JPH1152193A - 光半導体モジュール - Google Patents

光半導体モジュール

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JPH1152193A
JPH1152193A JP9203358A JP20335897A JPH1152193A JP H1152193 A JPH1152193 A JP H1152193A JP 9203358 A JP9203358 A JP 9203358A JP 20335897 A JP20335897 A JP 20335897A JP H1152193 A JPH1152193 A JP H1152193A
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JP
Japan
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optical semiconductor
optical
fiber
semiconductor module
substrate
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JP9203358A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Matsuyama
山 宏 松
Hideto Furuyama
山 英 人 古
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 lCから発生する熱をコネクタ部分への伝導
を抑制し光コネクタとの光軸ずれを防止するとともに、
生産性と歩留とを向上させた光半導体モジュールを提供
することを目的とする。 【解決手段】 ICや光半導体素子が実装された基板と
光ファイバが実装された基板とを分離することによっ
て、熱伝導を低減し、光コネクタとの光軸ずれを抑制す
るものである。さらに、このように基板を分離すること
によって、組立工程を平行して行うことができ、生産性
が改善され製造歩留まりも向上することができるように
なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光半導体素子とl
Cなどの半導体チップとを搭載し、光コネクタに対する
接続機構を有する光半導体モジュールに関し、特に、光
コネクタ接続部の温度を低下させる構造により、接続す
る光コネクタとの光軸ずれを抑制するとともに、生産性
および歩留を向上させた光半導体モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信分野では、LAN間やコン
ピュータ内のボード間データ転送など、高容量かつ高速
でデータを伝送する技術が必要とされている。データ転
送に用いられる伝送システムは、一般に、送信モジュー
ル、光伝送媒体および受信モジュールにより構成され
る。それぞれの具体的な構成は以下の如くである。すな
わち、送信モジュールは、レーザダイオード、制御lC
および光コネクタに対する光結合部品とからなる。光伝
送媒体は、各モジュールとの連結機構を有する光コネク
タと光ファイバとからなる。受信モジュールは、フォト
ダイオード、制御ICおよび光コネクタに対する光結合
部品とからなる。また、光コネクタと各モジュールとの
連結には、ガイドピンが用いられることが多い。
【0003】モジュールのスペックとしては小型化、軽
量化、低消費電力化が求められている。一方、データ量
の増大とデータ転送レートの拡大を目指して、光ファイ
バの多チャンネル化や、高速に動作する光半導体素子や
制御lCを搭載したモジュールの開発が進められてい
る。しかし、送信チャンネル数を増大させるためには、
さらに高度な光ファイバアセンブリ技術が必要であると
ともに、lCの回路規模拡大による発熱問題に対処する
必要がある。つまり、高密度実装を踏まえたモジュール
の放熱対策が必要となる。また、同時にこのような光モ
ジュールは、市場に安価に提供するために、生産性や歩
留まりが十分に高いことも必要とされる。図8は、従来
の光半導体モジュールの概略構成を表す説明図である。
すなわち同図(a)は、その概略斜視図であり、同図
(b)は、その組立図である。
【0004】同図において、101はレーザダイオード
あるいはフォトダイオードなどがアレイ状に配列した光
半導体素子であり、102はレーザダイオードに対して
は送信lC、フォトダイオードに対しては受信lCとな
る。これらの素子はベース基板105にマウントされて
いる。べ一ス基板105はシリコン材料からなり、その
表面には、電気信号入出力用の配線104と光半導体素
子用配線141とが形成されている。これらの配線は、
Ti/Pt/Auの順に金属層をメッキ蒸着した積層構
造を有する。
【0005】lC102のボンディング・パッド142
と光半導体素子用配線141との間、および、IC10
2のボンディング・パッド142と配線104との間
は、それぞれボンディング・ワイヤ103により電気的
に接続されている。光半導体素子101の前面には光フ
ァイバ108、108、・・・が配置され、光信号が入
出力される。光ファイバ108は、補強材として光ファ
イバホルダ109により固定されている。また、図示し
ない光コネクタとの光結合を確保するために、ガイドピ
ン110、110が設けられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の光半導体モジュールにおいては、放熱対策が十分で
なく、また生産性や製造歩留まりにも改善の余地があっ
た。以下にこれらの問題点について説明する。
【0007】図8に示した光半導体モジュール100に
おいては、放熱板112によってlC102と光半導体
素子101の放熱が行われる。すなわち、これらの素子
が生ずる熱は、放熱板112から、図示しないヒートシ
ンクを介して、外部に放出される。
【0008】IC102は、1チャネルあたりの消費電
力が0.2〜0.3Wの回路構成のものが多い。従っ
て、4チャネル構成のものでは0.8〜1.2Wの消費
電力におさまっているが、10チャネル構成のものでは
消費電力は2〜3Wにも達し、本発明者の実験によれ
ば、このモジュールを動作させた場合、放熱のさせかた
や使用環境温度次第では基板105の端部における温度
が70℃を超えることがある。しかし、モジュールに接
続される光コネクタの許容温度範囲は70℃よりも低い
場合も多く、モジュールの発熱によって光軸ずれなどを
起こして正常なデータ転送ができなくなる場合があっ
た。すなわち、IC102などから発生した熱は、べ一
ス基板105を通して光コネクタとの結合部に伝導さ
れ、熱ひずみを生じ、モジュールの光軸と光コネクタの
光軸とがずれる。
【0009】マルチモードファイバの場合は、コア径が
50μmであり許容幅がやや大きいが、単一モード伝送
を行うシングルモードファイバの場合は、コア径が約1
0μmと小さく、光軸が数μmずれただけで、光結合の
損失が増大し、安定なデータ転送ができなくなるという
問題があった。
【0010】一方、従来の光半導体モジュールにおいて
は、製造中に素子の劣化が生じることがあるという問題
があり、生産性や歩留まりも改善の余地があった。これ
らの問題点について、図8(b)を参照しつつ説明す
る。
【0011】すなわち、光半導体モジュール100の組
立に際しては、まず、べ一ス基板105上に光半導体素
子101とlC102とを半田でマウントする。次に、
lCパッド142と配線104との間、およびlCパッ
ド142と光半導体素子用配線141との間をそれぞれ
ワイヤボンディングする。光ファイバ108は、前もっ
てファイバホルダ109に半田などで固定しておき、さ
らに光ファイバの端面を合わせるためにダイシングす
る。さらに、光半導体素子側の光結合が行えるようにフ
ァイバホルダ109の片方の端面のみをダイヤモンド砥
粒などで研磨する。光ファイバ108の他方の端面の研
磨は、後述するモジュールの端面出しのときに行う。
【0012】次に、この光ファイバ108を固定したフ
ァイバホルダ109をベース基板105上に形成された
溝106に沿ってマウントし半田で固定する。次に、図
示しない光コネクタとの光結合を得るために、コネクタ
面と突き合わせられる面をダイシングし、さらにダイヤ
モンド研磨を行う。次に、光コネクタと連結させるため
のガイドピン110を溝107にエポキシ接着剤で固定
する。次に、半田111で放熱板112に固定する。最
後に、図示しないパッケージに封入し、光半導体モジュ
ールが完成する。
【0013】以上説明したように、従来の光半導体モジ
ュールにおいては、光半導体素子101やIC102を
ベース基板105にマウントした後に、ファイバホルダ
109の半田付けやガイドピンのエポキシ接着固定など
の熱サイクルを伴う組立て工程がある。しかし、このよ
うな熱サイクルは、光半導体素子101やIC102を
劣化させ、モジュールの信頼性を低下させる要因となっ
ていた。
【0014】また、前述したような一連の工程は、ほぼ
直列的に行われる。しかし、この一連の工程の後半に行
われる、ファイバ108やガイドピン110のマウント
には正確な位置決めなどが必要とされ、これに失敗した
場合には、それまで終えてきた全ての工程が無駄とな
る。このように、従来の光半導体モジュールにおいて
は、生産性が必ずしも高くなく、製造歩留が低下しやす
かった。
【0015】以上詳述したように、従来の光半導体モジ
ュールにおいてはlCなどから発生する熱による光コネ
クタ結合部の温度上昇や光軸ずれ、また一連の組立て工
程による生産性や歩留が上がらないという問題があっ
た。
【0016】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のである。すなわち、その第1の目的は、lCから発生
する熱をコネクタ部分への伝導を抑制し光コネクタとの
光軸ずれを防止し、信頼性の高い光半導体モジュールを
提供することにある。また、第2の目的は、組立工程に
おいては生産性と歩留とを向上させた光半導体モジュー
ルを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明による
光半導体モジュールは、光結合部分であるファイバ部
と、熱発生を伴うlCなどのチップ搭載部分とが分離さ
れているものとして構成され、光コネクタとの光結合ず
れを低減し、組立工程を分割することで素子特性の劣化
を抑え、生産性を向上することができる。
【0018】また、前述の光半導体モジュールにおい
て、チップ搭載基板の材料として熱伝導性の良い材料を
用い、放熱板への熱伝導の割合を上昇させ、結果的に光
結合面の温度上昇を抑え、光結合損失を低減させること
ができる。
【0019】さらに、前述の光半導体モジュールにおい
て、光結合基板を比較的熱伝導率の低い、例えば、ガラ
スセラミックス、アルミナ、液晶性ポリマー樹脂、AB
S樹脂、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリフェニレンサルファイド、テフロン、エポキシ
樹脂などの材料で構成することによって、光結合面の温
度上昇を抑え光結合損失を低減させることができる。
【0020】また、ファイバ搭載基板を放熱板にマウン
トするときの接着材料として、熱伝導の低いエポキシ接
着剤などを用いることによって、光結合面の温度上昇を
抑え、光結合損失を低減させたことができる。
【0021】さらに、チップ搭載基板とファイバ搭載基
板を放熱板にマウントする際に用いる位置合わせ用のマ
ークを設けることによって、光結合部分を機械的位置合
わせで行い、工程時間を削減し光結合損失を低減するこ
とができる。
【0022】また、放熱板に溝を設けることによって、
チップ搭載基板からファイバ搭載基板への熱伝導をさら
に抑制することができる。
【0023】一方、基板を分離しなくても、チップ搭載
部分とファイバ搭載部分との間に溝を設けることによっ
て、熱伝導を抑制することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明は、ICや光半導体素子が
実装された基板と光ファイバが実装された基板とを分離
することによって、熱伝導を低減し、光コネクタとの光
軸ずれを抑制するものである。さらに、このように基板
を分離することによって、組立工程を平行して行うこと
ができ、生産性が改善され製造歩留まりも向上すること
ができるようになる。以下に具体的な実施例を参照しつ
つ本発明の実施の形態について説明する。
【0025】(実施例1)図1は本発明の第1の実施例
にかかる光半導体モジュールを表す概略斜視図である。
1はレーザダイオードあるいはフォトダイオードなどの
光半導体素子であり、2は光半導体素子用の1Cであ
る。これらの素子は電気信号入出力用の配線4を設けた
チップ用基板51にAuSn共晶半田などによって接合
されている。光半導体素子1と光半導体素子用lCとは
ボンディングワイヤ3によって接続されている。これら
の部品によってチップ搭載基板14が構成されている。
【0026】一方、ファイバ用基板52には光ファイバ
8が半田固定されており、その補強材として光ファイバ
ホルダ9が上から被せられている。さらに、図示しない
光コネクタとの連結用にガイドビン10、10が取り付
けられている。これらの部品によってファイバ搭載基板
15が構成されている。
【0027】チップ搭載基板14とファイバ搭載基板1
5とは、間に間隙13を設けて放熱板12に固定されて
いる。間隙13の距離やこれを設けたことによる効果は
後述する。ここで、放熱板12は平板である必要はな
く、装着対象により適宜形状を選択できる。例えば、図
示しない光コネクタとの接続機構を有した外囲器を設け
ることで光コネクタ型モジュールヘも適用できる。
【0028】図2は本実施例の光半導体モジュールの熱
経路を表す断面模式図である。同図を参照しつつ、間隙
13を設けることの効果を説明する。光半導体モジュー
ルにおける主要な熱源はlC2である。発生した熱は、
同図において示したlC上方への熱放射経路20とlC
裏面への熱伝導経路とに分かれる。
【0029】ここで、モジュールを図示しないパッケー
ジに封入するときは、安定的な気体雰囲気として窒素を
用いる。窒素の熱伝導率は0.0260W/(mK)で
あり、チップ用基板の材料であるシリコンの熱伝導率は
148W/(mK)である。よって、IC上面への熱放
射経路20による放熱成分は少なく、発生した熱の大部
分はlC裏面へ伝導していく。この熱は、lC裏面側を
中心にしてチップ用基板51全体に伝導していく。さら
に、放熱板12中の熱経路21〜26を通して、図示し
ないヒートシンクを介して外部に放出されていく。放熱
板12の材料としては、例えば熱伝導率が210W/
(mK)の銅タングステン合金(CuW)が用いられ
る。
【0030】一方、チップ用基板51を通る熱伝導経路
29が間隙13に達する箇所においては、間隙13に遮
蔽されて伝導する熱量は極めて小さくなる。これは、従
来例の光半導体モジュールにおいては、同図に破線で示
した熱経路31のように直接熱が伝導していくことと比
較して、顕著に異なる点である。移動する熱量は放熱経
路27が大きくなる分だけ、放熱経路24、25の放熱
量も多くなる。その結果、ファイバ用基板52の先端面
に至る総熱量は従来よりも、はるかに減少する。
【0031】ここで、本発明によれば、基板51と52
とが分離しているので、これらの基板同士が接するよう
に固定されていたとしても熱抵抗は非常に高く、熱伝導
は従来と比較して、はるかに抑えられる。しかし、間隙
13の距離は、全体のサイズなどとの関係において、可
能な限り大きく設定する方が、熱の放射や伝導を抑えら
れることは明白である。lCの消費電力とモジュールの
放熱構造とに応じて光コネクタの温度は変化するが、本
発明の構造を用いることによって温度上昇は極めて効果
的に抑制され、光軸ずれの少ない光半導体モジュールを
提供できる。また、樹脂材料により光半導体モジュール
全体を封止する場合でも、熱伝導率の低いものを選択す
ることによって同様の効果を得ることができる。
【0032】次に、本実施例による光半導体モジュール
の製造工程について説明する。図3は本実施例の光半導
体モジュールの概略組立図である。以下に、工程順に説
明する。まず、電気信号入出力用の配線4と光ファイバ
用の溝61を形成したチップ用基板51に、光半導体素
子1をマウントし、さらに、lC2をマウントする。次
に、lCパッド42と配線4の間およびlCパッド42
と配線41の間をボンディングワイヤ3により接続して
チップ搭載基板14が完成する。
【0033】ここで、これらの組立工程と平行して、フ
ァイバ搭載基板15を以下のようにして組立てることが
できる。すなわち、予め光ファイバホルダ9より数mm
長めに切断しておいた光ファイバ8を光ファイバホルダ
9の溝にマウントしておき、その後半田で固定する。光
ファイバ8と光ファイバホルダ9の長さを一致させるた
めに、端を1mmほどダイシングし、その後、光結合が
得られるように端面を研磨する。そして、この端面が光
半導体素子1と対向するように、基板52の光ファイバ
用の溝62にマウントし、半田材で固定する。次に、図
示しない光コネクタと接続する面をダイシングして光フ
ァイバ8の光結合が得られるように端面を研磨する。さ
らに、ガイドピン10をガイドピン用の溝7に合わせて
エポキシ接着剤で固定することにより、ファイバ搭載基
板15が完成する。
【0034】さらに、放熱板12上にプリフォーム半田
91を載せ、チップ搭載基板14を位置決めし、半田の
融点まで加温して、チップ搭載基板を固定する。次にフ
ァイバ搭載基板用のプリフォーム半田92を載せ、ファ
イバ搭載基板15から露出している光ファイバ部を光フ
ァイバ用の溝61に合わせる。半田の融点まで加温し
て、ファイバ搭載基板を放熱板12に固定する。さら
に、光ファイバホルダ9をチップ搭載基板14に光ファ
イバのずれが無いように半田固定する。
【0035】図4は、以上に説明した工程を表すフロー
図である。光半導体素子1やlC2をマウントし、ワイ
ヤを接続することによりチップ搭載基板14を組立て
る。この基板に対しては、これ以後、放熱板12とファ
イバ搭載基板15を取り付ける以外の工程で熱は加えな
い。その結果として、光半導体素子1やlC2を熱によ
り劣化させ、特性を低下させる危険性が少なくなる。一
方、光ファイバホルダ9の組立工程は、平行して独立に
実施することができ、作り置きが可能である。同様に、
ファイバ搭載基板15の組立工程についても平行して独
立に実施することができ、精密な位置精度が要求される
光ファイバの位置ずれやガイドピンの固定ずれを、この
組立工程内の歩留として閉じることができる。
【0036】本発明によれば、このように従来の直列的
な一連の工程を分割することによって生産性と歩留り向
上を実現することができる。以上述べた実施例は、単芯
ファイバについても、8芯、12芯やその他の多芯ファ
イバについても適用が可能であり同様の効果を得ること
ができる。
【0037】(実施例2)次に、図1を参照しつつ、本
発明の第2の実施例の光半導体モジュールについて説明
する。本実施例においては、チップ用基板51の材料と
して、熱伝導性の良好な他の材料を用いる。このような
材料としては、シリコン以外に、例えば、窒化アルミニ
ウム、窒化シリコン、銅、銅タングステン、アルミニウ
ム、コバール、42アロイなどを挙げることができる。
その他の部品、および組立て工程は、前述した実施例1
と同様とすることができる。
【0038】このようにチップ用基板51を熱伝導性の
良好な材料で構成することによって、図2に示した放熱
経路21を中心とした放熱を増加することができる。そ
の結果として、光コネクタ側への熱伝導を相対的に減少
させることができ、温度上昇に伴う光結合の損失を抑え
ることができる。すなわち、実施例1よりさらに光コネ
クタ部分への熱伝導を低減した光半導体モジュールを実
現できる。
【0039】(実施例3)次に、図1を参照しつつ、本
発明の第3の実施例の光半導体モジュールについて説明
する。本実施例においては、ファイバ用基板52の材料
として、熱伝導性の低い材料を用いる。このような材料
としては、ガラスセラミクスやアルミナなどのセラミク
ス系材料や、液晶性ポリマー樹脂、ABS樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニ
レンサルファイド、テフロン、およびエポキシ樹脂など
有機系材料などを挙げることができる。その他の部品、
および組立て工程は、前述した実施例1および2と同様
とすることができる。
【0040】このように、ファイバ用基板52を熱伝導
性の低い材料で構成することによって、図2に示した放
熱経路28や32による熱伝導を低下させることができ
る。その結果として、光コネクタ側への熱伝導を減少さ
せ、光結合の損失を抑えることができる。本実施例は、
前述した実施例2と組み合わせることによって、さらに
光コネクタ部分への熱伝導を低減した光半導体モジュー
ルを実現することができる。
【0041】(実施例4)次に、図1を参照しつつ、本
発明の第4の実施例の光半導体モジュールについて説明
する。本実施例においては、ファイバ搭載基板15の固
定に熱伝導性の低い接着剤を用いる。このような接着剤
としては、例えば、エポキシ接着剤のような樹脂系接着
剤を挙げることができる。その他の部品、および組立て
工程は、前述した実施例1と同様とすることができる。
【0042】このように、ファイバ搭載基板15を熱伝
導性の低い接着剤により固定することによって、図2に
示した放熱経路28や32による熱伝導をさらに低下さ
せることができる。その結果として、光コネクタ側への
熱伝導をさらに減少させ、光結合の損失をさらに抑える
ことができる。本実施例も、前述した実施例2および3
と組み合わせることによって、さらに光コネクタ部分へ
の熱伝導を低減した光半導体モジュールを実現すること
ができる。
【0043】(実施例5)次に、本発明の第5の実施例
の光半導体モジュールについて説明する。図5は、本発
明の第5の実施例の光半導体モジュールの組立図であ
る。本実施例においては、放熱板12とチップ搭載基板
14の面上に、それぞれ位置合わせマークが設けられて
いる。すなわち、放熱板12の面上には、チップ搭載基
板14のエッジに合わせるためのマーク35、35、3
5、35と、ファイバ搭載基板15の前後位置を合わせ
るためのマーク36、36、および左右位置を合わせる
ためのマーク37、37が、それぞれ設けられている。
また、チップ搭載基板14上には、光ファイバホルダ9
のエッジに合わせたマーク38、38がそれぞれ設けら
れている。
【0044】図5においては、スクリーン印刷の転写な
どの方法によりマーキングした場合を例示しているが、
マークは位置が正確で有れば良い。従って、穴を形成す
るなど、識別可能なあらゆる方法を用いることができ
る。ここで、マーク35〜37は絶対的な位置を示すも
のではなく、光結合を合わせるためには位置合わせマー
ク38の位置精度を優先させるべきである。本実施例に
よれば、位置合わせマークを用いることで正確に部品を
マウントし、信頼性が高く、しかも、位置合わせ作業の
時間を削減した生産性の高い光半導体モジュールを実現
することができる。
【0045】(実施例6)次に、本発明の第6の実施例
の光半導体モジュールについて説明する。図6は、本発
明の第6の実施例の光半導体モジュールの概略斜視図で
ある。すなわち、本実施例においては、放熱板12に溝
70が設けられている。溝70は、チップ搭載基板14
とファイバ搭載基板15の間に配置され、放熱板12の
内部での熱伝導を遮蔽する。すなわち、このような溝7
0を設けることによって、図2に示した放熱経路28と
32を介した熱伝導量が低下し、光コネクタの温度上昇
をさらに抑制することができる。
【0046】(実施例7)次に、本発明の第7の実施例
の光半導体モジュールについて説明する。図7は、本発
明の第7の実施例の光半導体モジュールの概略斜視図で
ある。すなわち、本実施例においては、基板50が分離
されておらず、チップ搭載部14’とファイバ搭載部1
5’との間に溝72が設けられている。このような溝7
2を設けることによって、基板を分離しなくとも、IC
2からの熱のファイバ側への伝導は抑制され、光コネク
タの温度上昇をある程度抑制することができる。
【0047】
【発明の効果】本発明は、以上説明した形態により実施
され、以下に説明する効果を奏する。まず、本発明によ
れば、チップ搭載基板とファイバ搭載基板とが分離して
いるので、熱伝導は従来と比較して、はるかに抑えられ
る。その結果として、結合部の温度上昇は極めて効果的
に抑制され、光軸ずれの少ない光半導体モジュールを提
供できる。また、本発明によれば、光コネクタの温度上
昇を抑制することができるので、従来よりも耐熱性の低
い安価なコネクタを使用することができるようになり、
光伝送システムを安価に提供することができるようにな
る。
【0048】また、本発明によれば、基板を分離したの
で、組立工程中に、光半導体素子やICに対して熱は加
える回数を減らすことができる。その結果として、光半
導体素子やlCを熱により劣化させ、特性を低下させる
危険性が少なくなる。一方、光ファイバホルダの組立工
程は、平行して独立に実施することができ、作り置きが
可能であり、生産性が向上する。さらに、ファイバ搭載
基板の組立工程についても平行して独立に実施すること
ができ、精密な位置精度が要求される光ファイバの位置
ずれやガイドピンの固定ずれを、この組立工程内の歩留
として閉じることができる。
【0049】本発明によれば、このように従来の直列的
な一連の工程を分割することによって生産性と歩留り向
上を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例にかかる光半導体モジュ
ールを表す概略斜視図である。
【図2】本実施例の光半導体モジュールの熱経路を示す
断面模式図である。
【図3】本実施例の光半導体モジュールの概略組立図で
ある。
【図4】第1の実施例の光半導体モジュールの組立工程
を表すフロー図である。
【図5】本発明の第5の実施例の光半導体モジュールの
組立図である。
【図6】本発明の第6の実施例の光半導体モジュールの
概略斜視図である。
【図7】本発明の第7の実施例の光半導体モジュールの
概略斜視図である。
【図8】従来の光半導体モジュールの概略構成を表す説
明図である。すなわち同図(a)は、その概略斜視図で
あり、同図(b)は、その組立図である。
【符号の説明】
1、101 光半導体素子 2、102 光半導体素子用送受信IC 3、103 ボンディングワイヤ 4、104 電気信号入出力用配線 7、107 ガイドピン用溝 8、108 光ファイバ 9、109 ファイバホルダ 10、110 ガイドピン 12、112 放熱板 13 間隙 14 チップ搭載基板 14’チップ搭載部 15 ファイバ搭載基板 15’ファイバ搭載部 20〜32 熱経路 35、36、37、38 位置合わせマーク 41、141 元素子電気信号接続配線 42、142 lCのボンディンゲパッド 50 基板 51 チップ用基板 52 ファイバ用基板 61、62、106 ファイバ溝 70、72 溝 91、92、111 半田プリフォーム 100 光半導体モジュール 105 べ一ス基板
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04B 10/12

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光半導体素子と、光半導体素子用lCと、
    光ファイバと、ガイドピンとを備えた光半導体モジュー
    ルであって、 前記光半導体素子と前記光半導体素子用ICとは、チッ
    プ搭載基板上に実装され、 前記光ファイバと前記ガイドピンとは、ファイバ搭載基
    板上に実装され、 前記チップ搭載基板と前記ファイバ搭載基板とは、互い
    に間隙を設けて放熱板上に配置されているものとして構
    成されていることを特徴とする光半導体モジュール。
  2. 【請求項2】前記チップ搭載基板は、シリコン、窒化ア
    ルミニウム、窒化シリコン、銅、銅タングステン合金、
    アルミニウム、コバール、および42アロイからなる群
    から選択された材料により構成されていることを特徴と
    する請求項1記載の光半導体モジュール。
  3. 【請求項3】前記ファイバ搭載基板は、ガラスセラミク
    ス、アルミナ、液晶性ポリマー樹脂、ABS樹脂、ポリ
    カーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェ
    ニレンサルファイド、テフロン、およびエポキシ樹脂か
    らなる群から選択された材料により構成されていること
    を特徴とする請求項1または2に記載の光半導体モジュ
    ール。
  4. 【請求項4】前記ファイバ搭載基板と前記放熱板とは、
    前記ファイバ搭載基板を構成する材料よりも熱伝導率が
    低い材料によって接着固定されていることを特徴とする
    請求項1〜3のいずれか1つに記載の光半導体モジュー
    ル。
  5. 【請求項5】前記放熱板上には、前記チップ搭載基板と
    前記ファイバ搭載基板とを固定する際に位置合わせする
    ためのマークが設けられ、 前記チップ搭載基板上には、前記ファイバを固定する際
    に位置合わせするためのマークが設けられていることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の光半導
    体モジュール。
  6. 【請求項6】前記放熱板は、前記チップ搭載基板が配置
    されている部分と前記ファイバ搭載基板が配置されてい
    る部分との間に溝が設けられていることを特徴とする請
    求項1〜5のいずれか1つに記載の光半導体モジュー
    ル。
  7. 【請求項7】基板と、前記基板上に搭載された光半導体
    素子、光半導体素子用lC、光ファイバ、およびガイド
    ピンと、を備えた光半導体モジュールであって、 前記基板は、前記光半導体素子および前記光半導体素子
    用ICが搭載された部分と、前記光ファイバおよび前記
    ガイドピンが搭載された部分との間に、溝が設けられて
    いることを特徴とする光半導体モジュール。
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