JPH1154467A - 枚葉式ウエーハ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 本発明は、エネルギーコストが低く、洗浄効
率の良い小型のウエーハ洗浄装置を提供することを目的
とする。 【解決手段】 搬送部２と洗浄部３と乾燥部４を隣接し
て配置し、シャッタ５で仕切るとともに、洗浄部２に配
設される洗浄ユニット６によってウエーハＷを１枚づつ
洗浄するようにする。洗浄ユニット６は垂直軸まわりに
正・逆回転可能な上下の定盤７、８を水平方向に移動可
能にし、この上下の定盤７、８でウエーハＷを挟持する
ようにするとともに、各定盤７、８の挟持面に柔らかい
素材の研磨クロス等の洗浄材料を装着する。また各定盤
７、８の中央部に洗浄液の吹出し部１２を設け、ウエー
ハＷの露出部に対向して洗浄液の吹付け部１３を設け
る。そしてウエーハＷを保持するキャリアＣの水平移動
を規制するため、キャリアＣの周縁部に複数のガイドロ
ーラ１０、…を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体シリ
コン等のウエーハを１枚づつ洗浄するようにした枚葉式
ウエーハ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば半導体シリコン等のウエー
ハを洗浄する方法として、例えば複数のウエーハを同時
に超音波が印加された洗浄液中に浸漬する、いわゆるバ
ッチ方式で洗浄したり、またはベルトコンベア等で搬送
されるウエーハに対して洗浄液を吹き付けてシャワー洗
浄したり、又はブラシ等を用いて洗浄するような各種方
法が採用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、近年のウエ
ーハの大径化等により、複数のウエーハを同時に洗浄処
理しようとすると、設備スペースが大型化するととも
に、設備内の空気清浄度を保持したり、洗浄液の飛沫を
排気する等のための空調負荷が増大する等の問題が生じ
るようになってきた。

【０００４】また、ウエーハを超音波が印加された洗浄
液中に浸漬して洗浄するような方法は、洗浄液の一部を
更新しながら洗浄しても洗浄液の更新効果が低く、パー
ティクルの排除効果等にも限度があり、せっかく洗浄さ
れたウエーハを洗浄液自体によって再汚染してしまう傾
向がある。

【０００５】そこで、近年の大直径ウエーハの洗浄は、
ウエーハを１枚づつ洗浄する、いわゆる枚葉方式で洗浄
することが提案されているが、実用上満足な洗浄装置が
できていないのが現状である。そこで本発明は、エネル
ギーコストが低く、洗浄効率の良い小型の枚葉式ウエー
ハ洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、請求項１において、洗浄部に配設される洗浄
ユニットでウエーハを１枚づつ洗浄するようにした枚葉
式ウエーハ洗浄装置を設け、前記洗浄ユニットとして、
ウエーハを上下から挟み込んで保持しつつ垂直軸まわり
に回転可能で且つ挟持圧の調整が可能な上下一対の定盤
と、ウエーハの上下面に洗浄液を供給する洗浄液供給機
構と、ウエーハの水平方向の移動を規制する位置規制機
構を設けた。そして上下の定盤の挟持面に、ウエーハの
上下面を洗浄する洗浄材料を装着するとともに、上下の
定盤を水平方向に移動自在にした。

【０００７】そして上下の定盤によってウエーハを挟み
込み、洗浄液供給機構から洗浄液を供給すると同時に、
適度な挟持圧に調整した定盤を回転させつつ水平方向に
移動させながら、挟持面の洗浄材料でウエーハの上下面
を洗浄する。このようにウエーハ表面に洗浄液を供給し
ながら直接洗浄材料を接触させて洗浄すれば、例えば高
圧で洗浄液を吹き付けるような洗浄液の飛沫が少なくな
り、排気処理等の空調設備の小型化が可能になるととも
に、洗浄液の更新効果が高まり、洗浄効果を高めること
が出来る。ここで洗浄材料としては、例えばウエーハの
表面に汚染、損傷等を与える虞れのない柔らかい素材の
研磨クロス、樹脂ブラシ等が適切であり、また洗浄液と
は、例えば酸、アルカリ、有機溶剤等の薬液あるいは純
水等である。

【０００８】また上下の定盤を水平方向に移動させなが
ら回転させて洗浄すれば、大径のウエーハを洗浄する時
も小径の定盤で対応出来、装置の小型化が図られる。ま
た、定盤を水平方向に移動させれば、ウエーハの一部を
定盤のオーバーラップ領域から外して露出させることも
可能となり、例えばこの露出部を通して洗浄液を供給す
れば、ウエーハ表面の全域に確実に洗浄液を供給するこ
とが出来、洗浄効果を高めることが出来る。

【０００９】また、洗浄時に定盤を回転させたり水平方
向に移動させたりすると、これに連れてウエーハも水平
方向に移動しようとするため、位置規制機構によって水
平方向の移動を規制する。

【００１０】次に、本発明の請求項２では、洗浄ユニッ
トの上下の定盤を、任意の方向に回転し得るようにし
た。

【００１１】このように上下の定盤を任意の方向に回転
し得るようにすれば、ウエーハを停止状態にして洗浄し
たり、またはウエーハを所定方向に回転させながら洗浄
するようなことが可能になり、しかも、例えば上下の定
盤の中心軸をずらして相互に逆向きに回転させれば、ウ
エーハを所定方向に送ることも出来る。そこで、例えば
ウエーハを洗浄部に出し入れする時に上下の定盤を利用
し、搬送機構の簡素化を図ることも可能となる。

【００１２】また、本発明の請求項３では、洗浄ユニッ
トの洗浄液供給機構として、上下の定盤の中心部に洗浄
液の吹出し部を設けるとともに、上下の定盤が水平方向
に移動してウエーハの上下面の一部が露出した際、この
露出面に向けて洗浄液を吹き付けることが出来る吹付け
部を設けた。

【００１３】このように、各定盤の中心部の吹出し部
と、露出面に向けた吹付け部から洗浄液を供給しながら
洗浄すると、定盤の中心部の吹出し部から供給された洗
浄液は遠心力によってウエーハの四周に広がり、吹付け
部からウエーハの露出面に供給された洗浄液と共に、ウ
エーハの上下面全域に洗浄液を満遍なく行き渡らせて効
果的に洗浄することが出来る。

【００１４】また、本発明の請求項４では、洗浄ユニッ
トの位置規制機構として、ウエーハの周縁部、又はウエ
ーハがキャリア内に保持されている場合はキャリアの周
縁部を規制する複数のガイドローラを設けた。

【００１５】ここでガイドローラは、例えば金属汚染等
の虞れのない樹脂製等とし、ウエーハの外周部、又はキ
ャリアの外周部に沿って少なくとも３ヵ所以上に取り囲
むよう配置することが好ましく、このガイドローラをウ
エーハ、又はキャリアの外周部に係合させて、水平移動
を規制するようにする。この際、ウエーハをガイドロー
ラ内に出し入れするため、必要に応じて一部のガイドロ
ーラを移動可能にしても良い。

【００１６】また、本発明の請求項５では、前記ガイド
ローラがウエーハの周縁部を位置規制するようにされて
いる場合、ガイドローラの表面に洗浄材料を装着するよ
うにした。

【００１７】すなわち、ウエーハがキャリアによって保
持されていない場合、洗浄中にウエーハの周縁部はガイ
ドローラに当接して位置規制されるため、ガイドローラ
の表面に洗浄材料を装着しておけば、ウエーハの面取り
部等の周縁部も同時に洗浄される。ここで、洗浄材料と
は、例えばウエーハに汚染、損傷等を与える虞れのない
柔らかい素材の研磨クロス等が適切である。

【００１８】また、本発明の請求項６では、前記洗浄ユ
ニットが配設される洗浄部を、上流側の搬送部と下流側
の乾燥部の間に隣接して設け、搬送部と洗浄部、及び洗
浄部と乾燥部の間に、それぞれ開閉自在なシャッタを設
けて仕切るようにした。

【００１９】そして搬送部から、ウエーハを１枚づつ洗
浄部に送り込み、洗浄部で洗浄したウエーハを１枚づつ
乾燥部に送り込んで乾燥させるが、搬送部と洗浄部と乾
燥部の間にシャッタを設けることで、洗浄部の洗浄液の
飛沫等が搬送部や乾燥部に入り込むのが防止され、飛沫
の排気処理等のための空調設備を小型化することができ
るし、洗浄後のウエーハが再汚染されることもない。

【００２０】また、本発明の請求項７では、前記搬送部
に、ウエーハ、又はウエーハとウエーハ保持用のキャリ
アを収容する収容部と、この収容部からウエーハ又はキ
ャリアとウエーハを１枚づつ取り出して搬送する搬送ロ
ボットを配設した。そして搬送ロボットによって収容部
からウエーハ又はキャリアとウエーハを１枚づつ取り出
して洗浄部に搬送する。

【００２１】また、本発明の請求項８では、前記乾燥部
に、ウエーハの周縁部を保持して回転させ乾燥させるス
ピンナを配設した。そしてこのスピンナによってウエー
ハの周縁部を掴んで保持し、回転させて水切り乾燥させ
る。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について添付
した図面に基づき説明する。ここで図１は本発明に係る
洗浄装置の配置図、図２は洗浄部の洗浄ユニットによる
洗浄状態を示す説明図で（Ａ）が側面視図、（Ｂ）が平
面視図、図３はキャリアを使用しないでウエーハを洗浄
する状態の説明図である。

【００２３】本発明に係るウエーハ洗浄装置１は、例え
ば半導体シリコン等のウエーハを洗浄するにあたり、洗
浄装置を小型化して設備コストの低減を図るとともに、
効率良く洗浄することを目的として構成され、図１に示
すように、搬送部２から１枚づつ送り込まれるウエーハ
Ｗを洗浄部３で洗浄し、洗浄の終えたウエーハＷを乾燥
部４に送り込んで乾燥させることが出来るようにされて
いる。そして搬送部２と洗浄部３、及び洗浄部３と乾燥
部４の間は、開閉自在なシャッタ５、５によって仕切ら
れている。

【００２４】そして搬送部２には、後述する搬送ロボッ
ト１６等を配設し、ウエーハＷがキャリアＣで保持され
ている場合はキャリアＣとウエーハＷを一括して洗浄部
３に向けて送り込むことが出来るようにされ、ウエーハ
ＷをキャリアＣで保持しない場合は、ウエーハＷ単独を
洗浄部３に向けて送り込むことが出来るようにしてい
る。また洗浄部３には、洗浄ユニット６を配設するとと
もに、乾燥部４には後述するスピンナ１８等を配設して
いる。

【００２５】前記洗浄ユニット６は、図２に示すよう
に、垂直軸周りに回転自在な上下の定盤７、８と、ウエ
ーハＷがキャリアＣで保持されている場合に、キャリア
Ｃの外周縁部を規制する位置規制機構としての複数のガ
イドローラ１０、…と、ウエーハＷの上下面に洗浄液を
供給する洗浄液供給機構１１を備えている。

【００２６】前記上下の定盤７、８は、キャリアＣとウ
エーハＷを一体に挟んで保持し得るようにされ、挟持面
に柔らかい素材の研磨クロス、又は樹脂ブラシ等の洗浄
材料が装着されるとともに、正・逆いずれの方向にも回
転可能にされている。また、各定盤７、８の径は、ガイ
ドローラ１０、…の所定方向（図２（Ｂ）の上下方向）
の幅間隔より小径にされて、所定方向（図２（Ｂ）の左
右方向）にストローク移動可能にされている。また上下
の定盤７、８の挟持圧は調整自在にされている。

【００２７】そして、キャリアＣとウエーハＷを上下に
挟んで保持すると、上下の定盤７、８は水平方向に移動
しながら回転してウエーハＷの表面を洗浄するようにし
ている。因みに、キャリアＣは洗浄時にウエーハＷを保
持しておくためのものであり、例えば樹脂、又は繊維強
化樹脂あるいは金属板に樹脂を被覆したもの等の材質で
作製されており、ウエーハＷの厚みより僅かに薄く形成
され、中央の収容孔にウエーハＷを保持するようにして
いる。

【００２８】前記ガイドローラ１０、…は、キャリアＣ
の周縁部を規制して、キャリアＣの水平方向の移動を規
制することが出来るよう、本実施形態では樹脂製等のガ
イドローラ１０、…を４ヵ所に配設している。そして、
図２（Ｂ）において、搬路上流側にあたる上方の２ヵ所
のガイドローラ１０はお互いに左右方向に開閉自在とさ
れ、前記搬送部２からシャッタ５を通して送り込まれる
キャリアＣ及びウエーハＷを受入れることが出来るよう
にされるとともに、搬路下流側にあたる下方の２ヵ所の
ガイドローラ１０もお互いに左右方向に開閉自在にさ
れ、洗浄処理の終えたウエーハＷとキャリアＣを前記乾
燥部４に向けてシャッタ５を通して送り出すことが出来
るようにしている。

【００２９】因みに、このキャリアＣ及びウエーハＷの
受入れ及び送り出しは、前記上下の定盤７、８の回転方
向を調整して行うようにしている。

【００３０】前記洗浄液供給機構１１は、上下の定盤
７、８の中心部に開口する吹出し部１２と、各定盤７、
８が水平に移動した際、ウエーハＷとのオーバラップが
外れて露出する部分に対向する吹付け部１３を備えてい
る。

【００３１】そして、この吹出し部１２と吹付け部１３
から薬液及び純水等の洗浄液をウエーハＷ表面に供給し
ながら前記定盤７、８を回転、移動させれば、吹出し部
１２から吹出された洗浄液は遠心力の作用で四周に広が
るとともに、吹付け部１３から供給される洗浄液と共に
ウエーハＷの全域に満遍なく洗浄液を行き渡らせること
が出来る。

【００３２】一方、図３はキャリアＣを使用しないでウ
エーハＷを単独で洗浄処理する場合の状態を示す説明図
である。この場合は、ガイドローラ１０、…でウエーハ
Ｗの周縁部を保持して位置規制するが、この際、ガイド
ローラ１０、…の表面に研磨クロス等の洗浄材料を装着
しておく。尚、図３ではその他の洗浄液供給機構１１等
の構成は、図示を省略しているが前記例と同様である。

【００３３】こうして、ウエーハＷを挟む定盤７、８を
回転、移動させて上下面を洗浄すると、ウエーハＷも連
れて回転し、ガイドローラ１０表面の洗浄材料でウエー
ハＷの周縁部も同時に洗浄することが出来る。洗浄ユニ
ット６は以上のように構成されている。

【００３４】次に、前記搬送部２に配設される搬送ロボ
ット等について図４に基づき説明する。ここで図４
（Ａ）は搬送ロボット等の側面視による説明図、（Ｂ）
は平面視による説明図である。

【００３５】搬送部２には、キャリアカセット１４と、
ウエーハカセット１５と搬送ロボット１６を配設してい
る。そしてキャリアカセット１４には、ウエーハＷを保
持するキャリアＣを収容し、ウエーハカセット１５に
は、ウエーハＷを収容するとともに、搬送ロボット１６
によってキャリアＣとウエーハＷ、又はウエーハＷのみ
を１枚づつ取り出してシャッタ５を通して洗浄部３に送
り込むようにしている。

【００３６】この場合、キャリアＣとウエーハＷ、又は
ウエーハＷのみを洗浄部３に送り込むには、シャッタ５
を開けた後、搬送ロボット１６により直接下定盤８上に
これらを載置すればよいが、キャリアＣでウエーハを保
持する場合は、搬送部２内に別途載置台を設けて、一旦
その上にキャリアＣを載せ、ウエーハを保持させてか
ら、ベルト搬送等で洗浄部３に送り込むようにしてもよ
い。

【００３７】次に、前記乾燥部４に配設されるスピンナ
等について図５に基づき説明する。ここで図５（Ａ）は
乾燥部にキャリアとウエーハを送り込んだ状態の説明
図、（Ｂ）はスピンナでウエーハを保持して回転させる
時の状態の説明図である。

【００３８】乾燥部４には、ウエーハＷを持上げるリフ
ター１７と、持上げられたウエーハＷを保持して回転す
るスピンナ１８が設けられている。すなわち、（Ａ）に
示すように、シャッタ５を通して乾燥部４の中央部にキ
ャリアＣとウエーハＷが搬送されると、（Ｂ）に示すよ
うに、下方のリフター１７が上昇してウエーハＷを所定
の高さに持上げ、上方からスピンナ１８の保持爪１８ａ
が降下してウエーハＷの外周部を保持した後、回転して
乾燥させるようにしている。

【００３９】尚、ウエーハＷの回転面の延長線上のシャ
ッタ５及び周辺壁面等には、跳ね返り防止板２０を設
け、飛散した洗浄液等の飛沫が周囲に拡散するのを防止
するようにしている。

【００４０】以上のような洗浄装置１において、搬送部
２の搬送ロボット１６がキャリアＣとウエーハＷ、又は
ウエーハＷを１枚づつ取り出し、シャッタ５を通して洗
浄部３に送り込む。

【００４１】洗浄部３の洗浄ユニット６では、キャリア
Ｃ等の一部を上下の定盤７、８で挟持すると、各定盤
７、８はキャリアＣ等を中央に引き入れるように回転
し、キャリアＣとウエーハＷが中央部に引き入れられる
と、それまで開いていたガイドローラ１０、…が閉じて
キャリアＣの周縁部を規制する位置にセットされる。

【００４２】そして洗浄液供給機構１１から洗浄液を供
給しつつ、各定盤７、８を回転させてウエーハＷの洗浄
が行われる。この際、ウエーハＷのサイズが大きいよう
な時でも、各定盤７、８が所定方向にストローク移動
し、且つ各定盤７、８の位置、回転方向等の調整によっ
てウエーハＷを任意の方向に回転させながら洗浄するこ
とが出来るため、ウエーハＷの全域を漏れなく、しかも
効率良く洗浄することが出来る。勿論、必要に応じてウ
エーハＷを回転方向に停止させた状態にして洗浄するこ
とも可能である。

【００４３】そしてキャリアＣを使用する場合は、上下
の定盤上の洗浄材料による洗浄は、主としてウエーハＷ
の上下面を主体に洗浄し、キャリアＣを使用しない場合
は、定盤上の洗浄材料とともに、ガイドローラ１０表面
の洗浄材料も活用してウエーハＷの周縁部も含めて全域
が洗浄材料によって洗浄される。また必要に応じて上下
の定盤７、８の挟持圧を調整し、最適な接触圧で洗浄す
る。

【００４４】また、洗浄部３で洗浄する間、搬送部２と
乾燥部４との間はシャッタ５で仕切られているため、洗
浄液の飛沫等が遮断され、搬送部に待機したウエーハ、
あるいは乾燥部のウエーハ等に悪影響を与えない。

【００４５】洗浄ユニット６による洗浄が終えると、下
流側のガイドローラ１０を開いて通路を確保した後、上
下の定盤７、８を送り方向に回転させてキャリアＣ、ウ
エーハＷを乾燥部４に向けて送り出す。そしてシャッタ
５を通して乾燥部４内に送り込むと、前記要領によっ
て、スピンナ１８の保持爪１８ａで保持し、回転させて
乾燥させる。

【００４６】そして、乾燥が終えると、ウエーハＷを定
位置に停止させ、不図示のゲートバルブ等を開けてロボ
ット等で取出し、ワークカセットに収納する等して、次
工程にウエーハを送る。

【００４７】以上のような構成により、ウエーハＷのサ
イズが大型化した場合でも、比較的小型の洗浄装置１で
対応することが出来、しかも空調設備等の設備の小型化
も図ることが出来る。またウエーハＷの搬送から洗浄、
乾燥までの一連の作業を効率良く行うことができ、実用
上非常に有効である。

【００４８】尚、本発明は、上記実施形態に限定される
ものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【００４９】例えば、上記実施形態では、ガイドローラ
１０の数が４個の場合を示したが、本発明はこれに限定
されることなく、３個でも或いは４個以上でも良い。ま
た、洗浄するウエーハについても、半導体シリコンウエ
ーハをはじめ、化合物半導体ウエーハ、石英基板、酸化
物単結晶基板等の精密基板を洗浄する場合にも本発明は
有効である。

【００５０】

【発明の効果】以上のように本発明の枚葉式ウエーハ洗
浄装置は、請求項１のように、洗浄部に設けた洗浄ユニ
ットとして、ウエーハを上下から挟み込んで保持しつつ
回転可能で且つ挟持圧の調整が可能な上下一対の定盤
と、ウエーハの上下面に洗浄液を供給する洗浄液供給機
構と、ウエーハの水平方向の移動を規制する位置規制機
構を設け、上下の定盤の挟持面に、ウエーハの上下面を
洗浄する洗浄材料を装着するとともに、上下の定盤を水
平方向に移動自在にしたため、例えば高圧で洗浄液を吹
き付けるような洗浄液の飛沫が少なくなり、排気処理等
の空調設備の小型化が可能となる。また上下の定盤を水
平方向に移動させながら洗浄するため、大径のウエーハ
を洗浄する時も小径の定盤で対応出来、装置の小型化が
図られる。更に、ウエーハを洗浄液中に浸漬するような
方法に較べて、洗浄液の更新効果が高く、パーティクル
の排除効果等の洗浄効率を著しく高めることが出来る。

【００５１】また請求項２のように、上下の定盤を任意
の方向に回転し得るようにすれば、洗浄部からウエーハ
を出し入れする時にこれら定盤を利用して出し入れする
ことが出来、搬送機構の小型化が図られる。また請求項
３のように、洗浄液供給機構を、定盤の中心部の吹出し
部と、ウエーハ露出面に対する吹付け部から構成すれ
ば、洗浄液をウエーハ全域に行き渡らせることが出来、
洗浄効果を一層高めることが出来る。また請求項４のよ
うに、位置規制機構として、ウエーハの周縁部、又はキ
ャリアの周縁部を規制する複数のガイドローラで構成す
れば、位置決め機構を簡素に構成出来る。また請求項５
のように、ガイドローラがウエーハの周縁部を位置規制
する場合に、ガイドローラの表面に洗浄材料を装着すれ
ば、ウエーハの周縁部も含めて全域を洗浄材料によって
洗浄することが出来る。

【００５２】また、請求項６のように、上記のような洗
浄部を、上流側の搬送部と下流側の乾燥部の間に隣接し
て設け、搬送部と洗浄部、及び洗浄部と乾燥部の間に、
それぞれ開閉自在なシャッタを設ければ、洗浄部の洗浄
液の飛沫等が搬送部とか乾燥部に入り込むのが防止さ
れ、飛沫の排気処理等のための空調設備の小型化を図る
ことが出来るとともに、ウエーハを再汚染させることも
ない。そして請求項７のように、搬送部に、ウエーハ又
はキャリアを収容する収容部と、搬送ロボットを配設
し、また、請求項８のように、乾燥部にスピンナを配設
すれば、ウエーハを１枚ずつ洗浄して乾燥させる一連の
作業を効率良く行うことが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る洗浄装置の配置図である。

【図２】洗浄ユニットによる洗浄状態を示す説明図で
（Ａ）が側面視図、（Ｂ）が平面視図である。

【図３】キャリアを使用しないでウエーハを洗浄する状
態の説明図である。

【図４】搬送部に配設される搬送ロボット等の配置の一
例図であり、（Ａ）は側面視図、（Ｂ）は平面視図であ
る。

【図５】乾燥部の説明図であり、（Ａ）は搬入時の状態
を示す説明図、（Ｂ）はスピンナで保持して回転する時
の状態を示す説明図である。

【符号の説明】

１…ウエーハ洗浄装置、 ２…搬送部、３
…洗浄部、 ４…乾燥部、５…
シャッタ、 ６…洗浄ユニット、
７…上定盤、 ８…下定盤、１
０…ガイドローラ、 １１…洗浄液供給
機構、１２…吹出し部、 １３…吹
付け部、１４…キャリアカセット、 １５…
ウエーハカセット、１６…搬送ロボット、
１７…リフター、１８…スピンナ、
１８ａ…保持爪、２０…跳ね返り防止板、Ｃ…キ
ャリア、 Ｗ…ウエーハ。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄部に配設される洗浄ユニットでウエ
   ーハを１枚づつ洗浄するようにした枚葉式ウエーハ洗浄
   装置であって、前記洗浄ユニットは、ウエーハを上下か
   ら挟み込んで保持しつつ垂直軸まわりに回転可能で且つ
   挟持圧の調整が可能な上下一対の定盤と、前記ウエーハ
   の上下面に洗浄液を供給する洗浄液供給機構と、前記ウ
   エーハの水平方向の移動を規制する位置規制機構を備
   え、前記上下の定盤の挟持面に、ウエーハの上下面を洗
   浄する洗浄材料を装着するとともに、上下の定盤を水平
   方向に移動自在にしたことを特徴とする枚葉式ウエーハ
   洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の枚葉式ウエーハ洗浄装
   置において、前記洗浄ユニットの上下の定盤は、任意の
   方向に回転し得るようにされることを特徴とする枚葉式
   ウエーハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の枚葉式ウ
   エーハ洗浄装置において、前記洗浄ユニットの洗浄液供
   給機構は、上下の定盤の中心部に洗浄液の吹出し部を備
   えるとともに、上下の定盤が水平方向に移動してウエー
   ハの上下面の一部が露出した際、この露出面に向けて洗
   浄液を吹き付けることが出来る吹付け部を備えたことを
   特徴とする枚葉式ウエーハ洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に
   記載の枚葉式ウエーハ洗浄装置において、前記洗浄ユニ
   ットの位置規制機構は、ウエーハの周縁部、又はウエー
   ハがキャリア内に保持されている場合はキャリアの周縁
   部を規制する複数のガイドローラを備えたことを特徴と
   する枚葉式ウエーハ洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の枚葉式ウエーハ洗浄装
   置であって、前記ガイドローラがウエーハの周縁部を位
   置規制するようにされている場合、前記ガイドローラの
   表面に洗浄材料が装着されることを特徴とする枚葉式ウ
   エーハ洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項１乃至請求項５のいずれか１項に
   記載の枚葉式ウエーハ洗浄装置において、前記洗浄ユニ
   ットが配設される洗浄部は、上流側の搬送部と下流側の
   乾燥部の間に隣接して設けられ、搬送部と洗浄部、及び
   洗浄部と乾燥部の間は、それぞれ開閉自在なシャッタで
   仕切られることを特徴とする枚葉式ウエーハ洗浄装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の枚葉式ウエーハ洗浄装
   置において、前記搬送部に、ウエーハ、又はウエーハと
   ウエーハ保持用のキャリアを収容する収容部と、この収
   容部からウエーハ又はキャリアとウエーハを取り出して
   搬送する搬送ロボットが配設されることを特徴とする枚
   葉式ウエーハ洗浄装置。
8. 【請求項８】 請求項６又は請求項７に記載の枚葉式ウ
   エーハ洗浄装置において、前記乾燥部に、ウエーハの周
   縁部を保持して回転させ乾燥させるスピンナが配設され
   ることを特徴とする枚葉式ウエーハ洗浄装置。