JPH11508954A - 不飽和度が低いポリオール類およびそれの製造方法 - Google Patents
不飽和度が低いポリオール類およびそれの製造方法Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. ポリオール組成物であって、不飽和を有するヒドロキシル含有化合物と ニトリルオキサイド化合物を反応させることで生じさせたポリオールを含むポリ オール組成物。 2. 該ヒドロキシル含有化合物の少なくとも一部が末端不飽和を有するモノ オールである請求の範囲第1項のポリオール組成物。 3. ポリエーテルポリオールを含む請求の範囲第2項のポリオール組成物。 4. 該ポリエーテルポリオールがポリ(プロピレンオキサイド/エチレンオ キサイド)バックボーンまたはポリ(プロピレンオキサイド)バックボーンを有 するポリオールである請求の範囲第2項のポリオール組成物。 5. 該ニトリルオキサイドが式: R2−(C≡N+−O-)x で表されるポリニトリルオキサイドであるか或は式: HO−R3−(C≡N+−O-) で表される水酸化モノニトリルオキサイドであり、ここで、R2およびR3が、芳 香族基もしくは脂肪族基または芳香族基と脂肪族基の組み合わせを含んでいても よい有機部分であって、不活性に置換されている脂肪族もしくは芳香族基を含ん でいてもよく、そしてxが2から6である請求の範囲第3項のポリオール組成物 。 6. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 R’は、独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性に置換されているヒドロカル ビル、アラルキルまたはハロであるが、但しR’基がニトリルオキサイド基を安 定にするに充分であることを条件とし、各ZおよびYは、共有結合、−O−、− S−、アルキレン、アルキレンオキサイド、アルキレンスルフィド、−CF2− であり、そしてYは追加的に であってもよく、ここで、Arは、芳香族炭化水素またはそれのハロゲン化誘導 体であってもよい] で表される芳香族ジ(ニトリルオキサイド)である請求の範囲第5項のポリオー ル組成物。 7. 該ニトリルオキサイドをインサイチューで生じさせない時には各ニトリ ルオキサイド基に隣接するR’基が立体障害部分であり、そして各ZおよびYが 独立してアルキレン、アルキレンオキサイドまたはアルキレンスルフィドである 請求の範囲第6項のポリオール組成物。 8. 各ニトリルオキサイド基に隣接するR’基がメチルまたはエチルであり そして各YまたはZが−CH2、−CH2CH2−または−CH2−O−CH2−で ある請求の範囲第7項のポリオール組成物。 9. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 各R”は、独立して、ヒドロカルビル、または不活性に置換されているヒドロカ ルビル基であるか、或は両方のR”が一緒になって環状もしくは二環状(橋状) 環を形成している] で表される化合物である請求の範囲第5項のポリオール組成物。 10. 該芳香族ジ(ニトリルオキサイド)が [ここで、 各R’は、独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性に置換されているヒドロカ ルビル、アラルキルまたはハロであるが、但しR’基がニトリルオキサイド基を 安定にするに充分であることを条件とし、そして各ZおよびYは、共有結合、− O−、−S−、アルキレン、アルキレンオキ サイド、アルキレンスルフィド、または−CF2−である] である請求の範囲第6項のポリオール組成物。 11. 各ニトリルオキサイド基に隣接するR’基がメチルまたはエチルであ りそして各YまたはZが−CH2、−CH2CH2−または−CH2−O−CH2− である請求の範囲第10項のポリオール組成物。 12. 芳香族ジ(ニトリルオキサイド)がテトラメチルテレフタロニトリル ,N,N’−ジオキサイドである請求の範囲第11項のポリオール組成物。 13. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 R’は、独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性に置換されているヒドロカル ビル、アラルキルまたはハロである] で表されるニトリルオキサイドである請求の範囲第4項のポリオール組成物。 14. 式: で表される化合物を含む請求の範囲第1項のポリオール組成物。 15. 該ニトリルオキサイドがテトラメチルテレフタロニトリル,N,N’ −ジオキサイド;3,3−アルキレンビス(2,4,6−トリメチルベンゾニト リル)N,N’−ジオキサイド;4,4’−アルキレンビス(2,4,6−トリ メチルベンゾニトリル)N,N’−ジオキサイド;1−メチル−2,6−ビス( ニトリルオキサイド)−フェニルスルホン酸エステル;3,3’−(1,2−エ タンジイル)ビス(2,4,6−トリメチルベンゾニトリル)N,N’−ジオキ サイド;3,3−アルキレンビス(5−クロロ−2,4,6−トリメチル−べン ゾニトリル)N,N’−ジオキサイド;または2,2’−スルホニルビス(ベン ゾニトリル)N,N’−ジオキサイドである請求の範囲第1項のポリオール組成 物。 16. アルキレンオキサイドと開始剤を反応させることでポリオールを製造 する改良方法であって、該改良が、反応生成物中の不飽和の少なくとも一部をニ トリルオキサイドと反応させることを含む方法。 17. 該アルキレンオキサイドがプロピレンオキサイドでありそして該不飽 和が末端不飽和である請求の範囲第16項の方法。 18. 該ポリオールが一般構造式: I((CH2-CH(R1)-O)n-H)m [式中、 Iは開始剤の残基であり、R1は各場合とも水素またはアルキルであり、 nは1から200の整数であり、そしてmは2から8の整数である] で表されるポリエーテルポリオールである請求の範囲第1項の方法。 19. Iがヒドロキシルまたは有機活性水素開始剤の残基であり、各R1が 独立して水素、メチルまたはエチルであり、nが2から100でありそしてmが 2から4である請求の範囲第18項の方法。 20. 該ニトリルオキサイドが式: R2−(C≡N+−O-)x で表されるポリニトリルオキサイドであるか或は式: HO−R3−(C≡N+−O-) で表される水酸化モノニトリルオキサイドであり、ここで、R2およびR3が、芳 香族基もしくは脂肪族基または芳香族基と脂肪族基の組み合わせを含んでいても よい有機部分であって、不活性に置換されている脂肪族もしくは芳香族基を含ん でいてもよく、そしてxが2から6である請求の範囲第16項の方法。 21. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 各R’は、独立して、H、ヒドロカルビル、不活性に置換されているヒドロカル ビル、アラルキルまたはハロであるが、但しR’基がニトリルオキサイド基を安 定にするに充分であることを条件とし、そして各ZおよびYは、共有結合、−O −、−S−、アルキレン、アルキレンオキサイド、アルキレンスルフィドまたは −CF2−である] で表される芳香族ジ(ニトリルオキサイド)である請求の範囲第20項の方法。 22. 各ニトリルオキサイド基に隣接するR’基がメチルまたはエチルであ りそして各YまたはZが−CH2、−CH2CH2−または−CH2−O−CH2− である請求の範囲第21項の方法。 23. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 各R”は、独立して、ヒドロカルビル、または不活性に置換されているヒドロカ ルビル基であるか、或は両方のR”が一緒になって環状もしくは二環状(橋状) 環を形成している] で表される化合物である請求の範囲第16項の方法。 24. 該ジ(ニトリルオキサイド)がテトラメチルテレフタロニトリル,N ,N’−ジオキサイド、または2,6−ビスニトリルオキシド−1,3,5−ト リエチルベンゼンである請求の範囲第16項の方法。 25. 該ニトリルオキサイドが式: [式中、 R’は、独立して、水素、ヒドロカルビル、不活性に置換されているヒドロカル ビル、アラルキルまたはハロである] で表されるニトリルオキサイドである請求の範囲第16項の方法。 26. 末端ヒドロキシル基を2つ以上とイソキサゾリン部分を有するポリオ ールを含むポリオール組成物。
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