JPH116968A - 光制御装置 - Google Patents
光制御装置Info
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- JPH116968A JPH116968A JP9159475A JP15947597A JPH116968A JP H116968 A JPH116968 A JP H116968A JP 9159475 A JP9159475 A JP 9159475A JP 15947597 A JP15947597 A JP 15947597A JP H116968 A JPH116968 A JP H116968A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像表示面全体に対する開口の占める開口率
を小さくすることなく、簡単な構造で、かつ少ない消費
電力により光の透過量を制御できる光制御装置を提供す
ること。 【解決手段】 空洞部１３に対応した位置に設けられた
不透明な可動シャッター１１は、空洞部１３の位置以外
の部分にある上部電極２に電気的に接続されたヒンジ部
１２により、揺動可能に支持され、図示しない電源は、
絶縁性の基板１の底部に設けられた下部電極２１及びそ
の上方にある上部電極２に電荷を印加する。そして、可
動シャッターは、電源により印加された電荷の静電気力
によって、開口を開閉し、開口を開放した状態において
は、突起部２４に接触して、光の透過量を制御する。
を小さくすることなく、簡単な構造で、かつ少ない消費
電力により光の透過量を制御できる光制御装置を提供す
ること。 【解決手段】 空洞部１３に対応した位置に設けられた
不透明な可動シャッター１１は、空洞部１３の位置以外
の部分にある上部電極２に電気的に接続されたヒンジ部
１２により、揺動可能に支持され、図示しない電源は、
絶縁性の基板１の底部に設けられた下部電極２１及びそ
の上方にある上部電極２に電荷を印加する。そして、可
動シャッターは、電源により印加された電荷の静電気力
によって、開口を開閉し、開口を開放した状態において
は、突起部２４に接触して、光の透過量を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の透過量を制御
する光制御装置に関し、特に、線状もしくはマトリック
ス状に配設された可動シャッターを静電気力により開閉
して、光の透過量を制御する光制御装置に関する。
する光制御装置に関し、特に、線状もしくはマトリック
ス状に配設された可動シャッターを静電気力により開閉
して、光の透過量を制御する光制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光の透過量を制御する光制御装置
として、例えば、特開平６−２５０５９３号公報には、
微小機械式シャッターを用いて、光の透過量を制御する
装置が開示されている。
として、例えば、特開平６−２５０５９３号公報には、
微小機械式シャッターを用いて、光の透過量を制御する
装置が開示されている。
【０００３】この装置は、基板上の一部に設けられた開
口と、その開口の上方に位置し、水平に移動することに
より開口を開閉する微小機械式シャッターと、その微小
機械式シャッターに電気的に接続された浮遊ゲートとか
ら構成されており、微小機械式シャッターは、浮遊ゲー
トに電荷を供給することにより、開口を開くように移動
し、浮遊ゲートから電荷を放電させることにより、開口
を閉じるように移動する。すなわち、本装置の微小機械
式シャッターは、浮遊ゲートとの静電気力によって、前
記開口を開閉し、光の透過量を制御していた。
口と、その開口の上方に位置し、水平に移動することに
より開口を開閉する微小機械式シャッターと、その微小
機械式シャッターに電気的に接続された浮遊ゲートとか
ら構成されており、微小機械式シャッターは、浮遊ゲー
トに電荷を供給することにより、開口を開くように移動
し、浮遊ゲートから電荷を放電させることにより、開口
を閉じるように移動する。すなわち、本装置の微小機械
式シャッターは、浮遊ゲートとの静電気力によって、前
記開口を開閉し、光の透過量を制御していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光制御装置は、微小機械式シャッターが水平に移動しな
がら前記開口を開閉していたので、開口の領域と、その
開口が開放された状態において微小機械式シャッターが
退避する領域とを設ける必要があった。
光制御装置は、微小機械式シャッターが水平に移動しな
がら前記開口を開閉していたので、開口の領域と、その
開口が開放された状態において微小機械式シャッターが
退避する領域とを設ける必要があった。
【０００５】従って、開口ごとに画素を構成し、その画
素を線状もしくはマトリクス状に配列して画像表示面を
構成するような場合には、画像表示面全体に対する開口
の占める開口率が非常に小さくなるという問題があっ
た。
素を線状もしくはマトリクス状に配列して画像表示面を
構成するような場合には、画像表示面全体に対する開口
の占める開口率が非常に小さくなるという問題があっ
た。
【０００６】また、本装置は、微小機械式シャッターを
開放もしくは閉鎖の状態に維持するために、電荷を微小
機械式シャッター及び浮遊ゲートに保持させる構造とし
なければならず、装置全体の構造が複雑になるという問
題があった。
開放もしくは閉鎖の状態に維持するために、電荷を微小
機械式シャッター及び浮遊ゲートに保持させる構造とし
なければならず、装置全体の構造が複雑になるという問
題があった。
【０００７】さらに、本装置は、微小機械式シャッター
を開放もしくは閉鎖の状態に維持するために、電荷を微
小機械式シャッター及び浮遊ゲートに供給し続けなけれ
ばならず、消費電力が増加するという問題があった。
を開放もしくは閉鎖の状態に維持するために、電荷を微
小機械式シャッター及び浮遊ゲートに供給し続けなけれ
ばならず、消費電力が増加するという問題があった。
【０００８】本発明は上述した問題を解決するためにな
されたものであり、画像表示面全体に対する開口の占め
る開口率を小さくすることなく、簡単な構造で、かつ少
ない消費電力により光の透過量を制御できる光制御装置
を提供することを目的としている。
されたものであり、画像表示面全体に対する開口の占め
る開口率を小さくすることなく、簡単な構造で、かつ少
ない消費電力により光の透過量を制御できる光制御装置
を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の請求項１に記載の光制御装置は、絶縁性の
基板の底部に設けられた第１の電極と、前記基板の一部
に上下に貫通するように設けられた開口と、前記基板の
上部であって、前記開口に対応した位置以外の部分に、
前記第一の電極の上方に対応した位置に設けられた第２
の電極と、前記開口に対応した位置に設けられ、前記第
２の電極に電気的に接続された軸により揺動可能に支持
された不透明な可動薄膜導体と、前記第１の電極及び前
記第２の電極に電荷を印加する電荷印加手段とを備え、
その電荷印加手段により印加された電荷の静電気力によ
って、前記可動薄膜導体を揺動させながら光の透過量を
制御するものを対象として、特に、前記開口を開放した
前記可動薄膜導体に接触してその揺動を規制する規制部
材を備えたことを特徴としている。
に、本発明の請求項１に記載の光制御装置は、絶縁性の
基板の底部に設けられた第１の電極と、前記基板の一部
に上下に貫通するように設けられた開口と、前記基板の
上部であって、前記開口に対応した位置以外の部分に、
前記第一の電極の上方に対応した位置に設けられた第２
の電極と、前記開口に対応した位置に設けられ、前記第
２の電極に電気的に接続された軸により揺動可能に支持
された不透明な可動薄膜導体と、前記第１の電極及び前
記第２の電極に電荷を印加する電荷印加手段とを備え、
その電荷印加手段により印加された電荷の静電気力によ
って、前記可動薄膜導体を揺動させながら光の透過量を
制御するものを対象として、特に、前記開口を開放した
前記可動薄膜導体に接触してその揺動を規制する規制部
材を備えたことを特徴としている。
【００１０】上記構成を有する本発明の請求項１に記載
の光制御装置において、開口に対応した位置に設けられ
た不透明な可動薄膜導体は、開口の位置以外の部分にあ
る第２の電極に電気的に接続された軸により、揺動可能
に支持され、電荷印加手段は、絶縁性の基板の底部に設
けられた第１の電極及びその上方にある第２の電極に電
荷を印加する。そして、可動薄膜導体は、電荷印加手段
により印加された電荷の静電気力によって、開口を開閉
し、開口を開放した状態においては、規制部材に接触し
て、光の透過量を制御する。
の光制御装置において、開口に対応した位置に設けられ
た不透明な可動薄膜導体は、開口の位置以外の部分にあ
る第２の電極に電気的に接続された軸により、揺動可能
に支持され、電荷印加手段は、絶縁性の基板の底部に設
けられた第１の電極及びその上方にある第２の電極に電
荷を印加する。そして、可動薄膜導体は、電荷印加手段
により印加された電荷の静電気力によって、開口を開閉
し、開口を開放した状態においては、規制部材に接触し
て、光の透過量を制御する。
【００１１】また、請求項２に記載の光制御装置は、前
記規制部材を、前記第１の電極に備えたことを特徴とし
ている。
記規制部材を、前記第１の電極に備えたことを特徴とし
ている。
【００１２】上記構成を有する請求項２に記載の光制御
装置において、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印
加された電荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口
を開放した状態においては、第１の電極に備えられた規
制部材に接触するようにして、光の透過量を制御する。
装置において、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印
加された電荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口
を開放した状態においては、第１の電極に備えられた規
制部材に接触するようにして、光の透過量を制御する。
【００１３】また、請求項３に記載の光制御装置は、前
記規制部材及び前記可動薄膜導体の少なくともいずれか
一方の表面に、絶縁性の部材を被覆したことを特徴とし
ている。
記規制部材及び前記可動薄膜導体の少なくともいずれか
一方の表面に、絶縁性の部材を被覆したことを特徴とし
ている。
【００１４】上記構成を有する請求項３に記載の光制御
装置において、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印
加された電荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口
を開放した状態においては、絶縁性の部材を被覆された
規制部材に接触して、光を透過させる。一方、規制部材
に接触した後に開口を閉じる場合には、規制部材が導体
であっても、可動薄膜導体及び規制部材に同じ極性の電
荷を印加すれば、前記開口を閉じることができ、光を遮
断することができる。
装置において、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印
加された電荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口
を開放した状態においては、絶縁性の部材を被覆された
規制部材に接触して、光を透過させる。一方、規制部材
に接触した後に開口を閉じる場合には、規制部材が導体
であっても、可動薄膜導体及び規制部材に同じ極性の電
荷を印加すれば、前記開口を閉じることができ、光を遮
断することができる。
【００１５】さらに、請求項４に記載の光制御装置は、
前記第１の電極を、透明電極としたことを特徴としてい
る。
前記第１の電極を、透明電極としたことを特徴としてい
る。
【００１６】上記構成を有する請求項４に記載の光制御
装置において、電荷印加手段は、透明な第１の電極及び
その上方にある第２の電極に電荷を印加し、可動薄膜導
体は、その電荷印加手段により印加された電荷の静電気
力によって、開口を開閉し、開口を開放した状態におい
ては、規制部材に接触するようにして、光の透過量を制
御する。そして、本装置の使用者は、反射光ではなく、
光制御装置の背面から照射された透過光により、画像を
認識することができる。
装置において、電荷印加手段は、透明な第１の電極及び
その上方にある第２の電極に電荷を印加し、可動薄膜導
体は、その電荷印加手段により印加された電荷の静電気
力によって、開口を開閉し、開口を開放した状態におい
ては、規制部材に接触するようにして、光の透過量を制
御する。そして、本装置の使用者は、反射光ではなく、
光制御装置の背面から照射された透過光により、画像を
認識することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００１８】図１は、本発明の実施の形態における光制
御装置の概略構成を説明するための説明図であり、図２
は、本実施の形態の可動シャッター及び上部電極の接続
状態を説明するための説明図である。図１において、本
実施の形態の光制御装置９は、線状もしくはマトリクス
状に配列されて、画像表示装置の画像表示面３を構成す
るものであり、絶縁性の基板１の底部に設けられた透明
な第１の電極である下部電極２１と、基板１上の一部に
設けられた開口である空洞部１３と、空洞部１３に対応
した位置以外の部分に、下部電極２１の上方に対応した
位置に設けられた不透明な第２の電極である上部電極２
と、空洞部１３に対応した位置に設けられ、上部電極２
に電気的に接続された軸であるヒンジ部１２により揺動
可能に支持された不透明な可動薄膜導体である可動シャ
ッター１１と、空洞部１３を開放した状態において可動
シャッター１１に接触する、基板１の底部に設けられた
規制部材である突起部２４と、下部電極２１及び上部電
極２に電荷を印加する図示しない電荷印加手段である電
源とから構成されている。
御装置の概略構成を説明するための説明図であり、図２
は、本実施の形態の可動シャッター及び上部電極の接続
状態を説明するための説明図である。図１において、本
実施の形態の光制御装置９は、線状もしくはマトリクス
状に配列されて、画像表示装置の画像表示面３を構成す
るものであり、絶縁性の基板１の底部に設けられた透明
な第１の電極である下部電極２１と、基板１上の一部に
設けられた開口である空洞部１３と、空洞部１３に対応
した位置以外の部分に、下部電極２１の上方に対応した
位置に設けられた不透明な第２の電極である上部電極２
と、空洞部１３に対応した位置に設けられ、上部電極２
に電気的に接続された軸であるヒンジ部１２により揺動
可能に支持された不透明な可動薄膜導体である可動シャ
ッター１１と、空洞部１３を開放した状態において可動
シャッター１１に接触する、基板１の底部に設けられた
規制部材である突起部２４と、下部電極２１及び上部電
極２に電荷を印加する図示しない電荷印加手段である電
源とから構成されている。
【００１９】下部電極２１は、ポリイミドからなる基板
１の底部に透明電極として形成される。
１の底部に透明電極として形成される。
【００２０】また、空洞部１３は、ポリイミドからなる
基板１の裏面に成膜された酸化シリコンをマスクとし
て、ドライエッチングよって形成される。この製造方法
は、従来の半導体製造技術として周知であるので、ここ
では、詳細には説明しない。
基板１の裏面に成膜された酸化シリコンをマスクとし
て、ドライエッチングよって形成される。この製造方法
は、従来の半導体製造技術として周知であるので、ここ
では、詳細には説明しない。
【００２１】また、上部電極２は、空洞部１３に対応し
た位置以外の部分が不透明な金属膜で覆われているの
で、光は、上部電極２を透過しない。
た位置以外の部分が不透明な金属膜で覆われているの
で、光は、上部電極２を透過しない。
【００２２】また、可動シャッター１１は、空洞部１３
が形成された基板１にアルミニウム薄膜をエッチングす
ることにより形成され、図２に示すように、可動シャッ
ター１１の中心から離れた非対称な位置で、ヒンジ部１
２により揺動可能となるように、上部電極２に電気的に
接続されている。但し、可動シャッター１１は、その可
動シャッター１１に外力が印加されない状態において
は、ヒンジ部１２によって、画像表示面３に対して略水
平に保持され、画像表示面３上部から光が照射された場
合には、光は、画像表示面３の下部には透過されず、遮
断される。また、可動シャッター１１に外力が印加され
た状態においては、可動シャッター１１が空洞部１３内
において揺動し、画像表示面３の上部から光が照射され
た場合には、光は、画像表示面３の下部に透過される。
が形成された基板１にアルミニウム薄膜をエッチングす
ることにより形成され、図２に示すように、可動シャッ
ター１１の中心から離れた非対称な位置で、ヒンジ部１
２により揺動可能となるように、上部電極２に電気的に
接続されている。但し、可動シャッター１１は、その可
動シャッター１１に外力が印加されない状態において
は、ヒンジ部１２によって、画像表示面３に対して略水
平に保持され、画像表示面３上部から光が照射された場
合には、光は、画像表示面３の下部には透過されず、遮
断される。また、可動シャッター１１に外力が印加され
た状態においては、可動シャッター１１が空洞部１３内
において揺動し、画像表示面３の上部から光が照射され
た場合には、光は、画像表示面３の下部に透過される。
【００２３】また、突起部２４は、下部電極２１に透明
電極をエッチング加工し、一部を突起形状とすることに
より形成され、下部電極２１に電気的に接続される。こ
の形成方法は、従来の技術として周知であるので、ここ
では詳細には説明しない。また、突起部２４は、表面を
図示しない絶縁性の部材によって被覆されているととも
に、可動シャッター１１が揺動し、画像表示面３に対し
て略垂直になった時にその可動シャッターに接触するよ
うな位置に設けられている。
電極をエッチング加工し、一部を突起形状とすることに
より形成され、下部電極２１に電気的に接続される。こ
の形成方法は、従来の技術として周知であるので、ここ
では詳細には説明しない。また、突起部２４は、表面を
図示しない絶縁性の部材によって被覆されているととも
に、可動シャッター１１が揺動し、画像表示面３に対し
て略垂直になった時にその可動シャッターに接触するよ
うな位置に設けられている。
【００２４】また、光制御装置９は、電源により印加さ
れた電荷の静電気力によって、可動シャッターを揺動さ
せながら光の透過量を制御する。例えば、上部電極２に
正の電荷、下部電極２１に負の電荷が電源によって印加
されると、上部電極２に電気的に接続されたヒンジ部１
２を介して、可動シャッター１１にも正の電荷が供給さ
れ、可動シャッター１１と下部電極２１との間には、引
き合う静電気力が発生する。ここで、可動シャッター１
１は、非対称な位置においてヒンジ部１２により支持さ
れているので、可動シャッター１１全体に均一に外力が
加わったとしても、可動シャッター１１は、空洞部１３
の内部をヒンジ部１２を中心に揺動する。揺動し始めた
可動シャッター１１は、下部電極２１に設けられた突起
部２４に接触して停止し、その状態において画像表示面
３の上部から光が照射された場合には、光は、画像表示
面３の下部に透過される。
れた電荷の静電気力によって、可動シャッターを揺動さ
せながら光の透過量を制御する。例えば、上部電極２に
正の電荷、下部電極２１に負の電荷が電源によって印加
されると、上部電極２に電気的に接続されたヒンジ部１
２を介して、可動シャッター１１にも正の電荷が供給さ
れ、可動シャッター１１と下部電極２１との間には、引
き合う静電気力が発生する。ここで、可動シャッター１
１は、非対称な位置においてヒンジ部１２により支持さ
れているので、可動シャッター１１全体に均一に外力が
加わったとしても、可動シャッター１１は、空洞部１３
の内部をヒンジ部１２を中心に揺動する。揺動し始めた
可動シャッター１１は、下部電極２１に設けられた突起
部２４に接触して停止し、その状態において画像表示面
３の上部から光が照射された場合には、光は、画像表示
面３の下部に透過される。
【００２５】可動シャッター１１が突起部２４に接触す
ると、それらの間には、分子間力が発生し、電源が電荷
の印加を停止した後においても、その接触の状態が保持
される。
ると、それらの間には、分子間力が発生し、電源が電荷
の印加を停止した後においても、その接触の状態が保持
される。
【００２６】次に、上部電極２及び下部電極２１に正の
電荷が電源によって印加されると、上部電極２に電気的
に接続されたヒンジ部１２を介して、可動シャッター１
１にも正の電荷が供給され、突起部２４は、絶縁性の部
材で被覆されているので、可動シャッター１１と下部電
極２１との間には、反発する静電気力が発生する。可動
シャッター１１は、その反発する静電気力とヒンジ部１
２のねじれ力とが前記分子間力を超えた場合に、空洞部
１３の内部をヒンジ部１２を中心に揺動し、揺動し始め
た可動シャッター１１は、画像表示面３に対して水平に
なるように復帰する。その状態において画像表示面３の
上部から光が照射された場合には、光は、画像表示面３
の下部に透過されず、遮断される。
電荷が電源によって印加されると、上部電極２に電気的
に接続されたヒンジ部１２を介して、可動シャッター１
１にも正の電荷が供給され、突起部２４は、絶縁性の部
材で被覆されているので、可動シャッター１１と下部電
極２１との間には、反発する静電気力が発生する。可動
シャッター１１は、その反発する静電気力とヒンジ部１
２のねじれ力とが前記分子間力を超えた場合に、空洞部
１３の内部をヒンジ部１２を中心に揺動し、揺動し始め
た可動シャッター１１は、画像表示面３に対して水平に
なるように復帰する。その状態において画像表示面３の
上部から光が照射された場合には、光は、画像表示面３
の下部に透過されず、遮断される。
【００２７】なお、本実施の形態では、下部電極２１を
透明電極としたが、不透明な電極としてもよい。この場
合には、本光制御装置の使用者は、反射光により所定の
画像を認識することができる。
透明電極としたが、不透明な電極としてもよい。この場
合には、本光制御装置の使用者は、反射光により所定の
画像を認識することができる。
【００２８】また、本実施の形態では、突起部２４を導
体で構成したが、半導体で構成してもよく、絶縁体で構
成してもよい。突起部２４を絶縁体で構成した場合に
は、突起部２４の近傍に下部電極２１に電気的に接続さ
れた導体部を設ければよく、突起部２４の被覆は不要と
なる。
体で構成したが、半導体で構成してもよく、絶縁体で構
成してもよい。突起部２４を絶縁体で構成した場合に
は、突起部２４の近傍に下部電極２１に電気的に接続さ
れた導体部を設ければよく、突起部２４の被覆は不要と
なる。
【００２９】また、本実施の形態では、突起部２４は、
下部電極２１に設けたが、基板１の底部に設けてもよ
い。この場合には、本光制御装置の使用者は、突起部２
４が形成し易い箇所を選択して、下部電極２１、もしく
は基板１に突起部２４を設ければよい。
下部電極２１に設けたが、基板１の底部に設けてもよ
い。この場合には、本光制御装置の使用者は、突起部２
４が形成し易い箇所を選択して、下部電極２１、もしく
は基板１に突起部２４を設ければよい。
【００３０】さらに、本実施の形態においては、可動シ
ャッター１１を画像表示面３に水平に復帰させる場合
に、上部電極２及び下部電極２１に正の電荷を印加した
が、負の電荷を印加してもよい。
ャッター１１を画像表示面３に水平に復帰させる場合
に、上部電極２及び下部電極２１に正の電荷を印加した
が、負の電荷を印加してもよい。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明の請求項１に記載の光制御装置によれば、電荷印
加手段は、絶縁性の基板の底部に設けられた第１の電極
及びその上方にある第２の電極に電荷を印加し、可動薄
膜導体は、電荷印加手段により印加された電荷の静電気
力によって、開口を開閉し、開口を開放した状態におい
ては、規制部材に接触して、光の透過量を制御するの
で、画像表示面全体に対する開口の占める開口率を小さ
くすることなく、簡単な構造で、かつ少ない消費電力に
より光の透過量を制御することができる。
本発明の請求項１に記載の光制御装置によれば、電荷印
加手段は、絶縁性の基板の底部に設けられた第１の電極
及びその上方にある第２の電極に電荷を印加し、可動薄
膜導体は、電荷印加手段により印加された電荷の静電気
力によって、開口を開閉し、開口を開放した状態におい
ては、規制部材に接触して、光の透過量を制御するの
で、画像表示面全体に対する開口の占める開口率を小さ
くすることなく、簡単な構造で、かつ少ない消費電力に
より光の透過量を制御することができる。
【００３２】また、請求項２に記載の光制御装置によれ
ば、規制部材が、第１の電極に備えられているので、規
制部材を第１の電極とともに簡単に形成できるともに、
規制部材を第１の電極と同一の材料とすれば、規制部材
と第１の電極との電気的な接触を簡単に得ることができ
る。
ば、規制部材が、第１の電極に備えられているので、規
制部材を第１の電極とともに簡単に形成できるともに、
規制部材を第１の電極と同一の材料とすれば、規制部材
と第１の電極との電気的な接触を簡単に得ることができ
る。
【００３３】また、請求項３に記載の光制御装置によれ
ば、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印加された電
荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口を開放した
状態においては、絶縁性の部材を被覆された規制部材に
接触するので、規制部材に接触した後に開口を閉じる場
合には、規制部材が導体であっても、可動薄膜導体及び
規制部材に同じ極性の電荷を印加すれば、前記開口を閉
じることができ、光を遮断することができる。
ば、可動薄膜導体は、電荷印加手段により印加された電
荷の静電気力によって、開口を開閉し、開口を開放した
状態においては、絶縁性の部材を被覆された規制部材に
接触するので、規制部材に接触した後に開口を閉じる場
合には、規制部材が導体であっても、可動薄膜導体及び
規制部材に同じ極性の電荷を印加すれば、前記開口を閉
じることができ、光を遮断することができる。
【００３４】さらに、請求項４に記載の光制御装置によ
れば、第１の電極を透明電極としたので、本装置の使用
者は、反射光ではなく、光制御装置の背面から照射され
た透過光によっても、画像を認識することができる。
れば、第１の電極を透明電極としたので、本装置の使用
者は、反射光ではなく、光制御装置の背面から照射され
た透過光によっても、画像を認識することができる。
【図１】本発明の実施の形態における光制御装置の概略
構成を説明するための説明図である。
構成を説明するための説明図である。
【図２】本実施の形態の可動シャッター及び上部電極の
接続状態を説明するための説明図である。
接続状態を説明するための説明図である。
１ 基板 ２ 上部電極 １１ シャッター可動部 １２ ヒンジ部 １３ 空洞部 ２１ 下部電極 ２４ 突起部 ９ 光制御装置
Claims (4)
- 【請求項１】 絶縁性の基板の底部に設けられた第１の
電極と、 前記基板の一部に上下を貫通するように設けられた開口
と、 前記基板の上部であって、前記開口に対応した位置以外
の部分に、前記第一の電極の上方に対応した位置に設け
られた第２の電極と、 前記開口に対応した位置に設けられ、前記第２の電極に
電気的に接続された軸により揺動可能に支持された不透
明な可動薄膜導体と、 前記第１の電極及び前記第２の電極に電荷を印加する電
荷印加手段とを備え、 その電荷印加手段により印加された電荷の静電気力によ
って、前記可動薄膜導体を揺動させながら光の透過量を
制御する光制御装置において、 前記開口を開放した前記可動薄膜導体に接触してその揺
動を規制する規制部材を備えたことを特徴とする光制御
装置。 - 【請求項２】 前記規制部材を、前記第１の電極に備え
たことを特徴とする請求項１に記載の光制御装置。 - 【請求項３】 前記規制部材及び前記可動薄膜導体の少
なくともいずれか一方の表面に、絶縁性の部材を被覆し
たことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載の
光制御装置。 - 【請求項４】 前記第１の電極を、透明電極としたこと
を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の
光制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159475A JPH116968A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 光制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159475A JPH116968A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 光制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116968A true JPH116968A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15694591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9159475A Pending JPH116968A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 光制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116968A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000352943A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-19 | Xerox Corp | 超精密電気機械式シャッタ・アセンブリ及び同形成方法 |
| JP5229599B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-07-03 | 貴央 山口 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
| WO2014132460A1 (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Yamaguchi Takahisa | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
| WO2024009340A1 (ja) * | 2022-07-04 | 2024-01-11 | 株式会社日立ハイテク | 光フィルタリングデバイス、ｍｅｍｓシャッタ |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP9159475A patent/JPH116968A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000352943A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-19 | Xerox Corp | 超精密電気機械式シャッタ・アセンブリ及び同形成方法 |
| JP5229599B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-07-03 | 貴央 山口 | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
| WO2014132460A1 (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Yamaguchi Takahisa | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
| WO2024009340A1 (ja) * | 2022-07-04 | 2024-01-11 | 株式会社日立ハイテク | 光フィルタリングデバイス、ｍｅｍｓシャッタ |
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