JPH116723A - 表面粗さ評価法および磁気記録媒体 - Google Patents
表面粗さ評価法および磁気記録媒体Info
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- JPH116723A JPH116723A JP9160731A JP16073197A JPH116723A JP H116723 A JPH116723 A JP H116723A JP 9160731 A JP9160731 A JP 9160731A JP 16073197 A JP16073197 A JP 16073197A JP H116723 A JPH116723 A JP H116723A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気記録媒体の表面粗さを評価する従来法で
は、粗さの測定値が表面吸着物の影響を受け易く、測定
値は表面粗さによる突起なのか、吸着物なのかの判別が
つかない。本発明はこの課題を解決し、表面状態に影響
されずに比較的広い範囲にわたって表面粗さを容易に評
価し、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを特
徴づける新たな指標を与える評価方法を提供することに
ある。 【解決手段】Ｘ線回折法のθ−２θスキャン法とロッキ
ングカ−ブ法での表面粗さ測定により、吸着物の影響を
受けずにテクスチャ−処理をした磁気記録媒体の表面粗
さを評価できる新指標を得ることができる。さらに磁気
記録媒体の磁化方向の保持力を高めるためには、ロッキ
ングカ−ブ半価幅が８°以下が良い。
は、粗さの測定値が表面吸着物の影響を受け易く、測定
値は表面粗さによる突起なのか、吸着物なのかの判別が
つかない。本発明はこの課題を解決し、表面状態に影響
されずに比較的広い範囲にわたって表面粗さを容易に評
価し、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを特
徴づける新たな指標を与える評価方法を提供することに
ある。 【解決手段】Ｘ線回折法のθ−２θスキャン法とロッキ
ングカ−ブ法での表面粗さ測定により、吸着物の影響を
受けずにテクスチャ−処理をした磁気記録媒体の表面粗
さを評価できる新指標を得ることができる。さらに磁気
記録媒体の磁化方向の保持力を高めるためには、ロッキ
ングカ−ブ半価幅が８°以下が良い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュ−タ等の
ハ−ドディスク装置などに使用される磁気ディスク等の
磁気記録媒体の基板の表面粗さ、特にテクスチャ−によ
る表面粗さの評価法、およびこの方法を用いた磁気記録
媒体の評価に関する。
ハ−ドディスク装置などに使用される磁気ディスク等の
磁気記録媒体の基板の表面粗さ、特にテクスチャ−によ
る表面粗さの評価法、およびこの方法を用いた磁気記録
媒体の評価に関する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置に用いられている
一般的な磁気記録媒体の構成を図６に示す。この図にお
いて、磁気記録媒体は、次に述べるような工程で製造さ
れている。まず、ディスク状の非磁性の基体１は、非磁
性基板１１上に非磁性金属層１２を積層して形成され
る。次に、この基体１の上に、Ａｒガス雰囲気下のスパ
ッタリング蒸着法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる非
磁性の金属下地層２と、強磁性合金体であるＣｏ−Ｃｒ
−Ｔａ−Ｐｔ（コバルト−クロム−タンタル−白金）と
いったＣｏ系合金などから成る磁性層３とが、順次積層
される。さらに、この磁性層の上にアモルファスカ−ボ
ン保護層４が形成され、この保護層４の上に、フルオロ
カ−ボン系の液体潤滑剤からなる潤滑層５が塗布され
て、磁気記録媒体が完成する。
一般的な磁気記録媒体の構成を図６に示す。この図にお
いて、磁気記録媒体は、次に述べるような工程で製造さ
れている。まず、ディスク状の非磁性の基体１は、非磁
性基板１１上に非磁性金属層１２を積層して形成され
る。次に、この基体１の上に、Ａｒガス雰囲気下のスパ
ッタリング蒸着法によりＣｒまたはＣｒ合金からなる非
磁性の金属下地層２と、強磁性合金体であるＣｏ−Ｃｒ
−Ｔａ−Ｐｔ（コバルト−クロム−タンタル−白金）と
いったＣｏ系合金などから成る磁性層３とが、順次積層
される。さらに、この磁性層の上にアモルファスカ−ボ
ン保護層４が形成され、この保護層４の上に、フルオロ
カ−ボン系の液体潤滑剤からなる潤滑層５が塗布され
て、磁気記録媒体が完成する。
【０００３】ここで、ディスク状の非磁性の基体１とし
ては、例えばＡｌ−Ｍｇ合金基体に無電解メッキにより
Ｎｉ−Ｐメッキ層を形成したものや、アルマイト基体、
ガラス基体、セラミック基体などが用いられる。そし
て、この基体を研磨し、表面にテクスチャ−と呼ばれる
凹凸面が形成される。このテクスチャ−は磁気ヘッドと
媒体の間の吸着と摩擦を減らす目的で付けられており、
その凹凸の度合いは磁気記録媒体の性能に関連する重要
な数値である。
ては、例えばＡｌ−Ｍｇ合金基体に無電解メッキにより
Ｎｉ−Ｐメッキ層を形成したものや、アルマイト基体、
ガラス基体、セラミック基体などが用いられる。そし
て、この基体を研磨し、表面にテクスチャ−と呼ばれる
凹凸面が形成される。このテクスチャ−は磁気ヘッドと
媒体の間の吸着と摩擦を減らす目的で付けられており、
その凹凸の度合いは磁気記録媒体の性能に関連する重要
な数値である。
【０００４】このテクスチャ−の凹凸の度合いの評価装
置としては、これまで表面粗さ計、原子間力顕微鏡（以
下ＡＦＭと記載）が用いられている。また、表面粗さの
定義と表示については「ＪＩＳ Ｂ ０６０１」規格が
参考になるが、磁気記録媒体の表面粗さを特徴付ける指
標としては、主に中心線（面）平均粗さ（Ｒａ）が使用
されている。また、この他にも最大高さ（Ｒｍａｘ）、
十点平均粗さ（Ｒｚ）等多数の指標もある。
置としては、これまで表面粗さ計、原子間力顕微鏡（以
下ＡＦＭと記載）が用いられている。また、表面粗さの
定義と表示については「ＪＩＳ Ｂ ０６０１」規格が
参考になるが、磁気記録媒体の表面粗さを特徴付ける指
標としては、主に中心線（面）平均粗さ（Ｒａ）が使用
されている。また、この他にも最大高さ（Ｒｍａｘ）、
十点平均粗さ（Ｒｚ）等多数の指標もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の手法の一つであ
るＡＦＭを用いた表面の粗さの評価では、磁気記録媒体
表面を比較的狭い範囲で測定し、例えばＲａやＲｍａｘ
などの粗さを表現する多数の指標（パラメ−タ）がある
が、ＡＦＭでの粗さの測定値は表面の吸着物の影響を受
け易いことが欠点である。つまり、測定値は表面粗さに
よる突起なのか、または吸着物なのかの判別がつかな
い。本発明はこの従来の欠点に鑑み、表面の状態に影響
されずに比較的広い範囲にわたって表面粗さを容易に評
価し、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを特
徴づける新たな指標を与える評価方法を提供することに
ある。
るＡＦＭを用いた表面の粗さの評価では、磁気記録媒体
表面を比較的狭い範囲で測定し、例えばＲａやＲｍａｘ
などの粗さを表現する多数の指標（パラメ−タ）がある
が、ＡＦＭでの粗さの測定値は表面の吸着物の影響を受
け易いことが欠点である。つまり、測定値は表面粗さに
よる突起なのか、または吸着物なのかの判別がつかな
い。本発明はこの従来の欠点に鑑み、表面の状態に影響
されずに比較的広い範囲にわたって表面粗さを容易に評
価し、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを特
徴づける新たな指標を与える評価方法を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明では、Ｘ線回折法の一つの手法であるロッ
キングカ−ブ法を用いて、表面粗さを測定をすることと
する。この方法は、Ｘ線が薄膜内部に侵入するために表
面にある吸着物の影響を受けないという原理を利用して
いる。この測定により、吸着物の影響を受けずにテクス
チャ−処理をした磁気記録媒体の表面粗さを評価できる
新たな指標を与えることができる。
めに、本発明では、Ｘ線回折法の一つの手法であるロッ
キングカ−ブ法を用いて、表面粗さを測定をすることと
する。この方法は、Ｘ線が薄膜内部に侵入するために表
面にある吸着物の影響を受けないという原理を利用して
いる。この測定により、吸着物の影響を受けずにテクス
チャ−処理をした磁気記録媒体の表面粗さを評価できる
新たな指標を与えることができる。
【０００７】以下に、磁気記録媒体の下地層２または磁
性層３の試料を用いてロッキングカ−ブ法による表面粗
さの測定方法の手順を図５と図８を用いて説明する。ま
ず、図５に示すように、磁気記録媒体試料の置いた表面
をＸＹ平面として、Ｘ線はこのＸＹ平面に角度θで入射
するものとする。そして、試料の表面粗さを評価したい
方向が、入射Ｘ線と回折Ｘ線をこの試料面内に投影した
方向と平行になるように試料の測定点を設置する。この
図で円周方向を測定したい場合には、Ｘ軸の偏角αを０
度に、また、半径方向の場合には、偏角αを９０度とし
て設置する。
性層３の試料を用いてロッキングカ−ブ法による表面粗
さの測定方法の手順を図５と図８を用いて説明する。ま
ず、図５に示すように、磁気記録媒体試料の置いた表面
をＸＹ平面として、Ｘ線はこのＸＹ平面に角度θで入射
するものとする。そして、試料の表面粗さを評価したい
方向が、入射Ｘ線と回折Ｘ線をこの試料面内に投影した
方向と平行になるように試料の測定点を設置する。この
図で円周方向を測定したい場合には、Ｘ軸の偏角αを０
度に、また、半径方向の場合には、偏角αを９０度とし
て設置する。
【０００８】測定は図８に示すような２段階の手順でで
行う。まず、試料の測定したい下地層２または磁性層３
で、Ｘ線回折法のθ−２θスキャン法により、試料のθ
と回折Ｘ線の検出器の２θの角度とを同時に回転スキャ
ンしながら、検出器の出力の最大の位置、すなわち結晶
面のピ−ク位置（２θP ）を測定する。次に、回折Ｘ線
用検出器をその結晶面のピ−ク位置（２θP ）に固定し
た状態で、試料のθだけを回転スキャンしながら検出器
の出力の測定を行う。ここでは２θP が一定のため、ロ
ッキングカ−ブによって得られた回折ピ−クは、基板面
に対する下地層または磁性層の結晶面の傾きの分布を表
わしている。この回折ピ−クの半価幅がロッキングカ−
ブの半価幅である。
行う。まず、試料の測定したい下地層２または磁性層３
で、Ｘ線回折法のθ−２θスキャン法により、試料のθ
と回折Ｘ線の検出器の２θの角度とを同時に回転スキャ
ンしながら、検出器の出力の最大の位置、すなわち結晶
面のピ−ク位置（２θP ）を測定する。次に、回折Ｘ線
用検出器をその結晶面のピ−ク位置（２θP ）に固定し
た状態で、試料のθだけを回転スキャンしながら検出器
の出力の測定を行う。ここでは２θP が一定のため、ロ
ッキングカ−ブによって得られた回折ピ−クは、基板面
に対する下地層または磁性層の結晶面の傾きの分布を表
わしている。この回折ピ−クの半価幅がロッキングカ−
ブの半価幅である。
【０００９】テクスチャ−基板を用いた磁気記録媒体を
上記の方法で測定すると、測定方向によってロッキング
カ−ブ半価幅に大きな違いがみられる。その様子を模式
的に図７に示す。この図では、テクスチャ−が磁気ディ
スクの円周方向にある磁気記録媒体について、円周方向
および半径方向のロッキングカ−ブ半価幅のθcir およ
びθrad の測定結果を示す。結晶面の傾きのうねりが大
きい半径方向のθradは平坦な円周方向のθcir に比べ
てロッキングカ−ブ半価幅が大きく、この半価幅の違い
は正に試料の表面粗さの違いを表わしている。したがっ
て、このロッキングカ−ブ半価幅は、テクスチャ−によ
る磁気記録媒体の表面粗さを特徴づける新らしい指標と
して用いることができる。
上記の方法で測定すると、測定方向によってロッキング
カ−ブ半価幅に大きな違いがみられる。その様子を模式
的に図７に示す。この図では、テクスチャ−が磁気ディ
スクの円周方向にある磁気記録媒体について、円周方向
および半径方向のロッキングカ−ブ半価幅のθcir およ
びθrad の測定結果を示す。結晶面の傾きのうねりが大
きい半径方向のθradは平坦な円周方向のθcir に比べ
てロッキングカ−ブ半価幅が大きく、この半価幅の違い
は正に試料の表面粗さの違いを表わしている。したがっ
て、このロッキングカ−ブ半価幅は、テクスチャ−によ
る磁気記録媒体の表面粗さを特徴づける新らしい指標と
して用いることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下この発明の実施例として、磁
気記録媒体の試料の製造方法とロッキングカーブの測定
方法を示す。最初に図６を参照しながら試料の製造過程
について述べる。まず、ディスク状の基体１は、内外径
加工および面切削を施したアルミニウムにＮｉ−Ｐメッ
キを施した上に、基体表面を超精密平面研磨によりすべ
て同一の条件で円周方向にテクスチャ−を付け、精密洗
浄後の基板とした。基底圧力を１．５×１０-5Ｐａまで
下げたマグネトロンスパッタ装置において、成膜室を
０．７Ｐａのアルゴンガス雰囲気とし、基体１の温度を
２００〜２４０°Ｃに加熱後に、基体１に直流バイアス
電圧を０〜−２５０Ｖ印加しながらＣｒまたはＣｒ合金
からなる膜厚６０ｎｍの非磁性金属下地層２、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ−Ｐｔ合金からなる膜厚４０ｎｍの磁性層３、
および炭素質からなる膜厚１２ｎｍの保護層４を順次ス
パッタ法により積層形成した。その後、保護層４上にフ
ルオロカ−ボン系の液体潤滑剤を２ｎｍ塗布して潤滑層
５を形成し、磁気記録媒体の試料を作成した。
気記録媒体の試料の製造方法とロッキングカーブの測定
方法を示す。最初に図６を参照しながら試料の製造過程
について述べる。まず、ディスク状の基体１は、内外径
加工および面切削を施したアルミニウムにＮｉ−Ｐメッ
キを施した上に、基体表面を超精密平面研磨によりすべ
て同一の条件で円周方向にテクスチャ−を付け、精密洗
浄後の基板とした。基底圧力を１．５×１０-5Ｐａまで
下げたマグネトロンスパッタ装置において、成膜室を
０．７Ｐａのアルゴンガス雰囲気とし、基体１の温度を
２００〜２４０°Ｃに加熱後に、基体１に直流バイアス
電圧を０〜−２５０Ｖ印加しながらＣｒまたはＣｒ合金
からなる膜厚６０ｎｍの非磁性金属下地層２、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ−Ｐｔ合金からなる膜厚４０ｎｍの磁性層３、
および炭素質からなる膜厚１２ｎｍの保護層４を順次ス
パッタ法により積層形成した。その後、保護層４上にフ
ルオロカ−ボン系の液体潤滑剤を２ｎｍ塗布して潤滑層
５を形成し、磁気記録媒体の試料を作成した。
【００１１】次に、Ｘ線回折測定には、理学電機製のＲ
Ｕ−２００（ＲＡＤ−Ｃ）型Ｘ線回折装置を用い、Ｃｕ
タ−ゲットを使用して４０ｋＶ、２００ｍＡ、受光スリ
ットの幅０．６ｍｍの条件で行った。テクスチャ−が円
周方向に付けられているため、ロッキングカ−ブの測定
は、４°／ｍｉｎのスキャン速度で、円周方向およびそ
れに垂直な半径方向で行った。
Ｕ−２００（ＲＡＤ−Ｃ）型Ｘ線回折装置を用い、Ｃｕ
タ−ゲットを使用して４０ｋＶ、２００ｍＡ、受光スリ
ットの幅０．６ｍｍの条件で行った。テクスチャ−が円
周方向に付けられているため、ロッキングカ−ブの測定
は、４°／ｍｉｎのスキャン速度で、円周方向およびそ
れに垂直な半径方向で行った。
【００１２】上記の工程で製造した磁気記録媒体をθ−
２θスキャン法で測定し、基板表面に対して磁性層のＣ
ｏ合金（１１０）結晶面、下地層のＣｒ（２００）結晶
面が平行となる強い配向性を示すことが分かった。実施
例１として、まず基板表面に対して平行な磁性層Ｃｏ合
金の（１１０）面で測定したロッキングカ−ブ半価幅
と、磁気記録媒体の重要な磁気特性の一つである保磁力
との関係を図１に示す。
２θスキャン法で測定し、基板表面に対して磁性層のＣ
ｏ合金（１１０）結晶面、下地層のＣｒ（２００）結晶
面が平行となる強い配向性を示すことが分かった。実施
例１として、まず基板表面に対して平行な磁性層Ｃｏ合
金の（１１０）面で測定したロッキングカ−ブ半価幅
と、磁気記録媒体の重要な磁気特性の一つである保磁力
との関係を図１に示す。
【００１３】この図から、丸印で示す円周方向の測定点
と三角印で示す半径方向の測定点とは、明確に二群に分
かれていることがわかる。その中で、Ａ測定点の円周方
向（黒丸印）と半径方向（黒三角印）とのロッキングカ
−ブを、図３に示す。ロッキングカ−ブ半価幅は、この
図で示される回折ピ−クの半価幅で、円周方向の半価幅
は３．８°、半径方向のものは１２．２°であり、その
差は８．４°と大きい。また、図１に示されるように、
これらの磁気記録媒体は同一テクスチャ−基板上にさま
ざまな成膜条件で作製されたにもかかわらず、基板表面
に対してＣｏ合金（１１０）結晶面が平行となるような
強い配向性を示す場合には、円周方向のロッキングカ−
ブ半価幅は半径方向のものより８°程度大きく、表面粗
さの違いがロッキングカ−ブ半価幅によって示されてい
る。このように、ロッキングカ−ブ半価幅はテクスチャ
−による表面粗さを表わす指標となる。
と三角印で示す半径方向の測定点とは、明確に二群に分
かれていることがわかる。その中で、Ａ測定点の円周方
向（黒丸印）と半径方向（黒三角印）とのロッキングカ
−ブを、図３に示す。ロッキングカ−ブ半価幅は、この
図で示される回折ピ−クの半価幅で、円周方向の半価幅
は３．８°、半径方向のものは１２．２°であり、その
差は８．４°と大きい。また、図１に示されるように、
これらの磁気記録媒体は同一テクスチャ−基板上にさま
ざまな成膜条件で作製されたにもかかわらず、基板表面
に対してＣｏ合金（１１０）結晶面が平行となるような
強い配向性を示す場合には、円周方向のロッキングカ−
ブ半価幅は半径方向のものより８°程度大きく、表面粗
さの違いがロッキングカ−ブ半価幅によって示されてい
る。このように、ロッキングカ−ブ半価幅はテクスチャ
−による表面粗さを表わす指標となる。
【００１４】また、図１中のＡ測定点で示されるよう
に、Ｃｏ合金（１１０）のロッキングカ−ブ半価幅の小
さいＡ測定点の円周方向（黒丸印）では、Ａ点の半径方
向（黒三角印）より保磁力が大きい。この傾向は図１で
示した全ての試料にみられる。磁気記録媒体は常に高記
録密度化が望まれており、その達成のためにも磁性層の
高保磁力化が要求されている。したがってこの場合、磁
化方向でもある円周方向において、ロッキングカ−ブ半
価幅つまり表面粗さが小さい方が高保磁力化にとっては
好ましい。この測定例では、磁化方向のＣｏ合金（１１
０）のロッキングカ−ブ半価幅が７°以下の場合に、１
６００（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られている。
に、Ｃｏ合金（１１０）のロッキングカ−ブ半価幅の小
さいＡ測定点の円周方向（黒丸印）では、Ａ点の半径方
向（黒三角印）より保磁力が大きい。この傾向は図１で
示した全ての試料にみられる。磁気記録媒体は常に高記
録密度化が望まれており、その達成のためにも磁性層の
高保磁力化が要求されている。したがってこの場合、磁
化方向でもある円周方向において、ロッキングカ−ブ半
価幅つまり表面粗さが小さい方が高保磁力化にとっては
好ましい。この測定例では、磁化方向のＣｏ合金（１１
０）のロッキングカ−ブ半価幅が７°以下の場合に、１
６００（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られている。
【００１５】実施例２として、実施例１と同様の試料を
用い、下地層Ｃｒの（２００）面のロッキングカ−ブ半
価幅と、保磁力との関係を図２に示す。この図でも実施
例１と同様に、円周方向（丸印）と半径方向（三角印）
との測定点は、明確に二群に分かれている。その中で、
Ｂ測定点の円周方向（黒丸印）と半径方向（黒三角印）
とのロッキングカ−ブを、図４に示す。実施例１と同様
に円周方向のロッキングカ−ブ半価幅は半径方向より小
さく、テクスチャ−による円周方向と半径方向の表面粗
さの違いがここでも明確に示されている。このＣｒ（２
００）のロッキングカ−ブ半価幅も磁気記録媒体の表面
粗さを特徴づける指標となる。また、実施例１と同様に
高保磁力化のためには、磁化方向である円周方向のＣｒ
（２００）のロッキングカ−ブ半価幅が小さい方が好ま
しい。この測定例では、磁化方向のＣｒ（２００）のロ
ッキングカ−ブ半価幅が８°以下の場合に、１６００
（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られている。
用い、下地層Ｃｒの（２００）面のロッキングカ−ブ半
価幅と、保磁力との関係を図２に示す。この図でも実施
例１と同様に、円周方向（丸印）と半径方向（三角印）
との測定点は、明確に二群に分かれている。その中で、
Ｂ測定点の円周方向（黒丸印）と半径方向（黒三角印）
とのロッキングカ−ブを、図４に示す。実施例１と同様
に円周方向のロッキングカ−ブ半価幅は半径方向より小
さく、テクスチャ−による円周方向と半径方向の表面粗
さの違いがここでも明確に示されている。このＣｒ（２
００）のロッキングカ−ブ半価幅も磁気記録媒体の表面
粗さを特徴づける指標となる。また、実施例１と同様に
高保磁力化のためには、磁化方向である円周方向のＣｒ
（２００）のロッキングカ−ブ半価幅が小さい方が好ま
しい。この測定例では、磁化方向のＣｒ（２００）のロ
ッキングカ−ブ半価幅が８°以下の場合に、１６００
（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られている。
【００１６】このようにしてＣｏ合金（１１０）やＣｒ
（２００）のロッキングカ−ブ半価幅を測定することに
より、テクスチャ−による表面粗さがある磁気記録媒体
の円周方向と半径方向の表面粗さの違いを容易に調べる
ことが可能となる。そして、このロッキングカ−ブ半価
幅を基板の粗さを特徴づける新たな指標とすることがで
きる。また、テクスチャ−方向であり磁化方向でもある
円周方向のロッキングカ−ブ半価幅つまり表面粗さが小
さい方が高保磁力化にとって好ましく、特に磁化方向の
ロッキングカ−ブ半価幅が８°以下の場合には、１６０
０（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られる。
（２００）のロッキングカ−ブ半価幅を測定することに
より、テクスチャ−による表面粗さがある磁気記録媒体
の円周方向と半径方向の表面粗さの違いを容易に調べる
ことが可能となる。そして、このロッキングカ−ブ半価
幅を基板の粗さを特徴づける新たな指標とすることがで
きる。また、テクスチャ−方向であり磁化方向でもある
円周方向のロッキングカ−ブ半価幅つまり表面粗さが小
さい方が高保磁力化にとって好ましく、特に磁化方向の
ロッキングカ−ブ半価幅が８°以下の場合には、１６０
０（Ｏｅ）以上の高い保磁力が得られる。
【００１７】また、本発明ではディスクの任意の場所
で、円周方向と半径方向だけではなく、面内の任意の方
向に対してロッキングカ−ブの測定ができる。その実施
例を図５に示す。まず、この図のようにＸ軸、Ｙ軸の交
点に磁気記録媒体の中心を合わせる。測定したい点Ｍ0
（ｒ、ψ）を、まずＹ軸上に移動させ、測定点Ｍとす
る。次に、入射Ｘ線のＸＹ平面への投影線とＸ軸とで作
る偏角αを設定する。この偏角αを変えることにより、
面内の任意の方向のロッキングカ−ブの測定、すなわち
表面粗さの評価ができる。ここで、図５のように入射Ｘ
線、回折Ｘ線を試料に投影した方向がＸ軸に平行になる
ようにとり、測定時のθ（試料）の回転軸を入射Ｘ線の
直角方向にすると、α＝０°の時が円周方向、α＝９０
°のときが半径方向のロッキングカ−ブ測定をすること
に相当する。
で、円周方向と半径方向だけではなく、面内の任意の方
向に対してロッキングカ−ブの測定ができる。その実施
例を図５に示す。まず、この図のようにＸ軸、Ｙ軸の交
点に磁気記録媒体の中心を合わせる。測定したい点Ｍ0
（ｒ、ψ）を、まずＹ軸上に移動させ、測定点Ｍとす
る。次に、入射Ｘ線のＸＹ平面への投影線とＸ軸とで作
る偏角αを設定する。この偏角αを変えることにより、
面内の任意の方向のロッキングカ−ブの測定、すなわち
表面粗さの評価ができる。ここで、図５のように入射Ｘ
線、回折Ｘ線を試料に投影した方向がＸ軸に平行になる
ようにとり、測定時のθ（試料）の回転軸を入射Ｘ線の
直角方向にすると、α＝０°の時が円周方向、α＝９０
°のときが半径方向のロッキングカ−ブ測定をすること
に相当する。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、Ｘ線
を用いるために、表面吸着物の影響を受けずにテクスチ
ャ−基板を用いた磁気記録媒体でディスク面内の任意の
方向の表面粗さを評価できる。特に、テクスチャ−方向
とそれに垂直な方向の粗さの違いを容易に評価すること
ができ、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを
特徴づける新たな指標を提供することができる。また、
テクスチャ−が特に磁化方向にある場合、その方向のロ
ッキングカ−ブ半価幅つまり表面粗さが小さい方が高保
磁力化にとって好ましく、特に磁化方向のロッキングカ
−ブ半価幅が８°以下の場合、１６００（Ｏｅ）以上の
高い保磁力が得られている。
を用いるために、表面吸着物の影響を受けずにテクスチ
ャ−基板を用いた磁気記録媒体でディスク面内の任意の
方向の表面粗さを評価できる。特に、テクスチャ−方向
とそれに垂直な方向の粗さの違いを容易に評価すること
ができ、テクスチャ−による磁気記録媒体の表面粗さを
特徴づける新たな指標を提供することができる。また、
テクスチャ−が特に磁化方向にある場合、その方向のロ
ッキングカ−ブ半価幅つまり表面粗さが小さい方が高保
磁力化にとって好ましく、特に磁化方向のロッキングカ
−ブ半価幅が８°以下の場合、１６００（Ｏｅ）以上の
高い保磁力が得られている。
【００１９】ここで示した表面粗さ評価法は、磁気記録
媒体への適用に限られるものではなく、表面吸着物に影
響されない表面粗さ評価法として、広く一般に用いるこ
とができる。
媒体への適用に限られるものではなく、表面吸着物に影
響されない表面粗さ評価法として、広く一般に用いるこ
とができる。
【図１】実施例１の磁性層Ｃｏ合金（１１０）面のロッ
キングカ−ブ半価幅と保磁力との関係を示す図
キングカ−ブ半価幅と保磁力との関係を示す図
【図２】実施例２の下地層Ｃｒ（２００）面のロッキン
グカ−ブ半価幅と保磁力の関係を示す図
グカ−ブ半価幅と保磁力の関係を示す図
【図３】実施例１の磁気記録媒体の磁性層Ｃｏ合金（１
１０）面におけるＡ測定点のロッキングカ−ブ図
１０）面におけるＡ測定点のロッキングカ−ブ図
【図４】実施例２の磁気記録媒体の下地層Ｃｒ（２０
０）面におけるＢ測定点のロッキングカ−ブ図
０）面におけるＢ測定点のロッキングカ−ブ図
【図５】ディスクの任意の場所で任意の方向のロッキン
グカ−ブの測定方法の説明図 （ａ）ＸＹ平面における任意方向のロッキングカ−ブの
測定の説明図 （ｂ）ＸＹＺ軸を含めた任意方向のロッキングカ−ブの
測定の説明図
グカ−ブの測定方法の説明図 （ａ）ＸＹ平面における任意方向のロッキングカ−ブの
測定の説明図 （ｂ）ＸＹＺ軸を含めた任意方向のロッキングカ−ブの
測定の説明図
【図６】一般的な磁気記録媒体の層構造を示す模式的斜
視図
視図
【図７】磁気記録媒体の円周方向と半径方向の断面模式
図 （ａ）円周方向の断面図 （ｂ）半径方向の断面図
図 （ａ）円周方向の断面図 （ｂ）半径方向の断面図
【図８】Ｘ線回折を用いたθ−２θスキャン法とロッキ
ングカ−ブ法の原理図 （ａ）θ−２θスキャン法 （ｂ）ロッキングカ−ブ法
ングカ−ブ法の原理図 （ａ）θ−２θスキャン法 （ｂ）ロッキングカ−ブ法
１： 基体 ２： 金属下地層 ３： 磁性層 ４： 保護層 ５： 潤滑層 １１： 非磁性基板 １２： 非磁性金属層
Claims (9)
- 【請求項１】Ｘ線回折法により求めたロッキングカ−ブ
半価幅により表面粗さの指標を得ることを特徴とする表
面粗さ評価法。 - 【請求項２】請求項１において、非磁性の基体上に非磁
性の金属下地層、Ｃｏを主成分とする強磁性合金からな
る薄膜磁性層、および保護層とが順次積層された磁気記
録媒体において、Ｘ線回折法により求めた前記磁性層の
ロッキングカ−ブ半価幅によりテクスチャ−基板媒体の
表面粗さの指標を得ることを特徴とする表面粗さ評価
法。 - 【請求項３】請求項１において、Ｘ線回折法により求め
た前記磁気記録媒体の下地層のロッキングカ−ブ半価幅
によりテクスチャ−基板媒体の表面粗さの指標を得るこ
とを特徴とする表面粗さ評価法。 - 【請求項４】請求項１において、テクスチャ−基板媒体
でディスク面内の任意の方向の表面粗さを評価すること
を特徴とする表面粗さ評価法。 - 【請求項５】請求項１において、テクスチャ−基板媒体
でディスク面内の円周方向と半径方向の表面粗さを評価
することを特徴とする表面粗さ評価法。 - 【請求項６】請求項１において、テクスチャ−基板媒体
でディスクの磁化方向の表面粗さを評価することを特徴
とする表面粗さ評価法。 - 【請求項７】請求項１において、磁気記録媒体の磁化方
向のロッキングカ−ブ半価幅が８°以下である磁気記録
媒体。 - 【請求項８】請求項１において、磁気記録媒体の磁性層
のＣｏ合金（１１０）の磁化方向のロッキングカ−ブ半
価幅が７°以下である磁気記録媒体。 - 【請求項９】請求項１において、磁気記録媒体の下地層
のＣｒ合金（２００）の磁化方向のロッキングカ−ブ半
価幅が８°以下である磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9160731A JPH116723A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 表面粗さ評価法および磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9160731A JPH116723A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 表面粗さ評価法および磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116723A true JPH116723A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15721250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9160731A Pending JPH116723A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 表面粗さ評価法および磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6905781B2 (en) | 2000-11-29 | 2005-06-14 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium with Cr<110> preferred growth along a predetermined direction, method of producing the same and magnetic storage apparatus |
| JP2010091354A (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-22 | Nec Corp | 単結晶基板の非破壊反り測定方法及び測定装置 |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP9160731A patent/JPH116723A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6905781B2 (en) | 2000-11-29 | 2005-06-14 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium with Cr<110> preferred growth along a predetermined direction, method of producing the same and magnetic storage apparatus |
| US7115330B2 (en) | 2000-11-29 | 2006-10-03 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium with CR <110> preferred growth along a predetermined direction, method of producing the same and magnetic storage apparatus |
| JP2010091354A (ja) * | 2008-10-07 | 2010-04-22 | Nec Corp | 単結晶基板の非破壊反り測定方法及び測定装置 |
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