JPH11504875A - 光学品に使用する接着ホトクロミックマトリックス層 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 接着マトリックス層（２４）及び接着マトリックス薄層、並びにそれらの製造方法が記載されている。接着マトリックス層（２４）及び接着マトリックス薄層は、ホトクロミック添加物用の効果的な貯蔵所を与え、また、光を透過又は屈折させる光学晶に使用すべき異種材料間の効果的な遷移領域として機能することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 光学品に使用する接着ホトクロミックマトリックス層技術分野 この発明は、ホトクロミック添加物用の効果的な貯蔵所を与え、かつ、光を透 過させたり、反射させたりする光学品に使われる異種材料間の効果的な遷移領域 として作用できる接着マトリックス層に関するものである。背景技術 光学品の表面は、多くの理由のために、処理されたり、変更されたりしてもよ い。例えば、硬くてひっかき傷耐性のある層や反射防止層のような外層でレンズ を被覆したほうが、完成レンズの磨耗や光学的特徴を改善するので望ましい場合 がいくつかある。他の場合においては、柔らかいポリカルボネート（ポリ炭酸塩 ）に対して薄い色をつけることができるハードコート（硬質被膜）を提供する。 さらに他の場合においては、熱拡散工程で、ハードコートを適用するかしないか で、レンズオプティック（ｌｅｎｓ ｏｐｔｉｃ）は薄く色がつく。 同時に、オプティック表面に外層を適用する前に前処理をおこない、オプティ ックの表面と外層間の強い接着を促進することが望ましいことはしばしばである 。このような前処理には、特殊クリーニングないしエッチング工程の使用や表面 下塗り剤の適用が含まれる。一般に、前処理はオプティックの性能に悪影響を与 えるべきではなく、オプティックに対して実質的な厚みを加えるべきでもない。 このような前処理の例は、ブラム、グプタ、ベニングトンに対する米国特許５， ３１６，７０２号に見いだすことができる。もし反証が示されないならば、この 中に引用されている全ての参考事項を合体してそっくりそのまま引例とすればよ い。 効果的な表面処理工程が従来技術で公知であるが、それにもかかわらず、この ような工程は改善の余地がある。例えば、従来技術の表面処理は、ホトクロミッ ク添加物等の種々の添加物用の効果的で効率の良い貯蔵所を提供するものではな い。それらは、異種材料間の遷移領域として効果的に作用するわけでもない。発明の要約 従来技術の上記の不完全さに鑑みて、本発明の目的は、光学基板と外側バリヤ 層との間にあって、各種の添加物用の効果的な貯蔵所として作用する接着マトリ ックス層を提供することである。 本発明の他の目的は、光学基板と外側バリヤ層との間にあって、異種材料から なる遷移領域として作用する接着マトリックス層を提供することである。 さらに本発明の他の目的は、このような接着マトリックス層を作り出す方法を 提供することである。これらのおよび他の目的は本発明によって満たされ、これ は排他的な接着マトリックス層とこれを製造する方法に関するものである。本発 明の接着マトリックス層は従来技術に対していくつかの利点を有する。 本発明の第１の利点は、基板表面と外側バリヤ層との間にあってスペーサとし て作用し、異なる架橋密度および硬度を有する２つの材料の結合を可能とする新 規な接着マトリックス層を提供することである。 本発明の第２の利点は、紫外線吸収材、レンズ色合いの発現用の着色材料、ホ トクロミック添加物などの添加物用の貯蔵所として作用する新規な接着マトリッ クス層を提供することである。接着マトリックス層の両面は一般に拡散に対して 耐性のある層で被覆されているので、拡散による本発明の接着マトリックス層か らのこれらの添加物の損失は有意義に減少する。 本発明の実施例によれば、光学基板に付着して、２５μｍよりも大きな厚さを 有する接着マトリックス層を有する光学品が提供される。 他の実施例によれば、光学基板に付着した接着ホトクロミックマトリックス層 を有する光学品が提供される。接着ホトクロミックマトリックス層には外側バリ ヤ層が付着している。この実施例における外側バリヤ層は、付加的な接着剤を使 用しないで付着される。 他の実施例によれば、２５μｍより大きな厚さを有する接着マトリックス層が を提供される。この実施例における接着マトリックス層は、１種以上のホトクロ ミック添加物用の貯蔵所として及び異種材料間の遷移領域として働くのに適合し ている。この実施例における接着マトリックス層は、市販のＣＲ−３９レンズの 架橋密度よりも小さいこと、及び１０℃から６０℃の間のＴｇを有することから なる群から選択された１つ以上の特徴を有することが好ましい。 さらに他の実施例によれば、接着マトリックス層が光学基板上に与えられる方 法が記載されている。この実施例における接着マトリックス層は少なくとも光学 基板の一方の表面に２５ミクロンよりも厚い膜厚を有している。 他の実施例によれば、金型は接着マトリックス層に対応して樹脂で被覆される 。 そして、被覆金型と付属金型との間の空間（スペース）を基板樹脂で充填し、 基板樹脂が占める体積は光学基板の形状に対応するように、付属金型と基板樹脂 は被覆金型とともに配置されて供給される。基板樹脂は架橋され、金型よりも基 板に対してより大きな親和性を有するので、接着マトリックス層は基板に移転す る。必要ならば、ホトクロミック添加物は未架橋接着マトリックス層樹脂に含有 することができる。代わりに、ホトクロミック層は接着マトリックス層に対応す る樹脂を用いて金型を被覆する前に金型に配置することもできる。補足的な代替 案としては、接着マトリックス層に対応した樹脂を用いて金型を被覆する前に、 ハードコート材料（硬質被膜材料）は金型に配置することができ、ホトクロミッ ク層が次に配置される。 他の実施例によれば、接着マトリックス層に対応する樹脂が光学基板の少なく とも一つの表面に供給され、樹脂は架橋され、後にホトクロミック添加物を吸収 する接着マトリックス層が形成される。 他の実施例によれば、接着マトリックス層を付着して有する光学基板の製造方 法が提供される。この方法は、（ａ）光学基板を供給する工程と、（ｂ）前記光 学基板の少なくとも一方の表面上に第１の接着マトリックス薄層を供給する工程 と、（ｃ）前記第１の接着マトリックス薄層上に第２の接着マトリックス薄層を 供給して、複数の接着マトリックス薄層からなるネットワーク（網状組織）をつ くる工程とを含む。 上記の接着マトリックス層および接着マトリックス薄層には、好ましくは、１ 種類以上のホトクロミック添加物が供給される。 本発明の他の目的および利点とその代替的実施態様は、以下に述べる詳細な説 明および実施例を参照することにより当業者には容易に明らかになるであろう。図面の簡単な説明 第１図は、光学基板、接着マトリックス層、および外側バリヤ層の断面図を示 す。 第２Ａ図は、接着マトリックス層を形成するために使用される金型アセンブリ を示す。 第２Ｂ図は、紫外線照射下の金型アセンブリの側面図を示す。 第３図は、高速回転用のブロック上に載置された接着マトリックス層が設けら れたレンズを示す。 第４図は、接着マトリックス層上に外側バリヤ層を形成するために与えられた 金型アセンブリの側面図である。 第５図は、紫外線照射下の金型アセンブリを示す。発明の詳細な説明 本発明の一実施例によれば、接着マトリックス層が光学基板の上に設けられる 。ここで使用する「光学基板」の用語は、そのままで光を透過又は屈折させるこ とができる物体、又は製品となったときに透過又は屈折させることができる物体 を示すために使用される。かかる光学基板には、光学プレフォーム、光学ウェハ ー、光学レンズ、半製品レンズブランク、ウィンドウ等がある。光学基板として 使用する一般的物質には、限定されないが、ビスアリルカルボネート（ＣＲ−３ ９）、ポリメチルメタクリレート、ビスフェノールＡのポリカルボネートがある 。 好ましくは、接着マトリックス層（本発明の目的のためには一層でも複数層の 積層でもよい）は、強く光学基板の表面に結合し、光学基板の光学機能と一致し た光学特性を有し、溶剤による腐蝕に抵抗性がある。本発明の接着マトリックス 層は、その下の光学プレフォームとその上の外側バリヤ層との間に強い耐久性あ る結合を形成する等多くの機能を有し、また、種々の添加物の貯蔵所として機能 し得る能力がある。 一般に、好ましくは、本発明の接着マトリックス層は、幾つかの物理的及び光 学的基準を満たす。 例えば、接着マトリックス層は、レンズ又はレンズブランクが屈折又は透過さ せる光を実質的に透過させる。従って、レンズが可視光（即ち、波長が約４００ 〜７００ｎｍの光）を集束または発散させるならば、接着マトリックス層はこの 波長領域で可能なかぎり光学的に透き通っていなければならない。さらに、本発 明の接着マトリックス層は、好ましくは、光学基板の屈折率に匹敵する屈折率を 有する。好ましくは、光学基板の屈折率は０．０５単位以下であり、より好まし くは０．０３単位以下であり、接着マトリックス層の屈折率とは異なる。 接着マトリックス層のガラス転移温度（Ｔ_g）は、接着マトリックス層の幾つ かの特性に影響を与える。例えば、ガラス転移温度が増加すると、以下の結果が もたらされる、（１）所定の温度において接着マトリックス層の浸透性が低下す る（なぜなら接着マトリックス層はガラス転移温度以上の温度で添加物に対しよ り浸透性になるからである）、（２）所定の温度において接着マトリックス層の 張力及び体積弾性係数がより高くなる（なぜなら接着マトリックス層の係数はガ ラス転移温度以下の温度でより厳しくなるからである）、（３）どのホトクロミ ック添加物でもスイッチングタイム（切換時間）がより遅くなる、（４）どのホ トクロミック添加物でもダイナミックレンジ（動的範囲）がより高くなる、（５ ）光化学的ダメージに対する抵抗性がより高くなる。 ガラス転移温度は、一般に、樹脂の組成を変えることにより制御される。例え ば、２種類の樹脂の組み合わせであって、第一の樹脂のガラス転移温度が第二の 樹脂よりも高ければ、第一の樹脂の相対的な量を増やすことにより、その混合物 のガラス転移温度を高めることができる。 架橋密度も、接着マトリックス層の幾つかの特性に影響を与える。例えば、架 橋密度が増加すると、以下の結果をもたらす、（１）ガラス転移温度以上の温度 において層の剛性が増加する（従って衝撃強さは減少する）、（２）層の添加物 に対する浸透性が減少する（なぜなら層はアセトン、ヘキサン等の通常の有機溶 媒による膨潤に対し抵抗性を有するからである）、（３）どのホトクロミック添 加物でもスイッチングタイム（切換時間）が減少する、（４）どのホトクロミッ ク添加物でもダイナミックレンジ（動的範囲）が増加する。 架橋密度は、一般に、樹脂成分の官能性の程度を調節することにより制御され る。例えば、より多くの数の反応性官能基を有するモノマーは、より大きな架橋 密度を有するポリマーをもたらす。 上記の観点から、スイッチングスピード（切換速度）と同様に、所定の温度に おける浸透性と衝撃強さに対するダイナミックレンジと光化学的ダメージ抵抗性 の取捨選択に基づいて、ガラス転移温度を、所定の目的に応じて最適化できるの がわかる。同時に、架橋密度も、ダイナミックレンジに対するマトリックス浸透 性、衝撃強さ、スイッチングタイムとの間の取捨選択に基づいて、所定の目的に 応じて最適化できるのがわかる。 好ましくは、接着マトリックス層のガラス転移温度と架橋密度は、両方とも、 衝撃強さと層の添加物に対する浸透性さらにホトクロミック添加物のスイッチン グスピードとダイナミックレンジ等の特性に影響を与えるのだから、同時に最適 化する。一般に、接着マトリックス層は好ましくは、架橋密度を低くして、良好 なせん断強度と、速いスイッチングと、速いホトクロミック添加物の取り込みを 増すように選択する。特に、好ましくは、接着マトリックスは、その架橋密度が 、市販のＣＲ−３９レンズよりも小さく、より好ましくは約３モル／リットルよ りも小さく、最も好ましくは約２モル／リットルよりも小さくなるように選択す る。同時に、好ましくは、接着マトリックス層は、そのガラス転移温度が、完成 品の提供温度の近くになるように選択する。眼のレンズの用途のためには、接着 マトリックス層のガラス転移温度は好ましくは１０°Ｃから６０°Ｃの間であり 、より好ましくは２０°Ｃから４０°Ｃの間である。これにより、どのホトクロ ミック添加物でもスイッチングスピードのみならず、マトリックス浸透性と強度 も実質的に損なうこと無く、適当な光化学的ダメージに対する抵抗性とダイナミ ックレンジとかもたらされる。 上記の基準を満たすために、接着マトリックス層は、好ましくは、モノマー及 びオリゴマーの、アクリレート、メタクリレート或いはビスアリルカルボネート 、スチレン等のアリル誘導体又はビニル誘導体の混合物から調整される。任意で はあるが、樹脂が熱的に、光化学的に又はその両方によって硬化するか否かによ り、配合物は好ましくは、熱重合開始剤（ベンゾイル・パーオキシド、２，２´ −アゾイソブチロニトリル又はジイソプロピル・パーオキシジカルボネート等） 、光重合開始剤（チバガイギー社からイルガキュア１８４とダルキュア１１７３ として販売されている２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン− １−オン又は１−ヒドロキシシクロエキシルフェニルケトン等のアセトフェノン とベンゾフェノンの誘導体を含む）又はその両方をさらに含む。 他の用途では、添加物の接着マトリックス層中での拡散率を高めることが望ま しい場合がある。加熱、エージング、振動、紫外線放射、赤外線放射を含む従来 の方法に加えて、添加物を拡散する前にただ接着マトリックス層を部分的に硬化 させて拡散率を高めることもまた可能である。拡散の後、接着マトリックス層の 硬化を完了させて架橋度を増加させる。 好ましくは、接着マトリックス層は強く光学基板に結合する。接着マトリック ス層とレンズ又はレンズブランクの間を良好に結合させるために、米国特許第５ ，３１６，７０２号に説明されている方法を使用してもよい。 本発明の接着マトリックス層は光学基板のどの面にも設けることができる。例 えば、光学基板が距離補正のためのレンズの場合、接着マトリックス層は光学基 板の前方（凸）の面、後方の面（凹）、又はその両方に設けられる。ほとんどの 用途では、接着マトリックス層は前方（凸）の面に設けられる。 好ましくは、本発明の追加の接着マトリックス層もまた、２５μｍより大きな 、より好ましくは１００から２５０μｍまでの、組み合わせた又は単独の厚みで 、設ける。積み重ねの層を形成するために複数の副次的な層（薄層）を使用する 場合、かかる薄層は、積み重ねたときに適切な寸法となるような適当な寸法であ る。例えば、約３０〜８０μｍの３層が使用でき、約１０〜２５μｍの１０層が 使用できる。 通常光学基板の表面に塗布されるハードコート層（硬質被膜層）は、本発明の 接着マトリックス層の特性とかなり異なる多くの特性を有する。例えば、かかる ハードコート層は、厚さは一般に２５μｍ以下であり、架橋密度は高く、ガラス 転移温度は約７５°Ｃより大きく、一度ハードコート層が硬化したら隣の層に付 着して強く結合する能力は無い。これに対して、本発明の接着マトリックス層の 厚さは好ましくは２５μｍより大きく、架橋密度が低く、ガラス転移温度は約１ ０と６０°Ｃの間であり、たとえ接着マトリックス層が硬化した後でも隣の層に 付着して強く結合する能力を有する。 本発明の接着マトリックス層は多くの方法で製造できる。 本発明の幾つかの実施例によれば、接着マトリックス層は、光学基板の形成の 前に又は同時に、形成される。例えば、金型の表面を、最終的に接着マトリック ス層を形成するのに使用する未硬化の接着マトリックス樹脂で、コーティングで きる。その後、コーティングされた金型を一部硬化できる。完全な硬化でも硬化 無しでもよい。その後、コーティングされた金型を光学基板の製造に用いること ができる。例えば、コーティングされた金型を、付属金型とガスケットもまた有 する従来の金型組立体に含めることによって、コーティングされた金型と付属金 型の間のスペースを、基板樹脂で満たし、光学基板の形に対応する未硬化樹脂塊 を形成する。その後、組立体全体を硬化して、接着マトリックス層を有する光学 基板を形成することができる。硬化した接着マトリックス樹脂は、硬化した基板 樹脂に対し、金型に対するよりも、より大きな親和性を有さなければならない。 他の実施例では、金型を使用する鋳造によって、又は金型を使わずスプレイ、 浸せきコーティング、はけ塗り、流し塗り、スピンコーティング、樹脂浴での樹 脂硬化、ホトリソグラフィ（写真平版）等のいずれかを用いて層を形成すること によって、接着マトリックス層を予め存在する光学基板に設ける。このような実 施例では、光学基板の面を前処理した後に接着マトリックス層をその上に鋳造し てもよい。前処理技術は例えば米国特許第５，３１６，７０２号に記載されてい る。 金型を使用して予め存在する光学基板（すなわち半製品レンズブランク）に接 着マトリックス層を設ける実施例を図２Ａと図２Ｂに示す。図２Ａと図２Ｂには 接着マトリックス層を構成するように配置した金型アセンブリが示されている。 この特定の金型アセンブリでは、金型（２１）は、３００〜４００ｎｍの波長範 囲の放射線に対し透過性のあるガラスあるいは他の材料から作られる。金型（２ １）はまた、レンズ（２３）あるいは半製品レンズブランク（２２）の前面曲率 に合った曲率を有する。金型（２１）とレンズ（２３）あるいはレンズブランク （２２）間のスペースには重合性の樹脂層（２４）が満たされている。図２Ｂは 紫外線照射された状態の金型アセンブリを同様に示す。この実施例では樹脂層の 厚さは、金型の周囲に沿った３カ所以上の等距離位置に配置された柔軟なスペー サ（２６）によって制御される。 勿論、接着マトリックス層は、必ずしも単一の工程（ステップ）で作られる必 要がない。例えば、接着マトリックス樹脂の第１層を設けることができ、次にそ の接着マトリックス樹脂を硬化し、あるいは一部硬化して第１接着マトリックス 薄層を形成する。次に、正確な追加厚みが得られるまで、第１接着マトリックス 薄層上に接着マトリックス樹脂の第２層を設け、その後、硬化などを行なうこと ができる。 本発明の接着マトリックス層あるいは薄層には１種以上の望ましい添加物、好 ましくはホトクロミック添加物を付与してもよい。ホトクロミック添加物は、日 光を含む数タイプの電磁放射線にさらされると、色および／又は光伝達度を可逆 的に変えたり、電磁放射線源を除いた場合にその元の色および／又は伝達状態に 戻る特性を表示する物質である。 先行技術から知られているホトクロミック特性を備えた物質は、多数あり、例 えば、ニューヨーク（１９７１年）のWiley-Interscience のWeissebeger Serie s「有機化学の技術」からの「ホトクロミズム」G.H．Brown(Ed.)に記載されてい る無機化合物と有機化合物の両方の幾つかの部類に入る。本発明の好ましいホト クロミック添加物には、例えば、以下の特許：米国特許第３，５６２，１７２号 ；３，５７８，６０２号；４，２１５，０１０号；４，３４２，６６８号；欧州 特許１４６１３５号、ＷＯ８５／０２６１９号；欧州特許２４５０２０号および 欧州特許出願公報第１３４，６３３号および１４１，４０７号に開示された化合 物のような、重合性有機材料にホトクロミック特性を付与できるspiro-indoline -（スピロ−インドリン）タイプの化合物の部類に入る化合物がある。そのよう な化合物にはスピロ（インドリノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリノ）ピリ ドベンゾキサジン、スピロ（ベンジンドリノ）ナフトキサジン、スピロ（ベンジ ン ドリノ）ピリドベンゾキサジンなどがある。 １種以上のホトクロミック添加物を接着マトリックス層に混和する必要がある 場合には、ホトクロミック添加物の吸収スペクトルを通常選択して最終製品に灰 色、緑色、褐色あるいは青色の外観を付与する。各ホトクロミック化合物のスイ ッチング速度は、その化合物が存在する層の組成と同様に、暗さレベル、温度お よび強弱させた色の放出の関数であることを思い出す必要がある。 典型的なホトクロミック添加物配合物は、２種あるいは３種のホトクロミック 添加物、２，５−ジ（ｔ−ブチル）フェノールのような酸化防止剤、および任意 の背景の色(DIACOTEのような)の混合物を含み、化粧的な外観色を付ける。その ような添加物配合物はまた、先行技術から知られ、同じ混合物の光着色性の強さ を損なわずにホトクロミック効果の持続を向上することができるＵ．Ｖ．安定剤 を含有する。本発明の目的のためのＵ．Ｖ．安定剤の非限定実施例は、ヒンダー ドアミン(HALS)およびDABCOのような非芳香性安定剤である。添加物配合物は、 例えば、粉砕ミルで個々の成分を共に粉砕し、それらを共通の溶媒に溶かし、そ の溶媒を蒸発させ、あるいはそれらを熱可塑性ポリマーの層を用いてマイクロカ プセルに封入することによって作ることができる。 可逆的方法で日射に対し少なくとも部分的なスクリーンを構成することができ る広範囲のホトクロミック物品は、本発明の接着マトリックス層内に１種以上の ホトクロミック添加物を定着させることにより得ることができる。そのようなホ トクロミック物品には、サングラス、処方レンズ、コンタクトレンズ、自動車あ るいは輸送手段用ガラスおよびビル領域の窓のようなホトクロミック眼鏡レンズ とサンフィルターがある。 本発明の接着マトリックス層内に、添加物、特に、ホトクロミック添加物を定 着させるためには幾つかの方法が有効である。そのような方法は、米国特許第５ ，１８０，５２４号に説明された方法を含み、またこれらの方法はホトクロミッ ク添加物（酸化防止剤、Ｕ．Ｖ．安定剤、背景色など）の適切な補助剤を定着さ せるのにも適切である。 幾つかの実施態様によれば、好ましい添加物は、接着マトリックス層を作るの に使用される樹脂配合剤の一部として提供される。他の実施態様によれば、添加 物は、接着マトリックス層を拡散により含浸させて形成した後、提供することが できる。他の実施態様は、好ましい１種の添加物あるいは複数の添加物を各薄層 の形成に続いて直接添加するか、あるいは一旦、好ましい数の接着マトリックス 薄層を形成したら添加する多重接着マトリックス層のネットワークを想定してい る。さらに他の実施態様は、光学基板にホトクロミック材料を１層配置し、次に 、そのホトクロミック材料層上に接着マトリックス層（複数の層）を配置するこ とを想定する。ホトクロミック材料は以下のように接着マトリックス層内に場合 によっては拡散することができる。 その添加物の混和に続き、また好ましくは硬質コート（硬質被膜）あるいはシ ーラント（密封剤）を塗布した後、添加物を、アニール、振動、紫外線照射、赤 外線照射あるいは時間に伴う時効によって薄層を通して分散／拡散させる。しか しながら、この分散／拡散の強化工程は接着マトリックス層の形成に続いていつ でも実施することができる。この多層方法に対する利点の一つは接着マトリック ス層に非常に多量の添加が可能であるということである。この多層方法の他の利 点は、適当な添加物を層状に添加することによって好ましい添加物効果を要求し 、調整し、あるいはバランスすることができるということである。 ホトクロミック添加物は適切な技術によって本発明の接着マトリックス層の表 面に添加されあるいはその接着マトリックス層内に混和される。 第１の具体的な方法によれば、ホトクロミック添加物は、その添加物が接着マ トリックス層を通して均一に分散される成形ベースの技術により本発明の接着マ トリックス層内に定着することができる。 別の方法によれば、ホトクロミック添加物を適切な溶媒に適切なポリマー材料 と一緒に溶かし、その溶媒の蒸発後にホトクロミック接着マトリックス層を形成 するためその溶媒液を光学基板上に析出することができる。 他の方法によれば、ホトクロミック添加物を適切な重合性モノマーに添加し、 それによって適切な重合開始剤の存在の下で重合が行なわれた後、ホトクロミッ ク添加物を接着マトリックス層内に均一に混和する。 さらに他の方法によれば、ホトクロミック添加物は、適切な温度でホトクロミ ック添加物を含む溶液あるいは分散剤に接着マトリックス層を接触配置すること によって得られる表面含浸により接着マトリックス層に添加することができる。 その目的のために、ホトクロミック添加物の溶液あるいは懸濁液は、通常の有機 溶媒（例えば、アセトン、ヘキサン、テトラヒドロフラン、メタノールおよびア セトニトリルなど）、シリコーンオイル、フッ素含有オイルなどの中から普通に 選択される適切な溶媒あるいは分散剤で作られ、そしてホトクロミック化合物は 、適切な時間、適切な温度で前記溶液と懸濁液にポリマー物晶を浸漬させること によってポリマー基板上に移される。あるいはホトクロミック添加物は、その添 加物を含有する溶媒液を刷毛塗り（ブラッシング）、滴下、スプレーなどによっ て接着マトリックス層上に直接塗布することによって混和することができる。 他の方法によれば、接着マトリックス部分を取り付けた光学基板は、制御速度 で回転あるいはスピンが可能な支持体（サポート）に設けることができる。図３ はブロック（３３）に取り付けられ、高速度で回転可能な支持体（３４）に配置 された接着マトリックス層（３２）を備えたレンズ（３１）を示す。添加物の溶 液はレンズが支持体上で回転している際に、レンズ表面に滴下法で添加される。 トーリックレンズあるいは非中心対称面を備えた他の光学基板は、回転時にぐら つかないように、それらを支持体に取り付ける前にブロック（３３）に取り付け るようにすることができる。 添加物を本発明の接着マトリックス層に添加する他の実施態様を以下の実施例 に基づいて説明する。本発明のプロセスを限定するようにこの実施例を見るべき ではない。 一旦、望ましい接着マトリックス層が達成され、１種の添加物ある いは複数の添加物が添加されると、もしあれば、接着マトリックスは外側バリヤ 層で被覆されることが好ましい。図１は、外側バリヤ層（１２）で被覆された接 着マトリックス層（１１）付き光学基板（１０）の断面図である。 本発明の外側バリヤ層は、酸素と添加物の拡散に対するバリヤとして作用する 密封層が好ましい。外側バリヤ層はレンズの最も外側の層であっても、そうでな くともよいが、接着マトリックス層に対して単に「外側」である。 外側バリヤ層は全体としてレンズの屈折力を変えるが、結果としてレンズの屈 折力の変化が無視できるものであるか、付加屈折力ゾーンを設けた場合のように 、レンズの屈折力が一部変化する。 外側バリヤ層は米国特許第４，５４４，５７２号に記載されているように硬質 のコート層（被膜層）でよく、その外側バリヤ層は、好ましくは仕上げ硬質コー ト層などを備えた、光学基板を構成するのに使用される材料と同様の材料からな ってもよい。 特定の添加により、外側バリヤ層は金型を使用してキャストするか、金型を使 わずに、例えば、樹脂浴の元の位置（in situ）での硬化、浸漬、スプレー、刷 毛塗り（ブラシング）、流しコーティングあるいはスピンコーティングによりキ ャストすることができる。さらに、外側バリヤ層は、熱を加えたり、光化学的に （米国特許第５，１７８，８００号、５，１４７，５８５号および５，２１９， ４９７号に開示されているように）、あるいは、その両方でキャストすることが できる。 例えば、レンズは、望ましい付加屈折力補正を行なう外側バリヤ層で表面キャ スト（オーバーキャスト）することができる。このプロセスでは、付加屈折力補 正の所定の型と大きさを備えるように金型を選択する。金型の球面部分の曲率は 、キャストプロセスを完了した後、予め選択された最終の凸面曲率を達成するよ うに接着マトリックス層を付けたレンズの曲率に対して正確な関係を有するのが 好ましい。上記のように、樹脂の硬化が紫外線照射の利用を伴う場合、金型は適 切な波長範囲で紫外線照射に透過性であるのが好ましい。 図４は、接着マトリックス層上にオーバーコーティングあるいは外側バリヤ層 を構成するためにセットされた金型アセンブリの側面図である。金型アセンブリ は、ガラス金型（４４）に含まれる樹脂（４３）の上面に次に配置される接着マ トリックス層（４２）を付けたレンズ（４１）からなる。金型は二焦点付加屈折 力ゾーン（４４１）を有し、残りの金型は遠用屈折力ゾーン（４４２）である。 図５は紫外線照射状態の金型アセンブリを示し、この金型アセンブリは、接着マ トリックス層（５２）を付けた半製品レンズブランク（５１）、樹脂（５３）お よび曲率が半製品レンズブランク（５１）の曲率に合う金型（５４）からなって いる。 レンズ表面に掻き傷防止層（スクラッチ耐性層）を配置するために一般に利用 される方法のようなオーバーコーティングを作る当技術の方法の別の状態を使用 することもできる。 外側バリヤ層は、反射レベルが低減されたような望ましい光学特性を備えると よい。外側バリヤ層は、表面硬さ、掻き傷（スクラッチ）に対する耐性、表面平 滑性、あるいはレンズの衝撃特性を変えるように設計される。接着マトリックス 層にホトクロミック添加物を混和する際、外側バリヤ層は、略、非ＵＶ阻止層で ある。できるだけわずかなＵＶ照射を阻止するとによって、ホトクロミック添加 物活性化はできるだけ小さくなる。外側バリヤ層の目的は、添加された添加物が 接着マトリックス層内に入り込むのを最小にし、酸素透過性を下げるために、酸 素バリヤおよび／又は許容できるレベルの表面硬さおよび／又は多孔性の低下を 得ることである。そのような硬質コート層は高架橋密度と約７７℃より高いＴｇ を有するのが好ましい。 本発明とその様々な実施態様の前述の説明と以下の説明は、発明を限定するも のではなく、その例示である。当業者は本発明の範囲内に包含される他の実施態 様を想定することができる。実施例 実施例１ 次の調合物は全原料をフラスコ内で混合し、その後、混合物を暗闇内において 室温で２０分間撹拌することによって調合される。 使用した構成装置が図２（Ａ）に示されている。どちらの場合の樹脂も金型組 立品内で薄層として位置している。金型組立品には、（１）米国特許第５３１６ ７０２号にあるような改善された表面を有しかつ公知の凸半径を有する、ビスア リルカルボネート（ＣＲ−３９）から成るレンズと、（２）実質的にレンズの凸 曲率と一致する公知の凹半径を有するガラス金型と、（３）レンズと金型との間 に薄層として位置している、上記の表に示されている樹脂とが含まれている。接 着マトリクス層の厚さは、金型の端部に沿って等距離の位置に柔軟なスペーサを 貼り付け、その後、金型と、金型上に位置しかつ柔軟なスペーサによって支えら れているレンズとの間の空間を満たすのに十分な樹脂を添加することによって、 ０．０６ｍｍから０．２６ｍｍまで変えられる。例として、スペーサを用いなか った場合には、硬化した樹脂の厚さは、レンズ２では０．０７ｍｍであることが 判明している。あるタイプの柔軟なスペーサを用いた場合には、硬化した接着マ トリクス層の厚さは、０，１６ｍｍまで増大した。 レンズ１の調合物は紫外線を２０分間照射することにより硬化され、一方、レ ンズ２の調合物は紫外線を２５分間照射することにより硬化される。 各接着マトリクス層の安定性は以下のようにテストされる。付着した接着マト リクス層を備えているレンズを試薬等級アセトンに浸す。２０分後、被膜１およ び２がレンズに結合したまま残っているということが判明している。その後、レ ンズをアセトン浴から取り出し、４５℃の乾燥機中に一晩置く。どちらのレンズ も透明であり、それらがアセトンに溶け得る添加物の含浸に適していることを示 している。 レンズ１および２に形成された接着マトリクス層にアセトン中に２重量％溶解 しているホトクロミック添加物を含浸される。添加物を透明な溶液となるように アセトン中に溶解し、その後、接着マトリタススーパーストレイト（surperstra te）層を備えているレンズをその溶液中に浸し、室温で５分から２５分間そのま ま放置する。どちらのレンズ（レンズ１およびレンズ２）も５分ほどで添加物を 吸収する。レンズ１はレンズ２より速く添加物を吸着する。最大２５分間浸漬し た後、レンズを溶液から取り出し、アセトンですすいで添加物の表面沈着物を除 去し、その後、室温あるいは室温付近（３０℃−４５℃）の真空乾燥機中で一晩 乾燥する。 その後、レンズをさらに樹脂層で覆い、米国特許第５１７８８００号、第５１ ４７５８５号および第５２１９４９７号に示されているように、付加的な屈折力 補正を付与し、外側バリヤー層を付与する。このプロセスでは、金型を所望の様 式および大きさの付加的な屈折力補正を付与するように選択する。金型の曲率は 、接着マトリクススーパーストレイト層が付着しているレンズの凸曲率と精密な 関係がある。鋳造プロセスが終了した後、前もって選択した最終的な曲率に達す るようにしてある。いったん適当な金型を選択すると、できるだけ紫外線をさえ ぎらないように明確に調合された、規定量の注入重合可能な樹脂を金型内に分配 する。その後、レンズを樹脂塊上に単に置いて、それを金型とレンズとが隔たっ ている部分で均一で薄い層に、金型の付加部分でより薄い層に広げることが可能 となる。その後、金型組立品を硬化チャンバーに置き、紫外線照射と加熱とを用 いて樹脂を硬化する。硬化が完了すると、金型組立品をゆっくり冷却することが 可能となり、レンズは金型から引き離される。硬化した樹脂層はレンズ上で光学 的性質の前面（凸）層を形成している。新たな外側バリヤー層とレンズ本体との 間で接着マトリクス層を効果的に挟んでいる。実施例２ 一定量の樹脂を曲率が実質的に光学基板の曲率と一致している金型内に置く。 金型の端部に沿って柔軟なスペーサを置いた後、光学基板をスペーサ上に置いて 、樹脂層を広げ、金型、光学基板およびスペーサ間の空間（スペース）を満たす 。その後、樹脂を硬化して、付着した接着マトリクス層を備えた光学基板を形成 する。型抜き（demolding）後、光学基板と接着マトリクス層とをホトクロミッ ク添加物を含んだ溶剤中に浸す。イノテック社から入手できるＧ−２５を含んだ 外側バリヤー層を、５０μｍより大きな厚さで接着マトリクス層を覆うように金 型を用いて塗布し、その後、光硬化行程を行う。最終的に、傷のつきにくい光学 的な被膜を、この場合には、外側バリヤー層上に塗布することができる。実施例３ 光学基板を回転ブロック上に搭載し、樹脂を光学基板上に噴霧する。その後、 樹脂を硬化して、付着した接着マトリクス層を備えた光学的な基板を形成する。 その後、付着した接着マトリクス層を備えた光学基板にホトクロミック添加物を 含んだ溶剤を噴霧し、その後、乾燥工程を行う。上記の噴霧行程、硬化行程、噴 霧行程および乾燥工程を３〜１０回繰り返し、１００−２５０μｍの厚さを有す る含浸接着マトリクス層を実現し、その後、アニール行程を行い、硬化を完了し 、未反応のモノマーを除去する。最終的に、紫外線阻止が著しく小さく、多官能 アクリル酸エステルから成る硬い被膜を、２５μｍより小さない厚さで接着マト リクス層を覆うようにスピニングにより塗布し、その後、光硬化行程を行う。実施例４ 光学基板を固定具上に搭載し、樹脂浴中に置き、そこで、光学基板上の厚さ１ ００−２５０μｍの接着マトリクス層を硬化するために、写真平版（ホトリソグ ラフィー）が使用される。その後、付着した接着マトリクス層を備えた光学基板 を樹脂浴から取り出し、非ブロック化し、硬化チャンバーに置き、接着マトリク ス層の硬化を完了する。その後、接着マトリクス層をホトクロミック添加物を含 んだ溶剤に浸す。最終的に、紫外線阻止が著しく小さく、多官能アクリル酸エス テルから成る硬い被膜を、２５μｍより小さない厚さで接着マトリクス層を覆う ように浸漬により塗布し、その後、光硬化行程を行う。実施例５ 光学基板を樹脂浴中に浸し、樹脂浴から取り出し、紫外線をパルス照射して硬 化する。その結果生じた付着した接着マトリクス層を備えた光学基板に、その後 、１以上のホトクロミック添加物を含んだ溶剤を噴霧し、そこで、溶剤を急速に 蒸発させる。上記の浸漬行程、硬化行程、噴霧行程および蒸発行程を、望ましく は３−１０回繰り返し、累積した厚さが１００−２５０μｍである含浸接着マト リクス層を実現し、その後、次の行程で、紫外線硬化チャンバーにおいて硬化を 完了し、未反応のモノマーを除去する。次に、紫外線阻止が著しく小さく、多官 能アクリル酸エステルから成る硬い被膜を、２５μｍより小さない厚さで接着マ トリクス層を覆うようにスピニングにより塗布し、その後、光硬化行程を行う。 最終的に、完成したホトクロミックレンズ製品を、エージングあるいはアニーリ ングし、階層化しているホトクロミック添加物を累積した接着マトリクス層を通 して拡散する。実施例６ 規定量の注入重合（キャスト重合）可能な樹脂を、付加的な屈折力部分と隔た り部分を有する金型内に分配する。その後、付着した接着ホトクロミックマトリ クス層を備えた、レンズやほぼ完成した半製品を樹脂塊上に置いて、それを金型 の隔たり部分で均一で薄い層に、金型の付加部分でより薄い層に広げることが可 能となる。その後、金型組立品を硬化チャンバーに置き、紫外線照射と加熱とを 用いて樹脂を硬化する。硬化が完了すると、金型組立品をゆっくり冷却すること が可能となり、レンズは金型から引き離される。硬化した樹脂層はレンズの前（ 前面）に光学的性質の外側バリヤー層を形成している。新たな外側バリヤー層と レンズ本体との間で接着ホトクロミックマトリクス層を効果的に挟んでいる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９７年６月２７日 【補正内容】 本発明の接着マトリックス層内に、添加物、特に、ホトクロミック添加物を定 着させるためには幾つかの方法が有効である。そのような方法は、米国特許第５ ，１８０，５２４号に説明された方法を含み、またこれらの方法はホトクロミッ ク添加物（酸化防止剤、Ｕ．Ｖ．安定剤、背景色など）の適切な補助剤を定着さ せるのにも適切である。 幾つかの実施態様によれば、好ましい添加物は、接着マトリックス層を作るの に使用される樹脂配合剤の一部として提供される。他の実施態様によれば、添加 物は、接着マトリックス層を拡散により含浸させて形成した後、提供することが できる。他の実施態様は、好ましい１種の添加物あるいは複数の添加物を各薄層 の形成に続いて直接添加するか、あるいは一旦、好ましい数の接着マトリックス 薄層を形成したら添加する多重接着マトリックス層のネットワークを想定してい る。さらに他の実施態様は、光学基板にホトクロミック材料を１層配置し、次に 、そのホトクロミック材料層上に接着マトリックス層（複数の層）を配置するこ とを想定する。ホトクロミック材料は以下のように接着マトリックス層内に場合 によっては拡散することができる。 その添加物の混和に続き、また好ましくは硬質コート（硬質被膜）あるいはシ ーラント（密封剤）を塗布した後、添加物を、アニーリング、振動、赤外線照射 あるいは時間に伴う熟成（エージング）によって薄層を通して分散／拡散させる 。しかしながら、この分散／拡散の強化工程は接着マトリックス層の形成に続い ていつでも実施することができる。この多層方法に対する利点の一つは接着マト リックス層に非常に多量の添加が可能であるということである。この多層方法の 他の利点は、適当な添加物を層状に添加することによって好ましい添加物効果を 要求し、調整し、あるいはバランスすることができるということである。 ホトクロミック添加物は適切な技術によって本発明の接着マトリックス層の表 面に添加されあるいはその接着マトリックス層内に混和される。請求の範囲 １．光学基板に付着された接着マトリックス層を含む光学製品であって、前記 接着マトリックス層は３モル／リットルよりも小さな架橋密度および１０ないし ６０℃のＴ_gを有し、前記接着マトリックス層は１種類又はそれ以上のホトクロ ミック添加物を含有する光学製品。 ２．前記接着マトリックス層に付着された外側バリヤ層をさらに含み、前記外 側バリヤ層は、前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物に対し実質的に 不透過である、請求項１記載の光学製品。 ３．光学基板と、 前記光学基板に付着され、また、３モル／リットルよりも小さな架橋密度およ び１０ないし６０℃のＴ_gを有する、１種類又はそれ以上のホトクロミック添加 物とを含有した接着マトリックス層と、 前記接着ホトクロミックマトリックス層に追加の接着剤を使用することなく付 着された外側バリヤ層とを含む光学製品。 ４．前記接着ホトクロミックマトリックス層は、前記光学基板の凸面、前記光 学基板の凹面及び前記光学基板の凹凸両面からなる群から選択された前記光学基 板の面に設けられている、請求項１記載の光学製品。 ５．前記光学基板は、光学プレフォーム、光学ウィンドウ、光学ウェハー、光 学ガラス及び半製品レンズブランクからなる群から選択された、請求項１記載の 光学製品。 ６．前記接着マトリックス層は、前記基板の屈折率の０．０５屈折率単位以内 の屈折率を有する、請求項１記載の光学製品。 ７．前記接着マトリックス層は、有機溶媒、シリコーンオイル、フッ素含有シ リコーンオイル及びフルオロカーボンからなる群から選択された溶媒に対し耐性 である、請求項１記載の光学製品。 ８．前記外側バリヤ層はスクラッチ耐性の層である、請求項１記載の光学製品 。 ９．前記外側バリヤ層は７０℃以上のＴ_gを有する、請求項１記載の光学製品 。 １０．［削除］ １１．［削除］ １２．前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物は、スピロ（インドリ ンノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリンノ）ピリドベンゾキサジン、スピロ （ベンズインドリンノ）ナフトキサジン及びスピロ（ベンズインドリンノ）ピリ ドベンゾキサジンからなる群から選択された、請求項１記載の光学製品。 １３．前記接着マトリックス層は、少なくとも二つの接着マトリックス薄層か らなる請求項１記載の光学製品。 １４．前記少なくとも二つの接着マトリックス薄層の各々は、異なるホトクロ ミック添加物を含有する請求項１３記載の光学製品。 １５．３モル／リットルよりも小さな架橋密度および１０ないし６０℃のＴ_g を有する、１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物を含有した接着マトリッ クス層。 １６．前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物は、スピロ（インドリ ンノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリンノ）ピリドベンゾキサジン、スピロ （ベンズインドリンノ）ナフトキサジン及びスピロ（ベンズインドリンノ）ピリ ドベンゾキサジンからなる群から選択された、請求項１５記載の接着マトリック ス層。 １７．光学基板を供給することと、前記光学基板の少なくとも１つの面に、３ モル／リットルよりも小さな架橋密度および１０ないし６０℃のＴ_gを有し、か つ、１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物を含有する接着マトリックス層 を供給することを含む、接着マトリックス層を付着させて有する光学基板の製造 方法。 １８．金型を供給するステップと、 前記接着マトリックス層に対応する接着マトリックス樹脂で前記金型をコーテ ィングして、コーティングされた金型を形成するステップと、 付属金型と基板樹脂を供給するステップと、 前記コーティングされた金型と前記付属金型との間のスペースが前記基板樹脂 で充填され、かつ、前記基板樹脂によって占められる体積が光学基板の形状と対 応するように、前記コーティングされた金型と前記付属金型と前記基板樹脂を配 置させるステップと、 前記基板樹脂を硬化させるステップとを含む、請求項１７記載の接着マトリッ クス層を付着させて有する光学基板の製造方法。 ３２．前記接着マトリックス層に外側バリヤ層を供給することをさらに含む、 請求項１７記載の方法。 ３３．前記接着マトリックス層に、エージング、アニーリング、振動、紫外線 照射及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行っ て、前記接着マトリックス層の中で前記１又はそれ以上のホトクロミック添加物 をさらに分散させる、請求項１７記載の方法。 ３４．接着マトリックス層を付着させて有する光学基板の製造方法であって、 （ａ）光学基板を供給するステップと、 （ｂ）前記光学基板の少なくとも１つの面に、第１の接着マトリックス薄層を 供給するステップと、 （ｃ）前記第１接着マトリックス薄層に第２の接着マトリックス薄層を供給し て、接着マトリックス薄層のネットワークを供給するステップ（但し、前記第１ 及び第２接着マトリックス薄層の少なくとも一方が３モル／リットルよりも小さ な架橋密度および１０ないし６０℃のＴ_gを有する。）とを含む、接着マトリッ クス層を付着させて有する光学基板の製造方法。 ３５．前記第２接着マトリックス薄層に少なくとも１種類の追加の接着マトリ ックス薄層が追加される、請求項３４記載の方法。 ３６．前記接着マトリックス薄層のネットワークに１種類又はそれ以上のホト クロミック添加物が供給される、請求項３４記載の方法。 ３７．ステップ（ｂ）の後に、１種類又はそれ以上の第１のホトクロミック添 加物を前記第１接着マトリックス薄層に混和し、ステップ（ｃ）の後に、１種類 又はそれ以上の第２のホトクロミック添加物を前記第１接着マトリックス薄層に 混和する、請求項３６記載の方法。 ４６．前記第１及び第２接着マトリックス薄層に、エージング、アニーリング 、振動及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行 って、前記接着マトリックス層の中で前記１種類又はそれ以上のホトクロミック 添加物をさらに分散させる、請求項３６記載の方法。 ４７．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの前に、前記接着マト リックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ４８．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの間に、前記接着マト リックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ４９．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの後に、前記接着マト リックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ５０．［削除］ ５１．前記接着マトリックス樹脂を供給する前に、前記光学基板上にホトクロ ミック物質の層を配置させることをさらに含む、請求項２４記載の方法。 ５２．前記第１接着マトリックス薄層を供給する前に、前記光学基板上にホト クロミック物質の層を配置させることをさらに含む、請求項３４記載の方法。 ５３．前記光学基板と前記接着マトリックス層との間に、ホトクロミック物質 の層をさらに含む、請求項１記載の光学製品。 ５４．前記光学基板と前記接着マトリックス層との間に、ホトクロミック物質 の層をさらに含む、請求項３記載の光学製品。 ５５．［削除］ ５６．［削除］ ５７．［削除］ ５８．［削除］ ５９．［削除］ ６０．［削除］ ６１．前記ホトクロミック添加物は、前記ホトクロミック添加物を共に粉砕す ること、前記ホトクロミック添加物を共通の溶媒に溶解させ該溶媒を蒸発させる こと及び前記ホトクロミック添加物をポリマーの層を用いて封入することからな る群から選択された方法によって供給される、請求項１７記載の方法。 ６２．前記ホトクロミック添加物は、前記ホトクロミック添加物を共に粉砕す ること、前記ホトクロミック添加物を共通の溶媒に溶解させ該溶媒を蒸発させる こと及び前記ホトクロミック添加物をポリマーの層を用いて封入することからな る群から選択された方法によって供給される、請求項３６記載の方法。 ６３．前記架橋密度は２モル／リットルよりも小さい、請求項１記載の光学製 品。 ６４．前記架橋密度は２モル／リットルよりも小さい、請求項３記載の光学製 品。 ６５．前記架橋密度は２モル／リットルよりも小さい、請求項１５記載の接着 マトリックス層。 ６６．前記架橋密度は２モル／リットルよりも小さい、請求項１７記載の方法 。 ６７．前記架橋密度は２モル／リットルよりも小さい、請求項３４記載の方法 。 ６８．前記Ｔ_gは２０ないし４０℃である、請求項１記載の光学製品。 ６９．前記Ｔ_gは２０ないし４０℃である、請求項３記載の光学製品。 ７０．前記Ｔ_gは２０ないし４０℃である、請求項１５記載の接着マトリック ス層。 ７１．前記Ｔ_gは２０ないし４０℃である、請求項１７記載の方法。 ７２．前記Ｔ_gは２０ないし４０℃である、請求項３４記載の方法。 ７３．前記接着マトリックス層は２５μｍよりも大きな厚さを有する、請求項 １記載の光学製品。 ７４．前記接着マトリックス層は２５μｍよりも大きな厚さを有する、請求項 １５記載の接着マトリックス層。 ７５．前記接着マトリックス層は２５μｍよりも大きな厚さを有する、請求項 １７記載の方法。 ７６．前記厚さは１００ないし２５０μｍの範囲にある、請求項７３記載の光 学製品。 ７７．前記厚さは１００ないし２５０μｍの範囲にある、請求項７４記載の接 着マトリックス層。 ７８．前記厚さは１００ないし２５０μｍの範囲にある、請求項７５記載の方 法。 ７９．前記接着マトリックス層は、アクリレート、メタクリレート、アリル誘 導体又はビニル誘導体の２種類又はそれ以上の混合物を含む、請求項１記載の光 学製品。 ８０．前記接着マトリックス層は、アクリレート、メタクリレート、アリル誘 導体又はビニル誘導体の２種類又はそれ以上の混合物を含む、請求項３記載の光 学製品。 ８１．前記接着マトリックス層は、アクリレート、メタクリレート、アリル誘 導体又はビニル誘導体の２種類又はそれ以上の混合物を含む、請求項１５記載の 接着マトリックス層。 ８２．前記接着マトリックス層は、アクリレート、メタクリレート、アリル誘 導体又はビニル誘導体の２種類又はそれ以上の混合物を含む、請求項１７記載の 方法。 ８３．前記接着マトリックス層は、アクリレート、メタクリレート、アリル誘 導体又はビニル誘導体の２種類又はそれ以上の混合物を含む、請求項３４記載の 方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 アイヤー，ベンカトラマニ，エス アメリカ合衆国、24014 バージニア州、 ロアノーク、サミット・ウエイ 152

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．光学基板に付着された２５μｍより大きな厚みを有する接着マトリックス 層を含み、前記接着マトリックス層が１種類又はそれ以上のホトクロミック添加 物を含有する光学製品。 ２．前記接着マトリックス層に付着された外側バリヤ層をさらに含み、前記外 側バリヤ層は、前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物に対し実質的に 不透過である、請求項１記載の光学製品。 ３．光学基板に付着された接着ホトクロミックマトリックス層と、前記接着ホ トクロミックマトリックス層に追加の接着剤を使用することなく付着されている 外側バリヤ層とを含む光学製品。 ４．前記接着ホトクロミックマトリックス層は、前記光学基板の凸面、前記光 学基板の凹面及び前記光学基板の凹凸両面からなる群から選択された前記光学基 板の面に設けられている、請求項１記載の光学製品。 ５．前記光学基板は、光学プレフォーム、光学ウィンドウ、光学ウェハー、光 学ガラス及び半製品レンズブランクからなる群から選択された、請求項１記載の 光学製品。 ６．前記接着マトリックス層は、前記基板の屈折率の０．０５屈折率単位以内 の屈折率を有する、請求項１記載の光学製品。 ７．前記接着マトリックス層は、有機溶媒、シリコーンオイル、フッ素含有シ リコーンオイル及びフルオロカーボンからなる群から選択された溶媒に対し耐性 である、請求項１記載の光学製品。 ８．前記外側バリヤ層はスクラッチ耐性の層である、請求項１記載の光学製品 。 ９．前記外側バリヤ層は約７０℃以上のＴ_gを有する、請求項１記載の光学製 品。 １０．前記接着マトリックス層は、購入可能なＣＲ−３９レンズの架橋密度より も小さな架橋密度を有する、請求項１記載の光学製品。 １１．前記接着マトリックス層は１０ないし６０℃のＴ_gを有する、請求項１記 載の光学製品。 １２．前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物は、スピロ（インドリン ノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリンノ）ピリドベンゾキサジン、スピロ（ ベンズインドリンノ）ナフトキサジン及びスピロ（ベンズインドリンノ）ピリド ベンゾキサジンからなる群から選択された、請求項１記載の光学製品。 １３．前記接着マトリックス層は、少なくとも二つの接着マトリックス薄層から なる請求項１記載の光学製品。 １４．前記少なくとも二つの接着マトリックス薄層の各々は、異なるホトクロミ ック添加物を含有する請求項１記載の光学製品。 １５．１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物用の貯蔵所として働くととも に、異なる物質間の遷移領域として働くために適合した２５μｍより大きな厚み を有する接着マトリックス層であって、購入可能なＣＲ−３９レンズの架橋密度 よりも小さな架橋密度を有し、かつ、１０ないし６０℃のＴ_gを有する接着マト リックス層。 １６．前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加物は、スピロ（インドリン ノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリンノ）ピリドベンゾキサジン、スピロ（ ベンズインドリンノ）ナフトキサジン及びスピロ（ベンズインドリンノ）ピリド ベンゾキサジンからなる群から選択された、請求項１５記載の接着マトリックス 層。 １７．光学基板を供給し、前記光学基板の少なくとも１つの面に、１種類又はそ れ以上のホトクロミック添加物を含有する、２５μｍより大きな厚みを有する接 着マトリックス層を供給することを含む、接着マトリックス層を付着させて有す る光学基板の製造方法。 １８．金型を供給するステップと、 前記接着マトリックス層に対応する接着マトリックス樹脂で前記金型をコーテ ィングして、コーティングされた金型を形成するステップと、 付属金型と基板樹脂を供給するステップと、 前記コーティングされた金型と前記付属金型との間のスペースが前記基板樹脂 で充填され、かつ、前記基板樹脂によって占められる体積が光学基板の形状と対 応するように、前記コーティングされた金型と前記付属金型と前記基板樹脂を配 置させるステップと、 前記基板樹脂を硬化させるステップとを含む、請求項１７記載の接着マトリッ クス層を付着させて有する光学基板の製造方法。 １９．前記接着マトリックス樹脂で前記金型をコーティングする前に、硬質被膜 材料に対応する樹脂を前記金型に供給する、請求項１８記載の方法。 ２０．硬化の前に、前記接着マトリックス樹脂の中にホトクロミック添加物を供 給する、請求項１８記載の方法。 ２１．硬化の後に、前記接着マトリックス樹脂の中にホトクロミック添加物を供 給する、請求項１８記載の方法。 ２２．前記接着マトリックス樹脂で前記金型をコーティングする前に、前記金型 にホトクロミック層を配置させることをさらに含む、請求項１８記載の方法。 ２３．前記接着マトリックス樹脂で前記金型をコーティングする前に、前記硬質 被膜材料に対応する樹脂の中にホトクロミック層を配置させる、請求項１９記載 の方法。 ２４．前記光学基板を供給するステップと、前記基板の少なくとも１つの面に接 着マトリックス樹脂を供給するステップと、前記接着マトリックス樹脂を硬化さ せて前記接着マトリックス層を形成するステップとを含む、請求項１７記載の接 着マトリックス層を付着させて有する光学基板の製造方法。 ２５．金型により、前記基板の少なくとも１つの面に前記接着マトリックス樹脂 を供給する、請求項１７記載の方法。 ２６．前記接着マトリックス樹脂は、前記光学基板の浸漬コーティング、刷毛塗 り、滴下、スプレー、流しコーティング、写真平版及びスピンコーティングから なる群からなる塗布ステップによって、前記基板の少なくとも１つの面に前記接 着マトリックス樹脂を供給する、請求項１７記載の方法。 ２７．前記接着マトリックス樹脂は、前記塗布ステップと同時に、或いは前記塗 布ステップに続いて、硬化される請求項２６記載の方法。 ２８．前記光学基板を供給するステップと、前記光学基板を接着マトリックス樹 脂浴中に浸漬するステップと、前記光学基板を前記接着マトリックス樹脂浴中に 浸漬する間に、前記光学基板上で前記接着マトリックス樹脂を硬化させるステッ プとをさらに含む、請求項１７記載の方法。 ２９．スピロ（インドリンノ）ナフトキサジン、スピロ（インドリンノ）ピリド ベンゾキサジン、スピロ（ベンズインドリンノ）ナフトキサジン及びスピロ（ベ ンズインドリンノ）ピリドベンゾキサジンからなる群から選択された１種類又は それ以上のホトクロミック添加物が前記接着マトリックス層に混和される、請求 項１７記載の方法。 ３０．前記添加物は、浸漬、刷毛塗り、滴下、スプレー、流しコーティング及び スピンコーティングからなる群から選択された方法を使用して、前記１種類又は それ以上のホトクロミック添加物を含有した溶媒溶液から、前記接着マトリック ス層に混和され、その後に残留溶媒が除去される、請求項２９記載の方法。 ３１．前記溶媒は、有機溶媒、シリコーンオイル及びフッ素含有オイルからなる 群から選択された１種類又はそれ以上の溶媒から選択される、請求項３０記載の 方法。 ３２．前記接着マトリックス層に外側バリヤ層を供給することをさらに含む、請 求項１７記載の方法。 ３３．前記接着マトリックス層に、エージング、アニーリング、振動、紫外線照 射及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行って 、前記接着マトリックス層の中で前記１種類又はそれ以上のホトクロミック添加 物をさらに分散させる、請求項１７記載の方法。 ３４．接着マトリックス層を付着させて有する光学基板の製造方法であって、 （ａ）光学基板を供給するステップと、 （ｂ）前記光学基板の少なくとも１つの面に、第１の接着マトリックス薄層を 供給するステップと、 （ｃ）前記第１接着マトリックス薄層の上に第２の接着マトリックス薄層を供 給して、接着マトリックス薄層のネットワークを供給するステップを含む、接着 マトリックス層を付着させて有する光学基板の製造方法。 ３５．ステップ（ｄ）が少なくとも１回は繰り返される、請求項３４記載の方法 。 ３６．前記接着マトリックス薄層のネットワークに１種類又はそれ以上のホトク ロミック添加物が供給される、請求項３４記載の方法。 ３７．ステップ（ｂ）の後に、１種類又はそれ以上の第１のホトクロミック添加 物を前記第１接着マトリックス薄層に混和し、ステップ（ｃ）の後に、１種類又 はそれ以上の第２のホトクロミック添加物を前記第１接着マトリックス薄層に混 和する、請求項３６記載の方法。 ３８．前記１種類又はそれ以上の第１ホトクロミック添加物が前記１種類又はそ れ以上の第２ホトクロミック添加物と相違する、請求項３７記載の方法。 ３９．前記１種類又はそれ以上の第１ホトクロミック添加物が前記１種類又はそ れ以上の第２ホトクロミック添加物と同一である、請求項３７記載の方法。 ４０．単一のステップで、前記接着マトリックス薄層のネットワークに１種類又 はそれ以上のホトクロミック添加物が供給される、請求項３６記載の方法。 ４１．前記接着マトリックス層に外側バリヤ層を供給することをさらに含む、請 求項３４記載の方法。 ４２．前記外側バリヤ層は、スクラッチ耐性樹脂、無反射樹脂、前記ホトクロミ ック添加物による透過に対し耐性である樹脂及び酸素による透過に対し耐性であ る、請求項４１記載の方法。 ４３．前記外側バリヤ層は、前記接着マトリックス層上に、前記外側バリヤ層に 対応する樹脂の、鋳造、金型内コーティング移転、刷毛塗り、滴下、流しコーテ ィング、写真平版及びスピンコーティングからなる群から選択された方法により 供給される、請求項４１記載の方法。 ４４．前記外側バリヤ層は付加屈折力ゾーンを含む、請求項４１記載の方法。 ４５．前記接着マトリックス層及び前記外側バリヤ層は、さらに最外側硬質被膜 層で被覆される、請求項４１記載の方法。 ４６．前記第１及び第２接着マトリックス薄層に、エージング、アニーリング、 振動、紫外線照射及び赤外線照射からなる群から選択された１種類又はそれ以上 の分散工程を行って、前記接着マトリックス層の中で前記１種類又はそれ以上の ホトクロミック添加物をさらに分散させる、請求項３６記載の方法。 ４７．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの前に、前記接着マトリ ックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ４８．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの間に、前記接着マトリ ックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ４９．前記接着マトリックス薄層を硬化させるステップの後に、前記接着マトリ ックス薄層に１又はそれ以上の分散工程を行う、請求項４６記載の方法。 ５０．前記接着マトリックス層は、購入可能なＣＲ−３９レンズの架橋密度より も小さな架橋密度を有すること、及び１０ないし６０℃のＴ_gを有することから なる群から選択される１又はそれ以上の特性を有する、請求項１７記載の方法。 ５１．前記接着マトリックス樹脂を供給する前に、前記光学基板上にホトクロミ ック物質の層を配置させることをさらに含む、請求項２４記載の方法。 ５２．前記第１接着マトリックス薄層を供給する前に、前記光学基板上にホトク ロミック物質の層を配置させることをさらに含む、請求項３４記載の方法。 ５３．前記光学基板と前記接着マトリックス層との間に、ホトクロミック物質の 層をさらに含む、請求項１記載の光学製品。 ５４．前記光学基板と前記接着マトリックス層との間に、ホトクロミック物質の 層をさらに含む、請求項３記載の光学製品。 ５５．前記接着マトリックス層に、エージング、アニーリング、振動、紫外線照 射及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行って 、前記接着マトリックス層の中で前記ホトクロミック添加物をさらに分散させた 、請求項１記載の光学製品。 ５６．前記接着マトリックス層に、エージング、アニーリング、振動、紫外線照 射及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行って 、前記接着マトリックス層の中で前記ホトクロミック添加物をさらに分散させた 、請求項３記載の光学製品。 ５７．前記接着マトリックス層に、エージング、アニーリング、振動、紫外線照 射及び赤外線照射からなる群から選択された１又はそれ以上の分散工程を行って 、前記接着マトリックス層の中で前記ホトクロミック添加物をさらに分散させた 、請求項１５記載の接着マトリックス層。 ５８．前記ホトクロミック添加物は、種々の成分の機械的混合、種々の添加物の 共沈形態及び熱可塑性ポリマーの層内のマイクロカプセル封入からなる群から選 択された形態で供給された、請求項１記載の光学製品。 ５９．前記ホトクロミック添加物は、種々の成分の機械的混合、種々の添加物の 共沈形態及び熱可塑性ポリマーの層内のマイクロカプセル封入からなる群から選 択された形態で供給された、請求項３記載の光学製品。 ６０．前記ホトクロミック添加物は、種々の成分の機械的混合、種々の添加物の 共沈形態及び熱可塑性ポリマーの層内のマイクロカプセル封入からなる群から選 択された形態で供給された、請求項１５記載の接着マトリックス層。 ６１．前記ホトクロミック添加物は、種々の成分の機械的混合、種々の添加物の 共沈形態及び熱可塑性ポリマーの層内のマイクロカプセル封入からなる群から選 択された形態で供給される、請求項１７記載の方法。 ６２．前記ホトクロミック添加物は、種々の成分の機械的混合、種々の添加物の 共沈形態及び熱可塑性ポリマーの層内のマイクロカプセル封入からなる群から選 択された形態で供給される、請求項３６記載の方法。