JPH11512692A - 真空処理装置における誘電性加工物の静電クランプ方法および装置 - Google Patents
真空処理装置における誘電性加工物の静電クランプ方法および装置Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.プラズマに対して曝露された加工物の表面にプラズマを印加し、同時に比 較的高い電圧を保持器の電極に印加する工程であり、前記電極は、プラズマの電 圧とは実質的に異なる高電圧にあるように物理的に配置され、さらに、プラズマ に対して曝露されていない加工物の部分に近接して置かれ、それによって、(1) 前記電極がプラズマの電圧とは実質的に異なった電圧を持ち、(2)静電電荷が曝 露された加工物にプラズマによって与えられ、(3)電気的に導電性の経路が、プ ラズマによって加工物表面から、前記電極に印加された電圧とは実質的に異なる 電位にある端子に通じており、前記静電電荷および前記電気的導電性経路が、前 記加工物と前記保持器の間に静電力を発生させるようなものである工程を有する ことを特徴とする、真空プラズマ処理チャンバ内の保持器に誘電性の加工物をク ランプする方法。 2.前記電圧が直流であり、前記電極に印加される直流電圧と曝露された面に 対してプラズマによって印加された電荷の間の電位差によって前記加工物の厚さ 全体にわたって十分な静電力が印加され、それによって前記基板を前記保持器に クランプすることを特徴とする請求項1に記載の方法。 3.複数の前記電極が存在し、同じ直流電圧が前記複数の電極に対して印加さ れることを特徴とする請求項2に記載の方法。 4.複数の前記電極が存在し、別々の直流電圧を前記複数の電極に対して印加 することを特徴とする請求項2に記載の方法。 5.前記電圧が同じ極性であることを特徴とする請求項4に記載の方法。 6.前記電圧が異なった極性を有することを特徴とする請求項4に記載の方法 。 7.前記複数の電極に印加される前記同一極性の直流電圧の値を変更する工程 をさらに有することを特徴とする請求項4に記載の方法。 8.前記保持器によって流体を供給することによって加工物の温度を制御する 工程をさらに有することを特徴とする請求項4に記載の方法。 9.前記流体が、イオンに対して曝露されていない加工物の部分に保持器を介 して与えられるガスであり、前記付与ガスが、加工物を前記保持器から分離 するように湾曲させる傾向を持ち、前記湾曲傾向が静電力によって克服されるこ とを特徴とする請求項8に記載の方法。 10.前記流体が、前記保持器を冷却するために前記保持器中を流れ、保持器の 冷却によって与えられる熱効果を、前記保持器を介しての熱伝導によって加工物 に伝達する液体であることを特徴とする請求項8に記載の方法。 11.基準電位に実質的に等しい電位を有するガス状イオンを誘電性加工物の曝 露表面に印加する真空プラズマ処理チャンバと; 前記チャンバ内の本来の位置に加工物を保持するチャンバ内の静電クランプで あり、前記静電クランプが、電極と;前記電極を前記基準電位と実質的に異なっ た電位に維持する手段であり、前記電極が、誘電性加工物表面にプラズマが印加 されている間に加工物表面を基準にして位置付けられるようにこの電位に維持さ れ、これによって、プラズマによって曝露表面に印加された電荷が、曝露表面か ら前記基準電位にある端子までプラズマを介する導電性経路の一部を形成し、こ れによって前記表面上にある電荷が前記基準電位と実質的に等しい電位に維持さ れ、かなりの電圧が、前記電極と前記表面上の電荷との間に発生し、前記かなり の電圧によって、加工物をクランプ上の本来位置に保持するために前記電極と基 板の間に静電クランプ力が発生する手段と;加工物の温度を制御するために前記 クランプを通って流体を供給する手段とを有する静電クランプと; の組み合わせ。 12.加工物がガラス製基板板から成っていて、これによって、曝露表面が実質 的に平坦な面であり、前記基板が静電クランプにクランプされる背面を持ち、さ らに、電極が、加工物の背面に対面し加工物の曝露表面に平行な面上に位置付け されている実質的に平坦な面を有する金属を有し、前記電極がチャンバ内のイオ ンに電気的に接触することを防ぐために、加工物の背面に対面している金属板の 平坦面の部分をのぞき、前記電極の表面を絶縁物が囲っていることを特徴とする 請求項11に記載の組み合わせ。 13.電極の面と曝露面の反対側の誘電性板の面が接するように前記電極面が露 出していることを特徴とする請求項12に記載の組み合わせ。 14.電極の面が保護コーティングによって覆われており、前記保護コーティン グが、曝露面の反対側の加工物の面に接する面を有することを特徴とする請求項 12に記載の組み合わせ。 15.前記保護コーティングが半導体であることを特徴とする請求項14に記載の 組み合わせ。 16.前記保護コーティングが半金属であることを特徴とする請求項14に記載の 組み合わせ。 17.前記保護コーティングが薄い誘電体の層であることを特徴とする請求項14 に記載の組み合わせ。 18.曝露表面の反対側の加工物の表面に接するように配置された面を前記電極 が持ち、前記面が、クランプされた加工物の温度を制御するためのガスを加工物 に印加するように配置されていることを特徴とする請求項12に記載の組み合わせ 。 19.加工物を保持するためのチャンバ内にある静電チャックであり、前記チャ ックが、電極と; プラズマに曝露されている加工物の表面にプラズマを印加する手段であり、比 較的に高い単一極性の電圧源がチャックの電極に接続されており、前記電極が、 プラズマの電圧とは実質的に異なる高い電圧に維持されるように物理的に配置さ れ、さらにプラズマに曝露されていない加工物の部分に近接して置かれ、そのた めに、(1)前記電極がプラズマの電圧とは実質的に異なる直流電圧に維持され、( 2)プラズマによって直流静電荷が加工物の曝露された表面に印加され、(3)導電 経路がプラズマによって加工物表面から電極に印加される電圧とは実質的に異な る電位に維持されている端子に達しており、前記静電荷および導電経路が、加工 物とチャックの間に静電力を発生させるように存在し、電極に印加される直流電 圧とチャック上に基板を保持するためにプラズマによって曝露面に印加される電 荷との電位差によって加工物の厚さ全体にわたって前記静電力が印加される手段 と; を有することを特徴とする、真空プラズマ処理チャンバ内に誘電性加工物をク ランプする装置。 20.複数の前記電極が存在し、同一の直流電圧が前記複数の電極に接続される ことを特徴とする請求項19に記載の装置。 21.複数の前記電極が存在し、同一の極性を有する異なった直流電圧が前記複 数の電極に接続されることを特徴とする請求項19に記載の装置。 22.複数の前記電極が存在し、異なった極性を有する異なった直流電圧が前記 複数の電極に接続されることを特徴とする請求項19に記載の装置。 23.前記チャックがただ1つの電極を有することを特徴とする請求項19に記載 の装置。
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