JP2000000999A - レ―ザプリンタおよび該レ―ザプリンタの制御方法 - Google Patents
レ―ザプリンタおよび該レ―ザプリンタの制御方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マルチビームを用いて受光手段を走査する際
に、複数のレーザダイオードの分離を可能にする走査線
のインターリーブを実現できるレーザプリンタおよびそ
の制御方法を提供すること。 【解決手段】 受光手段および第1および第2の組のレ
ーザダイオード51が、ピッチ距離が"p"離れた複数の
光ビームを発生する。第1および第2の組のレーザダイ
オード51は、"S=c(1+qr)p"離れている。
(但し、cは各組のレーザダイオード51の数であり、
qは整数であり、rは第1および第2の組の双方のレー
ザダイオード51の列の数である。)光ビームは、画像
走査線と受光手段上の光ビームの位置との対応に基づい
て画素値データで変調される。受光手段は、走査間で距
離"(q・c・r)pq"だけ移動する。
に、複数のレーザダイオードの分離を可能にする走査線
のインターリーブを実現できるレーザプリンタおよびそ
の制御方法を提供すること。 【解決手段】 受光手段および第1および第2の組のレ
ーザダイオード51が、ピッチ距離が"p"離れた複数の
光ビームを発生する。第1および第2の組のレーザダイ
オード51は、"S=c(1+qr)p"離れている。
(但し、cは各組のレーザダイオード51の数であり、
qは整数であり、rは第1および第2の組の双方のレー
ザダイオード51の列の数である。)光ビームは、画像
走査線と受光手段上の光ビームの位置との対応に基づい
て画素値データで変調される。受光手段は、走査間で距
離"(q・c・r)pq"だけ移動する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタ/
複写機に係り、特に、マルチビームのレーザプリンタ/
複写機が、大きく離れたレーザ源から、インターリーブ
された高解像度のラスタ走査線による印刷を行うマルチ
ビームのレーザプリンタ/複写機および該レーザプリン
タ/複写機を用いた印刷方法に関する。
複写機に係り、特に、マルチビームのレーザプリンタ/
複写機が、大きく離れたレーザ源から、インターリーブ
された高解像度のラスタ走査線による印刷を行うマルチ
ビームのレーザプリンタ/複写機および該レーザプリン
タ/複写機を用いた印刷方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザプリンタ/複写機は、印刷
/複写速度を高めるとともに、コスト削減を図る努力が
継続的に行なわれている。該レーザプリンタ/複写機の
一例では、回転多面鏡を用いて、反復型のラスタ方式
で、受光手段の表面上に少なくとも1つのレーザビーム
を走査している。
/複写速度を高めるとともに、コスト削減を図る努力が
継続的に行なわれている。該レーザプリンタ/複写機の
一例では、回転多面鏡を用いて、反復型のラスタ方式
で、受光手段の表面上に少なくとも1つのレーザビーム
を走査している。
【0003】従来のレーザプリンタ/複写機は、迅速に
動作するために、複数のレーザビームを同時に走査する
ことにより露出および印刷速度を高めている。このよう
なシステムが、望月氏他の「高速レーザビームプリンタ
用二重ビームレーザダイオード走査システム」(199
3年、日本におけるI、SおよびT会議の議事録の22
2〜225ページ)に説明されている。二重ビーム走査
システムを達成するために、望月氏他はそのレーザビー
ムが複雑な光路を伝播するレーザダイオードを採用して
いる。また、長波長レーザダイオードの使用を可能にす
るために、回転する非対称の非球面レンズを採用してい
る。この場合、複雑な光路およびレンズのために、プリ
ンタ/複写機のコストが増大する。
動作するために、複数のレーザビームを同時に走査する
ことにより露出および印刷速度を高めている。このよう
なシステムが、望月氏他の「高速レーザビームプリンタ
用二重ビームレーザダイオード走査システム」(199
3年、日本におけるI、SおよびT会議の議事録の22
2〜225ページ)に説明されている。二重ビーム走査
システムを達成するために、望月氏他はそのレーザビー
ムが複雑な光路を伝播するレーザダイオードを採用して
いる。また、長波長レーザダイオードの使用を可能にす
るために、回転する非対称の非球面レンズを採用してい
る。この場合、複雑な光路およびレンズのために、プリ
ンタ/複写機のコストが増大する。
【0004】また、本発明の発明者であるHanson氏に譲
渡された米国特許第5,691,759号の特許公報は、
画像画素から成る複数の走査線によってラスタ画像を生
成し、各ラスタ走査線が隣接するラスタ走査線からピッ
チ距離"p"だけ離れたレーザプリンタが開示している。
該プリンタは、可動受光手段およびn個のレーザ源を備
えている。この場合、n≧2である。n個のレーザ源は
n本の光ビームを発し、該n本の光ビームは、受光手段
の位置において、受光手段の移動方向にそれぞれ距離"
(n+1)p"だけ離れている。スキャナの場合は、複
数の光ビームがイメージバッファからのラスタ走査線の
画素データに基づいて変調され、該変調された複数の光
ビームを受光手段を横断する平行な経路で走査する。受
光手段は、各走査の完了時に距離"n×p"だけ移動し、
n本の光ビームのそれぞれが、第1の走査のラスタ走査
線から"(n+1)p"だけ離れた別の組のラスタ走査線
による画素データに基づいて再び変調される。このよう
にして、走査線のインターリーブが単一レーザダイオー
ドチップからの複数の光ビームを用いられることによっ
て達成され、レーザビームを発生する。該米国特許第
5,691,759号公報は、参考のため記載したもので
ある。
渡された米国特許第5,691,759号の特許公報は、
画像画素から成る複数の走査線によってラスタ画像を生
成し、各ラスタ走査線が隣接するラスタ走査線からピッ
チ距離"p"だけ離れたレーザプリンタが開示している。
該プリンタは、可動受光手段およびn個のレーザ源を備
えている。この場合、n≧2である。n個のレーザ源は
n本の光ビームを発し、該n本の光ビームは、受光手段
の位置において、受光手段の移動方向にそれぞれ距離"
(n+1)p"だけ離れている。スキャナの場合は、複
数の光ビームがイメージバッファからのラスタ走査線の
画素データに基づいて変調され、該変調された複数の光
ビームを受光手段を横断する平行な経路で走査する。受
光手段は、各走査の完了時に距離"n×p"だけ移動し、
n本の光ビームのそれぞれが、第1の走査のラスタ走査
線から"(n+1)p"だけ離れた別の組のラスタ走査線
による画素データに基づいて再び変調される。このよう
にして、走査線のインターリーブが単一レーザダイオー
ドチップからの複数の光ビームを用いられることによっ
て達成され、レーザビームを発生する。該米国特許第
5,691,759号公報は、参考のため記載したもので
ある。
【0005】新しく設計されたレーザ印刷エンジンの所
要の解像度は、最大、インチ当たり1200ドット(1
200dpi)であり、これは約21μmのドット間間
隔に等しいものである。現在入手可能な低価格のレーザ
走査機構は、受光手段の位置において、ビーム間間隔の
5倍から10倍の拡大が発生してしまう。
要の解像度は、最大、インチ当たり1200ドット(1
200dpi)であり、これは約21μmのドット間間
隔に等しいものである。現在入手可能な低価格のレーザ
走査機構は、受光手段の位置において、ビーム間間隔の
5倍から10倍の拡大が発生してしまう。
【0006】レーザダイオードを、単一のレーザダイオ
ードチップとして構成すると、これらレーザダイオード
の間隔が約50μmより小さいときに、隣接ダイオード
間の熱効果がシステムの性能に影響を与えてしまう。
ードチップとして構成すると、これらレーザダイオード
の間隔が約50μmより小さいときに、隣接ダイオード
間の熱効果がシステムの性能に影響を与えてしまう。
【0007】米国特許第5,691,759号公報におい
てHanson氏が提案するシステムは、処理(または紙移
動)方向のダイオード間間隔が"(n+1)p"と固定さ
れている。ここでnはレーザの数であり、pは受光手段
上の所要ドット間のピッチ距離である。該米国特許第
5,691,759号公報の図8(Fig. 8)に示されてい
るように、4個のレーザがチップに組み込まれていれ
ば、所要のドット間間隔は、(投射経路に拡大が存在し
ないシステムにおいては、)受光手段上でp=21μm
のときに"(4+1)p"または"104μm"である。5
倍の拡大スキャナで受光手段上のドット間に21μmの
解像度レベルを実現するには、レーザチップでダイオー
ド間隔を約21μm(すなわち、104/5)にする必
要があるが、これは所要のダイオード間隔の半分よりも
小さい。
てHanson氏が提案するシステムは、処理(または紙移
動)方向のダイオード間間隔が"(n+1)p"と固定さ
れている。ここでnはレーザの数であり、pは受光手段
上の所要ドット間のピッチ距離である。該米国特許第
5,691,759号公報の図8(Fig. 8)に示されてい
るように、4個のレーザがチップに組み込まれていれ
ば、所要のドット間間隔は、(投射経路に拡大が存在し
ないシステムにおいては、)受光手段上でp=21μm
のときに"(4+1)p"または"104μm"である。5
倍の拡大スキャナで受光手段上のドット間に21μmの
解像度レベルを実現するには、レーザチップでダイオー
ド間隔を約21μm(すなわち、104/5)にする必
要があるが、これは所要のダイオード間隔の半分よりも
小さい。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、上記従来
例では、レーザダイオードチップにおいて複数のレーザ
ダイオードの実質的な分離が必要とされる。
例では、レーザダイオードチップにおいて複数のレーザ
ダイオードの実質的な分離が必要とされる。
【0009】本発明は、上述したような従来の技術の課
題を解決するものであり、レーザ作像装置において、レ
ーザダイオードチップにおける複数のレーザダイオード
が実質的に分離し、マルチビームを用いて受光手段を走
査する際に、走査線のインターリーブを実現できるマル
チレーザビーム走査作像装置およびマルチレーザビーム
作像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法の提供
を目的とする。
題を解決するものであり、レーザ作像装置において、レ
ーザダイオードチップにおける複数のレーザダイオード
が実質的に分離し、マルチビームを用いて受光手段を走
査する際に、走査線のインターリーブを実現できるマル
チレーザビーム走査作像装置およびマルチレーザビーム
作像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法の提供
を目的とする。
【0010】本発明の他の目的は、レーザダイオード間
の影響を避けるように離して設置された複数のレーザダ
イオード源の利用が可能になるマルチレーザビーム走査
作像装置を提供することである。
の影響を避けるように離して設置された複数のレーザダ
イオード源の利用が可能になるマルチレーザビーム走査
作像装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明のマルチレーザビーム走査作像装置およびマ
ルチレーザビーム作像におけるラスタ走査線のインター
リーブ方法において、該装置はピッチ距離が"p"のラス
タ走査線の画像を生成する。本装置は、受光手段および
n個のレーザ源を備えている。但し、n≧2である。本
発明の一実施形態では、第1および第2の組のレーザ源
が、受光手段上に結像されると、受光手段の移動方向に
ピッチ距離"p"だけ離れた複数の光ビームを発する。第
1および第2の組のレーザ源は、"S=c(1+qr)
p"だけ離れている。但し、cは各組のレーザ源の数で
あり、qは整数であり、rは第1および第2の組双方の
レーザ源の列の数である。光ビームは、画像走査線と受
光手段上の光ビームの位置との対応に基づいて画素値デ
ータで変調される。受光手段は、走査間において距離
(q・c・r)pだけ移動する。
に、本発明のマルチレーザビーム走査作像装置およびマ
ルチレーザビーム作像におけるラスタ走査線のインター
リーブ方法において、該装置はピッチ距離が"p"のラス
タ走査線の画像を生成する。本装置は、受光手段および
n個のレーザ源を備えている。但し、n≧2である。本
発明の一実施形態では、第1および第2の組のレーザ源
が、受光手段上に結像されると、受光手段の移動方向に
ピッチ距離"p"だけ離れた複数の光ビームを発する。第
1および第2の組のレーザ源は、"S=c(1+qr)
p"だけ離れている。但し、cは各組のレーザ源の数で
あり、qは整数であり、rは第1および第2の組双方の
レーザ源の列の数である。光ビームは、画像走査線と受
光手段上の光ビームの位置との対応に基づいて画素値デ
ータで変調される。受光手段は、走査間において距離
(q・c・r)pだけ移動する。
【0012】このような本発明のマルチレーザビーム走
査作像装置およびマルチレーザビーム作像におけるラス
タ走査線のインターリーブ方法によれば、レーザダイオ
ードチップにおける複数のレーザダイオードの実質的な
分離が可能(すなわち、レーザダイオード間の影響を避
けるように離して設置された複数のレーザダイオード源
の利用が可能)となる走査線のインターリーブが可能と
なる。
査作像装置およびマルチレーザビーム作像におけるラス
タ走査線のインターリーブ方法によれば、レーザダイオ
ードチップにおける複数のレーザダイオードの実質的な
分離が可能(すなわち、レーザダイオード間の影響を避
けるように離して設置された複数のレーザダイオード源
の利用が可能)となる走査線のインターリーブが可能と
なる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明のマルチレーザビー
ム走査作像装置およびマルチレーザビーム作像における
ラスタ走査線のインターリーブ方法の実施の形態を、図
面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明のマルチ
レーザビーム走査作像装置およびマルチレーザビーム作
像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法の一実施
形態における構成を示すブロック図である。同図におい
て、レーザプリンタ10は、主に、中央処理装置(CP
U)12と、レーザ印刷エンジン14と、影像データを
ホストプロセッサから受け取る入力/出力モジュール
(I/O)16とを備えている。
ム走査作像装置およびマルチレーザビーム作像における
ラスタ走査線のインターリーブ方法の実施の形態を、図
面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明のマルチ
レーザビーム走査作像装置およびマルチレーザビーム作
像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法の一実施
形態における構成を示すブロック図である。同図におい
て、レーザプリンタ10は、主に、中央処理装置(CP
U)12と、レーザ印刷エンジン14と、影像データを
ホストプロセッサから受け取る入力/出力モジュール
(I/O)16とを備えている。
【0014】レーザプリンタ10は、更に、ランダムア
クセス記憶メモリ(RAM)18と、読出専用記憶メモ
リ(ROM)20とを備えている。RAM18は、ラス
タバッファ22として動作する部分を備えている。ラス
タバッファ22は、当業者に周知であるように、画像の
複数のラスタ線を画素値の形態で格納する。これら画素
値は、レーザ印刷エンジン14に送出された際に、画像
を媒体シートに出力できるようにしている。
クセス記憶メモリ(RAM)18と、読出専用記憶メモ
リ(ROM)20とを備えている。RAM18は、ラス
タバッファ22として動作する部分を備えている。ラス
タバッファ22は、当業者に周知であるように、画像の
複数のラスタ線を画素値の形態で格納する。これら画素
値は、レーザ印刷エンジン14に送出された際に、画像
を媒体シートに出力できるようにしている。
【0015】ROM20にはバッファ制御手順が格納さ
れており、更に、レーザ印刷エンジン14に備えられた
レーザダイオードの数およびその構造的配置を示す一組
の定数を格納している。これによって、1つ以上が走査
線の始まりから偏っていれば、走査の動作調整が可能と
なる。
れており、更に、レーザ印刷エンジン14に備えられた
レーザダイオードの数およびその構造的配置を示す一組
の定数を格納している。これによって、1つ以上が走査
線の始まりから偏っていれば、走査の動作調整が可能と
なる。
【0016】図2は、レーザ印刷エンジン14の詳細な
構成およびレーザモジュール30が複数のレーザビーム
を発する様子を示す説明図である。レーザモジュール3
0は複数のレーザダイオードを有し、レーザビームの集
合体32,32′を発する。レーザビームの集合体3
2,32′は、それぞれ入力画素データに基づいて変調
される(図を複雑にしないため、2つのレーザビーム集
合体32,32′だけを図示している)。レーザビーム
の集合体32,32′は、既知の方法で、レーザビーム
の集合体32,32′をドラム38上の受光手段36を
横断して走査する走査機構34に導かれる。駆動手段
(図示せず)がシャフト40を介してドラム38に接続
され、その回転を可能にしている。
構成およびレーザモジュール30が複数のレーザビーム
を発する様子を示す説明図である。レーザモジュール3
0は複数のレーザダイオードを有し、レーザビームの集
合体32,32′を発する。レーザビームの集合体3
2,32′は、それぞれ入力画素データに基づいて変調
される(図を複雑にしないため、2つのレーザビーム集
合体32,32′だけを図示している)。レーザビーム
の集合体32,32′は、既知の方法で、レーザビーム
の集合体32,32′をドラム38上の受光手段36を
横断して走査する走査機構34に導かれる。駆動手段
(図示せず)がシャフト40を介してドラム38に接続
され、その回転を可能にしている。
【0017】ラスタバッファ22からレーザ印刷エンジ
ン14への画素データの正しい連鎖(sequencing)を確
保するために、バッファ制御手順21(ROM20に格
納されている)によって、ラスタ画像のどの走査線に基
づいて、各レーザダイオードから発せられたレーザビー
ムを変調するかの計算を最初に行う。また、バッファ制
御手順21によって、ドラム38の移動およびラスタバ
ッファ22からレーザ印刷エンジン14までのデータ出
力を制御して、ラスタバッファ22からの全データがレ
ーザダイオードによって受光手段36に確実に正しく書
込まれるように、その出力制御を行う。このような制御
は、CPU12およびROM20によってレーザ印刷エ
ンジン14に対して行なわれる。
ン14への画素データの正しい連鎖(sequencing)を確
保するために、バッファ制御手順21(ROM20に格
納されている)によって、ラスタ画像のどの走査線に基
づいて、各レーザダイオードから発せられたレーザビー
ムを変調するかの計算を最初に行う。また、バッファ制
御手順21によって、ドラム38の移動およびラスタバ
ッファ22からレーザ印刷エンジン14までのデータ出
力を制御して、ラスタバッファ22からの全データがレ
ーザダイオードによって受光手段36に確実に正しく書
込まれるように、その出力制御を行う。このような制御
は、CPU12およびROM20によってレーザ印刷エ
ンジン14に対して行なわれる。
【0018】図3は、行および列を成して設置されてい
る複数のレーザダイオードを備えた半導体チップ(レー
ザダイオードチップ50)の構成を示す概略説明図であ
る。同図は、3つの行r1、r2およびr3と、3つの
交差列c1、c2およびc3とを示している。各行と各
列との交点には、レーザダイオード51が設置されてい
る。行方向に設置されているレーザダイオードから放射
されるレーザビームを、以後、レーザビームの集合体ま
たはビーム集合体と称する。
る複数のレーザダイオードを備えた半導体チップ(レー
ザダイオードチップ50)の構成を示す概略説明図であ
る。同図は、3つの行r1、r2およびr3と、3つの
交差列c1、c2およびc3とを示している。各行と各
列との交点には、レーザダイオード51が設置されてい
る。行方向に設置されているレーザダイオードから放射
されるレーザビームを、以後、レーザビームの集合体ま
たはビーム集合体と称する。
【0019】図2において、レーザダイオードチップ5
0はレーザモジュール30に設置されており、走査機構
34が、走査方向を示す矢印52で示した方向に放射す
る複数のレーザビーム集合体を走査する。ここではレー
ザビームの集合体32,32′に倍率Mを乗算するもの
と仮定する。受光手段36は、ドラム38によって処理
方向を示す矢印54で示した方向に移動する。
0はレーザモジュール30に設置されており、走査機構
34が、走査方向を示す矢印52で示した方向に放射す
る複数のレーザビーム集合体を走査する。ここではレー
ザビームの集合体32,32′に倍率Mを乗算するもの
と仮定する。受光手段36は、ドラム38によって処理
方向を示す矢印54で示した方向に移動する。
【0020】図3において、レーザダイオード51の各
行r1,r2,r3は、走査方向52に対して角度θの
向きで並んでいるため、行方向に設置されているレーザ
ダイオード51は、互いに距離"p/M"をもって偏って
いる。ここで、pは媒体シート上のドットの所要ピッチ
であり、Mは走査機構34の倍率である。したがって、
レーザダイオード51から放射されるビームが走査方向
52に走査されると、レーザダイオード51の行からの
各ビーム集合体は、受光手段36を横断して走査される
3ドットを生成する。これらの3ドットは3つのビーム
集合体から構成されており、レーザダイオードチップ5
0の左側にそれぞれ位置56,58,60が概略図示さ
れている。各ビーム集合体のドットは、隣接した走査線
に属している。したがって、受光手段36上で、互いに
それぞれ距離"p"だけ離れている。
行r1,r2,r3は、走査方向52に対して角度θの
向きで並んでいるため、行方向に設置されているレーザ
ダイオード51は、互いに距離"p/M"をもって偏って
いる。ここで、pは媒体シート上のドットの所要ピッチ
であり、Mは走査機構34の倍率である。したがって、
レーザダイオード51から放射されるビームが走査方向
52に走査されると、レーザダイオード51の行からの
各ビーム集合体は、受光手段36を横断して走査される
3ドットを生成する。これらの3ドットは3つのビーム
集合体から構成されており、レーザダイオードチップ5
0の左側にそれぞれ位置56,58,60が概略図示さ
れている。各ビーム集合体のドットは、隣接した走査線
に属している。したがって、受光手段36上で、互いに
それぞれ距離"p"だけ離れている。
【0021】前記したように倍率Mを有する走査機構3
4を用いると、受光手段36上の高レベルのドット解像
度を実現するために、レーザダイオード51の設置が複
雑化する。更に、走査機構34に設定されている倍率の
特定レベルに基づいて、レーザダイオード51の位置を
調整できることが有効である。前記したHanson氏の特許
(米国特許第5,691,759号)では、レーザビーム
のインターリーブ方式の走査を行っているが、走査行間
に一定の距離が必要である。
4を用いると、受光手段36上の高レベルのドット解像
度を実現するために、レーザダイオード51の設置が複
雑化する。更に、走査機構34に設定されている倍率の
特定レベルに基づいて、レーザダイオード51の位置を
調整できることが有効である。前記したHanson氏の特許
(米国特許第5,691,759号)では、レーザビーム
のインターリーブ方式の走査を行っているが、走査行間
に一定の距離が必要である。
【0022】本発明は、受光手段36のインターリーブ
方式の走査が行われるときに、位置的にずれたレーザビ
ーム集合体によって生成された走査線に上書きをしない
ように、各レーザビーム集合体を増分的に(incrementa
lly)可変距離だけ離して設置されるようにする。更に
詳しく説明すれば、レーザダイオード51(すなわち、
1つのレーザビーム集合体)の各行は、次のレーザビー
ム集合体のレーザダイオード51の対応する行から下記
の式(1)に示す間隔"Sd"だけ離して設置されてい
る。
方式の走査が行われるときに、位置的にずれたレーザビ
ーム集合体によって生成された走査線に上書きをしない
ように、各レーザビーム集合体を増分的に(incrementa
lly)可変距離だけ離して設置されるようにする。更に
詳しく説明すれば、レーザダイオード51(すなわち、
1つのレーザビーム集合体)の各行は、次のレーザビー
ム集合体のレーザダイオード51の対応する行から下記
の式(1)に示す間隔"Sd"だけ離して設置されてい
る。
【0023】 Sd=c(1+qr)p/M …(1) (但し、cはレーザダイオードの列の数を示す値であ
り、rはレーザダイオードの行の数であり、qは走査線
間距離を決定する整数値である。)
り、rはレーザダイオードの行の数であり、qは走査線
間距離を決定する整数値である。)
【0024】式(1)によるレーザダイオード51のレ
ーザビーム集合体間の距離を求める計算によって、レー
ザダイオード51をレーザダイオードチップ50上にダ
イオード間の干渉および熱的相互作用を防止するように
離して設置され得る。レーザダイオード51は、処理方
向に少なくとも最小距離Smin(約50μm)だけ離れ
ている。但し、Sd≧M(Smin)である。更に、式
(1)によるレーザダイオード51の間隔を設定する演
算を行うと、レーザビーム集合体の受光手段36上に高
レベルの解像度でドットを生成することができる。
ーザビーム集合体間の距離を求める計算によって、レー
ザダイオード51をレーザダイオードチップ50上にダ
イオード間の干渉および熱的相互作用を防止するように
離して設置され得る。レーザダイオード51は、処理方
向に少なくとも最小距離Smin(約50μm)だけ離れ
ている。但し、Sd≧M(Smin)である。更に、式
(1)によるレーザダイオード51の間隔を設定する演
算を行うと、レーザビーム集合体の受光手段36上に高
レベルの解像度でドットを生成することができる。
【0025】以後の説明から明確になるように、媒体シ
ートの最上部にある走査線の一定数は、ラスタ線データ
の不完全なスウォース(swath)から構成されている。
同様に、各レーザダイオード51の傾斜配置のため、各
々の走査は別の列のレーザダイオードからずれた位置か
ら開始される。したがって、レーザダイオードの数およ
びその列/行の配置により、バッファ制御手順20は、
走査方向52に側面から側面へ、またはプロセス方向5
4に上から下へと、各ビームが受光手段36上の共通す
る縁点に達した際に、変調のみを開始する。
ートの最上部にある走査線の一定数は、ラスタ線データ
の不完全なスウォース(swath)から構成されている。
同様に、各レーザダイオード51の傾斜配置のため、各
々の走査は別の列のレーザダイオードからずれた位置か
ら開始される。したがって、レーザダイオードの数およ
びその列/行の配置により、バッファ制御手順20は、
走査方向52に側面から側面へ、またはプロセス方向5
4に上から下へと、各ビームが受光手段36上の共通す
る縁点に達した際に、変調のみを開始する。
【0026】次に、図4を参照して本発明の動作を、受
光手段36に入射する4つのレーザビームA、B、Cお
よびDを発する4レーザダイオード配列に関連して説明
する。レーザビームAおよびBは、第1の集合体を形成
し、レーザビームCおよびDは、第2の集合体を形成し
ている。レーザビームAおよびBは、1走査行または1
ピッチ距離"p"だけ離れている。レーザビームCおよび
Dも同様に離れている。それぞれのレーザビーム集合体
の右側に示したように、受光手段36上で処理方向54
のこれら集合体間の間隔が下記の式(2)で与えられ
る。 SPR=c(1+qr)p=2(1+q2)p=6qp …(2)
光手段36に入射する4つのレーザビームA、B、Cお
よびDを発する4レーザダイオード配列に関連して説明
する。レーザビームAおよびBは、第1の集合体を形成
し、レーザビームCおよびDは、第2の集合体を形成し
ている。レーザビームAおよびBは、1走査行または1
ピッチ距離"p"だけ離れている。レーザビームCおよび
Dも同様に離れている。それぞれのレーザビーム集合体
の右側に示したように、受光手段36上で処理方向54
のこれら集合体間の間隔が下記の式(2)で与えられ
る。 SPR=c(1+qr)p=2(1+q2)p=6qp …(2)
【0027】上述したように、qにいずれの整数値を割
り当てるようにしても良い。図5は、qの値が1から4
に変化する際に、受光手段36上で、連続した走査中の
レーザビームA、B、CおよびDの位置を示している。
図5の最左列は、qの値が1に設定された場合の走査結
果について示している。この場合、SPR=6pとなり、
ビームAおよびBは受光手段36においてビームCおよ
びDからそれぞれ6ピッチ距離pだけ離れている。走査
線−4で始まる第1のパス中、走査線−2および−1は
書き込み(fill)が行われないが、走査線−4、−3、
2および3は書き込みが行われる。第2のパス中、レー
ザビームAを走査線1に位置決めするように、受光手段
36を距離(q・c・r)p(またはq=1のとき4
p)だけ移動させる。
り当てるようにしても良い。図5は、qの値が1から4
に変化する際に、受光手段36上で、連続した走査中の
レーザビームA、B、CおよびDの位置を示している。
図5の最左列は、qの値が1に設定された場合の走査結
果について示している。この場合、SPR=6pとなり、
ビームAおよびBは受光手段36においてビームCおよ
びDからそれぞれ6ピッチ距離pだけ離れている。走査
線−4で始まる第1のパス中、走査線−2および−1は
書き込み(fill)が行われないが、走査線−4、−3、
2および3は書き込みが行われる。第2のパス中、レー
ザビームAを走査線1に位置決めするように、受光手段
36を距離(q・c・r)p(またはq=1のとき4
p)だけ移動させる。
【0028】したがって、第2のパス中の走査線0、
1、6および7に対する書き込みが行われる。その後、
受光手段36が距離(q・c・r)pだけ連続して移動
することによって、いずれの走査線も前に書込まれた走
査線に上書きすることなく、全ての走査線に対する画素
データを書き込むことができる。
1、6および7に対する書き込みが行われる。その後、
受光手段36が距離(q・c・r)pだけ連続して移動
することによって、いずれの走査線も前に書込まれた走
査線に上書きすることなく、全ての走査線に対する画素
データを書き込むことができる。
【0029】q=2であれば、SPR=10pであり、走
査は図5のq=2の列に示したように行なわれる。受光
手段36は、各走査後に8p移動される。第8の走査線
が発生するまで完全に書き込みが開始されずに、8本の
走査線が発生した時点で完全に書き込みを行うことに注
目する必要がある。q=3の場合、第13の走査線まで
完全に書き込みが開始されず、q=4では、完全な書き
込みが第17の走査線まで開始されない。しかし、全て
の場合において、完全な書き込みが開始されても、前に
書き込まれた走査線画素データの上書きはない。
査は図5のq=2の列に示したように行なわれる。受光
手段36は、各走査後に8p移動される。第8の走査線
が発生するまで完全に書き込みが開始されずに、8本の
走査線が発生した時点で完全に書き込みを行うことに注
目する必要がある。q=3の場合、第13の走査線まで
完全に書き込みが開始されず、q=4では、完全な書き
込みが第17の走査線まで開始されない。しかし、全て
の場合において、完全な書き込みが開始されても、前に
書き込まれた走査線画素データの上書きはない。
【0030】このようにして、レーザダイオードチップ
50に関するqの所定値に基づくダイオードの行間隔お
よび各走査後の距離"(q・c・r)p"による受光手段
36の増大によって、前に走査された線を上書きするこ
となくラスタ走査線のインターリーブが可能になる。
50に関するqの所定値に基づくダイオードの行間隔お
よび各走査後の距離"(q・c・r)p"による受光手段
36の増大によって、前に走査された線を上書きするこ
となくラスタ走査線のインターリーブが可能になる。
【0031】インターリーブ方式の装置(すなわち、一
組につき1つのレーザダイオード)を作製するために、
レーザダイオードを2つだけ利用すれば、前記した関係
が保持され、各ダイオードを所要距離"Sd"だけ離して
設置できる。レーザダイオードの複数の列を利用すれ
ば、受光手段36に入射する各ドットが所要dpiのピ
ッチ距離を有して偏るように、行方向に設置して各レー
ザダイオードを設置しなければならない。このような間
隔は、レーザダイオードの各位置を走査方向に偏らせる
ことにより達成することができる。
組につき1つのレーザダイオード)を作製するために、
レーザダイオードを2つだけ利用すれば、前記した関係
が保持され、各ダイオードを所要距離"Sd"だけ離して
設置できる。レーザダイオードの複数の列を利用すれ
ば、受光手段36に入射する各ドットが所要dpiのピ
ッチ距離を有して偏るように、行方向に設置して各レー
ザダイオードを設置しなければならない。このような間
隔は、レーザダイオードの各位置を走査方向に偏らせる
ことにより達成することができる。
【0032】これまでの説明は、本発明の単なる例示で
あることを理解できるものである。当業者は本発明から
逸脱することなく様々な代案および修正案を考えること
ができる。したがって、本発明は、付記した特許請求の
範囲の範囲内となる、このような全ての代案、修正案お
よび変形案を包含するものである。
あることを理解できるものである。当業者は本発明から
逸脱することなく様々な代案および修正案を考えること
ができる。したがって、本発明は、付記した特許請求の
範囲の範囲内となる、このような全ての代案、修正案お
よび変形案を包含するものである。
【0033】以下に本発明の実施の形態を要約する。 1. ピッチ距離がpの走査線を有する画素の複数のラ
スタ走査線によるラスタ画像を生成するレーザプリンタ
(10)であって、受光手段(36)と、第1の組が少
なくとも第1の対のレーザ源(r1c1,r1c2)を
備え、第2の組が少なくとも第2の対のレーザ源(r2
c1,r2c2)を備え、前記第1および第2の組は前
記受光手段(36)上に結像される際に、該受光手段
(36)の移動方向に距離p離れた一対のスポットを生
成し、前記第1および第2の組からのスポットに対応す
る対は、cが各組のレーザ源(51)の数であり、qが
1以上の整数であり、rが前記第1の組および前記第2
の組のレーザ源(51)の数であるとき、距離SPR=c
(1+qr)p離れた、n≧4であるn個のレーザ源
(51)と、前記レーザ源(51)からの光ビーム(3
2,32′)を、前記受光手段(36)を横断する平行
経路で同時に走査する走査手段(34)と、画像に含ま
れる画素値の複数のラスタ走査線を格納する画像バッフ
ァメモリ手段(22)と、前記光ビーム(32,3
2′)を、(i)前記画像内の走査線と、(ii)前記
受光手段(36)上の前記光ビーム(32,32′)の
位置と、の対応に基づいて画素値のラスタ走査線で変調
する制御手段(12,14,21)と、前記受光手段
(36)を前記走査手段(34)の各走査動作の間に距
離(q・c・r)p移動させる手段(38)と、を備え
たことを特徴とするレーザプリンタ(10)。
スタ走査線によるラスタ画像を生成するレーザプリンタ
(10)であって、受光手段(36)と、第1の組が少
なくとも第1の対のレーザ源(r1c1,r1c2)を
備え、第2の組が少なくとも第2の対のレーザ源(r2
c1,r2c2)を備え、前記第1および第2の組は前
記受光手段(36)上に結像される際に、該受光手段
(36)の移動方向に距離p離れた一対のスポットを生
成し、前記第1および第2の組からのスポットに対応す
る対は、cが各組のレーザ源(51)の数であり、qが
1以上の整数であり、rが前記第1の組および前記第2
の組のレーザ源(51)の数であるとき、距離SPR=c
(1+qr)p離れた、n≧4であるn個のレーザ源
(51)と、前記レーザ源(51)からの光ビーム(3
2,32′)を、前記受光手段(36)を横断する平行
経路で同時に走査する走査手段(34)と、画像に含ま
れる画素値の複数のラスタ走査線を格納する画像バッフ
ァメモリ手段(22)と、前記光ビーム(32,3
2′)を、(i)前記画像内の走査線と、(ii)前記
受光手段(36)上の前記光ビーム(32,32′)の
位置と、の対応に基づいて画素値のラスタ走査線で変調
する制御手段(12,14,21)と、前記受光手段
(36)を前記走査手段(34)の各走査動作の間に距
離(q・c・r)p移動させる手段(38)と、を備え
たことを特徴とするレーザプリンタ(10)。
【0034】2. 前記走査手段(34)は、更に、前
記光ビーム(32,32′)間の間隔を係数Mで拡大す
る光学手段を備え、前記レーザ源(51)は、前記受光
手段(36)の移動の前記方向に距離Sd離れ、少なく
とも最小距離Smin離れ、Sd≧M(Smin)であること
を特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ(10)。
記光ビーム(32,32′)間の間隔を係数Mで拡大す
る光学手段を備え、前記レーザ源(51)は、前記受光
手段(36)の移動の前記方向に距離Sd離れ、少なく
とも最小距離Smin離れ、Sd≧M(Smin)であること
を特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ(10)。
【0035】3. 前記制御手段(12,14,21)
が、ラスタ走査線データを選択的に割り当て、前記n個
のレーザ源(51)を変調する手段(21)を有したこ
とを特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ(1
0)。
が、ラスタ走査線データを選択的に割り当て、前記n個
のレーザ源(51)を変調する手段(21)を有したこ
とを特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ(1
0)。
【0036】4. 前記制御手段(12,14,21)
は、前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに
基づいた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するため
の前記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないこ
とを特徴とする請求項2記載のレーザプリンタ(1
0)。
は、前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに
基づいた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するため
の前記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないこ
とを特徴とする請求項2記載のレーザプリンタ(1
0)。
【0037】5. 前記制御手段(12,14,21)
は、前記画像を構成する前記画素値が、各走査線中に前
記受光手段(36)上の画像領域に到達した際に、前記
レーザ源(51)を変調するために送出され、前記画像
領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査の同一点
で開始することを特徴とする請求項1記載のレーザプリ
ンタ(10)。
は、前記画像を構成する前記画素値が、各走査線中に前
記受光手段(36)上の画像領域に到達した際に、前記
レーザ源(51)を変調するために送出され、前記画像
領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査の同一点
で開始することを特徴とする請求項1記載のレーザプリ
ンタ(10)。
【0038】6. ピッチ距離がpの走査線を有する画
素の複数のラスタ走査線によるラスタ画像を生成するレ
ーザプリンタ(10)であって、受光手段(36)と、
第1の組が少なくとも第1のレーザ源(r1c1)を備
え、第2の組が少なくとも第2のレーザ源(r2c1)
を備え、前記第1および第2の組によって前記受光手段
(36)上に生成された対応するスポット対は、cが各
組のレーザ源(51)の数であり、qが2以上の整数で
あり、rが前記第1の組および前記第2の組のレーザ源
(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+qr)p
離れた、n≧2であるn個のレーザ源(51)と、前記
レーザ源(51)からの光ビーム(32,32′)を前
記受光手段(36)を横断する平行経路で同時に走査す
る走査手段(34)と、画像に含まれる画素値の複数の
ラスタ走査線を格納する画像バッファメモリ手段(2
2)と、前記光ビーム(32,32′)を、(i)前記
画像内の走査線と、(ii)前記受光手段(36)上の
前記光ビーム(32,32′)の位置と、の対応に基づ
いて画素値のラスタ走査線で変調する制御手段(12,
14,21)と、前記受光手段(36)を前記走査手段
(34)の各走査動作の間に距離(q・c・r)p移動
させる手段(38)と、を備えたことを特徴とするレー
ザプリンタ(10)。
素の複数のラスタ走査線によるラスタ画像を生成するレ
ーザプリンタ(10)であって、受光手段(36)と、
第1の組が少なくとも第1のレーザ源(r1c1)を備
え、第2の組が少なくとも第2のレーザ源(r2c1)
を備え、前記第1および第2の組によって前記受光手段
(36)上に生成された対応するスポット対は、cが各
組のレーザ源(51)の数であり、qが2以上の整数で
あり、rが前記第1の組および前記第2の組のレーザ源
(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+qr)p
離れた、n≧2であるn個のレーザ源(51)と、前記
レーザ源(51)からの光ビーム(32,32′)を前
記受光手段(36)を横断する平行経路で同時に走査す
る走査手段(34)と、画像に含まれる画素値の複数の
ラスタ走査線を格納する画像バッファメモリ手段(2
2)と、前記光ビーム(32,32′)を、(i)前記
画像内の走査線と、(ii)前記受光手段(36)上の
前記光ビーム(32,32′)の位置と、の対応に基づ
いて画素値のラスタ走査線で変調する制御手段(12,
14,21)と、前記受光手段(36)を前記走査手段
(34)の各走査動作の間に距離(q・c・r)p移動
させる手段(38)と、を備えたことを特徴とするレー
ザプリンタ(10)。
【0039】7. 前記走査手段(34)は、更に、前
記光ビーム間の間隔を係数Mで拡大する光学手段を備
え、前記レーザ源(51)は、前記受光手段(36)の
移動の前記方向に距離Sd離れ、少なくとも最小距離S
min離れ、Sd≧M(Smin)であることを特徴とする請
求項6記載のレーザプリンタ(10)。
記光ビーム間の間隔を係数Mで拡大する光学手段を備
え、前記レーザ源(51)は、前記受光手段(36)の
移動の前記方向に距離Sd離れ、少なくとも最小距離S
min離れ、Sd≧M(Smin)であることを特徴とする請
求項6記載のレーザプリンタ(10)。
【0040】8. 前記制御手段が、ラスタ走査線デー
タを選択的に割り当て、前記n個のレーザ源を変調する
手段を有したことを特徴とする請求項6記載のレーザプ
リンタ(10)。
タを選択的に割り当て、前記n個のレーザ源を変調する
手段を有したことを特徴とする請求項6記載のレーザプ
リンタ(10)。
【0041】9. 前記制御手段(12,14,21)
は、前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに
基づいた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するため
の前記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないこ
とを特徴とする請求項6記載のレーザプリンタ(1
0)。
は、前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに
基づいた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するため
の前記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないこ
とを特徴とする請求項6記載のレーザプリンタ(1
0)。
【0042】10. 画素の複数のラスタ走査線によっ
てラスタ画像を生成し、各ラスタ走査線は隣接したラス
タ走査線からピッチ距離p離れた、受光手段(36)
と、画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納
する画像バッファ(22)と、第1の組が少なくとも第
1の対のレーザ源(r1c1,r1c2)を備え、第2
の組が少なくとも第2の対のレーザ源(r2c1,r2
c2)を備え、前記第1および第2の組は前記受光手段
(36)上に結像される際に、該受光手段(36)の移
動方向に距離p離れた一対のスポットを生成し、前記第
1および第2の組からの対応するスポットは、cが各組
のレーザ源(51)の数であり、qが1以上の整数であ
り、rが前記第1の組および前記第2の組のレーザ源
(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+qr)p
離れた、n≧4であるn個のレーザ源(51)と、を備
えたレーザプリンタ(10)の制御方法において、a.
前記第1の組の光ビーム(32,32′)を前記画像バ
ッファ(22)からの隣接するラスタ走査線の第1のグ
ループからの画素値で変調し、前記第2の組の光ビーム
(34,34′)を前記画像バッファ(22)からの隣
接するラスタ走査線の第2のグループからの画素値で変
調し、前記第1および第2の組の光ビーム(32,3
2′)を前記受光手段(36)を横断して同時に走査
し、前記第1のグループおよび前記第2のグループの対
応する走査線は前記受光手段(36)上に結像される際
に、距離SPR=c(1+qr)p離れるステップと、
b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、c.前記受光手段
(36)が前記画像の全画素値に基づいて露出されるま
で前記ステップaおよびステップbを繰り返すステップ
と、を備えたことを特徴とする制御方法。
てラスタ画像を生成し、各ラスタ走査線は隣接したラス
タ走査線からピッチ距離p離れた、受光手段(36)
と、画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納
する画像バッファ(22)と、第1の組が少なくとも第
1の対のレーザ源(r1c1,r1c2)を備え、第2
の組が少なくとも第2の対のレーザ源(r2c1,r2
c2)を備え、前記第1および第2の組は前記受光手段
(36)上に結像される際に、該受光手段(36)の移
動方向に距離p離れた一対のスポットを生成し、前記第
1および第2の組からの対応するスポットは、cが各組
のレーザ源(51)の数であり、qが1以上の整数であ
り、rが前記第1の組および前記第2の組のレーザ源
(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+qr)p
離れた、n≧4であるn個のレーザ源(51)と、を備
えたレーザプリンタ(10)の制御方法において、a.
前記第1の組の光ビーム(32,32′)を前記画像バ
ッファ(22)からの隣接するラスタ走査線の第1のグ
ループからの画素値で変調し、前記第2の組の光ビーム
(34,34′)を前記画像バッファ(22)からの隣
接するラスタ走査線の第2のグループからの画素値で変
調し、前記第1および第2の組の光ビーム(32,3
2′)を前記受光手段(36)を横断して同時に走査
し、前記第1のグループおよび前記第2のグループの対
応する走査線は前記受光手段(36)上に結像される際
に、距離SPR=c(1+qr)p離れるステップと、
b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、c.前記受光手段
(36)が前記画像の全画素値に基づいて露出されるま
で前記ステップaおよびステップbを繰り返すステップ
と、を備えたことを特徴とする制御方法。
【0043】11. 前記ステップaは、前記レーザ源
(51)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の
走査が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)
を、前記画像を構成する画素値で変調することが禁じら
れたことを特徴とする請求項10記載の制御方法。
(51)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の
走査が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)
を、前記画像を構成する画素値で変調することが禁じら
れたことを特徴とする請求項10記載の制御方法。
【0044】12. 前記画像の前記画素値は、各走査
線中に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際
に、前記レーザ源(51)を変調するために送出され、
前記画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査
の同一点で開始可能なように設定されることを特徴とす
る請求項10記載の制御方法。
線中に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際
に、前記レーザ源(51)を変調するために送出され、
前記画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査
の同一点で開始可能なように設定されることを特徴とす
る請求項10記載の制御方法。
【0045】13. 画素の複数のラスタ走査線によっ
てラスタ影像を生成し、各ラスタ走査線は隣接したラス
タ走査線からピッチ距離p離れた、受光手段(36)
と、画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納
する画像バッファ(22)と、第1の組が少なくとも第
1のレーザ源(r1c1)を備え、第2の組が少なくと
も第2のレーザ源(r2c1)を備え、前記第1および
第2の組は前記受光手段(36)上に結像される際に、
cが各組のレーザ源(51)の数であり、qが2以上の
整数であり、rが前記第1の組および前記第2の組のレ
ーザ源(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+q
r)p離れた少なくとも一対のスポットを生成する、n
≧2であるn個のレーザ源(51)と、を備えたレーザ
プリンタ(10)の制御方法において、 a.前記第1の組の少なくとも1つの光ビーム(32,
32′)を前記画像バッファ(22)が送出する第1の
ラスタ走査線からの画素値で変調し、前記第2の組の少
なくとも1つの光ビーム(32,32′)を前記画像バ
ッファ(22)が送出する第2のラスタ走査線からの画
素値で変調し、前記第1および第2の組の光ビーム(3
2,32′)を前記受光手段(36)を横断して同時に
走査し、対応する第1のラスタ走査線および第2のラス
タ走査線は前記受光手段(36)上に結像される際に、
距離SRR=c(1+qr)p離れるステップと、 b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、 c.前記受光手段(36)が前記画像の全画素値に基づ
いて露出されるまで前記ステップaおよびステップbを
繰り返すステップと、を備えたことを特徴とする制御方
法。
てラスタ影像を生成し、各ラスタ走査線は隣接したラス
タ走査線からピッチ距離p離れた、受光手段(36)
と、画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納
する画像バッファ(22)と、第1の組が少なくとも第
1のレーザ源(r1c1)を備え、第2の組が少なくと
も第2のレーザ源(r2c1)を備え、前記第1および
第2の組は前記受光手段(36)上に結像される際に、
cが各組のレーザ源(51)の数であり、qが2以上の
整数であり、rが前記第1の組および前記第2の組のレ
ーザ源(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+q
r)p離れた少なくとも一対のスポットを生成する、n
≧2であるn個のレーザ源(51)と、を備えたレーザ
プリンタ(10)の制御方法において、 a.前記第1の組の少なくとも1つの光ビーム(32,
32′)を前記画像バッファ(22)が送出する第1の
ラスタ走査線からの画素値で変調し、前記第2の組の少
なくとも1つの光ビーム(32,32′)を前記画像バ
ッファ(22)が送出する第2のラスタ走査線からの画
素値で変調し、前記第1および第2の組の光ビーム(3
2,32′)を前記受光手段(36)を横断して同時に
走査し、対応する第1のラスタ走査線および第2のラス
タ走査線は前記受光手段(36)上に結像される際に、
距離SRR=c(1+qr)p離れるステップと、 b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、 c.前記受光手段(36)が前記画像の全画素値に基づ
いて露出されるまで前記ステップaおよびステップbを
繰り返すステップと、を備えたことを特徴とする制御方
法。
【0046】14. 前記ステップaは、前記レーザ源
(51)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の
走査が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)
を、前記画像を構成する画素値で変調することを禁じら
れたことを特徴とする請求項13記載の制御方法。
(51)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の
走査が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)
を、前記画像を構成する画素値で変調することを禁じら
れたことを特徴とする請求項13記載の制御方法。
【0047】15. 前記画像の前記画素値は、各走査
線中に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際
に、前記レーザ源(51)を変調するために送出され、
前記画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査
の同一点で開始可能なように設定されることを特徴とす
る請求項13記載の制御方法。
線中に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際
に、前記レーザ源(51)を変調するために送出され、
前記画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査
の同一点で開始可能なように設定されることを特徴とす
る請求項13記載の制御方法。
【0048】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のマルチレーザビーム走査作像装置およびマルチレーザ
ビーム作像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法
によれば、レーザダイオードチップにおける複数のレー
ザダイオードの実質的な分離を可能なる、すなわち、レ
ーザダイオード間の干渉を避けるように離して設置され
た複数のレーザダイオード源の利用が可能となる走査線
のインターリーブが実現できる。
のマルチレーザビーム走査作像装置およびマルチレーザ
ビーム作像におけるラスタ走査線のインターリーブ方法
によれば、レーザダイオードチップにおける複数のレー
ザダイオードの実質的な分離を可能なる、すなわち、レ
ーザダイオード間の干渉を避けるように離して設置され
た複数のレーザダイオード源の利用が可能となる走査線
のインターリーブが実現できる。
【図1】本発明の一実施形態に係るマルチレーザビーム
走査作像装置を示すブロック図である。
走査作像装置を示すブロック図である。
【図2】図1中のレーザ印刷エンジンの詳細な構成およ
びレーザモジュールが複数のレーザビームを発する様子
を示す説明図である。
びレーザモジュールが複数のレーザビームを発する様子
を示す説明図である。
【図3】複数のレーザダイオードを備えた半導体チップ
の構成を示す概略説明図である。
の構成を示す概略説明図である。
【図4】図3中のレーザダイオードの部分集合体を示す
説明図である。
説明図である。
【図5】図4のレーザダイオードの部分集合体で生成さ
れた受光手段上での走査線のインターリーブを示す概略
説明図である。
れた受光手段上での走査線のインターリーブを示す概略
説明図である。
10 レーザプリンタ 12 中央処理装置 14 レーザ印刷エンジン 16 入力/出力モジュール 18 RAM 20 ROM 22 ラスタバッファ 30 レーザモジュール 32,32′ レーザビームの集合体 34 走査機構 36 受光手段 51 レーザダイオードチップ 51 レーザダイオード 52 走査方向 54 処理方向
Claims (15)
- 【請求項1】 ピッチ距離がpの走査線を有する画素の
複数のラスタ走査線によるラスタ画像を生成するレーザ
プリンタ(10)であって、 受光手段(36)と、 第1の組が少なくとも第1の対のレーザ源(r1c1,
r1c2)を備え、第2の組が少なくとも第2の対のレ
ーザ源(r2c1,r2c2)を備え、前記第1および
第2の組は前記受光手段(36)上に結像される際に、
該受光手段(36)の移動方向に距離p離れた一対のス
ポットを生成し、前記第1および第2の組からのスポッ
トに対応する対は、cが各組のレーザ源(51)の数で
あり、qが1以上の整数であり、rが前記第1の組およ
び前記第2の組のレーザ源(51)の数であるとき、距
離SPR=c(1+qr)p離れた、n≧4であるn個の
レーザ源(51)と、 前記レーザ源(51)からの光ビーム(32,32′)
を、前記受光手段(36)を横断する平行経路で同時に
走査する走査手段(34)と、画像に含まれる画素値の
複数のラスタ走査線を格納する画像バッファメモリ手段
(22)と、 前記光ビーム(32,32′)を、(i)前記画像内の
走査線と、(ii)前記受光手段(36)上の前記光ビ
ーム(32,32′)の位置と、の対応に基づいて画素
値のラスタ走査線で変調する制御手段(12,14,2
1)と、 前記受光手段(36)を前記走査手段(34)の各走査
動作の間に距離(q・c・r)p移動させる手段(3
8)と、を備えたことを特徴とするレーザプリンタ(1
0)。 - 【請求項2】 前記走査手段(34)は、更に、前記光
ビーム(32,32′)間の間隔を係数Mで拡大する光
学手段を備え、 前記レーザ源(51)は、前記受光手段(36)の移動
の前記方向に距離Sd離れ、少なくとも最小距離Smin離
れ、Sd≧M(Smin)であることを特徴とする請求項1
記載のレーザプリンタ(10)。 - 【請求項3】 前記制御手段(12,14,21)が、
ラスタ走査線データを選択的に割り当て、前記n個のレ
ーザ源(51)を変調する手段(21)を有したことを
特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ(10)。 - 【請求項4】 前記制御手段(12,14,21)は、
前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに基づ
いた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するための前
記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないことを
特徴とする請求項2記載のレーザプリンタ(10)。 - 【請求項5】 前記制御手段(12,14,21)は、
前記画像を構成する前記画素値が、各走査線中に前記受
光手段(36)上の画像領域に到達した際に、前記レー
ザ源(51)を変調するために送出され、前記画像領域
が全てのレーザ源(51)の変調を各走査の同一点で開
始することを特徴とする請求項1記載のレーザプリンタ
(10)。 - 【請求項6】 ピッチ距離がpの走査線を有する画素の
複数のラスタ走査線によるラスタ画像を生成するレーザ
プリンタ(10)であって、 受光手段(36)と、 第1の組が少なくとも第1のレーザ源(r1c1)を備
え、第2の組が少なくとも第2のレーザ源(r2c1)
を備え、前記第1および第2の組によって前記受光手段
(36)上に生成された対応するスポット対は、cが各
組のレーザ源(51)の数であり、qが2以上の整数で
あり、rが前記第1の組および前記第2の組のレーザ源
(51)の数であるとき、距離SPR=c(1+qr)p
離れた、n≧2であるn個のレーザ源(51)と、 前記レーザ源(51)からの光ビーム(32,32′)
を前記受光手段(36)を横断する平行経路で同時に走
査する走査手段(34)と、 画像に含まれる画素値の複数のラスタ走査線を格納する
画像バッファメモリ手段(22)と、 前記光ビーム(32,32′)を、(i)前記画像内の
走査線と、(ii)前記受光手段(36)上の前記光ビ
ーム(32,32′)の位置と、の対応に基づいて画素
値のラスタ走査線で変調する制御手段(12,14,2
1)と、 前記受光手段(36)を前記走査手段(34)の各走査
動作の間に距離(q・c・r)p移動させる手段(3
8)と、を備えたことを特徴とするレーザプリンタ(1
0)。 - 【請求項7】 前記走査手段(34)は、更に、前記光
ビーム間の間隔を係数Mで拡大する光学手段を備え、 前記レーザ源(51)は、前記受光手段(36)の移動
の前記方向に距離Sd離れ、少なくとも最小距離Smin離
れ、Sd≧M(Smin)であることを特徴とする請求項6
記載のレーザプリンタ(10)。 - 【請求項8】 前記制御手段が、ラスタ走査線データを
選択的に割り当て、前記n個のレーザ源を変調する手段
を有したことを特徴とする請求項6記載のレーザプリン
タ(10)。 - 【請求項9】 前記制御手段(12,14,21)は、
前記レーザ源(51)の少なくとも部分的に値qに基づ
いた所定数の走査が行なわれるまで、印刷するための前
記画像を構成する前記画素値の送出を開始しないことを
特徴とする請求項6記載のレーザプリンタ(10)。 - 【請求項10】 画素の複数のラスタ走査線によってラ
スタ画像を生成し、 各ラスタ走査線は隣接したラスタ走査線からピッチ距離
p離れた、 受光手段(36)と、 画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納する
画像バッファ(22)と、 第1の組が少なくとも第1の対のレーザ源(r1c1,
r1c2)を備え、第2の組が少なくとも第2の対のレ
ーザ源(r2c1,r2c2)を備え、前記第1および
第2の組は前記受光手段(36)上に結像される際に、
該受光手段(36)の移動方向に距離p離れた一対のス
ポットを生成し、前記第1および第2の組からの対応す
るスポットは、cが各組のレーザ源(51)の数であ
り、qが1以上の整数であり、rが前記第1の組および
前記第2の組のレーザ源(51)の数であるとき、距離
SPR=c(1+qr)p離れた、n≧4であるn個のレ
ーザ源(51)と、を備えたレーザプリンタ(10)の
制御方法において、 a.前記第1の組の光ビーム(32,32′)を前記画
像バッファ(22)からの隣接するラスタ走査線の第1
のグループからの画素値で変調し、前記第2の組の光ビ
ーム(34,34′)を前記画像バッファ(22)から
の隣接するラスタ走査線の第2のグループからの画素値
で変調し、前記第1および第2の組の光ビーム(32,
32′)を前記受光手段(36)を横断して同時に走査
し、前記第1のグループおよび前記第2のグループの対
応する走査線は前記受光手段(36)上に結像される際
に、距離SPR=c(1+qr)p離れるステップと、 b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、 c.前記受光手段(36)が前記画像の全画素値に基づ
いて露出されるまで前記ステップaおよびステップbを
繰り返すステップと、を備えたことを特徴とする制御方
法。 - 【請求項11】 前記ステップaは、前記レーザ源(5
1)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の走査
が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)を、
前記画像を構成する画素値で変調することが禁じられた
ことを特徴とする請求項10記載の制御方法。 - 【請求項12】 前記画像の前記画素値は、各走査線中
に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際に、
前記レーザ源(51)を変調するために送出され、前記
画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査の同
一点で開始可能なように設定されることを特徴とする請
求項10記載の制御方法。 - 【請求項13】 画素の複数のラスタ走査線によってラ
スタ影像を生成し、 各ラスタ走査線は隣接したラスタ走査線からピッチ距離
p離れた、 受光手段(36)と、 画像を構成する画素値の複数のラスタ走査線を格納する
画像バッファ(22)と、 第1の組が少なくとも第1のレーザ源(r1c1)を備
え、第2の組が少なくとも第2のレーザ源(r2c1)
を備え、前記第1および第2の組は前記受光手段(3
6)上に結像される際に、cが各組のレーザ源(51)
の数であり、qが2以上の整数であり、rが前記第1の
組および前記第2の組のレーザ源(51)の数であると
き、距離SPR=c(1+qr)p離れた少なくとも一対
のスポットを生成する、n≧2であるn個のレーザ源
(51)と、を備えたレーザプリンタ(10)の制御方
法において、 a.前記第1の組の少なくとも1つの光ビーム(32,
32′)を前記画像バッファ(22)が送出する第1の
ラスタ走査線からの画素値で変調し、前記第2の組の少
なくとも1つの光ビーム(32,32′)を前記画像バ
ッファ(22)が送出する第2のラスタ走査線からの画
素値で変調し、前記第1および第2の組の光ビーム(3
2,32′)を前記受光手段(36)を横断して同時に
走査し、対応する第1のラスタ走査線および第2のラス
タ走査線は前記受光手段(36)上に結像される際に、
距離SRR=c(1+qr)p離れるステップと、 b.前記受光手段(36)を各走査の終わりで距離(q
・c・r)p移動させるステップと、 c.前記受光手段(36)が前記画像の全画素値に基づ
いて露出されるまで前記ステップaおよびステップbを
繰り返すステップと、を備えたことを特徴とする制御方
法。 - 【請求項14】 前記ステップaは、前記レーザ源(5
1)の少なくとも部分的に値qに基づいた所定数の走査
が行なわれるまで、前記光ビーム(32,32′)を、
前記画像を構成する画素値で変調することを禁じられた
ことを特徴とする請求項13記載の制御方法。 - 【請求項15】 前記画像の前記画素値は、各走査線中
に前記受光手段(36)上の画像領域に到達した際に、
前記レーザ源(51)を変調するために送出され、前記
画像領域が全てのレーザ源(51)の変調を各走査の同
一点で開始可能なように設定されることを特徴とする請
求項13記載の制御方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/055-100 | 1998-04-03 | ||
US09/055,100 US6037962A (en) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | Method and apparatus for interleaving raster scan lines in a multi-beam laser imaging device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000000999A true JP2000000999A (ja) | 2000-01-07 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11096678A Pending JP2000000999A (ja) | 1998-04-03 | 1999-04-02 | レ―ザプリンタおよび該レ―ザプリンタの制御方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6037962A (ja) |
EP (1) | EP0947950B1 (ja) |
JP (1) | JP2000000999A (ja) |
DE (1) | DE69830897T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114280895A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-05 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中像素行分配方法、系统及相关设备 |
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---|---|---|---|---|
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DE10031915A1 (de) * | 2000-06-30 | 2002-01-10 | Heidelberger Druckmasch Ag | Kompakte Mehrstrahllaserlichtquelle und Interleafrasterscanlinien-Verfahren zur Belichtung von Druckplatten |
DE10108624A1 (de) * | 2001-02-22 | 2002-09-05 | Heidelberger Druckmasch Ag | Banding-reduzierende Bebilderung einer Druckform |
US7044583B2 (en) | 2001-10-25 | 2006-05-16 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Method and device for exposing a printing form, printing unit and printing press having the device |
US6900826B2 (en) * | 2002-02-19 | 2005-05-31 | Presstek, Inc. | Multiple resolution helical imaging system and method |
US6867794B2 (en) * | 2003-01-30 | 2005-03-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Adjusting a scan line in a laser imaging device |
US7042484B2 (en) * | 2003-03-20 | 2006-05-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Scan line length adjustment |
US7012246B1 (en) * | 2004-08-23 | 2006-03-14 | Lexmark International, Inc. | Multiple light beam imaging apparatus |
GB2452192A (en) | 2006-06-30 | 2009-02-25 | Kodak Graphic Comm Canada Co | Methods and apparatus for applying patterns of non-contiguous features |
US20090309954A1 (en) * | 2006-06-30 | 2009-12-17 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Methods and apparatus for selecting and applying non-contiguous features in a pattern |
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