JPH1160537A - ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物と、
下記一般式（５）又は（６）で表されるリン化合物とを
反応させて、下記一般式（１０）で表されるヒドロキシ
スチルベンカルボン酸類化合物を製造する。 Ｒ⁵−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＯ（ＯＲ³）₂ （５） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＲ³Ｘ （６） ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨ₂＝ＣＨ₂−Ａｒ²−ＣＯＯＲ² （１０） 前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（１
１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基
に由来するエーテル結合に生じさせるべく反応してなる
ことが好ましい。 ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１１） 【効果】 ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を
簡便な方法で高収率に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒドロキシスチル
ベンカルボン酸類化合物の高収率で簡便な製造方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合
物は、古くは染料、ポリエステルの原料として、近年で
はエレクトロルミネッセンス素子、液晶化合物のメソゲ
ン等の原料として注目されている。その製造方法として
は、アニスアルデヒドとシアノフェニル酢酸とのＫｎｏ
ｅｖｅｎａｇｅｌ縮合（収率１５．４％）（Ｒ．Ｎｅｈ
ｅｒ，Ｋ．Ｍｉｅｓｃｈｅｒ，Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃ
ｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ，２９，４５２，１９４６）
や、メトキシフェニル酢酸とフタル酸無水物とのＳｔｏ
ｂｂｅ縮合（収率７．５％）（Ｊ．Ｎ．Ｃｈａｔｔｅｒ
ｊｅａ，Ｎ．Ｐｒａｓａｄ，Ｋ．Ｄ．Ｂａｎｅｒｊｉ，
Ｊ．Ｉｎｄｉａｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４１，９３，
１９６４）により合成する方法等が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
合成方法はいずれも低収率で副生成物が多いなどという
課題があり、このため、高収率でヒドロキシスチルベン
カルボン酸類化合物を製造することができる製造方法が
求められていた。そこで、本発明は、このような実状に
鑑みなされたものであり、その目的は、ヒドロキシスチ
ルベンカルボン酸類化合物を高収率に製造することがで
きるヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方
法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討した結果、下記一般式（１）
で表される化合物と特定のリン化合物とを反応させるこ
とにより、安定した高い収率でヒドロキシスチルベンカ
ルボン酸類化合物が得られることを見いだし、本発明に
到達したのである。すなわち、本発明のヒドロキシスチ
ルベンカルボン酸類化合物の製造方法は、下記一般式
（１）で表される化合物と、下記一般式（５）又は
（６）で表されるリン化合物とを反応させるものであ
る。 Ｒ⁵−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＯ（ＯＲ³）₂ （５） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＲ³Ｘ （６） 前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（１
１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基
に由来するエーテル結合に生じさせるべく反応してなる
ことが好ましい。 ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１１）

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明で使用される下記一般式（１）で表される
化合物とは、一般式（５）又は（６）で表されるリン化
合物と反応して一般式（１０）で表される化合物を製造
するものである。 Ｒ⁵−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１） （１）式中、Ａｒ¹は、下記一般式（２）〜（４）より
表される化合物の中から選ばれる１つの化合物を示す。

【化７】

【化８】

【化９】 （２）〜（４）式中、Ｒ¹は、アルキル基、ビニル基、
アリル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ
基又はカルボキシル基を示し、それらの混在の有無を問
わない。Ｒ¹がアルキル基、アルコキシ基の場合の炭素
数は、１〜２０、好ましくは１〜１２、さらに好ましく
は１〜８である。具体的にアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル
基、オクチル基などが、アルコキシル基としては、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、
オクチルオキシ基、ハロゲンとしては、フッ素、塩素、
臭素などがそれぞれ好適なものとして挙げられる。Ａｒ
¹が式（２）で表される化合物の場合におけるヒドロキ
シル基の置換位置は特に限定されないが、カルボアルデ
ヒド基に対しｐ−位が望ましく、また、カルボアルデヒ
ド基、ヒドロキシル基の置換位置は、Ａｒ¹が式（３）
で表される化合物の場合においては、１，４−位、１，
５−位および２，６−位が望ましく、式（４）の場合に
おいては４，４’−位が望ましい。ｎ¹，ｎ²，ｎ³，ｎ⁴
は整数であってＲの置換数を表し、それぞれｎ¹は０〜
４、ｎ²は０〜６、ｎ³およびｎ⁴は０〜４であり、いず
れにおいても好ましくは２または１または０、さらに好
ましくは１または０である。置換位置として好ましく
は、カルボアルデヒド基に隣接する位置、もしくは、ヒ
ドロキシル基に隣接する位置であり、さらに好ましくは
ヒドロキシル基に隣接する位置である。

【０００６】また（１）式中、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の
炭化水素基、炭素数１〜２０の含酸素炭化水素基又は炭
素数１〜２０の含硫黄炭化水素基を示し、例えば炭素数
１〜２０のアルキル基、アリル基、トリチル基、無置換
もしくは炭素数１〜３のアルキル基またはアルコキシ基
を置換基にもつベンジル基、炭素数１〜１０のアセター
ル基、炭素数１〜１０のチオアセタール基等が好まし
い。Ｒ⁵の具体例としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｐ−メトキシベンジル
基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル（ＴＨ
Ｐ）基、テトラヒドロ−２−チオピラニル基等が例示で
きる。これらの中で、炭素数１〜２０のアルキル基およ
びＴＨＰ基が好ましく、特にＴＨＰ基が好ましい。ただ
し、一般式（２）〜（４）におけるＲ¹がアルコキシ基
の場合および一般式（７）〜（９）におけるＲ⁴がアル
コキシ基の場合にはＲ⁵としてアルキル基を使用するこ
とは好ましくない。

【０００７】一般式（１）で表される化合物は、どのよ
うな原料物質を用いて製造してもよいが、例えば下記一
般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物等を用いて
製造することが好ましい。 ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１１） （１１）式中、Ａｒ¹は、一般式（１）におけるＡｒ¹と
同じものを示す。一般式（１１）で表される化合物とし
ては、具体的に、サリチルアルデヒド、ｍ−ヒドロキシ
ベンツアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンツアルデヒド、
バニリン、ｏ−バニリン、イソバニリン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンツアルデヒド、２−ヒドロキシ−
５−メトキシベンツアルデヒド、エチルバニリン、３−
エトキシ−２−ヒドロキシベンツアルデヒド、シリンガ
アルデヒド、２−ヒドロキシ−ｐ−アニスアルデヒド、
６−ヒドロキシ−ｍ−アニスアルデヒド、４−ヒドロキ
シ−３−メチルベンツアルデヒド、４−ヒドロキシ−３
−アミロキシベンツアルデヒド、２−クロロ−４−ヒド
ロキシベンツアルデヒド、５−ブロモサリチルアルデヒ
ド、３，５−ジブロモサリチルアルデヒド、３，５−ジ
ブロモ−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンツアルデヒ
ド、４−ヒドロキシ−５−ヨード−３−メトキシベンツ
アルデヒド、５−ニトロバニリン、５−シアノバニリ
ン、１−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド、１−ヒド
ロキシ−４−ナフタアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−
ナフタアルデヒド、２−ヒドロキシ−６−ナフタアルデ
ヒド、１−ヒドロキシ−５−ナフタアルデヒド、２−ヒ
ドロキシ−５−ニトロ−ｍ−アニスアルデヒド、４−
（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド、３−
フェニル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３−オキ
シフェニル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３−ク
ミル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、５−クロロサ
リチルアルデヒド、３，５−ジクロロサリチルアルデヒ
ド、３，５，６−トリクロロ−２−ヒドロキシベンツア
ルデヒド等が例示できる。これらの中でも、ｐ−ヒドロ
キシベンツアルデヒド、バニリン、エチルバニリン、２
−ヒドロキシ−６−ナフタアルデヒド、１−ヒドロキシ
−４−ナフタアルデヒド、４−（４’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンツアルデヒドが特に好ましい。一般式（１
１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基
に由来するエーテル結合を有する化合物（一般式（１）
で表される化合物（エーテル化合物））に変換するが、
このヒドロキシル化合物のエーテル化合物への変換の方
法は特に限定されないが、通常の公知の方法で変換可能
であるので、ここでは概略について述べる。ヒドロキシ
ル化合物を、一般式（１１）で表される化合物において
Ｒ⁵がアルキル基、アリル基、ベンジル基、トリチル
基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基をもつ
化合物に変換する場合には、相当するハライド（臭化ア
ルキル、臭化アリル、ベンジルクロリド等）とのＷｉｌ
ｌｉａｍｓｏｎ反応や、該アルコール（アルコール、ア
リルアルコール、ベンジルアルコール）をトシル基やメ
シル基で活性化した後、置換反応によって変換すること
ができる。Ｒ⁵をｔｅｒｔ−ブチル基とする場合には、
イソブテンを硫酸やＢＦ₃ＯＥｔ₂を触媒としヒドロキシ
ル基と反応させることで変換できる。なお、ＴＨＰ基と
する場合には，３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸触
媒、例えばピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート
存在下で反応させることで変換することができる。同様
にテトラヒドロ−２−チオピラニル基の場合も、２，３
−ジヒドロ−４Ｈ−チインを酸触媒存在下ヒドロキシル
基に付加させ合成することができる。これら何れの反応
条件も、通常ヒドロキシル化合物が変性しない温和な条
件下で行うことが好ましい。具体的には、０〜１５０℃
の範囲が好ましく、より好ましくは、０〜１００℃の範
囲である。

【０００８】本発明で使用されるリン化合物は下記一般
式（５）および（６）で表される化合物である。 Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＯ（ＯＲ³）₂ （５） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＲ³Ｘ （６） 式（５）および（６）中、Ａｒ²は下記一般式（７）〜
（９）より表される化合物の中から選ばれる１つの化合
物を示す。式（５）および（６）中、Ｒ²は、水素又は
炭素数１〜２０のアルキル基を示し、炭素数は、好まし
くは１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基が好ましい。また、Ｒ³はフェニ
ル基又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、炭素数は、
好ましくは１〜４、さらに好ましくは１〜２である。ア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、イソプロピル基、２−エチルヘキシル基などが
好適なものとして挙げられる。

【化１０】

【化１１】

【化１２】 式（７）〜（９）中、Ｒ⁴はアルキル基、ビニル基、ア
リル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ
基、メトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基を
示し、それらの混在の有無を問わない。Ｒ⁴がアルキル
基、アルコキシ基の場合の炭素数は１〜２０、好ましく
は１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。具体的に
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ペンチル基、オクチル基等が、ア
ルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等が、ハ
ロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素等がそれぞれ好適
なものとして挙げられる。Ａｒ²が式（７）で表される
化合物の場合のカルボニル基の置換位置は特に限定され
ないが、リンを含む基に対しｐ−位が望ましく、また、
カルボニル基、リンを含む基の置換位置は、Ａｒ²が
（８）の場合、１，４−位、１，５−位および２，６−
位が望ましく、Ａｒ²が（９）の場合、４，４’−位が
望ましい。ｍ¹，ｍ²，ｍ³およびｍ⁴は整数であってＲ⁴
の置換数を表し、通常それぞれｍ¹は０〜４以下、ｍ²は
０〜６以下、ｍ³およびｍ⁴は０〜４であり、いずれにお
いても好ましくは２または１または０であり、さらに好
ましくは１または０である。置換位置として好ましく
は、リンを含む基に隣接する位置、もしくは、カルボニ
ル基に隣接する位置、さらに好ましくは、カルボニル基
に隣接する位置である。

【０００９】なお、前記リン化合物の製造方法は特に限
定されないが、相当する下記一般式（１３）で表される
α−ハロゲン化メチル化合物から式（５）で表される化
合物を製造する場合には、亜リン酸トリアルキルエステ
ルを、式（６）で表される化合物を製造する場合にはト
リアリール隣を公知の方法（例えば新実験化学講座１４
（１），ｐ２２６，ｐ２３８，１９７７，丸善）で反応
させて製造することができる。 Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂Ｘ （１３） （１３）式中、Ｒ²，Ａｒ²は一般式（５）および（６）
におけるＲ²、Ａｒ₂と同じものを示し、Ｘはハロゲンを
示し、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が好ましい
が、特に塩素、臭素が好ましい。式（１２）で表される
α−ハロゲン化メチル化合物としては、４−（ブロモメ
チル）安息香酸、４−（クロロメチル）安息香酸、４−
（ヨードメチル）安息香酸、４−（ブロモメチル）安息
香酸メチル、４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、４
−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、４−（ブロモメ
チル）安息香酸ブチル、４−（クロロメチル）安息香酸
メチル、４−（クロロメチル）安息香酸エチル、４−
（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、４−（クロロ
メチル）安息香酸プロピル、４−（クロロメチル）安息
香酸ブチル、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息
香酸、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸、
２−メトキシ−４−（ヨードメチル）安息香酸、２−メ
トキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸メチル、２−メ
トキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、２−メ
トキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、２−
メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸ブチル、２−
メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸メチル、２−
メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸エチル、２−
メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸イソプロピ
ル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸プロ
ピル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸ブ
チル、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸、２
−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸、２−メチル
−４−（ヨードメチル）安息香酸、２−メチル−４−
（ブロモメチル）安息香酸メチル、２−メチル−４−
（ブロモメチル）安息香酸エチル、２−メチル−４−
（ブロモメチル）安息香酸プロピル、２−メチル−４−
（ブロモメチル）安息香酸ブチル、２−メチル−４−
（クロロメチル）安息香酸メチル、２−メチル−４−
（クロロメチル）安息香酸エチル、２−メチル−４−
（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、２−メチル−
４−（クロロメチル）安息香酸プロピル、２−メチル−
４−（クロロメチル）安息香酸ブチル、３−クロロ−４
−（ブロモメチル）安息香酸、３−クロロ−４−（クロ
ロメチル）安息香酸、３−クロロ−４−（ヨードメチ
ル）安息香酸、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息
香酸メチル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香
酸エチル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸
プロピル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸
ブチル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸メ
チル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸エチ
ル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸イソプ
ロピル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸プ
ロピル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸ブ
チル、３−（ブロモメチル）安息香酸、３−（クロロメ
チル）安息香酸、３−（ヨードメチル）安息香酸、２−
ブロモ−３−（ブロモメチル）安息香酸、２−クロロ−
３−（クロロメチル）安息香酸、２−（ブロモメチル）
安息香酸、２−（クロロメチル）安息香酸、２−（ヨー
ドメチル）安息香酸、１−（ブロモメチル）−４−ナフ
タレンカルボン酸、１−（クロロメチル）−４−ナフタ
レンカルボン酸メチル、１−（ブロモメチル）−５−ナ
フタレンカルボン酸、１−（クロロメチル）−５−ナフ
タレンカルボン酸メチル、２−（ブロモメチル）−６−
ナフタレンカルボン酸、２−（クロロメチル）−６−ナ
フタレンカルボン酸メチル、４−（４’−（ブロモメチ
ル）フェニル）安息香酸、４−（４’−（クロロメチ
ル）フェニル）安息香酸メチル等が例示できる。これら
の中でも、４−（ブロモメチル）安息香酸、４−（クロ
ロメチル）安息香酸メチル、２−（ブロモメチル）−６
−ナフタレンカルボン酸、２−（クロロメチル）−６−
ナフタレンカルボン酸メチル、４−（４’−（ブロモメ
チル）フェニル）安息香酸、４−（４’−（クロロメチ
ル）フェニル）安息香酸メチルが、特に好ましい。ま
た、亜リン酸トリアルキルエステルとして具体的には、
亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリヘキシル、亜リン酸
トリイソデシル、亜リン酸トリイソプロピル、亜リン酸
トリメチル、亜リン酸トリオクタデシル、亜リン酸トリ
オクチル、亜リン酸トリ（２−エチルヘキシル）、亜リ
ン酸トリブチル、また、トリアリール燐としてトリブチ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（２−
メチルフェニル）ホスフィン、トリス（３−メチルフェ
ニル）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホス
フィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、
トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等が
使用できる。この中でも亜リン酸トリメチル、亜リン酸
トリエチルが好ましく、亜リン酸トリエチルが最も好ま
しい。

【００１０】本発明は前述の通り、一般式（１）で表さ
れる化合物とリン化合物とを反応させることにより、一
般式（１０）で表される化合物が製造される。一般式
（１０）で表される化合物として、立体異性体であるシ
ス体、トランス体が製造されるが、本発明の方法は特に
トランス体を製造するのに好ましい。一般式（１０）に
おいて、Ａｒ¹およびＡｒ²の組み合わせは特に限定され
ないが、Ａｒ²がベンゼン環をもつ組み合わせが好まし
く、このうち、Ａｒ¹がナフタレン環とベンゼン環をも
つ組み合わせがさらに好ましく、Ａｒ¹がベンゼン環を
もつものが特に好ましい。実用上好ましい化合物の具体
例としては、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−
スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−エト
キシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−
３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−
ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロ
キシ−３’−プロポキシ−４−スチルベンカルボン酸、
４’−ヒドロキシ−３’−ブトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸、４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−ス
チルベンカルボン酸、４’−（ｐ−カルボキシフェニ
ル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’
−（ｐ−カルボキシフェニル）−３−エトキシ−４−ヒ
ドロキシスチルベン、４’−（ｐ−カルボキシフェニ
ル）−４−ヒドロキシスチルベン、２−（６−ヒドロキ
シ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カルボキシフェニル）
エテニレン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−
（２−カルボキシ−６−ナフチル）エテニレン、２−
（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−（２
−カルボキシ−６−ナフチル）エテニレン、２−（４−
ヒドロキシ−３−エトキシフェニル）−１−（２−カル
ボキシ−６−ナフチル）エテニレン等が例示できる。こ
れらの中で、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−
スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−エト
キシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−
３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−
ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロ
キシ−３’−プロポキシ−４−スチルベンカルボン酸、
４’−ヒドロキシ−３’−ブトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸が特に好ましい。

【００１１】前記一般式（１）で表される化合物とリン
化合物とを反応させる際は、通常塩基性触媒が用いられ
る。塩基性触媒としては特に限定されないが、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ブチ
ルカリウム、ｎ−ブチルリチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ピリジン、１，５−
ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５、フェニルリ
チウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム等が挙げ
られる。これらの中でも、ナトリウムメトキシドまたは
水素化ナトリウムが好ましく、特に水素化ナトリウムが
好ましい。この触媒量はリン化合物１モルあたり通常
０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モル、さらに
好ましくは０．７５〜３モル、最も好ましくは１．０〜
２．０モルの範囲である。また、反応における一般式
（１）で表される化合物とリン化合物のモル比は通常５
対１、好ましくは３対１さらに好ましくは１対１であ
る。反応は通常、溶媒の存在下で行われる。反応溶媒と
しては、本発明の一般式（１）で表される化合物とリン
化合物とを溶解でき、前述の塩基性触媒に不活性な溶媒
であれば何れも使用可能である。具体的には、水、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセト
ニトリル、エーテル、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ
−メチルイミダゾール、ヘキサメチルホスフォリックト
リアミド、テトラヒドロフラン、液体アンモニア、ピリ
ジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメトキシエタ
ン、セロソルブ等、及びこれらの混合物が使用可能であ
る。これらの中でも、メタノールまたはジメチルホルム
アミドが好ましく、特にジメチルホルムアミドが好まし
い。反応条件は、通常、常圧下で温度−７０〜２００
℃、好ましくは−３０〜１００℃、より好ましくは−２
０〜５０℃、さらに好ましくは−１０〜３０℃の範囲で
行われ、反応時間は０．１〜１００時間、好ましくは１
〜５０時間、より好ましくは２〜１０時間、最も好まし
くは３〜５時間の範囲で選ばれる。反応の形態として
は、前述した溶媒中でリン化合物を塩基性触媒で活性
化した後、一般式（１）で表される化合物を添加、一
般式（１）で表される化合物とリン化合物の溶液に塩基
触媒を添加、溶媒に分散または溶解した塩基性触媒中
に、一般式（１）で表される化合物とリン化合物を添加
の何れでも差し支えないが、が最も好ましい。

【００１２】反応終了後は、反応混合物中に水、メタノ
ール、エタノールなどの貧溶媒を添加してエーテル結合
を持つ反応生成物を析出させる。これらの貧溶媒のう
ち、水が特に好ましい。一般式（２），（３）および
（４）においてＲ¹がカルボキシル基である場合および
一般式（５）および（６）においてＲ²が水素である場
合は、反応生成物がアルカリ塩となり水に可溶な場合が
多いのでその際には、水に投入し溶解させた後、酸で中
和もしくは酸析によって反応生成物を析出させる。析出
した反応生成物は濾過などの方法により単離が可能であ
る。単離した反応生成物はエーテル結合を有しているの
で、次に適当な試薬を用いてエーテル結合をヒドロキシ
ル基に変換し、一般式（１０）で表される目的とする化
合物を得ることができる。ここではハロゲン化水素、ス
ルホン酸、カルボン酸等の公知の試薬が使用できるが、
試薬によってはスチルベンの二重結合と反応する場合が
あるので注意を要する。具体的には、一般式（１１）に
おいてＲ⁵がアルキル、アリル、ベンジル、トリチル、
ｐ−メトキシベンジル、ｔ−ブチルの場合には、トリフ
ルオロ酢酸、塩化水素、臭化水素などが使用できる。メ
トキシメチル，ＴＨＰ、テトラヒドロ−２−チオピラニ
ルなどの場合には、塩酸、希塩酸，ｐ−トルエンスルホ
ン酸等が使用可能である。なお、反応の際の溶媒である
が単離された反応生成物が可溶な溶媒であれば何れも使
用可能である。また、この際の反応温度、反応時間は基
によって異なるが、高温、長時間では重合反応等の好ま
しくない副反応を生じるので、できるだけ低温、短時間
になるよう基によって適宜選択する必要がある。通常は
反応温度は０〜２００℃、反応時間は１０分〜５０時間
であり、好ましくは反応温度が１０〜１５０℃、反応時
間は１〜３０時間である。具体的には、Ｒ⁵がＴＨＰの
場合は反応温度は１０〜５０℃、反応時間は１〜５時
間、Ｒ⁵がベンジルの場合には反応温度１００〜１５０
℃、反応時間は２０〜３０時間が好ましい。なお、Ｒ⁵
が、ＴＨＰ，メトキシメチル，テトラヒドロ−２−チオ
ピラニルの場合には、反応生成物を単離せずに、反応直
後の反応溶液に直接、前記の試薬を添加しヒドロキシル
基に変換することも可能である。変換後、前記と同様に
反応溶液に水などの貧溶媒を添加して目的とする化合物
を析出させる。目的とする化合物の精製は、再結晶や蒸
留などの公知の精製手段が利用できる。トランス体のシ
ス体よりの分離方法は特に限定されないが、ジオキサ
ン、酢酸等の溶媒より再結晶することにより行うことが
できる。再結晶溶媒としては、酢酸が最も好ましい。

【００１３】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例によりなんら限定され
るものではない。

【００１４】（合成例１） ジエチルホスフォネートメチル安息香酸の合成 ４−（ブロモメチル）安息香酸（４９８ｇ，２．３２ｍ
ｏｌ）、亜リン酸トリエチル（４６２ｇ，２．７８ｍｏ
ｌ）およびトルエン（１０００ｍｌ）の混合物を還流条
件下で１５時間反応させ、反応後冷却すると白色の結晶
が析出した。結晶を濾別し、これをトルエンで洗浄後、
乾燥し、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（ｍ．
ｐ．１２４．７℃）４７４ｇ（収率７５％）を得た。（合成例２） ジエチルホスフォネートメチル安息香酸メチルの合成 ４−（クロロメチル）安息香酸メチル（１１３ｇ，０．
６１ｍｏｌ）および亜リン酸トリエチル（１２１ｇ，
０．７３ｍｏｌ）の混合物を１４０℃から１８５℃まで
２時間かけて徐々に加熱し、１８５℃で３時間反応を行
った。反応後、減圧下で加熱し過剰量の亜リン酸トリエ
チルを留去し、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸
メチル（ｏｉｌ）１７５ｇ（収率１００％）を得た。（合成例３） （４−カルボキシベンジル）トリフェニルホスホニウム
ブロミドの合成 ４−（ブロモメチル）安息香酸４．３０ｇ（２０．０ｍ
ｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５．２５ｇ（２０．
０ｍｍｏｌ）の無水アセトン（１５０ｍｌ）溶液を撹拌
下７０℃で加熱した。はじめ透明な溶液は速やかにミル
ク状となり、ホスホニウム塩の無色結晶が析出してき
た。析出後、氷水中で冷却してから吸引濾過し、無水エ
チルエーテルで洗浄した。母液を１／３に濃縮し、結晶
化した生成物を分離し、（４−カルボキシベンジル）ト
リフェニルホスホニウムブロミドを８．５ｇ（収率８９
％）得た。（合成例４） ４−（ジエチルホスフォネートメチル）−１−ナフトエ
酸の合成 ４−メチル−１−ナフトエ酸（１８．６ｇ，０．１ｍｏ
ｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１７．８ｇ，０．１
ｍｏｌ）、アゾビスイソブチロニトリル（８２ｍｇ，
０．５ｍｏｌ％）および四塩化炭素（２００ｍｌ）の混
合物を還流温度で一時間反応させ、析出した沈殿を四塩
化炭素、メタノールで洗浄し減圧乾燥すると４−（ブロ
モメチル）−１−ナフトエ酸が１９．９ｇ得られた。続
いて、４−（ブロモメチル）−１−ナフトエ酸（１９．
９ｇ，７５ｍｍｏｌ）、亜リン酸トリエチル（２５．０
ｇ，１５０ｍｍｏｌ）およびトルエン（１００ｍｌ）の
混合物を還流温度で２４時間反応させ、析出した沈殿物
をトルエンで洗浄して減圧乾燥し、４−（ジエチルホス
フォネートメチル）−１−ナフトエ酸１７．２ｇ（７１
％）を得た。

【００１５】（実施例１） ４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 バニリン（１００ｇ，０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒ
ドロ−２Ｈ−ピラン（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピ
リジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（８．２６
ｇ，０．０３３ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）
の混合物を１２時間室温下で撹拌した。この反応溶液に
トルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム
水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩
水で洗浄し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別
し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除
去して油状のバニリン−ＴＨＰエーテル１３６ｇを得
た。続いて、合成例１で得たジエチルホスフォネートメ
チル安息香酸（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−
ＮａＨ（５０ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホル
ムアミド（１８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌
し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ＴＨＰエ
ーテル（１３６ｇ，０．５４ｍｏｌ）のジメチルホルム
アミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間
ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸
でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程
度乾燥してからＴＨＦ（２０００ｍｌ）に投入し、６規
定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾
過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキ
シ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１４３ｇ
（収率９５％）を得た。

【００１６】（実施例２） ４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 エチルバニリン（１００ｇ，０．６０ｍｏｌ）、３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１０１ｇ，１．２０ｍｏ
ｌ）、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート
（７．５６ｇ，０．０３０ｍｏｌ）およびトルエン（４
００ｍｌ）の混合物を１２時間室温下で撹拌した。反応
溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナト
リウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３）、次いで飽和
食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３）、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別
し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除
去してエチルバニリン−ＴＨＰエーテル（結晶状）１２
８ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安
息香酸（１２３ｇ，０．４５ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ
（４７ｇ，１．１８ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミ
ド（１７００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色
の溶液となった後氷冷し、エチルバニリン−ＴＨＰエー
テル（１２８ｇ，０．５１ｍｏｌ）のジメチルホルムア
ミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほ
ど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸で
ｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度
乾燥してからＴＨＦ（２０００ｍｌ）に投入し、６規定
塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾
過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−エトキ
シ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１３９ｇ
（収率９４％）を得た。

【００１７】（実施例３） ４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２８ｇ，０．
１ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（１０．７ｇ，０．２７ｍ
ｏｌ）およびジメチルホルムアミド（５００ｍｌ）の混
合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷
し、バニリン−ベンジルエーテル（アルドリッチ市販
品，２５ｇ，０．１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶
液（６０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌し
た後、水２０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１
に調整した。調製後、沈殿物を濾過し、メタノール洗
浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−ベンジルオキシ−
３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸３７ｇを得
た。続いて、このベンジル化合物（３７ｇ）を酢酸（３
０００ｍｌ）と濃塩酸（４００ｍｌ）中で還流条件下５
０時間反応させ、冷却、濾過、メタノール洗浄、減圧乾
燥し、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチル
ベンカルボン酸（トランス体）１９．２ｇ（収率７０
％）を得た。

【００１８】（実施例４） ４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸メチルの合成 合成例２で得たジエチルホスフォネートメチル安息香酸
メチル（２８．６ｇ，０．１ｍｏｌ）、ナトリウムメト
キシド（５．７ｇ，０．１１ｍｏｌ）およびジメチルホ
ルムアミド（８０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、
橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ＴＨＰエーテ
ル（２５．１ｇ，０．１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミ
ド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹
拌した後、水５００ｍｌを加えた。沈殿物を濾過し乾燥
してからアセトニトリル（３００ｍｌ）に投入し、２規
定塩酸を６０ｍｌ加え、室温下で１時間ほど反応させ
た。次いで水１５００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾
過し、メタノール洗浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−
ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン
酸メチル（シス・トランス混合物）２９．１ｇ（８９
％）を得た。シス体、トランス体の混合割合の確認のた
め、酢酸から再結晶を行い¹Ｈ−ＮＭＲを測定したとこ
ろ、混合物の６０％がトランス体であった。

【００１９】（実施例５） ４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成 ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２７．４ｇ，
０．１ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（１０．４ｇ，０．２
６ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（３８０ｍｌ）
の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷
冷し、４−ｎ−ヘプチルオキシベンツアルデヒド（関東
化学市販品，２５ｇ，０．１１３ｍｏｌ）のジメチルホ
ルムアミド溶液（６０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時
間ほど撹拌した後、水２０００ｍｌを加え、次いで濃塩
酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し、メ
タノール洗浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−ｎ−ヘプ
チルオキシ−４−スチルベンカルボン酸３２．３ｇを得
た。さらにこのヘプチル化合物（３２．３ｇ）を酢酸
（１６００ｍｌ）と４７％臭化水素酸（３００ｍｌ）中
で還流条件下２０時間反応後、冷却、濾過、メタノール
洗浄、減圧乾燥し、４’−ヒドロキシ−４−スチルベン
カルボン酸１８．４ｇ（収率８１％）を得た。

【００２０】（実施例６） ４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成 ４−ヒドロキシベンツアルデヒド（１００ｇ，０．８２
ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１３８
ｇ，１．６４ｍｏｌ）およびトルエン（５００ｍｌ）の
混合物にピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート
（１０．３ｇ，０．０４１ｍｏｌ）を添加し４時間２０
℃で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加
し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍ
ｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×
３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無
水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロー
タリーエバポレーターで除去して油状の４−ヒドロキシ
ベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル１６８ｇを得た。続
いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２０３
ｇ，０．７５ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（７２ｇ，１．
７９ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（３８００ｍ
ｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった
後氷冷し、４−ヒドロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエ
ーテル（１６８ｇ，０．８２ｍｏｌ）のジメチルホルム
アミド溶液（５００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間
ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸
でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程
度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規
定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水６０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾
過し、白色の４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボ
ン酸（トランス体）１７６ｇ（収率９８％）を得た。

【００２１】（実施例７） ４’−ヒドロキシ−３’−アミロキシ−４−スチルベン
カルボン酸合成 ４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド（１
７１ｇ，０．８２ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ピラン（１３８ｇ，１．６４ｍｏｌ）およびトルエン
（７００ｍｌ）の混合物にピリジニウム−ｐ−トルエン
スルフォネート（１０．３ｇ，０．０４１ｍｏｌ）を添
加し、１２時間２０℃で撹拌した。反応溶液にトルエン
を３００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で
洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄
し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中
のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して油状
の４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド−
ＴＨＰエーテル２３７ｇを得た。続いて、ジエチルホス
フォネートメチル安息香酸（２０３ｇ，０．７５ｍｏ
ｌ）、６０％−ＮａＨ（７２ｇ，１．７９ｍｏｌ）およ
びジメチルホルムアミド（３８００ｍｌ）の混合物を１
時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−ヒ
ドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエ
ーテル（２３７ｇ，０．８２ｍｏｌ）のジメチルホルム
アミド溶液（５００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間
ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸
でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程
度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規
定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水６０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾
過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−アミロ
キシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）２４０
ｇ（収率９８％）を得た。

【００２２】（実施例８） ４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 合成例３で得た（４−カルボキシベンジル）トリフェニ
ルホスホニウムブロミド（４．８ｇ，１０．０ｍｍｏ
ｌ）、６０％ＮａＨ（１．０ｇ，２５ｍｍｏｌ）および
ＤＭＦ（１００ｍｌ）の混合物を氷冷し３０分間撹拌し
た。バニリン−ＴＨＰエーテル２．５１ｇ（１０．０ｍ
ｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液を投入し、室温下１
０時間反応させた。水（５００ｍｌ）を添加し、析出し
たトリフェニルホスフィンオキシドを吸引濾過後、水で
洗浄し、濾液に希塩酸をゆっくりと滴下し、ｐＨ３の酸
性とすると白色の沈殿が析出した。沈殿物を濾過しある
程度乾燥した後、ＴＨＦ（２００ｍｌ）に投入し、６規
定塩酸を２０ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水４００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過
して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ
−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）２．３ｇ
（収率８５％）を得た。

【００２３】（実施例９） ２−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カ
ルボキシフェニル）エテニレンの合成 ６−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド（１１４ｇ，
０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン
（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピリジニウム−ｐ−ト
ルエンスルフォネート（８．２６ｇ，０．０３３ｍｏ
ｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を１２時間
室温下で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追
加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００
ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ
×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、
無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロ
ータリーエバポレーターで除去して、６−ヒドロキシ−
２−ナフタアルデヒド−ＴＨＰエーテル１４９ｇを得
た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸
（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（５０
ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（２
８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液
となった後氷冷し、６−ヒドロキシ−２−ナフタアルデ
ヒド−ＴＨＰエーテル（１３８ｇ，０．５４ｍｏｌ）の
ジメチルホルムアミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。
室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加
え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調整後、沈殿
物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍ
ｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で
３時間ほど反応させた。次いで水４０００ｍｌを投入し
氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、２−（６−ヒドロキ
シ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カルボキシフェニル）
エテニレン（トランス体）１３２ｇ（収率９５％）を得
た。

【００２４】（実施例１０） ４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 ４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド
（１３１ｇ，０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ピラン（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピリジニウ
ム−ｐ−トルエンスルフォネート（８．２６ｇ，０．０
３３ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を
１２時間室温下で撹拌した。反応溶液にトルエンを２０
０ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し
（２００ｍｌ×３）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１０
０ｍｌ×３）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥
後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエン
をロータリーエバポレーターで除去して、４−（４’−
ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテ
ル１６４ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメ
チル安息香酸（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−
ＮａＨ（５０ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホル
ムアミド（２８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌
し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−（４’−ヒドロ
キシフェニル）ベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル（１
５２ｇ，０．５４ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液
（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌し
た後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４
に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥して
からＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２
００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで
水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥
し、４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−スチルベ
ンカルボン酸（トランス体）１４４ｇ（収率９５％）を
得た。

【００２５】（実施例１１） ２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−
（４−カルボキシナフチル）エテニレンの合成 合成例４で得た４−（ジエチルホスフォネートメチル）
−１−ナフトエ酸（１７．２ｇ，５３．３ｍｍｏｌ）、
６０％−ＮａＨ（５．６ｇ，１４０ｍｍｏｌ）およびジ
メチルホルムアミド（２００ｍｌ）の混合物を１時間ほ
ど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−Ｔ
ＨＰエーテル（１５．１ｇ，６０ｍｍｏｌ）のジメチル
ホルムアミド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。室温下で４
時間ほど撹拌した後、水７００ｍｌを加え、次いで濃塩
酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある
程度乾燥してからＴＨＦ（２３０ｍｌ）に投入し、６規
定塩酸を２５ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させ
た。次いで水４５０ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過
して乾燥し、２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェ
ニル）−１−（４−カルボキシナフチル）エテニレン１
６．２ｇ（収率９５％）を得た。

【００２６】（比較例１） ４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカ
ルボン酸の合成 ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，
２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍ
ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混
合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、バニ
リン（４．１ｇ，２７ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミ
ド溶液（１５ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹
拌した後、水３００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを
１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し乾燥した後、白
色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベ
ンカルボン酸が０．８７ｇ（収率１３．３％）得られ
た。

【００２７】（比較例２） ４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメトキシ−４−スチ
ルベンカルボン酸の合成 ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，
２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍ
ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混
合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、シリ
ンガアルデヒド（４．９ｇ，２７ｍｍｏｌ）のジメチル
ホルムアミド溶液（１５ｍｌ）を滴下した。室温下で４
時間ほど撹拌した後、水３００ｍｌを加え、次いで濃塩
酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し乾燥
した後、白色の４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメト
キシ−４−スチルベンカルボン酸が０．９７ｇ（収率１
３．４％）得られた。

【００２８】（比較例３） ４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成 ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，
２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍ
ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混
合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、４−
ヒドロキシベンツアルデヒド（３．３ｇ，２７ｍｍｏ
ｌ）のジメチルホルムアミド溶液（１５ｍｌ）を滴下し
た。室温下で４時間ほど撹拌した後、水３００ｍｌを加
え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿
物を濾過し乾燥した後、白色の４’−ヒドロキシ−４−
スチルベンカルボン酸が０．８１ｇ（収率１４．０％）
得られた。

【００２９】このように、一般式（１）で表される化合
物と特定のリン化合物とを反応させることにより、ヒド
ロキシスチルベンカルボン酸類化合物を安定した高い収
率で製造することができ、かつ、その製造を簡便に行う
ことができる。すなわち、ヒドロキシスチルベンカルボ
ン酸類化合物を製造するための原料を、従来の製造方法
では入手し難いが、本発明では容易に入手することが可
能である。また、反応温度は従来では２００℃付近であ
ったが、本発明では室温付近である。さらに、収率が低
いと、副生成物を分離するのに多大の能力が必要にな
る。従って、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物
を簡便な方法で高収率に製造することができる。

【００３０】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、ヒドロキ
シスチルベンカルボン酸類化合物を簡便な方法で高収率
に製造することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表される化合物と、
   下記一般式（５）又は（６）で表されるリン化合物とを
   反応させて、下記一般式（１０）で表されるヒドロキシ
   スチルベンカルボン酸類化合物を製造することを特徴と
   するヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方
   法。 Ｒ⁵−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１） （１）式中、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素
   数１〜２０の含酸素炭化水素基又は炭素数１〜２０の含
   硫黄炭化水素基を示し、Ａｒ¹は下記一般式（２）〜
   （４）より表される化合物の中から選ばれる１つの化合
   物を示す。 【化１】 【化２】 【化３】 （２）〜（４）式中、Ｒ¹は、炭素数１〜２０のアルキ
   ル基、ビニル基、アリル基、炭素数１〜２０のアルコキ
   シ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基又はカルボキシル
   基を示し、ｎ¹，ｎ²，ｎ³，ｎ⁴は整数であって、それぞ
   れｎ¹は０〜４、ｎ²は０〜６、ｎ³およびｎ⁴は０〜４を
   示す。 Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＯ（ＯＲ³）₂ （５） Ｒ²ＯＯＣ−Ａｒ²−ＣＨ₂ＰＲ³Ｘ （６） （５）および（６）式中、Ａｒ²は下記一般式（７）〜
   （９）で表される化合物の中から選ばれる１つの化合物
   を示し、Ｒ²は水素又は、炭素数１〜２０のアルキル基
   を、Ｒ³はフェニル基又は炭素数１〜８のアルキル基を
   それぞれ示す。 【化４】 【化５】 【化６】 （７）〜（９）式中、Ｒ⁴は、炭素数１〜２０のアルキ
   ル基、ビニル基、アリル基、炭素数１〜２０のアルコキ
   シ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、メトキシカルボ
   ニル基又はエトキシカルボニル基を示し、Ｘはハロゲン
   を示す。ｍ¹，ｍ²，ｍ³，ｍ⁴は整数であって、それぞれ
   ｍ¹は０〜４、ｍ²は０〜６、ｍ³およびｍ⁴は０〜４を示
   す。 ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨ₂＝ＣＨ₂−Ａｒ²−ＣＯＯＲ² （１０） （１０）式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ｒ²は、一般式（１）、
   （５）および（６）におけるＡｒ¹、Ａｒ²、Ｒ²と同じ
   ものを示す。
2. 【請求項２】 前記一般式（１）で表される化合物が、
   下記一般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物を該
   ヒドロキシル基に由来するエーテル結合に生じさせるべ
   く反応してなる請求項１記載の製造方法。 ＨＯ−Ａｒ¹−ＣＨＯ （１１） （１１）式中、Ａｒ¹は、一般式（１）におけるＡｒ¹と
   同じものを示す。