JPH11514106A - 二酸化ゲルマニウムガラスを含む紫外線用色消しレンズ光学系 - Google Patents
二酸化ゲルマニウムガラスを含む紫外線用色消しレンズ光学系Info
- Publication number
- JPH11514106A JPH11514106A JP10510386A JP51038698A JPH11514106A JP H11514106 A JPH11514106 A JP H11514106A JP 10510386 A JP10510386 A JP 10510386A JP 51038698 A JP51038698 A JP 51038698A JP H11514106 A JPH11514106 A JP H11514106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- optical system
- projection exposure
- glass
- germanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/253—Silica-free oxide glass compositions containing germanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.石英ガラス又は主に石英を含有するガラスから成る第1のレンズ(1、2 )を少なくとも1つ有する紫外線用色消しレンズ光学系において、主に二酸化ゲ ルマニウムを含有し、特に70%を越える二酸化ゲルマニウムを含有するガラス から成る少なくとも1つの第2のレンズ(3、4)を有することを特徴とする色 消しレンズ光学系。 2.第2のレンズ(3、4)は純粋な二酸化ゲルマニウムから成ることを特徴 とする請求項1記載の色消しレンズ光学系。 3.第1のレンズ(1、2)は収束し且つ第2のレンズ(3、4)は発散する 請求項1又は2記載の色消しレンズ光学系。 4.350nm以下の波長の光源(11)を有する投影露光光学系において、請 求項1から3のいずれか1項に記載の色消しレンズ光学系(20、70)を特徴 とする投影露光光学系。 5.光源(11)はスペクトルを狭めるための手段を含まないエキシマレーザ 又は別のUVレーザであることを特徴とする請求項4記載の投影露光光学系。 6.色消しレンズ光学系(12、13;41、42)は照明光路(20)の中 に挿入されていることを特徴とする請求項4又は5記載の投影露光光学系。 7.色消しレンズ光学系(91、92)は投影対物レンズ(70)の中に配置 されていることを特徴とする請求項5又は6記載の投影露光光学系。 8.二酸化ゲルマニウムから光学ガラスを製造する方法において、純度の高い 粉末状二酸化ゲルマニウムから基板を製造し、この基板上に、四塩化ゲルマニウ ム又は四水素化ゲルマニウムの燃焼プラズマから純粋酸素によりアモルファス二 酸化ゲルマニウムを一様に付着させ、そこで急速に冷却させることを特徴とする 方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19633128.5 | 1996-08-16 | ||
DE19633128A DE19633128A1 (de) | 1996-08-16 | 1996-08-16 | Achromatisches Linsensystem für Ultraviolettstrahlen mit Germaniumdioxid-Glas |
PCT/EP1997/004468 WO1998007666A2 (de) | 1996-08-16 | 1997-08-15 | Achromatisches linsensystem für ultraviolettstrahlen mit germaniumdioxid-glas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11514106A true JPH11514106A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=7802840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10510386A Ceased JPH11514106A (ja) | 1996-08-16 | 1997-08-15 | 二酸化ゲルマニウムガラスを含む紫外線用色消しレンズ光学系 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6064516A (ja) |
EP (1) | EP0855994B1 (ja) |
JP (1) | JPH11514106A (ja) |
DE (2) | DE19633128A1 (ja) |
WO (1) | WO1998007666A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173918A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | Euvマイクロリソグラフィ用照明装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005059617A2 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
US7466489B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-12-16 | Susanne Beder | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
JP5102492B2 (ja) | 2003-12-19 | 2012-12-19 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ |
WO2006133884A2 (en) | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element |
CN101620317B (zh) * | 2008-06-30 | 2011-06-22 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 一种具有长焦深的激光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5826050A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Agency Of Ind Science & Technol | 2酸化ゲルマニウム−3酸化2アンチモン系ガラス塊の製造方法 |
DD211545A1 (de) * | 1982-11-19 | 1984-07-18 | Univ Schiller Jena | Verfahren zur herstellung von infrarotdurchlaessigem glas |
JP2685179B2 (ja) * | 1987-03-27 | 1997-12-03 | 松下電器産業株式会社 | 露光装置 |
-
1996
- 1996-08-16 DE DE19633128A patent/DE19633128A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-08-15 WO PCT/EP1997/004468 patent/WO1998007666A2/de active IP Right Grant
- 1997-08-15 EP EP97918988A patent/EP0855994B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-15 US US09/051,339 patent/US6064516A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-15 JP JP10510386A patent/JPH11514106A/ja not_active Ceased
- 1997-08-15 DE DE59703783T patent/DE59703783D1/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173918A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | Euvマイクロリソグラフィ用照明装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0855994B1 (de) | 2001-06-13 |
DE59703783D1 (de) | 2001-07-19 |
DE19633128A1 (de) | 1998-02-19 |
EP0855994A2 (de) | 1998-08-05 |
US6064516A (en) | 2000-05-16 |
WO1998007666A3 (de) | 1998-05-28 |
WO1998007666A2 (de) | 1998-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4304409B2 (ja) | 石英ガラス部材の製造方法 | |
JP4238727B2 (ja) | 光学部材の製造方法 | |
JP3064857B2 (ja) | 光リソグラフィー用光学部材および合成石英ガラスの製造方法 | |
TW440548B (en) | Synthetic silica glass optical member and method of manufacturing the same | |
JP2000235146A (ja) | マイクロリソグラフィーの結晶レンズと投影形露光装置とを具備した対物レンズ | |
TW200305789A (en) | Optical projection system, method for making the same, exposure device and exposure method | |
JP3741208B2 (ja) | 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法 | |
JP2003515192A (ja) | フォトリソグラフィ方法、フォトリソグラフィマスクブランク及び作成方法 | |
JPH08107060A (ja) | 光リソグラフィー用光学部材及び投影光学系 | |
JP3765329B2 (ja) | フッ化カルシウム結晶、その製造方法 及びこれを用いた投影露光装置 | |
JPH11514106A (ja) | 二酸化ゲルマニウムガラスを含む紫外線用色消しレンズ光学系 | |
JPH0742134B2 (ja) | 光学部材 | |
JP3575836B2 (ja) | 高紫外線透過性弗燐酸塩ガラス及びその製造方法 | |
EP1403663A1 (en) | Optical member, process for producing the same, and projection aligner | |
US20120152730A1 (en) | Glass composition for ultraviolet light and optical device using the same | |
JP2000239040A (ja) | F2エキシマレーザー光学部材用石英ガラス材料及び光学部材 | |
KR100311068B1 (ko) | ArF엑시머레이저석판인쇄용 합성석영유리의 제조방법 | |
JP2821056B2 (ja) | 耐レーザ用光学部材及びその製造方法 | |
EP0284414B1 (en) | Exposure apparatus | |
US20060279836A1 (en) | Last lens of immersion lithography equipment | |
JPH0755845B2 (ja) | レーザ光用透過体 | |
Smith | 1. Optics Modified silica transmits vacuum UV July 1, 2001 The wavelength of light used for photoresist exposure in leading-edge optical lithography has evolved from longer-wave ultraviolet (UV) to the deep-UV wavelengths of 248 and 193 nm. In the near future, the use of the vacuum-UV wavelength of 157 nm is expected to produce lithographic feature sizes of 70 nm | |
US7727918B2 (en) | Optical glass | |
CN117321015A (zh) | 具有特定热膨胀行为的精密部件 | |
EP1726995B1 (en) | Last lens of immersion lithography equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040728 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071002 |
|
A313 | Final decision of rejection without a dissenting response from the applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A313 Effective date: 20080221 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080401 |