JPH1164213A - サンプルプレート - Google Patents

サンプルプレート

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JPH1164213A
JPH1164213A JP18660697A JP18660697A JPH1164213A JP H1164213 A JPH1164213 A JP H1164213A JP 18660697 A JP18660697 A JP 18660697A JP 18660697 A JP18660697 A JP 18660697A JP H1164213 A JPH1164213 A JP H1164213A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のサンプルを同時に保持するサンプルプ
レートを容易かつ安価に作製する。 【解決手段】 透明基板2上に金属膜3を配し、該金属
膜3上に親水性の結合反応膜4を形成し、さらに、該結
合反応膜4上に疎水性のネガ型フォトレジスト5を配
し、所定のパターンのマスク7を用いてフォトレジスト
5を露光してその後現像することによって、フォトレジ
スト5を所定のパターンにパターニングしてサンプルプ
レート1を形成する。現像後に残ったフォトレジストか
らなる疎水膜5Aと親水性の結合反応膜4とにより囲まれ
た部分をサンプル保持部6とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医療検査等におい
て使用されるサンプルプレートに関し、特に、走査型の
表面プラズモンセンサーにおけるサンプル支持手段とし
て用いられる、複数のサンプルを同時に保持することが
できるサンプルプレートに関するものである。
【0002】
【従来の技術】金属中においては、自由電子が集団的に
振動して、プラズマ波と呼ばれる粗密波が生じる。そし
て、金属表面に生じるこの粗密波を量子化したものは、
表面プラズモンと呼ばれている。従来より、この表面プ
ラズモンが光波によって励起される現象を利用して試料
中の物質を定量分析する表面プラズモンセンサーが種々
提案されている。
【0003】表面プラズモンセンサーにおける分析は以
下のようにしてなされる。
【0004】透明基板上に配された金属膜上に分析対象
たる試料をのせ、所定のカップリング手段を用いて金属
膜に対して透明基板側から光ビームを金属膜と透明基板
との界面で全反射するように入射する。光ビームをカッ
プリング手段を介して金属膜に対して全反射角以上の入
射角θで入射させると、反射面の金属膜中にエバネッセ
ント波といわれる「にじみ波」が生じる。このエバネッ
セント波は該金属膜に接している試料中に電界分布をも
ち、この金属膜と試料との界面に表面プラズモンが発生
する。p偏光された光ビームが金属膜に対して入射され
て生じたエバネッセント波の波数ベクトルが上述の表面
プラズモンの波数ベクトルと等しく波数整合が成立する
と両者は共鳴状態となり、光のエネルギーが表面プラズ
モンに移行してプラズモンが励起される。この時、光の
エネルギーの移行のために全反射した光の強度は著しく
低下する。この反射光強度が低下する入射角度(全反射
解消角θsp)は金属と接している試料に依存するもので
あるため、この全反射解消角θspを知ることにより試料
中の特定物質を定量分析することができる。
【0005】なお、一般には金属膜上に結合反応膜を形
成した上で試料をのせ、結合反応膜と特異的に吸着する
試料中の物質量を測定している。結合反応膜としては、
測定対象物質と何らかの結合反応をおこす物質が用いら
れる。結合反応としては、例えば、抗原・抗体反応が挙
げられるが、その他の化学反応であってもよい。
【0006】複数のサンプルについての分析を効率よく
行うために、複数のサンプルを1次元的もしくは2次元
的に配置して光ビームの入射位置を移動させて測定を行
う走査型の表面プラズモンセンサーが既に本出願人によ
り提案されている。
【0007】例えば、図6に示すような表面プラズモン
センサー100 は、サンプルプレート101 を支持するサン
プルプレート支持部102 と、該支持部102の下方に配さ
れ、該支持部102 の底部102aに達するレベルまで屈折率
マッチングオイル(マッチング液)109 を貯留したオイ
ルタンク(カップラー手段)110 と、光源から発生され
た光ビームLをサンプルプレート101 に入射させる光学
手段120 と、サンプルプレート101 で反射された光ビー
ムの強度を測定する光検出手段130 とからなるものであ
る。支持部102 の底部102aは透明基板からなっており、
サンプルプレート101 はこの透明基板上に屈折率マッチ
ングオイルを介して密着せしめられて測定に供される。
【0008】光学手段120 、光検出手段130 は搬送台14
5 上に固定され、オイルタンク110は光学手段120 およ
び光検出手段130 を取り囲むように形成されている筐体
146を介して搬送台145 に固定されている。
【0009】搬送台145 はさらに基台147 上に配された
搬送レール148 に沿ってサンプルプレート支持部102 に
対してX方向に可動とされている。搬送台145 がX方向
に移動すると光学手段120 もX方向に移動し、この移動
に伴いサンプルプレート101への光ビームLの入射位置
がX方向に移動せしめられる。また、光学手段120 は光
ビームをX方向と垂直な方向に偏向する偏向手段を備え
ており、搬送台145 のX方向への移動と、偏向手段によ
る光ビームの偏向とによって光ビームはサンプルプレー
ト101 上を二次元的に走査せしめられる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】表面プラズモンセンサ
ーにおいて分析に供されるサンプルは一般に液体状であ
るため、上述のように二次元走査型のプラズモンセンサ
ーの測定においては図7に示すようなサンプルプレート
101 が従来用いられる。この従来のサンプルプレート10
1 は、透明基板104 上に金属膜105 と結合反応膜106 を
積層してなる部材を底板とする容器内をガラス等の筒状
部材によって仕切ったものであり、構造が複雑で、高価
で使い捨てに向かないなどの欠点がある。そのため、安
価で容易に形成することができるサンプルプレートが望
まれている。
【0011】また、表面プラズモンセンサーにおける分
析に限らず、従来より複数の異なるサンプルについて同
種類の検査、測定をおこなうため、若しくは複数の同種
のサンプルについて異なる試薬による反応を調べる際に
も、複数の液体サンプルを並べて保持する必要がある
が、従来このような場合には、小さな容器を複数プレー
ト上に並べるか、あるいは複数の凹部有するガラス等の
プレートを用いていた。
【0012】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であって、安価で容易に構成することができる、複数の
液体サンプルを支持するためのサンプルプレートを提供
することを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明のサンプルプレー
トは、表面プラズモンセンサーによる測定において水性
液状サンプルを支持するサンプルプレートであって、透
明基板と、該透明基板上に配された金属膜と、該金属膜
上に形成された複数のサンプル保持部とからなり、前記
各サンプル保持部が、親水性の結合反応膜と該結合反応
膜を囲むようにして形成された疎水性の膜とから構成さ
れるものであることを特徴とするものである。
【0014】より具体的には、前記金属膜上に、前記結
合反応膜が形成され、さらに複数の開口を有する前記疎
水性の膜が該結合反応膜上に形成され、前記各サンプル
保持部が前記疎水性の膜の前記各開口を取り巻く部分と
該開口内の前記結合反応膜とによって構成されていても
よいし、前記金属膜上に、複数の開口を有する前記疎水
性の膜が形成され、該各開口内において前記金属膜上に
前記結合反応膜が形成されており、前記各サンプル保持
部が前記疎水性の膜の前記各開口を取り巻く部分と該開
口内の前記結合反応膜とによって構成されていてもよ
い。開口を有する疎水性の膜が形成されたサンプルプレ
ートにおいては、該疎水性の膜の前記各開口内の前記結
合反応膜の外周縁と該開口の内周縁との間に間隔が設け
られていてもよい。なお、前記疎水性の膜の前記各開口
内に形成されている前記結合反応膜の上面が該結合反応
膜の周囲の前記疎水性の膜の上面より低いことがより望
ましい。
【0015】上記構成の本発明のサンプルプレートはそ
のまま表面プラズモンセンサーによる分析以外の分析に
おいて複数の液体サンプルを保持するために使用するこ
とができるが、プラズモンセンサー以外で用いる場合に
は金属膜は必要ないし、また基板も透明である必要はな
い。
【0016】上記「親水性」とは一般にOH基を取り込
みやすい性質をいい、これに対して「疎水性」とは、O
H基を排除しやすい性質をいう。疎水性の膜は、たとえ
ばフォトレジストにより形成することができる。
【0017】本発明のサンプルプレートはサンプル保持
部が親水性の膜と該親水性の膜を囲むようにして配され
た疎水性の膜とからなるため、このサンプル保持部に水
性の分析対象サンプルをのせた場合、該サンプルは周囲
の疎水性の膜からはじかれることとなり液体状であるこ
とからくる流動性が抑えられて効果的に保持される。
【0018】
【発明の効果】本発明のサンプルプレートは基板上に親
水性の結合反応膜とその結合反応膜を囲むようにして形
成された疎水性の膜とによってサンプル保持部を構成す
るという簡単な構造であるため、容易にかつ安価に作製
することができる。また、安価であるため大量生産に適
しており、使い捨てのサンプルプレートとして用いるこ
とができる。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態に係るサンプル
プレートについて図面を参照して説明する。
【0020】本発明の第一の実施形態に係るサンプルプ
レート1を図1に示す。図1において(b)は(a)に
示すサンプルプレート1を上方から見た図である。サン
プルプレート1はガラス等からなる透明基板2と、該透
明基板2上にほぼ全面にわたって形成された金、銀等の
金属膜3と、該金属膜3上にほぼ全面にわたって連続的
に形成された抗原(あるいは抗体)からなる親水性の結
合反応膜4と、該結合反応膜4を被うように形成され
た、複数の開口を有する疎水性の膜5A(以下、疎水膜と
いう)とからなるものである。すなわち、疎水膜5Aの開
口から露出された親水性の結合反応膜の部分4a,4b,4c・
・・と開口部を取り巻く疎水膜5Aとにより構成された凹
部がサンプル保持部6である。サンプルは図2に示すよ
うな所定のサンプル供給機構20によって順次サンプル保
持部6上にのせられていくが、凹部の底面が親水膜4a,4
b,4c・・・であり周囲が疎水膜であるため水性液体状の
サンプルS1,S2,・・・は表面張力によってサンプル保持
部6に保持される。
【0021】本サンプルプレート1を形成する際には、
透明基板2上に金属膜3、親水性の抗原(抗体)からな
る結合反応膜4、疎水膜であるネガ型フォトレジスト5
を形成し(図3(a))、該フォトレジスト5に所定の
パターンのマスク7を配してUV光8に露光(同図3
(b))し、その後の現像によって未露光部分を除去す
ることによって形成される。なお、ガラス基板2上に金
等の金属膜3を形成する場合には、ガラス基板2上に予
め1nm程度のクロム層を形成した上で行うと金属膜3の
形成が容易となり、また、剥離が抑えられる。ネガ型フ
ォトレジスト5としては、例えば、ポリイソプレンを環
化した環化ゴムに光架橋剤であるビスアジド化合物を添
加したゴム型フォトレジストが挙げられる。ビスアジド
化合物としては、4,4'−ジアジドカルコン, 2,6-ジ−
(4'−アジドベンザル)シクロヘキサノン等が用いられ
る。このようなネガ型フォトレジストは、光照射によっ
て、まず、ビスアジドが分解し、ニトレンラジカルが生
じ、このニトレンラジカルが環化ゴムの二重結合と反応
することにより、ゴム分子間に橋掛けが起こる。また、
ニトレンラジカルは水素引き抜き反応にも関与し、架橋
を促進する。環化ゴム分子間の架橋濃度があるレベル以
上に達すると、この架橋分子は溶剤に対して不溶化する
ようになり、現像後に所望のパターンが残る。図3
(c)はマスク7を用いてフォトレジスト5が露光され
て露光部5Aと未露光部5Bが形成されていることを示す。
この後、現像することにより未露光部5Bが溶け露光部5A
のみが残る(同図(d))。
【0022】このように本発明のサンプルプレート1は
簡単な構造で、容易にかつ安価に作製することができ
る。安価であるため大量生産に適しており、使い捨ての
サンプルプレートとして用いることができる。また、サ
ンプル保持部のサイズも自由に作製することができるの
で、このサイズを小さくすれば、微量のサンプルであっ
ても容易に保持することができる。
【0023】図4は第二の実施形態に係るサンプルプレ
ートを示す。同図(b)は、同図(a)を上方から見た
図である。サンプルプレート1’は、ガラス等からなる
透明基板12と、該透明基板上にほぼ全面に形成された金
属膜13と、該金属膜13上にほぼ全面にわたって形成され
た、複数の開口を有する疎水膜15と、開口から露出する
金属膜13上に形成された抗原もしくは抗体からなる結合
反応膜14とからなるものである。結合反応膜14は開口部
の中央付近に周囲の疎水膜15と接しないように形成す
る。また、その膜面は疎水膜15の膜面より低くなるよう
にすることにより、より効果的にサンプルを保持するこ
とができる。なお、図5に示すように、疎水膜15の開口
から露出する金属膜13全体を被うように結合反応膜14を
形成してもよい。
【0024】なお、上述のサンプルプレートは表面プラ
ズモンセンサーにおいてのみならず、その他の免疫セン
サ、例えば、ラジオアイソトープ(RI)、蛍光等を利
用したバイオセンサー、エリプソセンサー等にも用いる
ことができる。透明基板上に金属膜を配するのは、既述
のようにエバネッセント波と表面プラズモンを利用した
測定を行うためであるが、透明基板上に直接、親水部と
疎水部を形成して、親水部と疎水部からなるサンプル保
持部を構成したサンプルプレートとして血液検査や、試
薬検査等の種々の検査に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施形態に係るサンプルプレー
トを示す図
【図2】サンプル供給機構によるサンプルプレートへの
サンプル供給を示す図
【図3】本発明の第一の実施形態に係るサンプルプレー
ト作製の一例を示す図
【図4】本発明の第二の実施形態に係るサンプルプレー
トを示す図
【図5】本発明の第二の実施形態の変更例を示す図
【図6】表面プラズモンセンサーの一側面図
【図7】従来のサンプルプレートを示す図
【符号の説明】
1 サンプルプレート 2 透明基板 3 金属膜 4 結合反応膜 5 ネガ型フォトレジスト 5A 疎水膜 6 サンプル保持部 7 マスク 8 UV光 Sn サンプル

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面プラズモンセンサーによる測定にお
    いて水性液状サンプルを支持するサンプルプレートであ
    って、 透明基板と、 該透明基板上に配された金属膜と、 該金属膜上に形成された複数のサンプル保持部とからな
    り、 前記各サンプル保持部が、親水性の結合反応膜と該結合
    反応膜を囲むようにして構成された疎水性の膜とから構
    成されるものであることを特徴とするサンプルプレー
    ト。
  2. 【請求項2】 前記金属膜上に、結合反応膜が形成さ
    れ、さらに複数の開口を有する疎水性の膜が該結合反応
    膜上に形成され、 前記各サンプル保持部が前記疎水性の膜の前記各開口を
    取り巻く部分と該開口内の前記結合反応膜とによって構
    成されていることを特徴とする請求項1記載のサンプル
    プレート。
  3. 【請求項3】 前記金属膜上に、複数の開口を有する疎
    水性の膜が形成され、該各開口内において前記金属膜上
    に結合反応膜が形成されており、 前記各サンプル保持部が前記疎水性の膜の前記各開口を
    取り巻く部分と該開口内の前記結合反応膜とによって形
    成されていることを特徴とする請求項1記載のサンプル
    プレート。
  4. 【請求項4】 前記疎水性の膜の前記各開口内の前記結
    合反応膜の外周縁と該開口の内周縁との間に間隔が設け
    られていることを特徴とする請求項3記載のサンプルプ
    レート。
  5. 【請求項5】 前記疎水性の膜の前記各開口内に形成さ
    れている前記結合反応膜の上面が該結合反応膜の周囲の
    前記疎水性の膜の上面より低いことを特徴とする請求項
    3または4いずれか記載のサンプルプレート。
  6. 【請求項6】 水性液状のサンプルを支持するサンプル
    プレートであって、 基板と、 該基板上に形成された複数のサンプル保持部とからな
    り、 前記各サンプル保持部が、親水性の膜と該親水性の膜を
    囲むようにして形成された疎水性の膜とから構成される
    ものであることを特徴とするサンプルプレート。
  7. 【請求項7】 前記基板上に、親水性の膜が形成され、
    さらに複数の開口を有する疎水性の膜が該親水性の膜上
    に形成され、 前記各サンプル保持部が前記疎水性の膜の前記各開口を
    取り巻く部分と該開口内の前記親水性の膜とによって構
    成されていることを特徴とする請求項6記載のサンプル
    プレート。
  8. 【請求項8】 前記基板上に、複数の開口を有する疎水
    性の膜が形成され、該各開口内において前記基板上に親
    水性の膜が形成されており、 前記各サンプル保持部が前記疎水性の膜の前記各開口を
    取り巻く部分と該開口内の前記親水性の膜によって構成
    されていることを特徴とする請求項6記載のサンプルプ
    レート。
  9. 【請求項9】 前記疎水性の膜の前記各開口内の前記親
    水性の膜の外周縁と該開口の内周縁の間に間隔が設けら
    れていることを特徴とする請求項8記載のサンプルプレ
    ート。
  10. 【請求項10】 前記疎水性の膜の前記各開口内に形成
    されている前記親水性の膜の上面が該親水性の膜の周囲
    の前記疎水性の膜の上面より低いことを特徴とする請求
    項8または9いずれか記載のサンプルプレート。
  11. 【請求項11】 前記疎水性の膜がフォトレジストによ
    り形成されていることを特徴とする請求項1から10い
    ずれか記載のサンプルプレート。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003057157A (ja) * 2001-08-20 2003-02-26 Aloka Co Ltd 試料処理容器
JP2003202289A (ja) * 2001-11-02 2003-07-18 Fuji Photo Film Co Ltd 全反射光を利用した測定装置に用いられる測定ユニット、該測定ユニットの製造方法および全反射光を利用した測定装置
WO2004051253A1 (ja) * 2002-11-29 2004-06-17 Nec Corporation 質量分析用チップおよびこれを用いたレーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置、質量分析システム
US6783735B2 (en) * 2000-09-15 2004-08-31 Agfa-Gevaert Web material having wells for combinatorial applications
EP1614460A1 (en) * 2004-07-08 2006-01-11 Yamatake Corporation Substrate for biochips
JP2006023301A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Yamatake Corp バイオチップ用基板及びバイオチップ用基板の製造方法
WO2006013832A1 (ja) * 2004-08-02 2006-02-09 The Furukawa Electric Co., Ltd. 検体の光情報認識装置およびその認識方法
US7064837B2 (en) 2001-04-12 2006-06-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Measuring sensor utilizing attenuated total reflection and measuring chip assembly
JP2007057458A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Fujifilm Corp バイオセンサー
JP2013066393A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Sumitomo Bakelite Co Ltd マルチウェルプレート
CN104174445A (zh) * 2014-08-06 2014-12-03 北京科技大学 用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法
WO2016046934A1 (ja) * 2014-09-25 2016-03-31 オリンパス株式会社 ラマン散乱光観察用基板
WO2018131731A1 (ko) * 2017-01-12 2018-07-19 한밭대학교 산학협력단 액상 시료를 나노 단위로 분배하는 기구
JP2018179785A (ja) * 2017-04-14 2018-11-15 国立研究開発法人産業技術総合研究所 目的物質検出チップ、目的物質検出装置及び目的物質検出方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012157403A1 (ja) 2011-05-19 2012-11-22 コニカミノルタホールディングス株式会社 表面プラズモン励起増強蛍光測定装置およびこれを用いた蛍光検出方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6783735B2 (en) * 2000-09-15 2004-08-31 Agfa-Gevaert Web material having wells for combinatorial applications
US7064837B2 (en) 2001-04-12 2006-06-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Measuring sensor utilizing attenuated total reflection and measuring chip assembly
JP2003057157A (ja) * 2001-08-20 2003-02-26 Aloka Co Ltd 試料処理容器
JP2003202289A (ja) * 2001-11-02 2003-07-18 Fuji Photo Film Co Ltd 全反射光を利用した測定装置に用いられる測定ユニット、該測定ユニットの製造方法および全反射光を利用した測定装置
WO2004051253A1 (ja) * 2002-11-29 2004-06-17 Nec Corporation 質量分析用チップおよびこれを用いたレーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置、質量分析システム
EP1614460A1 (en) * 2004-07-08 2006-01-11 Yamatake Corporation Substrate for biochips
JP2006023301A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Yamatake Corp バイオチップ用基板及びバイオチップ用基板の製造方法
WO2006006262A1 (en) * 2004-07-08 2006-01-19 Yamatake Corporation Substrate for biochip and method for manufacturing substrate for biochip
US8287939B2 (en) 2004-07-08 2012-10-16 Azbil Corporation Method for manufacturing substrate for biochip
WO2006013832A1 (ja) * 2004-08-02 2006-02-09 The Furukawa Electric Co., Ltd. 検体の光情報認識装置およびその認識方法
JPWO2006013832A1 (ja) * 2004-08-02 2008-05-01 古河電気工業株式会社 検体の光情報認識装置およびその認識方法
JP2007057458A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Fujifilm Corp バイオセンサー
JP2013066393A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Sumitomo Bakelite Co Ltd マルチウェルプレート
CN104174445A (zh) * 2014-08-06 2014-12-03 北京科技大学 用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法
CN104174445B (zh) * 2014-08-06 2016-02-03 北京科技大学 用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法
WO2016046934A1 (ja) * 2014-09-25 2016-03-31 オリンパス株式会社 ラマン散乱光観察用基板
WO2018131731A1 (ko) * 2017-01-12 2018-07-19 한밭대학교 산학협력단 액상 시료를 나노 단위로 분배하는 기구
JP2018179785A (ja) * 2017-04-14 2018-11-15 国立研究開発法人産業技術総合研究所 目的物質検出チップ、目的物質検出装置及び目的物質検出方法

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