JPH11509239A - チロシナーゼに対する阻害活性を有する新規な1,3―ジフェニルプロパン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

チロシナーゼに対する阻害活性を有する新規な1,3―ジフェニルプロパン誘導体及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は下式(I) 式中、---は、二重結合または単一結合を表し、R1は、水素またはC1−C10のアルキル、R2は、C1−C5のアルキル若しくはC1−C5のアルコキシアルキルか、またはR1及びR2は結合して、C1−C5のアルキルで置換されていても良い5〜6員の複素環か、またはヘテロ原子として酸素を含有する5〜6員の複素環を表し、R3は、水素またはC1−C7のアルキルを表し、R4は、水素、ヒドロキシまたはオキソを表し、R5及びR6は同一または異なって、水素またはC1−C5のアルキルを表す。で表される、チロシナーゼに対する阻害活性を有する新規な1,3−ジフェニルプロパン誘導体及びその製造方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 チロシナーゼに対する阻害活性を有する 新規な1,3−ジフェニルプロパン誘導体及びその製造方法 技術分野 本発明は下式(I) 式中、 ---は、二重結合または単一結合を表し、 R1は、水素またはC1−C10のアルキル、 R2は、C1−C5のアルキル若しくはC1−C5のアルコキシアルキルか、ま たは R1及びR2は結合して、C1−C5のアルキルで置換されてても良い5〜6員 の複素環か、またはヘテロ原子として酸素を含有する5〜6員の複素環を表し、 R3は、水素またはC1−C7のアルキルを表し、 R4は、水素、ヒドロキシまたはオキソを表し、 R5及びR6は同一または異なって、水素またはC1−C5のアルキルを表す。 で表される、チロシナーゼに対する阻害活性を有する新規な1,3−ジフェニル プロパン誘導体に関する。 更に本発明は、上述した式(I)の化合物を製造する新規な方法に関する。 背景技術 メラニンはクロマトホアに存在するチロシナーゼの作用により、チロシンから ドパ(DOPA)、ドパキノン(Dopaquinone)に変換された後、非酵素的酸化反応を介 して生成される。メラニンは皮膚に分布し、様々な刺激から身体を保護する重要 な機能を有している。しかし、メラニンの過剰生産は黒色腫と密接に関連し、メ ラニン沈着した皮膚、しみ等を誘発することが報告されている。従って、最近は 、メラニンの過剰生産を予防とする為の様々な化粧品および薬剤の開発が盛んに 行われている。 これまで、メラニンの過剰生産を予防する物質としてヒドロキノンが主に用い られてきた。しかし、この化合物はメラニンの変性または致命的な変異を引起こ したり、細胞の機能を損傷させたりする等の副作用を招く為、現在、韓国、日本 等では化粧品にヒドロキノンを使用することは禁じられている(J.Soc.Cosmet .Chem.,42,361,1991を参照)。更に、アルブチン、ヒドロキノンの糖誘導体 は商品化されたものの、美白効果は殆どない。また、アスコルビン酸、コウジ酸 等は製品安定性に乏しく、使用が制限されている。一方、甘草の根、桑白皮の根 等からの抽出物等は、古くから皮膚美白効果を表わすものとして広く知られてい る。しかし、これらの抽出物は時折、生産地によっては効果が殆ど見られないこ とがあるため、製品の品質を一定に保つことは困難である(Fragrance.J.,6,5 9,1990を参照)。最近では、楮の木から抽出されたカルジノールF(Chem.Parm. ,Bull.,34(5),1968,1986;Cosmetics & Toiletries,101,51,1995を参照) が良好なチロシナーゼ阻害活性を表わすとことから商品化されている。しかし、 カルジノールFもまた抽出物である為、製品の品質を一定に保つことが困難であ るという問題がある。特に、カルジノールFのなかには合成しにくいプレニルカ テコール基が含まれている為、カルジノールFの刺激性及び安定性に関するデー タは入手されていない。 発明の開示 従って、本発明者らはチロシナーゼに対して微量でも優れた阻害活性を有する 新規な化合物を開発すべく鋭意検討してきた。更に、所望の化合物は、出発物質 から容易に合成することができ、しかも安定であるべきである。上記研究過程で 、本発明者らは、美白効果を有することが知られている様々な天然物の効果およ び構造について分析した。その結果、式(I)の新規な1,3−ジフェニルプロ パン誘導体が上述した目的を満足することを見出し、本発明を完成したのである 。 この様に本発明の目的は、下式(I) 式中、 ---は、二重結合または単一結合を表し、 R1は、水素またはC1−C10のアルキル、 R2は、C1−C5のアルキル若しくはC1−C5のアルコキシアルキルか、ま たは R1及びR2は結合して、C1−C5のアルキルで置換されていても良い5〜6 員の複素環か、またはヘテロ原子として酸素を含有する5〜6員の複素環を表し 、 R3は、水素またはC1−C7のアルキルを表し、 R4は、水素、ヒドロキシまたはオキソを表し、 R5及びR6は同一または異なって、水素またはC1−C5のアルキルを表す。 で表される新規な1,3−ジフェニルプロパン誘導体を提供することにある。 前述した式(I)で表される化合物における置換基の定義のうち用語“アルキ ル”は、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルまたは種々のブチ ル異性体等の様な直鎖状または分枝状の飽和炭化水素基を意味し、これらは単独 で、または“アルキルオキシ”若しくは“アルコキシアルキル”等の混合形態と して用いられる。 本発明の他の目的は、式(I)の化合物を製造する新規な方法を提供すること にある。 発明を実施する為の最良の形態 前述した定義で表される上記式(I)の新規な化合物のなかで好ましいのは、 R1が水素、メチルまたはエチル、R2がメチル、R1及びR2が結合して 、R3が水素またはメチル、R4は水素またはヒドロキシ、R5及びR6が夫々メチ ルである化合物である。 式(I)の化合物において、R4がヒドロキシである式(Ia)の化合物は、 下記反応工程1に示す様に、通常、溶媒の存在下に式(IV)で表される化合物を 式(V)で表される化合物に還元した後、保護基を除去することによって製造す ることができる。反応工程1 式中、 P1、P2及びP3はヒドロキシ保護基、即ち、 P1は、ベンジル、メチル、エチル、テトラヒドロピラニル、メトキシチル、 メトキシエトキシメチルまたはp−メトキシベンジルを表わし、 P2は、ベンジル、メチルまたはエチルを表わし、 P3は、ベンジル、テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、メトキシエトキ シメチルまたはp−メトキシベンジルを表わし、 R1〜R3、R5及びR6は上記で定義した通りである。 以下、上記反応工程1に記載の方法について、より詳細に説明する。 化合物(IV)を還元して化合物(V)を製造する反応工程では、溶媒として、 ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類が好ましく用いら れ、還元剤としては水素化アルミニウムリチウム(LAH)が好ましく用いられる。 反応は−30〜30℃の温度範囲で行なうことが好ましい。還元終了後、化合物 (V)に含まれる保護基を脱離し、化合物(Ia)を得る。保護基は、除去され るべき保護基に応じて、通常知られている方法によって容易に除去することがで きる。当業者であれば、適切な脱保護条件を選択することができる。特に、保護 基がベンジルの場合、酢酸エチルで水素化反応を行なうか、または塩酸と酢酸の 混合溶媒中で還流することにより、化合物(Ia)を製造することができる。 化合物(IV)から化合物(V)への還元は、通常、上述した方法に従って行な うことができる。しかしながら、化合物(V)は、水素化反応(H2,Pd-C)を 介して化合物(IV)に含まれる二重結合を先に還元し、式(V′)で表されるケ トン化合物を得た後、該化合物(V′)のケトン基を化合物(V)のアルコール 基に変えて製造することもできる。 一方、R4がオキソである式(Ib)で表される化合物は、化合物(V′)を 還元する代わりに、該化合物(V′)に含まれる保護基を除去することによって 製造することができる。化合物(Ib)はまた、ホウ水素化ナトリウまたは水素 化アルミニウムリチウムの存在下に化合物(Ia)に還元することもできる。 上記の如く説明した工程は、下記反応工程2に要約される。反応工程2 式中、P1、P2、P3、R1〜R3、R5、及びR6は上記で定義した通りである 。 上記反応工程2において、化合物(IV)から化合物(V″)への還元は、酢酸 エチル等の溶媒の存在下、化合物(IV)に含まれる二重結合を常温及び常圧下で 2時間水素化反応させることによって行われる。このケトン化合物(V″)は、 ホウ水素化ナトリウまたは水素化アルミニウムリチウムで処理することにより、 アルコール化合物(V)に還元される。上記化合物(V″)化合物に対して脱保 護反応を行うことにより化合物(Ib)を得る方法は、上記反応工程1で説明し た方法と同じである。特に、保護基がベンジルの場合、化合物(Ib)は、化合 物(V″)を、(i)常温及び2〜4atmの圧力下、酢酸エチルの溶媒中10〜 15時間、または(ii)35〜55℃の温度範囲及び常圧下、酢酸エチルと低級 アルコール(メタ ノール、エタノール、イソプロパノール等)の混合溶媒中、20分〜1時間、水 素化させることにより製造することができるし、或いは、上記(i)または(ii )の条件下で水素化反応させることにより、化合物(IV)から化合物(Ib)を 直接得ることもできる。 上記反応工程1で出発物質として用いられる化合物(IV)は、下記反応工程3 に示す様に、塩基の存在下、溶媒中で、式(II)の化合物を式(III)の化合物 と縮合させることにより製造することができる。反応工程3 式中、P1、P2、P3、R2、R5及びR6は上記に定義した通りである。 この反応では、溶媒として、エタノールおよびテトラヒドロフラン及びジメチ ルホルアミドよりなる群から選択される少なくとも1種を用いることが好ましく 、塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水素化ナトリウムより なる群から選択される少なくとも1種を用いることが好ましい。目的化合物は、 反応物を約5〜24時間撹拌させることにより得られる。P1及びP2が夫々異な る場合、式(II)の化合物は、既存の化合物から容易に製造することができる(C hem.Ber.,95,1413,1962;J.Med.Chem.,34,2152,1991を参照)。 式(Ia)の化合物において、R1及びR2が結合して複素環を形成している化 合物は、式(II)の化合物の代わりに、下式(IIa) で表される化合物(J.Chem.Soc.Perkin Trans I,1437,1981を参照)を用い て上記に説明したのと同じ製造方法によって製造することができる。 最終的に、R4が水素である式(Ic)で表される化合物は、下記反応工程4 に示す通り、酸の存在下、溶媒中で化合物(V)を脱水反応させることにより式 (VI)で表される化合物を製造した後、該化合物(VI)を還元し、脱保護反応に 付すことによって製造することができる。反応工程4 式中、P1〜P3、R1〜R3、R5及びR6は前に定義した通りで ある。 以下、反応工程4に記載の方法をより詳細に説明する。 化合物(IV)は、硫酸、リン酸及びp−トルエンスルホン酸よりなる群から選 択される少なくとも1種の酸の存在下に、ベンゼン、トルエン及びキシレンより なる群から選択される少なくとも1種の溶媒中で、化合物(V)を脱水反応させ ることにより製造される。この脱水反応は、80〜100℃の温度範囲で行なう ことが好ましい。目的化合物(Ic)は、水素化反応を介して化合物(VI)を還 元した後、保護基を除去することによって製造される。保護基の除去工程は、反 応工程1と同じ方法で行なわれる。 上記に説明した方法によって製造された化合物(I)の代表例を下記表1に表 す。 次に、本発明者らは、本発明の化合物(I)のチロシナーゼ阻害活性を下記方 法で確認した。即ち、試料をマイクロプレートに入れ、 そのなかにリン酸塩緩衝溶液(pH6.8)及びL−チロシン溶液を加えた。上 記混液中にチロシナーゼ酵素溶液を添加して酵素反応を開始させ、475nmに おける吸光度を測定することによってチロシナーゼに対する阻害率(%)を計算 した(実験例1を参照)。 更に、メラニン生合成に対する化合物(I)の阻害活性を調べる為、この化合 物をB−16黒色腫細胞含有培養培地に添加して培養した。次に、この細胞を遠 心分離してメラニンを抽出した後、生成されたメラニンの量を吸光度に基づいて 測定した(実験例2を参照)。 その結果、本発明による式(I)の化合物は、既存の美白物質に比べて優れて いるか、若しくは同程度のチロシナーゼ阻害効果及びメラニン生合成阻害効果を 示すことが確認された。従って、この様な効果を有する本発明の化合物は、医薬 品、医薬部外品及び化粧品に適用することが可能である。上記化合物(I)の適 用量は、剤型、使用目的等によって変化し得る。 以下、下記製造例、実施例及び実験例に基づいて本発明をより詳細に説明する 。しかし、これらの実施例は本発明を説明する為になされたものであって、本発 明の範囲を限定する趣旨ではない。 製造例1 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2,5−ジベンジルオ キシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノンの合成 1−(2,5−ジベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−エ タノン1.7g(4.54mmol)及び2,4−ジベンジルオキシ−ベンズアルデヒド 2.9g(9.08mmol)をエタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒(1/1,v/v )32mlに溶解した後、50%水酸化ナトリウム溶液6mlを徐々に滴加した 。滴加終了後、この反応混液を常温で16時間撹拌した。溶媒を減圧蒸溜によっ て除去し、得られた残渣を水25mlで希釈した後、10%HCI溶液でpH7 に中和した。この反応溶液を酢酸エチルで抽出した後、抽出液中に含まれる溶媒 を減圧蒸溜して除去した。生成した粘性の高い混合物をシリカゲルカラムクロマ トグラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢酸エチル=7/1,v/v)にかけることに より、標題の化合物1.8g(2.61mmol,収率58%)を得た。 実施例1 4−[3−ヒドロキシ−3−(2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−トリメチル −フェニル)−プロピル]ベンゼン−1,3−ジオールの合成 工程1:3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2,5−ジベン ジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロパン−1−オールの製 造 方法1 製造例1で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2 ,5−ジベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノン0 .57g(0.83mmol)を乾燥したテトラヒドロフラン5mlに溶解した後、−3 0℃で撹拌しながら水素化ア ルミニウムリチウム(LAH)0.1g(2.52mmol)を徐々に添加した。この反 応液を更に1時間撹拌した後、水0.1ml、15%NaOH溶液0.1ml及 び水0.3mlを順次加え、全ての混合物を更に30分間撹拌した。析出した沈 殿物を濾去した後、濾液を蒸溜して白色固体を得た。これをシリカゲルカラクロ マトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1,v/v)で精製するこ とにより標題の化合物0.56g(収率98%)を得た。 方法2 製造例1で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2 ,5−ジベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノン0 .15g(0.22mmol)を酢酸エチル(EtOAc)4mlに溶解した。この溶液に1 0%パラジウム−炭触媒5mgを徐々に加え、水素雰囲気加圧下(2atm)で3 0分間反応させた。この反応液を酢酸エチル50mlで希釈した後、濾過した。 この濾液を減圧蒸溜することにより3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル )−1−(2,5−ジベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)− プロパノン0.17gを得た。この様にして得られた化合物0.17g(0.22mm ol)をメタノール2mlに溶解した後、0℃でホウ水素化ナトリウム(NaBH4 )20mg(0.53mmol)を少しずつ加えた。この混合物を0℃で10分間撹拌 した後、溶媒を減圧蒸溜して除去した。この残渣を水10mlで希釈した後、酢 酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶媒を減圧蒸溜し、得 られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢 酸エチル=1/1,v/v)にかけることにより、標題の化合物0.1g(収率66% )を得た。 工程2:4−[3−ヒドロキシ−3−(2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−ト リメチル−フェニル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの製造 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2,5−ジベンジルオ キシ−3,4,6−トリチル−フェニル)−プロパン−1−オール0.31g( 0.45mmol)を酢酸エチル6mlに溶解した。この溶液に10%パラジウム−炭触 媒10mgをゆっくり加えた後、水素雰囲気加圧下(4atm)で12.5時間反 応させた。この反応液を酢酸エチル50mlで希釈した後、濾過した。この濾液 を減圧蒸溜することにより標題の化合物0.14g(収率100%)を得た。 実施例2 4−[3−(2,5−ジヒドロキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プ ロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2,5−ジベンジルオ キシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロパン−1−オール2.39g (3.46mmol)をドライベンゼン100mlで希釈した後、p−トルエンスルホン 酸30mgを加えた。この混合物を還流しながら4時間撹拌し、水を除去した。 この様にして得られた溶液の温度を室温まで下げた後、飽和炭酸水素ナトリウム 溶液で1回(×1)洗浄した。この洗浄液をジクロロメタンで抽出し、得られた 抽出液をもとの有機層と合わせた。次に、この混合 物を乾燥して減圧蒸溜した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液: n−ヘキサン/酢酸エチル=10/1,v/v)にかけることにより4−[3−(2, 5−ジベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−アリル]−1, 3−ベンジルオキシ−ベンゼン2.1g(収率90%)を得た。この様にして得 られた化合物2.1g(3.12mmol)を酢酸エチル30mlで希釈した後、10% パラジウム触媒45mgをゆっくり加えた。得られた溶液を60psiの水素雰 囲気下、72時間撹拌した後、酢酸エチル50mlで希釈してから濾過した。こ の濾液を減圧蒸溜した後、シリカゲルカラムクロマトグラフイー(溶出液:n− ヘキサン/酢酸エチル=1/1,v/v)にかけて標題の化合物0.74g(収率79 %)を得た。 製造例2 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(5−ベンジルオキシ−2 −メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノンの合成 1−(5−ベンジルオキシ−2−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−エタノン0.23g(0.77mmol)と2,4−ジベンジルオキシベンズアル デヒド0.62g(1.94mmol)をエタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒( 1/1,v/v)7ml中に溶解した後、50%水酸化ナトリウム溶液1.5mlを徐 々に滴加した。滴加終了後、この混合物を常温で16時間撹拌した。この溶液中 に含まれる溶媒を除去した後、残渣を水で希釈してから、10%塩酸溶液でpH 7に中和した。この溶液を酢酸エチルで抽出した後、溶媒を減圧蒸溜して除去し た。粘性の高い残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン /酢酸エチル=7/1,v/v)に かけることにより標題の化合物0.30g(収率65%)を得た。 実施例3 4−[3−ヒドロキシ−3−(5−ヒドロキシ−2−メトキシ−3,4,6−ト リメチル−フェニル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例2で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(5 −ベンジルオキシ−2−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロ ペノン290mg(0.48mmol)を酢酸エチル5mlに溶解した。この溶液に10 %パラジウム−炭触媒15mgを徐々に加えた後、水素雰囲気加圧下(4atm) 、12時間反応させた。この反応液を酢酸エチル100mlで希釈した後、濾過 した。この濾液を減圧蒸溜することにより3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニ ル)−1−(5−ヒドロキシ−2−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−プロパノン160mg(0.48mmol,収率98%)を得た。この様にして得 られた化合物160mg(0.48mmol)をジエチルエーテル2mlに溶解した後、 0℃で水素化アルミニウムリチウム160mg(4.21mmol)を少しずつ加えた。 この溶液を1時間撹拌した後、水0.1ml、15%NaOH溶液0.1ml、 水0.3mlを順次添加した後、この混合物を更に30分間撹拌した。析出した 沈殿物を濾去した後、濾液を蒸溜して白色固体を得、これをシリカゲルカラムク ロマトグラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1,v/v)にかけるこ とにより標題の化合物158mg(収率98%)を得た。 実施例4 4−[3−(2−メトキシ−5−ヒドロキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(5−ジベンジルオキシ −2−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノン550mg (0.92mmol)を酢酸エチル7mlに溶解した。この溶液に10%パラジウム−炭 触媒15mgを徐々に加えた後、常圧(1atm)の水素雰囲気下、2時間反応さ せた。この反応液を酢酸エチル15mlで希釈した後、濾過した。この濾液を減 圧蒸溜することにより3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2 −メトキシ−5−ベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロ パノン552mg(収率100%)を得た。この様にして得られた化合物225 mg(0.37mmol)をNaBH4を用いてアルコール化合物に還元した後、ドライ ベンゼン10mlで希釈した。この溶液にp−トルエンスルホン酸30mgを加 えた後、この混合物を還流しながら4時間撹拌した。この反応液の温度を室温ま で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で1回(×1)洗浄した。この洗浄 液を更にジクロロメタンで抽出した後、得られた抽出物をもとの有機層と合わせ た。この混合物を乾燥した後、減圧蒸溜してから、シリカゲルカラムクロマトグ ラフィー(溶出液:n−ヘキサン/酢酸エチル=10/1,v/v)にかけて4−[3 −(2−メトキシ−5−ベンジルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル) −アリル]−1,3−ジベンジルオキシ−ベンゼン169mg(0.29mmol,収率 78%)を得た。この様にして得られた化合 物160mg(0.27mmol)を酢酸エチル30mlで希釈した後、10%パラジウ ム触媒45mgを徐々に加えた。得られた混合物を60psiの水素雰囲気下、 48時間撹拌した後、酢酸エチル10mlで希釈してから濾過した。この濾液を 減圧蒸溜し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:n −ヘキサン/酢酸エチル=1/1,v/v)にかけることにより標題の化合物74mg (0.234mmmol,収率86%)を得た。 製造例3 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2−ベンジルオキシ−5 −メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノンの合成 1−(2−ベンジルオキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−エタノン1.22g(4.09mmol)及び2,4−ジベンジルオキシ−ベンズ アルデヒド2.8g(99mmol)をエタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒( 1/1,v/v)40mlに溶解した後、50%水酸化ナトリウム溶液10mlを徐々 に滴加した。滴加終了後、この混合物を常温で16時間撹拌した。反応液中に含 まれる溶媒を減圧蒸溜によって除去した後、得られた残渣を水40mlで希釈し た後、10%塩酸溶液でpH7に中和した。この溶液を酢酸エチルで抽出した後 、該抽出液に含まれる溶媒を減圧蒸溜して除去した。生成した粘性の高い混合物 をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=7/1 ,v/v)にかけることにより標題の化合物2.37g(収率97%)を得た。 実施例5 4−[3−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−メトキシ−3,4,6−ト リメチル−フェニル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例3で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2 −ベンジルオキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロ ペノン1.28g(0.21mmol)を酢酸エチル6mlに溶解した。この溶液に10 %パラジウム−炭触媒45mgを徐々に加えた後、水素素雰囲気加圧下(4atm )下、12時間反応させた。この反応液を酢酸エチル50mlで希釈した後、濾 過した。この濾液を減圧蒸溜することにより3−(2,4−ジヒドロキシ−フェ ニル)−1−(2−ヒドロキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェ ニル)−プロパノン660mg(収率95%)を得た。この様にして得られた化 合物660mg(2mmol)をジエチルエーテル12mlに溶解した後、0℃で水 素化アルミニウムリチウム750mgを少しずつ加えた後、この混合物を1時間 撹拌した。この反応液に、水1ml、15%NaOH溶液1ml、水3mlを順 次添加した後、得られた溶液を更に30分間撹拌した。析出した沈殿物を濾去し た後、濾液を蒸溜して白色固体を得、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ ー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=5/1,v/v)にかけることにより標題の化合 物524mg(1.58mmol,収率79%)を得た。 実施例6 4−[3−(2−ヒドロキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2−ベンジルオキシ− 5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノン300mg( 0.50mmol)を酢酸エチル3mlに溶解した。この溶液に10%パラジウム−炭触 媒15mgを徐々に加えた後、常圧(1atm)の水素雰囲気下、3時間反応させ た。この反応液を酢酸エチル20mlで希釈した後、濾過した。この濾液を減圧 蒸溜することにより3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2− ベンジルオキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロパ ノンを得た。この様にして得られた化合物はそれ以上精製することなく、NaB H440mgのメタノール溶液5mlによりアルコール化合物に還元した。この アルコール化合物を含む反応液を減圧蒸溜してメタノールを除去し、ジクロロメ タンで抽出することによりアルコール化合物277mg(収率92%)を得、こ れをドライベンゼン10mlで希釈した。この溶液中にp−トルエンスルホン酸 30mgを加えた後、還流しながら4時間撹拌した。この反応溶液の温度を室温 まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で1回(×1)洗浄した。洗浄液 を更にジクロロメタンで抽出した後、この抽出液をもとの有機層と合わせた。次 に、この混合物を乾燥した後、減圧蒸溜し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ ー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=10/1,v/v)にかけることにより4−[3 −(2−ベンジルオキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル) −アリル]−1,3−ジベンジルオキシ−ベンゼン244mg(0.42mmol,収率 91%)を得た。この様にして得られた化合物を酢酸エチル30mlで希釈した 後、10%パラジウム触媒45mgを徐々に加えた。得られた混 合物を60psiの水素雰囲気下、20時間撹拌した後、酢酸エチル10mlで 希釈してから濾過した。この濾液を減圧蒸溜した後、残渣をシリカゲルカラムク ロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=1/1,v/v)にかけることに より標題の化合物118mg(収率88%)を得た。 製造例4 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2−ベンジルオキシ−5 −エトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロペノンの合成 1−(2−ベンジルオキシ−5−エトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−エタノン310mg(1mmol)及び2,4−ジベンシルオキシ−ベンズアル デヒド650mg(2.1mmol)をエタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒(1 /1,v/v)15mlに溶解した後、50%水酸化ナトリウム溶液5mlを徐々に 滴加した。滴加終了後、この混合物を常温で24時間撹拌した。反応液中に含ま れる溶媒を減圧蒸溜により除去した後、得られた残渣を水10mlで希釈してか ら、10%塩酸溶液でpH7に中和した。この溶液を酢酸エチルで抽出した後、 抽出物中に含まれる溶媒を減圧蒸溜して除去した。この残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=7/1,v/v)にかけること により標題の化合物440mg(収率72%)を得た。 実施例7 4−[3−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−エトキシ−3,4,6−ト リメチル−フェニル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例4で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(2 −ベンジルオキシ−5−エトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プロ ペノン440mg(0.72mmol)を酢酸エチル6mlに溶解した。この溶液に10 %パラジウム−炭触媒15mgを徐々に加えた後、水素雰囲気加圧下(4atm) 、15時間反応させた。この反応液を酢酸エチル30mlで希釈した後、濾過し た。この濾液を減圧蒸溜することにより3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニル )−1−(2−ヒドロキシ−5−エトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル )−プロパノン205mg(収率91%)を得た。この様にして得られた化合物 205mg(0.66mmol)をジエチルエーテル12mlに溶解した後、0℃で水素 化アルミニウムリチウム200mgを少しずつ加え、この混合物を1時間撹拌し た。反応液中に、水0.2ml、15%NaOH溶液0.2ml、水0.6ml を順次添加した後、得られた溶液を更に30分間撹拌した。析出した沈殿物を濾 去した後、濾液を蒸溜して白色固体を得、これをシリカゲルカラムクロマトグラ フィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=5/1,v/v)にかけることにより標題の 化合物160mg(収率70%)を得た。 製造例5 3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(6−ベンジルオキシ−2 ,2,7,8−テトラメチル−クロマン−5−イル)−プロペノンの合成 1−(6−ベンジルオキシ−2,2,7,8−テトラメチル−クロマン−5− イル)−エタノン1.69g(5mmol)及び2,4−ジベンシルオキシ−ベンズ アルデヒド3.2g(10.5mmol)をエタノールとテトラヒドロフランの混合溶媒 (1/1,v/v)50mlに溶解した後、50%水酸化ナトリウム溶液10mlを徐 々に滴加した。滴加終了後、この混合物を常温で16時間撹拌した。反応液中に 含まれる溶媒を減圧蒸溜によって除去した後、得られた残渣を水50mlで希釈 してから、10%塩酸溶液によりpH7に中和した。この溶液を酢酸エチルで抽 出した後、該抽出物中に含まれる溶媒を減圧蒸溜して除去した。得られた残渣を シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=7/1,v /v)にかけることにより標題の化合物2.13g(収率68%)を得た。 実施例8 4−[3−ヒドロキシ−3−(6−ヒドロキシ−2,2,7,8−テトラメチル −クロマン−5−イル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例5で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(6 −ベンジルオキシ−2,2,7,8−テトラメチル−クロマン−5−イル)−プ ロペノン2.13g(3.33mmol)を酢酸エ チル5mlに溶解した。この溶液に10%パラジウム−炭触媒30mgを徐々に 加えた後、水素雰囲気加圧下(4atm)、12時間反応させた。この反応液を酢 酸エチル50mlで希釈した後、濾過した。この濾液を減圧蒸溜することにより 3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニル)−1−(6−ヒドロキシ−2,2,7 ,8−テトラメチル−クロマン−5−イル)−プロパノン1.14g(0.31mmol ,収率94%)を得た。この様にして得られた化合物1.14gをジエチルエー テル10mlに溶解した後、0℃で水素化アルミニウムリチウム1.0gを少し ずつ加え、この混合物を1時間撹拌した。この反応液に、水1ml、15%Na OH溶液1ml、水3mlを順次添加した後、得られた溶液を更に30分間撹拌 した。析出した沈殿物を濾去した後、濾液を蒸溜して白色固体を得、これをシリ カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=1/1,v/v) にかけることにより標題の化合物1.04g(2.80mmol,収率90%)を得た。 実施例9 4−[3−(6−2,2,7,8−テトラメチル−クロマン−5−イル)−プロ ピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例5で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル)−1−(6 −ベンジルオキシ−2,2,7,8−テトラメチル−クロマン−5−イル)−プ ロペノン550mg(0.86mmol)を酢酸エチル7mlに溶解した。この溶液に1 0%パラジウム−炭触媒10mgを徐々に加えた後、常圧(1atm)の水素雰囲 気下、12時間反応させた。この反応液を酢酸エチル50mlで希釈した後、濾 過した。この濾液を減圧蒸溜することにより3−(2,4−ジベンジ ルオキシ−フェニル)−1−(6−ベンジルオキシ−2,2,7,8−テトラメ チル−クロマン−5−イル)−プロパノン478mg(0.75mmol,収率87%) を得た。この様にして得られた化合物200mg(0.3lmmol)をNaBH412 5mgにより、アルコール化合物に還元した後、ドライベンゼン10mlで希釈 した。この溶液中にp−トルエンスルホン酸30mgを加えた後、還流しながら 4時間撹拌した。この反応液の温度を室温まで冷却した後、飽和炭酸素ナトリウ ム溶液で1回(×1)洗浄した。この洗浄液を更にジクロロメタンで抽出した後 、該抽出物をもとの有機層と合わせた。次に、この混合物を乾燥した後、減圧蒸 溜し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル= 10/1,v/v)にかけることによりオレフィン化合物169mg(0.271mmol,収率 88%)を得た。このオレフィン化合物160mg(0.26mmol)を酢酸エチル3 0mlで希釈した後、10%パラジウム触媒4.5mgを徐々に加えた。得られ た混合物を60psiの水素雰囲気下、48時間撹拌した後、酢酸エチル10m lで希釈してから濾過した。この濾液を減圧蒸溜した後、得られた残渣をシリカ ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1,v/v)に かけることにより標題の化合物74mg(0.21mmol,収率80%)を得た。 実施例10 4−[3−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−メトキシ−3,4,6−ト リメチル−フェニル)−プロピル]−ベンゼン−1,3−ジオールの合成 製造例3で得られた3−(2,4−ジベンジルオキシ−フェニル) −1−(2−ベンジルオキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニ ル)−プロペノン5.5g(9.2mmol)をエタノールと酢酸エチルの混合溶媒(1 /3,v/v)20mlに溶解した後、10%パラジウム−炭触媒50mgを徐々に 滴加した。該混合物の温度を40℃に高めた後、常圧下で0.5時間水素化反応 させた。この反応溶液を酢酸エチル60mlで希釈した後、濾過し、得られた濾 液を減圧蒸溜した。得られた残渣をジエチルエーテルで希釈した後、炭酸水素ナ トリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させてから濾過した。この濾 液を減圧下で蒸溜することにより3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニル)−1 −(2−ヒドロキシ−5−メトキシ−3,4,6−トリメチル−フェニル)−プ ロパノン2.88g(8.73mmol,収率95%)を得た。この様にして得られた化 合物2.88g(8.73mmol)をメタノール12mlに溶解した後、ホウ水素化ナ トリウム165mg(4.37mmol)を0℃で少しずつ加えた。この反応液を常温で 1時間撹拌した後、減圧下で蒸溜し、酢酸エチル10mlで希釈してから水10 mlで3回(×3)洗浄した。分離した有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ た後、濾過した。この濾液を減圧下で蒸溜した後、得られた残渣をシリカゲルカ ラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=5/1,v/v)にかける ことにより標題の化合物767mg(2.31mmol,収率80%)を得た。 上記製造例及び実施例によって合成された化合物を表1に示すと共に、その物 理化学的性質を下記表2に示す。 本発明による化合物(I)のチロシナーゼ阻害効果及びメラニン生合成阻害効 果を下記実験例1及び2に記載の方法により測定した。 実験例1 チロシナーゼ阻害活性 この実験では、茸類から抽出したチロシナーゼ酵素(Sigma社製)を使用した 。まず、基質であるL−チロシンを1.5mMの濃度になる様リン酸緩衝液(0. 05M,pH6.8)に溶解した後、この溶液0.01mlを分光光度計用0.3m lキュベットに加えた。コファクターとして0.06mMのdopa(ドパ)溶液を 調製した後、このドパ溶液0.01mlを基質溶液に添加した。得られた混合物 中に式(I)の阻害剤を添加した後、合計容量が0.31mlになる様上記リン 酸緩衝液を添加した。これに、チロシナーゼをリン酸緩衝液に溶解した酵素溶液 60U/mlを0.1ml添加し、反応を開始させた。対照群としては、酵素溶 液の代わりにリン酸緩衝液0.1mlを添加した。反応は37℃で10分間進行 させた後、分光光度計(Beckman DU-7500)を用いて475nmでの吸光度を測 定した。 化合物(I)のチロシナーゼに対する阻害率(%)を475nmにおける吸光 度に基づいて算出すると共に、IC50値は、酵素活性阻害率(%)が50%に達 する阻害剤の濃度として決定した。上記阻害率(%)は、下式により算出するこ とができる。得られた結果を下記表3に示す。 式中、 Aは、阻害剤が添加されたときの475nmにおける吸光度を表し、 Bは、阻害剤が添加されていないときの475nmにおける吸光度を示す。 上記表3の結果から明らかな様に、本発明による式(I)の化合物は、既存の チロシナーゼ阻害剤に比べ、チロシナーゼ阻害活性は同等であるか、それよりも 優れていることが分かる。従って、本発明の化合物は、かかる目的に効果的に用 いられる。 実験例2 B−16マウスの黒色腫細胞におけるメラニン生合成阻害効果 本発明による化合物をB−16マウス黒色腫細胞の培養液に添加して観察し、 細胞レベルにおける美白効果を調べた。 B−16マウスの黒色腫細胞を培養培地中で106cells/dishの密度になるまで 培養した後、様々な濃度の化合物を夫々添加してから3日間培養した。培養した 細胞をトリプシン処理し、培養皿から分離した後、遠心分離することによりメラ ニンを抽出した(その際、ペレットを2N過塩素酸で抽出した)。この様にして抽 出したメラニンに1N水酸化ナトリウム溶液1mlを加え、得られた混合物を加 熱してメラニンを溶解した。分光光度計で400nmにおける吸光度を測定する ことにより、生成したメラニンの量を細胞数(106cell)当りの吸光度で表わし た。IC50値は、酵素活性阻害率(%)が50%に達する阻害剤の濃度で決定し た。これらの結果を表4に示す。 上記表4の結果より、本発明の化合物は、マウス黒色腫細胞のメラニン生合成 に対して優れた阻害活性を示すことが分かる。従って、本発明の化合物は、基本 的にチロシナーゼを阻害することによりメラニンの生成を防止する結果、顕著な 美白効果を発揮し得ることが確認された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 43/23 C07C 43/23 C 45/62 45/62 49/83 49/83 A 49/84 49/84 E C07D 311/72 101 C07D 311/72 101 102 102 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),UA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU,ID ,IL,IS,JP,KR,KG,KP,KR,KZ, LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,M G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ,V N,YU,ZW (72)発明者 イー ヒョン ホー 大韓民国 デジョン ユソン―ク ドリョ ン―ドン 381―42 エルジーアパート 9―305 (72)発明者 チェー ジョン クォン 大韓民国 デジョン ユソン―ク シンソ ン―ドン ラッキーハナアパート101― 1101 (72)発明者 イー サン ファ 大韓民国 デジョン ソ−ク ドゥンサン ―ドン ユンハスーアパート 104―108

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.下式(I) 式中、 ---は、二重結合または単一結合を表し、 R1は、水素またはC1−C10のアルキル、 R2は、C1−C5のアルキル若しくはC1−C5のアルコキシアルキルか、また は R1及びR2は結合して、C1−C5のアルキルで置換されていても良い5〜6員 の複素環か、またはヘテロ原子として酸素を含有する5〜6員の複素環を表し、 R3は、水素またはC1−C7のアルキルを表し、 R4は、水素、ヒドロキシまたはオキソを表し、 R5及びR6は同一または異なって、水素またはC1−C5のアルキルを表す。 で表される1,3−ジフェニルプロパン誘導体。 2.R1が水素、メチルまたはエチル, R2がメチル, R1及びR2が結合して 3が水素またはメチル, R4が水素またはヒドロキシ,並びに R5及びR6が夫々メチルである請求項1に記載の化合物。 3.下式(Ia) 式中、R1〜R3,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 で表される化合物を製造する方法であって、 下式(IV) 式中、 P1は、ベンジル、メチル、エチル、テトラヒドロピラニル、メトキシチル 、メトキシエトキシメチルまたはp−メトキシベンジルを表わし、 P2は、ベンジル、メチルまたはエチルを表わし、 P3は、ベンジル、テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、メトキシエト キシメチルまたはp−メトキシベンジルを表わし、 R2、R5及びR6は請求項1で定義した通りである。 で表される化合物を溶媒の存在下に還元することにより下式(V) 式中、P1〜P3は前に定義した通りであり、 R2,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 の化合物を得た後、該式(V)の化合物の保護基を除去することを特徴とする製 造方法。 4.前記還元反応は、水素化アルミニウムリチウム(LAH)の存在下、ジエチ ルエーテル及びテトラヒドロフラン(THF)よりなる群から選択される溶媒中 で行うものである請求項3に記載の製造方法。 5.前記還元反応を−30〜30℃の温度範囲で行なうものである請求項4に記 載の製造方法。 6.下式(Ib) 式中、R1〜R3,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 の化合物を製造する方法であって、 下式(IV) 式中、P1〜P3は請求項3に定義した通りであり、 R2,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 で表される化合物における二重結合を溶媒中で水素化反応させることにより、下 式(V′) 式中、P1〜P3は請求項3に定義した通りであり、 R2,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 の化合物を得た後、該式(V′)の化合物の保護基を除去することを特徴とする 製造方法。 7.前記溶媒が酢酸エチルである請求項6に記載の製造方法。 8.前記保護基がベンジルで式(Ib)の化合物は、酢酸エチル若しくは酢酸エ チルと低級アルコールの溶媒混合物で水素化反応することにより、式(V″)の 化合物から製造するか、または式(IV)の化合物から直接製造するものである請 求項6に記載の製造方法。 9.前記溶媒は酢酸エチルであり、 水素化反応は、常温及び2〜4atmの圧力範囲下、10〜15時間行うもの である請求項8に記載の製造方法。 10.前記溶媒が酢酸エチルと低級アルコールの混合物であり、 前記水素化反応は、35〜55℃の温度範囲及び常圧下で20分〜1時間 行うものである請求項8に記載の製造方法。 11.下式(Ic) 式中、R1〜R3,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 で表される化合物を製造する方法であって、 下式(V) 式中、P1〜P3は請求項3に定義した通りであり、 R2,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 で表される化合物を溶媒中、酸の存在下に脱水反応させることにより下式(VI) 式中、P1〜P3は請求項3に定義した通りであり、 R2,R5及びR6は請求項1に定義した通りである。 で表される化合物を得た後、得られた式(VI)の化合物を還元し、脱保護するこ とを特徴とする製造方法。 12.前記脱水反応は、ベンゼン、トルエン及びキシレンよりなる群から選択さ れる溶媒中、硫酸、リン酸及びp−トルエンスルホン酸よりなる群から選択され る酸の存在下に行うものである請求項11に記載の製造方法。 13.前記脱水反応は、80〜100℃の温度範囲で行うものである請求項12 に記載の製造方法。
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