の出
射面でのそれぞれの出射位置の両端に位置する二つの光
ビーム出射位置の最適の間隔は、(m−a1)×R=
(6−2)×R=4Rとなる。ここに、ビーム結合素子
54の出射面での、発光点51a〜52bから放射され
た光ビームBのそれぞれの出射位置は、副走査方向と平
行な方向に不等間隔で1次元配列している。そして、発
光点52aと51bからそれぞれ放射される光ビームの
出射位置間隔及び発光点51bと52bからそれぞれ放
射される光ビームの出射位置間隔はそれぞれRとされ、
発光点51aと52aからそれぞれ放射される光ビーム
の出射位置間隔は2Rとされる。
【0068】図18に示すように、発光点51a,51
b,52a,52bからそれぞれ放射された光ビームB
は、感光体ドラム25上に副走査方向に不等間隔で光ビ
ームスポット58a,58b,59a,59bを形成す
る。副走査方向のスポット59aと58bの間隔及びス
ポット58bと59bの間隔は略21.2μm、スポッ
ト58aと59aの間隔は略42.3μmである。
【0069】次に、この光ビーム走査光学装置の、感光
体ドラム25上への画像の書き込みについて説明する。
感光体ドラム25上に画像密度400dpiの画像を形
成する際には、発光点51a,51bを点灯させる。こ
れにより、発光点51a,51bからそれぞれ放射され
た光ビームBは、感光体ドラム25上に副走査方向の間
隔が63.5μmの二つの光ビームスポット58a,5
8bを形成する。この光ビームスポット58a,58b
にて画像先端側から順に走査する。
【0070】この光ビーム走査光学装置の場合、ポリゴ
ンミラー12の1偏向走査の間に、感光体ドラム25の
表面が副走査方向に移動する最適距離(以下、最適送り
ピッチとする)は、ビーム結合素子54の出射面での最
近接光ビーム出射位置を通過する光ビームの感光体ドラ
ム25上での間隔のm倍(ただし、mは前述の画像密度
の比の値a1,a2,…,anの最小公倍数)に設定され
る。従って、この場合、最適送りピッチは、m×21.
2=6×21.2≒127μmとされる。この最適送り
ピッチは画像密度に依存せず常に一定に保たれる。
【0071】次に、画像密度を400dpiから600
dpiへ切り替える際には、発光点51a,52a,5
2bを点灯させる。これにより、発光点51a,52
a,52bからそれぞれ放射された光ビームBは、感光
体ドラム25上に副走査方向の間隔が略42.3μmの
三つの光ビームスポット58a,59a,59bを形成
する。この光ビームスポット58a,59a,59bに
て画像先端側から順に走査する。
【0072】この光ビーム走査光学装置は、一連の走査
動作の開始から終了までの間の任意の時点において、ポ
リゴンミラー12の回転速度、すなわち走査速度を一定
に保ったまま画像密度を切り換えることができる。ま
た、光源部をレーザダイオードアレイ51と52の2素
子にて構成するようにしたので、発光点51a〜52b
の間隔を1素子だけのレーザダイオードアレイで構成し
た場合の発光点間隔より広くすることができ、熱的クロ
ストークの影響を抑えることができる。さらに、副走査
方向に対して、レーザダイオードアレイ51から放射さ
れた光ビームBの感光体ドラム25上でのビームスポッ
ト58bの位置が、レーザダイオードアレイ52から放
射された光ビームBのビームスポット59a,59bの
位置の間にあるので、発光点51b,52a,52bの
間隔を見掛け上狭くすることができる。この結果、発光
点52aと52bの間隔が比較的広くても感光体ドラム
25上での光ビームBの間隔を狭くすることができ、発
光点52aと52b間の熱的クロストークを更に抑える
ことができる。
【0073】なお、本発明に係る光ビーム走査光学装置
は前記実施形態に限定するものではなく、その要旨の範
囲内で種々に変更することができる。前記各実施形態に
おいては、画像データから要求される画像密度(解像
度)に応じて副走査方向のビーム走査間隔を変更してい
るが、さらに副走査方向のビーム走査間隔に比例させて
画素サイズも変更してよい。副走査方向のビーム走査間
隔に比例させて画素サイズを変更する場合には、例え
ば、特開平7−89131号公報、O plus E.1996年
5月号、TECHNICAL REPORT OF IEICE.LQE95−1(19
95−05)に記載されている、一方向のビーム径を変更で
きるレーザダイオードを用いる。つまり、このレーザダ
イオードの発光点を、副走査方向に対して光学的に異な
る間隔又は等しい間隔で離して配列し、かつ、ビーム径
を変更することができる方向が副走査方向に対して平行
になるように配置する。さらに、レーザダイオードをパ
ルス幅変調によって発光時間を微小間隔で制御すること
ができるドライバにより駆動する。そして、画像データ
から要求される画像密度(解像度)の変更に応じて、複
数の発光点のうち発光させる少なくとも2つの発光点の
組み合わせを変更する。さらに、副走査方向のビーム走
査間隔に応じて、副走査方向のビーム径を変更すると共
に、発光点の発光時間を制御する。これにより、主走査
方向及び副走査方向の画素サイズを変更することができ
る。
【0074】また、図19に示すように、例えばシアン
用、マゼンタ用、イエロー用及びブラック用のそれぞれ
の感光体503C,503M,503Y,503Bkを
転写ベルトに対向させて一列に配置したタンデム方式の
光ビーム走査光学装置にも、本発明は有効に適用され
る。図19において、500は転写ベルトである。
【0075】さらに、図20に示すように、転写ドラム
505と、感光体ドラム506、この感光体ドラム50
6の周囲に配置されたシアン用、マゼンタ用、イエロー
用及びブラック用のそれぞれの現像器507C,507
M,507Y,507Bkを備えたタイプの光ビーム走
査光学装置にも、本発明は有効に適用される。
【0076】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、画像密度を切り替える際には、コントローラに
よって、所望の画像密度に対応する発光点を選択して発
光させる。このように、副走査方向の画像密度の切り替
えを、発光点の選択という応答性の速い電気的操作によ
って行うため、副走査方向の画像密度の切り替えを素早
く行なうことができ、光偏向器の回転速度を切り替える
ことなく、瞬時に画像密度を切り替えることができると
共に、各発光点を駆動するための制御や回路構成が簡素
で画質の優れた光ビーム走査光学装置が得られる。
【0077】さらに、切り替えて使用するn種類の画像
密度の比をa1:a2:…:an(a1<a2<…<an)と
し、a1,a2,…,anの最小公倍数をmとした場合、
発光点の数をΣai−1とし、光偏向器の1偏向走査の
間に、被走査面が副走査方向に移動する距離を、最近接
発光点から放射された光ビームの被走査面上での間隔の
略m倍とする等の条件を満足させることにより、発光点
の数や間隔を最適値に設定することができる。
【0078】また、発光点を2次元配列することによ
り、発光点間隔を比較的広く設定しても、副走査方向の
発光点間隔を見掛け上狭くすることができ、発光点間の
熱的クロストークを抑えることができる。
【0079】また、光源ユニットに発光点からそれぞれ
放射された光ビームを重ね合わせて同一方向に進行させ
るビーム結合素子を設けることにより、発光点を複数の
素子に振り分けて設けることができ、全ての発光点を一
つの素子に設ける必要がなくなるため、さらに発光点間
の熱的クロストークによる影響を小さくすることができ
る。
【0080】また、発光点の駆動信号のクロック周波数
を画像密度に応じて偏向させるクロック周波数切り替え
手段を更に備えることにより、画像密度に応じて発光点
の駆動信号のクロック周波数を切り替えることができ、
副走査方向の画像密度の切り替えと同様に主走査方向の
画像密度も応答性の速い電気的操作によって素早く切り
替えることができる。
【0081】また、所定の画像密度に対応する発光点を
画像密度の逆数比の発光強度に切り替えて前記発光点を
駆動させることにより、画像密度が異なっても被走査面
上での入射光量を常に一定にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ビーム走査光学装置の一実施形
態を示す概略構成図。
【図2】本発明に係るレーザダイオードアレイの第1例
を示す平面図。
【図3】図2に示されているレーザダイオードアレイか
ら放射されたレーザビームの感光体ドラム上のビームス
ポットを示した説明図。
【図4】400dpi及び600dpiの画像をそれぞ
れ形成する場合の感光体ドラム上のビームスポットを示
した説明図。
【図5】画像密度を切り替える制御回路ブロック図。
【図6】本発明に係るレーザダイオードアレイの第2例
を示す平面図。
【図7】400dpi、600dpi及び1200dp
iの画像をそれぞれ形成する場合の感光体ドラム上のビ
ームスポットを示した説明図。
【図8】本発明に係るレーザダイオードアレイの第3例
を示す平面図。
【図9】400dpi及び800dpiの画像をそれぞ
れ形成する場合の感光体ドラム上のビームスポットを示
した説明図。
【図10】本発明に係るレーザダイオードアレイの第4
例を示す平面図。
【図11】400dpi、600dpi及び800dp
iの画像をそれぞれ形成する場合の感光体ドラム上のビ
ームスポットを示した説明図。
【図12】本発明に係るレーザダイオードアレイの他の
実施例を示す平面図。
【図13】本発明に係るレーザダイオードアレイの発光
点が2次元配列されている場合の実施例を示す平面図。
【図14】図13に示されているレーザダイオードアレ
イから放射されたレーザビームの感光体ドラム上のビー
ムスポットを示した説明図。
【図15】400dpi及び600dpiの画像をそれ
ぞれ形成する場合の感光体ドラム上のビームスポットを
示した説明図。
【図16】本発明に係る光ビーム走査光学装置の別の実
施形態を示す概略構成図。
【図17】図16に示されている光源ユニットの側面
図。
【図18】図16に示されている光源ユニットから放射
されたレーザビームの感光体ドラム上のビームスポット
を示した説明図。
【図19】本発明に係る光ビーム走査光学装置の別のタ
イプを示す概略構成図。
【図20】本発明に係る光ビーム走査光学装置のさらに
別のタイプを示す概略構成図。
【符号の説明】
2…レーザダイオードアレイ 2a〜2g…発光点 2a’〜2d’…投影発光点 5…コリメータレンズ 12…ポリゴンミラー 13,14,15…走査レンズ 16…シリンドリカルレンズ 17…平面ミラー 30a〜30g…光ビームスポット 40…ホストコンピュータ 41…RAM 42…コントローラ 43a〜43d…ドライバ 44…クロック信号発生器 45…クロック周波数切り替え回路 51,52…レーザダイオードアレイ 51a,51b,52a,52b…発光点 54…ビーム結合素子 B…光ビーム

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ビームにより被走査面を走査する光ビ
    ーム走査光学装置において、 少なくとも三つの発光点を有し、該三つの発光点が前記
    被走査面上において光ビームの走査方向と直交する方向
    に光学的に所定の間隔で配置されている光源ユニット
    と、 前記被走査面を走査するべく、前記発光点から放射され
    た光ビームを偏向する光偏向器と、 前記光源ユニットの発光点のうち少なくとも二つの発光
    点から同時に光ビームを放射するように制御するコント
    ローラとを備え、 前記コントローラが前記被走査面を走査するための一連
    の動作の開始から終了までの間の任意の時点において、
    画像密度を切り換えるべく、前記各発光点の組み合わせ
    毎に前記被走査面に入射する光ビームの間隔が異なるよ
    うに、発光させる発光点の組み合わせを変更し、一つの
    前記発光点から放射された光ビームがそれぞれ前記被走
    査面上において一つの画素を形成すること、 を特徴とする光ビーム走査光学装置。
  2. 【請求項2】 前記発光点を1次元配列し、かつ、切り
    替えて使用するn種類の画像密度の比をa1:a2:…:
    n(a1<a2<…<an)とした場合、前記発光点の数
    が、 【数1】 であることを特徴とする請求項1記載の光ビーム走査光
    学装置。
  3. 【請求項3】 前記a1,a2,…,anの最小公倍数を
    mとした場合、前記1次元配列された複数の発光点の両
    端に位置する二つの発光点の間隔が、最近接発光点の間
    隔の(m−a1)倍であることを特徴とする請求項2記
    載の光ビーム走査光学装置。
  4. 【請求項4】 前記光偏向器の1偏向走査の間に、前記
    被走査面が副走査方向に移動する距離が、前記最近接発
    光点から放射された光ビームの前記被走査面上での間隔
    の略m倍であることを特徴とする請求項3記載の光ビー
    ム走査光学装置。
  5. 【請求項5】 前記発光点を2次元配列し、切り替えて
    使用するn種類の画像密度の比をa1:a2:…:a
    n(a1<a2<…<an)とした場合、前記発光点の数
    が、 【数2】 であり、前記a1,a2,…,anの最小公倍数をmとす
    ると共に、前記2次元配列された複数の発光点を副走査
    方向と平行な軸に投影した場合、この複数の投影発光点
    の両端に位置する二つの投影発光点の間隔が、最近接投
    影発光点の間隔の(m−a1)倍であり、前記光偏向器
    の1偏向走査の間に、前記被走査面が副走査方向に移動
    する距離が、前記最近接投影発光点の光ビームの前記被
    走査面上での間隔の略m倍であることを特徴とする請求
    項1記載の光ビーム走査光学装置。
  6. 【請求項6】 前記光源ユニットが更に前記発光点から
    それぞれ放射された光ビームを重ね合わせて同一方向に
    進行させるビーム結合素子を備え、切り替えて使用する
    n種類の画像密度の比をa1:a2:…:an(a1<a2
    <…<an)とした場合、前記発光点の数が、 【数3】 であり、前記a1,a2,…,anの最小公倍数をmとし
    た場合、前記ビーム結合素子出射面の前記複数の光ビー
    ム出射位置の両端に位置する二つの光ビーム出射位置間
    隔が、最近接光ビーム出射位置間隔の(m−a1)倍で
    あり、前記偏向器の1偏向走査の間に、前記被走査面が
    副走査方向に移動する距離が、前記最近接出射位置から
    出射された光ビームの前記被走査面上での間隔の略m倍
    であることを特徴とする請求項1記載の光ビーム走査光
    学装置。
  7. 【請求項7】 前記発光点の駆動信号のクロック周波数
    を画像密度に応じて変更させるクロック周波数切り替え
    手段を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の光ビ
    ーム走査光学装置。
  8. 【請求項8】 所定の画像密度に対応する前記発光点を
    画像密度の逆数比の発光強度に切り替えて前記発光点を
    駆動させることを特徴とする請求項4記載の光ビーム走
    査光学装置。
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