JPH1149762A - チアゾール化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒは低級アルキル基；低級ハロアルキル基；低
級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ低級アルキル
基；アラルキルオキシ低級アルキル基等であり、Ｒ₁は
低級アルキル基等で置換されてもよいシクロアルキル基
であり、Ｒ₂は置換されてもよいアリール基；置換され
てもよい芳香族複素環基；一般式 【化２】 （ここで、Ｑは明細書記載のとおりであり、置換されて
いてもよい）又は−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）_n−Ｑ₁（ここ
で、Ｑ₁及びｎは明細書記載のとおりである）である］
で表わされるチアゾール化合物又はその医薬上許容し得
る塩。 【効果】 本発明は新規なチアゾール化合物に関するも
のであり、更に詳しくは、本発明化合物は優れたＴＮＦ
−αの選択的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γの産生
阻害作用を有しており、特に炎症疾患、関節リウマチ等
の自己免疫疾患、アレルギー疾患等に非常に効果的な作
用を示し、今までにない新しいタイプの疾患治療薬又は
予防薬として有用性が期待される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なチアゾール化合
物に関するものであり、更に詳しくは、ＴＮＦ−αの選
択的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γの産生阻害作用
を有するチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩
を含有してなる医薬に関する。

【０００２】

【従来の技術】生体内の免疫応答はＴ細胞、Ｂ細胞、マ
クロファージ等の細胞間相互作用によって成立してお
り、これら免疫担当細胞が抗原に対して応答する際に産
生される活性物質のうち、免疫グロブリンを除いた物質
がサイトカインである。これらのサイトカインは標的細
胞傷害や遅延型過敏反応をはじめとして、種々の細胞性
免疫反応の発現や調節、造血細胞の増殖・分化に関与し
ており、感染や腫瘍に対する生体防御機構に対しても重
要な役割を担っている。また、これらサイトカインはそ
れぞれのサイトカイン間で相互的作用も有しており、サ
イトカインの産生を増強したり、反対に抑制したり、或
るいはサイトカインの生物活性を促進又は抑制したりし
ている。最近では、これら種々のサイトカインの産生異
常が疾患の病因に深く関わっていることが明らかにされ
つつある。

【０００３】ところで、これらサイトカインのひとつで
あるＴＮＦ−αは、腫瘍部位に出血性壊死を誘発させる
因子として１９７５年Ｃａｒｓｗｅｌｌらによって発見
され、抗癌剤として期待されたが、全身投与では効果が
少なく、また悪液質や敗血症ショック等の副作用が存在
することが明らかとなり、医薬品としての使用には不適
とされてきた。また、当初ＴＮＦ−αは抹消マクロファ
ージからのみ産生されるものと思われていたが、未熟な
骨髄マクロファージや、その他のマクロファージ系の細
胞（例えば、クッパー細胞やマイクログリア等）でも産
生され、また好中球、リンパ球、ＮＫ（ナチュラルキラ
ー）細胞、ＬＡＫ（リンホカイン活性化キラー）細胞、
線維芽細胞、肥満細胞、アストロサイト、上皮細胞等多
種の細胞でも産生され、それに伴いこれら細胞への作用
も多岐にわたっていることが明らかとなっている。例え
ば、腫瘍細胞に対しては増殖阻止や破壊、分化誘導、分
裂等の作用を；ウィルス感染細胞に対しては傷害作用
を；Ｔ細胞に対しては増殖、ＩＬ（インターロイキン）
−２レセプター誘導、組織抗原上昇、ＩＦＮ（インター
フェロン）−γやＣＳＦ（コロニー刺激因子）の産生作
用を；Ｂ細胞に対しては抗体産生や分裂促進作用を；Ｎ
Ｋ・ＬＡＫ細胞に対しては傷害活性の増強や誘導増強作
用を；マクロファージに対しては傷害活性の増強、走化
性誘導、組織抗原の上昇や下降、プロスタグランジン類
やロイコトリエン類の産生亢進、ＰＡＦ（血小板活性化
因子）の産生、活性酸素の産生、ＩＬ−１・ＩＬ−６・
ＩＬ−８・ＴＮＦ−α・ＣＳＦの産生、血管新生因子の
産生、スカベンジャーレセプターの抑制作用を；好中球
に対しては貧食や脱顆粒の促進、ＡＤＣＣ（抗体依存性
細胞障害）活性の増強、走化性や接着分子の誘導、活性
酸素類・ＰＡＦ・ロイコトリエンＢ４の産生、付着能上
昇、補体レセプターの上昇作用を；好酸球に対しては原
虫への傷害活性の増強作用を；骨髄細胞に対しては増殖
や分化の阻害及び活性化の作用を；血管内皮細胞に対し
ては傷害、増殖の抑制、プロコアギュラント活性誘導、
プラスミノーゲン活性化抑制因子の産生増強、組織抗原
や白血球接着分子の誘導、ＩＬ−１・ＩＬ−６・ＩＬ−
８・ＧＭ−ＣＳＦ（顆粒球・マクロファージ・コロニー
刺激因子）の産生、プロスタグランジン類やＰＡＦの産
生、ＰＤＧＦ（血小板由来増殖因子）の誘導、ＩＬ−３
レセプターの誘導作用を；線維芽細胞に対しては増殖、
癌遺伝子の発現、コラゲナーゼやプロスタグランジン類
の産生、ＩＬ−１・ＩＬ−６・ＩＮＦ・ＰＤＧＦ・ＧＭ
−ＣＳＦの産生、ＥＧＦ（上皮細胞成長因子）レセプタ
ーの上昇、滑膜細胞に対してはコラゲナーゼ・アラキド
ン酸・プロスタグランジン類の産生作用を；破骨細胞に
対しては骨吸収促進、Ｍ−ＣＳＦ（マクロファージ・コ
ロニー刺激因子）の産生、プロスタグランジンの増強作
用を；脂肪細胞に対してはリポ蛋白リパーゼ阻害作用
を；肝細胞に対しては急性期蛋白誘導、薬物代謝抑制作
用を；上皮細胞に対しては増殖、コラーゲン合成作用
を；血小板に対しては細胞成長因子の誘導作用を；視床
下部に対してはプロスタグランジン産生（発熱）作用
を；血管平滑筋細胞に対してはＮＯの産生作用を；骨細
胞に対してはコラーゲンとフィブロネクチンの産生抑制
作用を；横紋筋細胞に対しては膜電位の変化作用をそれ
ぞれ示すことが明らかとなっている。

【０００４】従って、現在ではＴＮＦ−αは炎症を基本
にした生体防御・免疫機構に広く係わるサイトカインと
して認識されており、その産生調節機構の破綻、例えば
持続的かつ過剰な産生が組織傷害を引き起こす等の様々
な病気の原因や増悪をもたらす要因となりうると考えら
れている。実際、ＴＮＦ−αを動物に接種したり、トラ
ンスジェニックマウスの研究、又はＴＮＦ−αのヒト臨
床治験から様々な病状が観察されている。例えば、心・
血管に関しては血圧低下、心筋抑圧、肺に関しては呼吸
困難、無呼吸、内皮細胞活性化、白血球集積、浮腫を伴
う血管外漏出、腎臓に関しては腎尿血管壊死、多尿に引
き続く乏尿、胃腸に関しては運動及び吸収低下、下痢、
出血性壊死、血液に関しては造血低下、鉄欠乏症、凝固
系促進、ＤＩＣ（広汎性血管内凝固）、中枢神経に関し
ては発熱、悪心、吐き気、頭痛、食欲不振、代謝に関し
ては乳酸アシドーシス、高血糖に引き続く低血糖、高脂
血症、高カルシウム血症、異化ホルモン放出、筋肉に関
してはアミノ酸遊離、膜ポテンシャル低下、その他に関
しては免疫抑制、胎児死、肝腫、肝障害、ヘルペス活性
化、副腎質壊死等の症状が観測されている。また、最近
ではアレルギーとの関係ついても示唆されている。即
ち、Ｉｇ（免疫グロブリン）ＥはＴＮＦ−αの刺激によ
り産生増強され、ＩｇＥが結合するマスト細胞は多量の
ＴＮＦ−αを含んでおり、Ｆｃεレセプター１を介した
刺激によりＴＮＦ−αが放出される。放出したＴＮＦ−
αは、血管内皮細胞に接着分子を誘導し、その結果リン
パ球や好酸球が内皮に接着し、組織湿潤等が進行する。
実際、喘息患者や鼻アレルギー患者の粘液中にはＴＮＦ
−αが分泌されている。更に、接触性皮膚炎等のＩＶ型
アレルギーにおいても、ＴＮＦ−αは重要であり、アル
サス反応のようなＩＩＩ型アレルギーにも深く関与して
いることが知られている。即ち、抗原抗体複合物による
炎症において、マスト細胞からＴＮＦ−αが産生され好
中球が集積してくるが、この時抗ＴＮＦ−α抗体を投与
するとアルサス炎症はみられず、またマスト細胞欠損動
物でもこの現象がみられないことから、マスト細胞から
産生されるＴＮＦ−αが大きな意味を持っていると考え
られる。このようにＴＮＦ−αは単なる炎症だけではな
く、Ｉ、ＩＩＩ、ＩＶ型アレルギーにおいても大きな働
きをしていると考えられる。特に最近になり、ＴＮＦ−
αはマスト細胞に加え、ランゲルハンス細胞やケラチノ
サイトからも産生されることが分かっており、皮膚疾患
においても無視できないサイトカインといえる。

【０００５】ＴＮＦ−αは多くの細胞で産生され、それ
らの細胞に対する作用も多岐にわたっており、またその
作用によりサイトカイン類・脂質類・活性酸素類等の生
体の恒常性維持に係わる各種可溶性因子も放出される。
よってＴＮＦ−αの破綻はそれらの細胞に大きな影響を
与えると考えられる。また前述のとおり、サイトカイン
はそれぞれ相互的作用を有することは知られているが、
その作用については未だ不明な点がある。これらサイト
カイン全体を全て阻害することは過剰に産生したサイト
カインばかりでなく、生体の恒常性維持に係わっている
正常なサイトカインの産生も阻害することとなり、予期
せぬ作用を伴うことも考えられる。従って、ＴＮＦ−α
の過剰産生や作用を防止又は阻害すること、更に言うな
らば選択的な阻害は、非常に意味のあることであり、今
までにない新しい作用機序の治療薬となり得、しいては
数多くの炎症性、感染性、免疫性又は悪性疾患に対する
有用な治療法と成り得る可能性もある。それらとして
は、悪液質、アレルギー（即時型、アルサス反応、接触
性過敏症等）、気管支喘息、敗血症性ショック、敗血
症、内毒素性ショック、成人呼吸窮迫症候群、慢性肺炎
症性疾患、珪肺症、肺サルコイドーシス、骨吸収病、潅
流損傷、マラリア、ミコバクテリア感染症、関節炎（関
節リウマチ、リウマチ様脊髄炎、変形性関節症、痛風性
関節炎等）、火傷、対宿主性移植片反応、同種移植片拒
絶反応、悪性腫瘍、造血抑制等の貧血、透析低血圧、Ｓ
ＬＥ（全身性エリテマトーデス）等の自己免疫疾患、糖
尿病、乾癬、多発性大脳硬化症、クローン病、潰瘍性大
腸炎、ＡＩＤＳ（後天性免疫不全症候群）、ＡＲＣ（Ａ
ＩＤＳ関連コンプレックス）、ケロイド形成、瘢痕組織
形成、虚血性心疾患、うっ血性心不全、脳血管傷害、髄
膜炎、レプラ・結核、肝炎、膵炎、糸球体腎炎、ＤＩＣ
（広汎性血管内凝固）、ＳＩＲＳ（全身性炎症反応症候
群）等が挙げられる。

【０００６】上記に述べたとおり、ＴＮＦ−αと各疾患
が深い関連を持つことが徐々に明らかとなり、ＴＮＦ−
αを抗体や阻害剤を用いて制御し、慢性関節リウマチ等
の疾患を治療するという試みが盛んに行なわれている。
例えば、最近になり慢性関節リウマチの治療試験におい
て抗ＴＮＦ−α抗体を用い、その有効性について報告が
なされている。しかしながら、抗ＴＮＦ−α抗体におい
ては、その安全性について、例えば生体内におけるその
抗体に対する抗体生成による有効性維持の問題、またそ
の抗体によるアレルギーショックやリバウンド現象の発
生等の問題が危惧されている。このように、抗体を用い
た治療方法はその有効性とは別に継続的な使用における
問題点が危惧されており、従ってこのような問題点のな
い阻害剤の開発が熱望されている。しかしながら、未だ
満足のいく結果は得られていないのが現状である。

【０００７】一方、ＴＮＦ−αと同様に増殖シグナルで
なく、それぞれ特異的なレスポンスを細胞に誘導するサ
イトカインとしてＩＦＮ−γがある。ＩＦＮ−γは１９
６５年にＷｅｅｌｏｃｋにより初めて報告され、現在で
はＴ細胞やＮＫ細胞といった免疫担当細胞を特異的又は
非特異的抗原で刺激した場合に産生され、抗ウィルス活
性因子としてよりも免疫調節因子の一種として認識され
ている。

【０００８】ＩＮＦ−γの産生細胞は、Ｔ細胞及びＮＫ
細胞に限られているが、その作用は非常に多岐にわたっ
ており、免疫反応の殆ど全てに関わっていると考えられ
ている。特に、マクロファージに対しては活性化、抗原
提示能の増強、抗腫瘍活性の増強、ＩＬ−１及びＴＮＦ
−αの産生増強作用を；ＮＫ細胞に対してはＮＫ活性の
増強作用を；Ｔ細胞に対してはＣＴＬ（細胞障害性Ｔ細
胞）の誘導促進、ＩＬ−２産生及びＩＬ−２受容体の発
現増強作用を有する。また、ＩＦＮ−γは免疫応答に重
要なＭＨＣ（主要組織適合抗原遺伝子複合体）等の細胞
表面抗原を特異的に発現誘導することも明らかになって
いる。即ち、過剰なＩＦＮ−γ産生が自己免疫疾患の原
因となると考えられている。

【０００９】また、単球上のＦｃεレセプターの数と密
度を増大させることからアレルギーにも関与していると
考えられている。更に、ＩＦＮ−γがシュワルツマン反
応に関与しており、抗ＩＦＮ−γ抗体がその反応を抑制
すること、ＳＬＥ、シューグレン症候群、リウマチ性多
発筋痛症等の患者の血清中のＩＦＮ−γ濃度が上昇する
こと、ＭＳ（多発性硬化症）の患者にＩＦＮ−γを投与
すると悪化すること等が明らかになっている。

【００１０】従って、ＩＦＮ−γの過剰な産生は様々な
疾患の病因になると考えられ、その過剰な産生を抑制す
ることは数多くの疾患、例えば寄生虫病、アレルギー、
関節リウマチ、ＳＬＥ、重症筋無力症、インスリン依存
真性糖尿病、甲状腺炎等を含むＭＨＣ関連性免疫疾患等
に有用な治療薬となり得ると考えられる。

【００１１】以上のように、ＴＮＦ−α、ＩＦＮ−γと
も多様な生物活性を有しており、その破綻はこれら細胞
に大きな影響を与えると共に、様々な疾患の要因となり
得ると考えられる。従って、ＴＮＦ−α及び／又はＩＦ
Ｎ−γの産生を阻害することは数多くの疾患、特に炎症
疾患、関節リウマチ等の自己免疫疾患、アレルギー疾患
等に非常に効果的な作用を示し、今までにない新しい作
用機序の治療薬又は予防薬になり得ると考えられる。

【００１２】このような技術背景のもと、ＴＮＦ−αの
阻害を目的とした化合物の報告がなされている。例え
ば、特表平９−５０５０８２号公報には３−（３−シク
ロペンチルオキシ−４−メトキシ）フェニル−２−イソ
オキサゾリン−５−ヒドロキサム酸等のイソオキサゾリ
ン化合物が、特表平９−５０３５０５号公報には３−シ
アノ−３−（シクロペンチルオキシ−４−メトキシフェ
ニル）シクロヘキサン−１−オン等の新規化合物が、特
表平９−５０１１５５号公報にはＮ−（３，５−ジクロ
ロピリド−４−イル）−３−シクロペンチルオキシ−６
−フルオロ−４−メトキシベンズアミド等の化合物が、
特表平９−５００９０８号公報には１−（４−フルオロ
フェニル）−３−イソプロピル−６−オキソ−５−フェ
ニル−４，６−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−
ｃ］ピロール等のジヒドロピラゾロピロール類が、特表
平９−５００８７２号公報には［３−フタルイミド−３
−（３，４−ジメトキシフェニル）］プロピオン酸メチ
ル等のイミド類が、特表平９−５００６４０号公報には
Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−１，２−ジヒドロ−４−ヒ
ドロキシ−１−メチル−２−オキソ−キノリン−３−カ
ルボキシアミド等のキノリン−３−カルボキシアミド化
合物が、特開平８−２４５３９１号公報には６−［３−
（３，４−ジメトキシベンジル）アミノ−２−ヒドロキ
シプロポキシ］カルボスチリル等のカルボスチリル誘導
体が、特開平８−１３４０７３号公報にはカテコールジ
エーテル化合物が、特表平８−５００８１５号公報には
４−シアノ−４−（３−シクロペンチルオキシ−４−メ
トキシフェニル）シクロヘキサ−１−エン−１−イル・
トリフルオロメチルスルホネート等の化合物が、ＥＰ７
７９２９１号公報にはベンゾフラニルウレア化合物が、
ＷＯ９７／２０８３３号公報には２−アセチル−Ｎ−ベ
ンジル−７−メトキシ−４−ベンゾフランスルホンアミ
ド等のベンゾフラン誘導体が、ＷＯ９７／１８２０８号
公報には８−（ベンゾ［ｃ］チアジアゾール−４−イ
ル）−６−（ピリジン−４−イル−メチル）キノリン等
のキノリン誘導体が、ＷＯ９７／１８１８８号公報には
７−［４−（４−シアノフェニル）フェノキシ）ヘプタ
ノヒドロキサム酸等のビフェニル誘導体が、ＥＰ７７０
６１３号公報には３−チアゾール−２−イル−１，３−
ジアザ−スピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等の
イミダゾリジン−２，４−ジオン誘導体が、ＷＯ９７／
０８１４３号公報には３−フタルイミド−３−（３，４
−ジエトキシフェニル）プロピオニトリル等の環状アミ
ド誘導体が、ＷＯ９７／０５１０５号公報にはα−モノ
フルオロメチル−α−Ｎ−［（３−シクロペンチルオキ
シ−４−メトキシ）ベンゾイル］グリシン ヒドロキサ
ム酸等のＮ−（アロイル）グリシン ヒドロキサム酸誘
導体がそれぞれ開示されている。しかしながら、これら
公報には本発明化合物の開示は勿論、それを示唆する記
載は見当らない。

【００１３】また、サイトカインを介在する疾患に有効
な化合物として下記のような報告もなされている。例え
ば、特表平９−５０５０５５号公報には５−（３−メト
キシフェニル）−２−メチル−４−（４−ピリジル）オ
キサゾール等のオキサゾール化合物が開示されている。
しかしながら、同公報化合物はオキサゾールの４位、５
位に置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリー
ル基を有する構造であり、またその効果はＩＬ−１、Ｉ
Ｌ−６、ＩＬ−８及びＴＮＦ等のサイトカインの阻害に
有効である旨の記載のみであり、本発明化合物の開示は
勿論、それを示唆する記載はなく、ましてや本発明のよ
うな構造の化合物がＴＮＦ−α選択的産生阻害作用及び
／又はＩＦＮ−γ産生阻害作用を有する旨の記載は見当
らない。

【００１４】特表平９−５００１３７号公報には１−
［３−（４−モルホリニル）プロピル］−４−（４−フ
ルオロフェニル）−５−（４−キノリル）イミダゾール
等のトリ置換イミダゾール化合物が、特表平７−５０３
０１８号公報には１−（４−ピリジル）−２−（４−フ
ルオロフェニル）−４−フェニルイミダゾール等のピリ
ジル置換イミダゾール誘導体が、特表平７−５０３０１
７号公報には４−（４−フルオロフェニル）−２−（４
−メチルチオフェニル）−５−（４−ピリジル）イミダ
ゾール等のイミダゾール誘導体が、ＷＯ９７／１２８７
６号公報には４−［５−（３，４−ジクロロフェニル）
−４−ピリジン−４−イル−１Ｈ−イミダゾール−２−
イル］ピペリジン等のイミダゾール化合物がそれぞれ開
示されている。しかしながら、これら公報も本発明化合
物の開示は勿論、それを示唆する記載もなく、効果につ
いてもサイトカインの阻害作用のみで本発明のごとき効
果を有する旨の記載は見当らない。

【００１５】ＷＯ９７／１６４４２号公報、ＷＯ９７／
１６４４１号公報及びＷＯ９７／１６４２６号公報には
サイトカイン阻害剤としてピロール誘導体がそれぞれ開
示されている。しかしながら、これら公報についても同
様で本発明化合物を示唆する記載は勿論、その効果につ
いてもサイトカインの阻害活性を有する旨の記載のみで
本発明化合物のごとき効果を有する旨の記載も見当らな
い。

【００１６】更に、チアゾール化合物に関する報告も数
多くなされている。例えば、ＷＯ９５／００５０１号公
報には４−（４−アミノスルホニルフェニル）−５−
（４−フルオロフェニル）−２−メチルチアゾール及び
３−（４−アミノスルホニルフェニル）−２−シクロヘ
キシル−５−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）チ
オフェン等のフェニル複素環が開示されている。しかし
ながら、同公報化合物は４−スルホニルフェニル基で置
換されることを特徴とする複素環であり、またその作用
についてもＣＯＸ−２選択的阻害作用のみの記載であ
り、本発明のごとき構造を有する化合物の記載は勿論、
それを示唆する旨の記載はなく、ましてやＴＮＦ−α選
択的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γ産生阻害作用の
記載も見当らない。

【００１７】ＵＳ４６３２９３０号公報には５−シクロ
ペンチル−４−メチルスルホニルフェニル）−α，α−
ビス（トリフルオロメチル）チアゾール−２−メタノー
ル等のチアゾール誘導体が開示されている。しかしなが
ら、同公報化合物は高血圧症に有効な化合物であり、本
発明のごとき効果の開示は勿論、それを示唆する記載も
見当らない。

【００１８】特開平５−７０４４６号公報にはＮ−［５
−シクロヘキシル−４−（４−メトキシフェニル）チア
ゾール−２−イル］トリフルオロメタンスルホンアミド
等のＮ−チアゾリルスルホンアミド誘導体が開示されて
いる。しかしながら、同公報開示の化合物はチアゾール
環の２位にスルホンアミド基を有することを特徴とする
ものであり、本発明化合物を示唆するものではなく、ま
た効果についても抗炎症等の作用を有する旨の記載のみ
で、本発明のような構造の化合物がＴＮＦ−α選択的産
生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γ産生阻害作用を有する
旨の記載は見当らない。

【００１９】ＷＯ９６／０３３９２号公報には２−エチ
ル−４−（４−フルオコフェニル）−５−（４−メチル
スルホニルフェニル）チアゾール等のチアゾール化合物
が開示されている。しかしながら、同公報化合物はチア
ゾール環の４位又は５位にスルホニルフェニル基を有す
ることを特徴としており、本発明のごとき化合物の開示
は勿論、それを示唆する旨の記載は見当らない。また、
効果についても同公報にはＣＯＸ−２（シクロオキシゲ
ナーゼ−２）選択的阻害活性を有する旨の記載のみであ
り、本発明のごとき組み合わせの化合物がＴＮＦ−α選
択的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γ産生阻害作用を
有する旨の記載は勿論、それを示唆する旨の記載も見当
らない。

【００２０】特開平７−１４９７４６号公報には５−シ
クロヘキシル−４−（４−メトキシフェニル）−２−
（４−ピバロイルオキシベンゼンスルホニル）アミノチ
アゾール等の２−置換アミノチアゾール誘導体が開示さ
れている。しかしながら、同公報開示の化合物はチアゾ
ール環の２位にアミノ基を有することを特徴としている
上、その作用についてはエラスターゼ阻害作用を有する
ものであり、本発明のごとき化合物及びその作用につい
ての開示は勿論、それを示唆する旨の記載も見当らな
い。

【００２１】ＷＯ９６／１６６５０号公報には５−シク
ロペンチル−２−メチルスルホニルアミノ−４−フェニ
ルチアゾール等の２−アミノチアゾール誘導体が開示さ
れている。しかしながら、同公報化合物はチアゾール環
の２位がアミノ基で置換されていることを特徴としてお
り、またその作用は抗菌作用、殺菌作用であり、本発明
を示唆するものではない。

【００２２】その他、特開昭６２−１７８５９０号公報
には抗真菌活性又は殺菌活性を有する化合物として４，
５−ビス（４−クロロフェニル）−２−（１Ｈ−イミダ
ゾール−１−イル）メチルチアゾール等のチアゾール誘
導体が、特開平５−１５５８７１号公報にはコレシスト
キニン及びガストリン受容体の相互に影響を及ぼす化合
物として２−［（２−インドリル）カルボニルアミノ］
−４−フェニル−５−（４−ヒドロキシピペリジン−１
−イル）チアゾール等の２−アシルアミノ−５−チアゾ
ール誘導体が、特開平３−１７３８７４号公報にはリピ
キシゲナーゼ阻害作用を有する２−ベンジルチアゾール
化合物が、ＷＯ９４／０３４４８号公報には５−リポキ
シゲナーゼ及び／又はシクロオキシゲナーゼ阻害作用を
有する２−チアゾリル−５−ヒドロキシ−１，３−ピリ
ミジン化合物が、特開平３−１４５６９号公報には抗炎
症作用又は５−リポキシゲナーゼ阻害作用等を有する化
合物として２−アセチルアミノメチル−４，５−ビス
（４−メトキシフェニル）チアゾール等のチアゾール化
合物が、特開昭６３−６６１９０号公報には抗炎症作用
等を有する化合物として［（４，５−ジフェニル−２−
チアゾリル）チオメチレン］ジホスホン酸等のジフェニ
ルチアゾールジホスホン酸誘導体が、特開平１−７５４
７５号公報には抗炎症作用を有する化合物として５−
（４−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニ
ル）−２−モルホリノアミノチアゾール等のジフェニル
チアゾール誘導体が、特開平４−１５４７７３号公報に
は抗炎症作用を有する化合物として５−（４，５−ジフ
ェニルチアゾール−２−イルオキシ）サリチル酸等のチ
アゾール誘導体が、特開平５７−１８３７６７号公報に
はプロスタグランジン合成抑制作用等を有する化合物と
して２−エチルチオ−４，５−ビス（４−クロロフェニ
ル）チアゾール等のチアゾール誘導体が、特開平３−２
７３７０号公報には４，５−ビス（４−メトキシフェニ
ル）−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）チアゾー
ル等のチアゾール化合物が、特開昭５４−５５５６６号
公報には血小板密着及び血小板凝集に起因する疾患の抑
制又は治療に有用な化合物として４，５−ビス（ｐ−メ
トキシフェニル）−２−チアゾールエタノール等のチア
ゾール化合物が、特開平７−１４９７４５号公報にはエ
ラスターゼ阻害作用を有する化合物として５−フェニル
−２−メチルアミノ−４−（４−ピバロイルオキシフェ
ニル）チアゾール等の２−アミノチアゾール誘導体が、
特開昭６１−１０５８０号公報には抗炎症作用等を有す
る化合物として２−エチル−４−（３，４−ジメトキシ
フェニル）−５−（３−ピリジル）チアゾール等の５−
ピリジル−１，３−チアゾール誘導体が、特開平４−１
７３７８２号公報には抗炎症作用等を有する化合物とし
てＮ−［５−（２，４−ジニトロフェニル）−４−フェ
ニルチアゾール−２−イル］トリフルオロメタンスルホ
ンアミド等の２−スルホンアミド−４，５−ジフェニル
チアゾール誘導体が、特開昭６０−５８９８１号公報に
は抗炎症作用等を有する化合物として２−エチル−４−
（３，４−ジメトキシフェニル）−５−（３−ピリジ
ル）−１，３−チアゾール等の５−ピリジル−１，３−
チアゾール誘導体が、特開平４−１１７３７１号公報に
は抗炎症作用等を有する化合物として２−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−５−（４−
メトキシフェニル）−４−（２−チエニル）チアゾール
等のチアゾール誘導体が、特開平３−１７３８７６号公
報には抗炎症作用等を有する化合物として２−メタンス
ルホニルアミノ−５−（４−ニトロフェニル）−４−フ
ェニルチアゾール等のジフェニルチアゾール誘導体が、
特開昭５７−１７５１７１号公報には抗炎症作用等を有
する化合物として４−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルチオ−５−フ
ェニルチアゾール等の３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル置換複素環化合物が、特表平７
−５００１１６号公報には殺菌剤として４−（４−クロ
ロフェニル）−５−（４−メチルフェニル）−２−
（２，６−ジニトロ−４−トリフルオロフェニルアミ
ノ）チアゾール等のＮ−複素環式ニトロアニリンが、特
表平７−５０３０２３号公報には胃酸分泌阻害剤として
４−（４−アミノピリジン−２−イル）−５−（２−メ
チルフェニル）２−プロピルチアゾール等のチアゾリル
ピリジン誘導体が、特開平３−８１２６８号公報には殺
菌作用を有する化合物として２−メチル−４−（４’−
メチルフェニル）−５−（１，２，４−トリアゾール−
１−イル）−チアゾール等のチアゾール誘導体が、ＷＯ
９６／２９３３０号公報には抗精神病作用を有する化合
物として２−アミノ−４−（４−フルオロフェニル）−
５−（ピロリジン−３−イル）チアゾール等のチアゾー
ル誘導体がそれぞれ開示されている。しかしながら、こ
れら公報には本発明開示化合物のごとき組み合わせの記
載は勿論、それを示唆するような記載もなく、ましてや
ＴＮＦ−α選択的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γ産
生阻害作用を示唆する旨の記載も見当らない。

【００２３】更にＷＯ９６／２７９８０号公報にはＣＯ
Ｘ−２選択的阻害作用を有する化合物として２−フェニ
ル−４−（シクロヘキシル）−５−［４−（メチルスル
ホニル）フェニル］オキサゾール等のオキサゾール化合
物が開示されている。しかしながら、同公報化合物は４
−スルホニルフェニル基で置換されることを特徴とする
オキサゾール化合物であり、本発明化合物の開示は勿
論、それを示唆する旨の記載も見当らない。

【００２４】特開平８−３２５２４９号公報にはＣＯＸ
−２選択的阻害作用を有する化合物として４−シクロヘ
キシル−２−エチル−５−（４−メチルスルホニルフェ
ニル）オキサゾール等のオキサゾール誘導体が開示され
ている。しかしながら、同公報化合物は４−スルホニル
フェニル基で置換されることを特徴とするオキサゾール
化合物であり、本発明化合物の開示は勿論、それを示唆
する旨の記載も見当らない。

【００２５】特開平９−５２８８２号公報にはＣＯＸ−
２選択的阻害作用を有する化合物として５−（４−アミ
ノスルホニル−３−フルオロフェニル）−２−メチル−
４−シクロヘキシルオキサゾール等のオキサゾール誘導
体が開示されている。しかしながら、同公報化合物は４
−スルホニル−３−フルオロフェニル基等で置換される
ことを特徴とするオキサゾール化合物であり、本発明化
合物の開示は勿論、それを示唆する旨の記載も見当らな
い。

【００２６】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前記の
ごとくＴＮＦ−αの産生を選択的に阻害する化合物を提
供すべく鋭意検討した結果、驚くべきことにチアゾール
の置換基として４位にシクロペンチル基又はシクロヘキ
シル基等の置換されてもよいシクロアルキル基を、２位
にエチル基等の低級アルキル基又はヒドロキシメチル基
等の低級ヒドロキシアルキル基等を、５位には特に上記
Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換されたフェ
ニル基等を有する化合物が優れたＴＮＦ−α選択的産生
阻害作用を有することを見出し、本発明を完成するに至
った。更に、本発明化合物を検討した結果、驚くべきこ
とにＩＦＮ−γについても産生阻害作用を有し、また一
部の化合物についてはＰＤＥＩＶ（ホスホジエステラー
ゼＩＶ）の阻害作用を有することも判明した。

【００２７】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記
（１）乃至（１４）に示すチアゾール化合物又はその医
薬上許容し得る塩及びそれらチアゾール化合物を含んで
なる医薬組成物に関する。 （１）一般式（Ｉ）

【００２８】

【化１４】

【００２９】［式中、Ｒは低級アルキル基；低級ハロア
ルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ
低級アルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル基；カ
ルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモイ
ル基；低級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキル
カルバモイル基であり、Ｒ₁はハロゲン原子；低級アル
キル基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト基；低
級アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及
びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置換基で置換さ
れてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル基で
あり、Ｒ₂はアリール基；窒素原子、酸素原子及び硫黄
原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる芳香
族複素環基（ここで、これらアリール基又は芳香族複素
環基は下記Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換
されてもよい）；一般式

【００３０】

【化１５】

【００３１】（ここで、Ｑは

【００３２】

【化１６】

【００３３】であり、これらは下記Ｆ群から選ばれる１
乃至３個の置換基で置換されてもよい）又は−ＣＯＮＨ
−（ＣＨ₂）_n−Ｑ₁［ここで、Ｑ₁はアリール基；窒素原
子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃
至３個含んでなる芳香族複素環基；炭素原子数３乃至７
個のシクロアルキル基（ここで、これらアリール基、複
素環基又はシクロアルキル基は下記Ａ群から選ばれる１
乃至３個の置換基で置換されてもよい）又は一般式

【００３４】

【化１７】

【００３５】（ここで、Ｑは前述のとおりであり、これ
らは下記Ｆ群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換さ
れてもよい）であり、ｎは０又は１乃至４から選ばれる
整数である］である］で表わされるチアゾール化合物又
はその医薬上許容し得る塩。

【００３６】Ａ群 シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ
基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキルアミノ基；
（低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；ジ（低級ヒドロ
キシアルキル）アミノ基；（低級ハロアルキル）アミノ
基；ジ（低級ハロアルキル）アミノ基；（カルボキシ低
級アルキル）アミノ基；ジ（カルボキシ低級アルキル）
アミノ基；（低級アルコキシカルボニル低級アルキル）
アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル）アミノ基；（低級アルカノイル低級アルキル）アミ
ノ基；ジ（低級アルカノイル低級アルキル）アミノ基；
（カルバモイル低級アルキル）アミノ基；ジ（カルバモ
イル低級アルキル）アミノ基；（低級アルキルカルバモ
イル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルキルカルバ
モイル低級アルキル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカ
ルバモイル）低級アルキル］アミノ基；ジ［（ジ低級ア
ルキルカルバモイル）低級アルキル］アミノ基；アラル
キルアミノ基；ジアラルキルアミノ基；低級アルカノイ
ルアミノ基；ジ低級アルカノイルアミノ基；低級ハロア
ルカノイルアミノ基；ジ（低級ハロアルカノイル）アミ
ノ基；オキサルアミノ基；ジオキサルアミノ基；低級ア
ルコキサリルアミノ基；ジ低級アルコキサリルアミノ
基；（低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；ジ（低
級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；（低級アルコキ
シ低級アルカノイル）アミノ基；ジ（低級アルコキシ低
級アルカノイル）アミノ基；低級アルコキシカルボニル
アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニル）アミノ基；
ウレイド基；低級アルキル置換ウレイド基；アラルキル
置換ウレイド基；グアニジノ基；低級アルキル置換グア
ニジノ基；アラルキル置換グアニジノ基；低級アルカノ
イルオキシ基；カルバモイルオキシ基；低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモイルオキ
シ基；ベンゾイル基；カルボキシ基；メルカプト基；１
−ピペリジルカルボニル基；１−ピペラジニルカルボニ
基；１−ピロリジニルカルボニル基；モルホリノカルボ
ニル基；低級アルキル基；低級アルカノイル基；低級ア
ルコキシ基；低級アルキルチオ基；低級イミドイル基；
アミジノ基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニ
ル基；窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる複
素原子を１乃至３個含んでなる複素環基（ここで、これ
ら低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキ
シ基、低級アルキルチオ基、低級イミドイル基及び低級
アルコキシカルボニル基は下記Ｂ群から選ばれる１乃至
２個の置換基で置換されてもよく、これらカルバモイル
基及びアミジノ基は下記Ｃ群から選ばれる１乃至３個の
置換基で置換されてもよく、これら１−ピペリジルカル
ボニル基、１−ピペラジニルカルボニ基、１−ピロリジ
ニルカルボニル基及びモルホリノカルボニル基は下記Ｄ
群から選ばれる１乃至２個の置換基で置換されてもよ
く、またこれら複素環基は下記Ｅ群より選ばれる１乃至
３個の置換基で置換されてもよい）、

【００３７】Ｂ群 水酸基；低級アルコキシ基；ハロゲン原子；メルカプト
基；低級アルキルチオ基；カルバモイル基；低級アルキ
ルカルバモイル基；ジ低級アルキルカルバモイル基；カ
ルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルカ
ノイル基；ベンゾイル基；カルバモイル低級アルコキシ
基；低級アルキルカルバモイル低級アルコキシ基；（ジ
低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ基；カルボ
キシ低級アルコキシ基；低級アルコキシカルボニル低級
アルコキシ基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；カ
ルバモイル低級アルキルチオ基；低級アルキルカルバモ
イル低級アルキルチオ基；（ジ低級アルキルカルバモイ
ル）低級アルキルチオ基；カルボキシ低級アルキルチオ
基；低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ基；低
級アルカノイル低級アルキルチオ基；低級アルカノイル
オキシ基；カルバモイルオキシ基；低級アルキルカルバ
モイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモイルオキシ
基；アミノ基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキル
アミノ基；（低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；ジ
（低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；（低級ハロアル
キル）アミノ基；ジ（低級ハロアルキル）アミノ基；
（カルボキシ低級アルキル）アミノ基；ジ（カルボキシ
低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキシカルボニル
低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニ
ル低級アルキル）アミノ基；（低級アルカノイル低級ア
ルキル）アミノ基；ジ（低級アルカノイル低級アルキ
ル）アミノ基；（カルバモイル低級アルキル）アミノ
基；ジ（カルバモイル低級アルキル）アミノ基；（低級
アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ基；ジ（低
級アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ基；
［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル］アミ
ノ基；ジ［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキ
ル］アミノ基；アラルキルアミノ基；ジアラルキルアミ
ノ基；低級アルカノイルアミノ基；ジ低級アルカノイル
アミノ基；低級ハロアルカノイルアミノ基；ジ（低級ハ
ロアルカノイル）アミノ基；オキサルアミノ基；ジオキ
サルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ基；ジ低級ア
ルコキサリルアミノ基；（低級ヒドロキシアルカノイ
ル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルカノイル）アミ
ノ基；（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミノ基；
ジ（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミノ基；低級
アルコキシカルボニルアミノ基；ジ（低級アルコキシカ
ルボニル）アミノ基、

【００３８】Ｃ群 低級アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級ハロ
アルキル基；カルボキシ低級アルキル基；メルカプト低
級アルキル基；低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基；低級アルカノイル低級アルキル基；カルバモイル低
級アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アルキル
基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル基；
アミノ低級アルキル基；低級アルキルアミノ低級アルキ
ル基；（ジ低級アルキルアミノ）低級アルキル基；（カ
ルバモイル）（カルボキシ）二置換低級アルキル基；
（カルバモイル）（低級アルコキシカルボニル）二置換
低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；炭素原子
数３乃至７個のシクロアルキル基；アラルキル基；低級
アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基；低級ア
ルキルカルバモイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモ
イルオキシ基；低級アルコキシ低級アルコキシ基；低級
アルカノイル低級アルコキシ基；カルバモイル低級アル
コキシ基；低級アルキルカルバモイル低級アルコキシ
基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ
基；カルボキシ低級アルコキシ基；低級アルコキシカル
ボニル低級アルコキシ基；アミノ基；低級アルキルアミ
ノ基；ジ低級アルキルアミノ基；（低級ヒドロキシアル
キル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルキル）アミノ
基；（低級ハロアルキル）アミノ基；ジ（低級ハロアル
キル）アミノ基；（カルボキシ低級アルキル）アミノ
基；ジ（カルボキシ低級アルキル）アミノ基；（低級ア
ルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級
アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；（低級
アルカノイル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルカ
ノイル低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル低級ア
ルキル）アミノ基；ジ（カルバモイル低級アルキル）ア
ミノ基；（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）ア
ミノ基；ジ（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）
アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アル
キル］アミノ基；ジ［（ジ低級アルキルカルバモイル）
低級アルキル］アミノ基；アラルキルアミノ基；ジアラ
ルキルアミノ基；低級アルカノイルアミノ基；ジ低級ア
ルカノイルアミノ基；低級ハロアルカノイルアミノ基；
ジ（低級ハロアルカノイル）アミノ基；オキサルアミノ
基；ジオキサルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ
基；ジ低級アルコキサリルアミノ基；（低級ヒドロキシ
アルカノイル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルカノ
イル）アミノ基；（低級アルコキシ低級アルカノイル）
アミノ基；ジ（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミ
ノ基；低級アルコキシカルボニルアミノ基；ジ（低級ア
ルコキシカルボニル）アミノ基、

【００３９】Ｄ群 低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；ハロゲン
原子；アミノ基、

【００４０】Ｅ群 水酸基；メルカプト基；ハロゲン原子；低級アルキル
基；低級アルコキシ基；低級アルキルチオ基；アミノ
基；オキソ基；低級ハロアルキル基；アラルキル基；低
級ヒドロキシアルキル基；カルボキシ低級アルキル基；
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；カルバモイ
ル低級アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アル
キル基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル
基；低級アルカノイル低級アルキル基；低級アルコキシ
低級アルキル基；カルボキシ低級アルコキシ基；低級ア
ルコキシカルボニル低級アルコキシ基；カルバモイル低
級アルコキシ；低級アルキルカルバモイル低級アルコキ
シ基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ
基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；（カルボキシ
低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキシカルボニル
低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル低級アルキ
ル）アミノ基；（低級アルキルカルバモイル低級アルキ
ル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級
アルキル］アミノ基、

【００４１】Ｆ群 低級アルキル基；水酸基；メルカプト基；ハロゲン原
子；低級アルコキシ基；低級アルキルチオ基；アミノ
基；オキソ基；低級ハロアルキル基；カルボキシ低級ア
ルキル基；低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；
カルバモイル低級アルキル基；低級アルキルカルバモイ
ル低級アルキル基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低
級アルキル基；低級アルカノイル低級アルキル基；低級
アルコキシ低級アルキル基；カルボキシ低級アルコキシ
基；低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基；カル
バモイル低級アルコキシ基；低級アルキルカルバモイル
低級アルコキシ基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低
級アルコキシ基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；
（カルボキシ低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル
低級アルキル）アミノ基；（低級アルキルカルバモイル
低級アルキル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモ
イル）低級アルキル］アミノ基。

【００４２】（２）Ｒが低級アルキル基；低級ハロアル
キル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコキシ
低級アルキル基であり、Ｒ₁が低級アルキル基で置換さ
れてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロアルキル基で
あり、Ｒ₂がフェニル基又はナフチル基；ピロリル基、
フリル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル
基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾ
リル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジア
ゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル
基、ピリミジニル基、ピリダジニル基及びトリアジニル
基から選ばれる芳香族複素環基（ここで、これらフェニ
ル基、ナフチル基又は芳香族複素環基は下記Ａ’群から
選ばれる１乃至３個の置換基で置換されてもよい）；一
般式

【００４３】

【化１８】

【００４４】（ここで、Ｑが

【００４５】

【化１９】

【００４６】であり、これらは下記Ｆ’群から選ばれる
１乃至３個の置換基で置換されてもよい）又は−ＣＯＮ
Ｈ−（ＣＨ₂）_n−Ｑ₁［ここで、Ｑ₁がフェニル基又はナ
フチル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、チアゾ
リル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、イソチアゾ
リル基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、オキサジ
アゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリ
ジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基及びトリアジニル基から選ばれる芳香族複素環基であ
る（ここで、これらフェニル基、ナフチル基又は芳香族
複素環基は下記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基
で置換されてもよい）であり、ｎが０又は１乃至２から
選ばれる整数である］である上記（１）記載のチアゾー
ル化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００４７】Ａ’群 シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ
基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキルアミノ基；
（低級アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；
（カルバモイル低級アルキル）アミノ基；低級アルカノ
イルアミノ基；ジ低級アルカノイルアミノ基；低級ハロ
アルカノイルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ基；
（低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；（低級アル
コキシ低級アルカノイル）アミノ基；低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基；ウレイド基；低級アルキル置換ウレ
イド基；グアニジノ基；低級アルカノイルオキシ基；ベ
ンゾイル基；カルボキシ基；１−ピペリジルカルボニル
基；１−ピペラジニルカルボニ基；１−ピロリジニルカ
ルボニル基；モルホリノカルボニル基；低級アルキル
基；低級アルカノイル基；低級アルコキシ基；低級アル
キルチオ基；低級イミドイル基；アミジノ基；カルバモ
イル基；低級アルコキシカルボニル基；窒素原子、酸素
原子及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含
んでなる複素環基（ここで、これら低級アルキル基、低
級アルカノイル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級イミドイル基及び低級アルコキシカルボニル
基は下記Ｂ’群から選ばれる１乃至２個の置換基で置換
されてもよく、これらカルバモイル基及びアミジノ基は
下記Ｃ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換され
てもよく、これら１−ピペリジルカルボニル基、１−ピ
ペラジニルカルボニ基、１−ピロリジニルカルボニル基
及びモルホリノカルボニル基は下記Ｄ’群から選ばれる
１乃至２個の置換基で置換されてもよく、またこれら複
素環基は下記Ｅ’群より選ばれる１乃至３個の置換基で
置換されてもよい）、

【００４８】Ｂ’群 水酸基；低級アルコキシ基；カルバモイル基；低級アル
コキシカルボニル基；カルバモイル低級アルコキシ基；
低級アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基、

【００４９】Ｃ’群 低級アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級ハロ
アルキル基；カルボキシ低級アルキル基；低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基；カルバモイル低級アルキ
ル基；（ジ低級アルキルアミノ）低級アルキル基；（カ
ルバモイル）（カルボキシ）二置換低級アルキル基；
（カルバモイル）（低級アルコキシカルボニル）二置換
低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；炭素原子
数３乃至７個のシクロアルキル基；アラルキル基；低級
アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基；ジ低級
アルキルアミノ基、

【００５０】Ｄ’群 低級アルキル基、

【００５１】Ｅ’群 低級アルキル基；オキソ基；アラルキル基、

【００５２】Ｆ’群 低級アルキル基；水酸基；オキソ基；カルバモイル低級
アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アルキル
基。

【００５３】（３）Ｒがメチル基、エチル基、ヒドロキ
シメチル基又はメトキシメチル基であり、Ｒ₁がシクロ
ペンチル基又はシクロヘキシル基である上記（１）記載
のチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００５４】（４）一般式（Ｉ’）

【００５５】

【化２０】

【００５６】［式中、Ｒ’は低級アルキル基；低級ハロ
アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキ
シ低級アルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル基；
カルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモ
イル基；低級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキ
ルカルバモイル基であり、Ｒ₁’はハロゲン原子；低級
アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト
基；低級アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミ
ノ基及びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置換基で
置換されてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキ
ル基であり、Ｒ₂’はアリール基（ここで、このアリー
ル基は上記Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換で置換さ
れてもよい）又は一般式

【００５７】

【化２１】

【００５８】（ここで、Ｑ’は

【００５９】

【化２２】

【００６０】であり、これらは上記Ｆ群から選ばれる１
乃至３個の置換基で置換されてもよい）である］で表わ
されるチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００６１】（５）Ｒ’が低級アルキル基；低級ハロア
ルキル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコキ
シ低級アルキル基であり、Ｒ₁’が低級アルキル基で置
換されてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロアルキル
基であり、Ｒ₂’がアリール基（ここで、このアリール
基は上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換
されてもよい）又は一般式

【００６２】

【化２３】

【００６３】（ここで、Ｑ’が

【００６４】

【化２４】

【００６５】であり、これらは上記Ｆ’群から選ばれる
１乃至３個の置換基で置換されてもよい）である上記
（４）記載のチアゾール化合物又はその医薬上許容し得
る塩。

【００６６】（６）Ｒ’がメチル基、エチル基、ヒドド
ロキシメチル基又はメトキシメチル基であり、Ｒ₁’が
シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、Ｒ₂’
が低級アルキル基；ハロゲン原子；水酸基；アミノ基；
シアノ基；ニトロ基；低級アルキル基、水酸基、低級ア
ルカノイルオキシ基及びカルバモイルオキシ基から選ば
れる１乃至３個の置換基で置換されてもよいアミジノ
基；低級アルカノイルオキシ基、カルバモイルオキシ基
又はカルバモイル低級アルコキシ基で置換されてもよい
低級イミドイル基；カルバモイル基；低級アルキルカル
バモイル基；低級アルキル基で置換されてもよいウレイ
ド基及びオキソ基で置換されてもよいイミダゾリジニル
基から選ばれる１乃至２個の置換基で置換されてもよい
フェニル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイ
ミダゾリル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−インド
リル基、２−オキソ−３Ｈ−ベンゾオキサゾリル基又は
３−メチル−４−オキソ−３Ｈ−１，３−ベンゾオキサ
ジニル基である上記（４）記載のチアゾール化合物又は
その医薬上許容し得る塩。

【００６７】（７）一般式（Ｉ’’）

【００６８】

【化２５】

【００６９】［式中、Ｒ’’は低級アルキル基；低級ハ
ロアルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコ
キシ低級アルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル
基；カルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；カル
バモイル基；低級アルキルカルバモイル基又はジ低級ア
ルキルカルバモイル基であり、Ｒ₁’’はハロゲン原
子；低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；メル
カプト基；低級アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキ
ルアミノ基及びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置
換基で置換されてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロ
アルキル基であり、Ｒ₂’’は窒素原子、酸素原子及び
硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる
芳香族複素環基である（ここで、この芳香族複素環基は
上記Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換されて
もよい）］で表わされるチアゾール化合物又はその医薬
上許容し得る塩。

【００７０】（８）Ｒ’’が低級アルキル基；低級ハロ
アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコ
キシ低級アルキル基であり、Ｒ₁’’が低級アルキル基
で置換されてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロアル
キル基であり、Ｒ₂’’が置換されてもよく、ピロリル
基、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリ
ル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサ
ゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジ
アゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル
基、ピリミジニル基、ピリダジニル基及びトリアジニル
基から選ばれる芳香族複素環基（ここで、この芳香族複
素環基は上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で
置換されてもよい）である上記（７）記載のチアゾール
化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００７１】（９）一般式（Ｉ’’’）

【００７２】

【化２６】

【００７３】［式中、Ｒ’’’は低級アルキル基；低級
ハロアルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アル
コキシ低級アルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル
基；カルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；カル
バモイル基；低級アルキルカルバモイル基又はジ低級ア
ルキルカルバモイル基であり、Ｒ₁’’’はハロゲン原
子；低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；メル
カプト基；低級アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキ
ルアミノ基及びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置
換基で置換されてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロ
アルキル基であり、Ｒ₂’’’は−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）
_n’−Ｑ₁’［ここで、Ｑ₁’はアリール基；窒素原子、
酸素原子及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３
個含んでなる芳香族複素環基；炭素原子数３乃至７個の
シクロアルキル基である（ここで、これらアリール基、
芳香族複素環基又はシクロアルキル基は上記Ａ群から選
ばれる１乃至３個の置換基で置換されてもよい）であ
り、ｎ’は０又は１乃至４から選ばれる整数である］で
表わされるチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る
塩。

【００７４】（１０）Ｒ’’’が低級アルキル基；低級
ハロアルキル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級ア
ルコキシ低級アルキル基であり、Ｒ₁’’’が低級アル
キル基で置換されてもよい炭素原子数５乃至７個のシク
ロアルキル基であり、Ｒ₂’’’が−ＣＯＮＨ−（Ｃ
Ｈ₂）_n’−Ｑ₁’［ここで、Ｑ₁’がアリール基；ピリジ
ル基及びチアゾリル基から選ばれる置換されてもよい芳
香族複素環基（ここで、これらアリール基又は芳香族複
素環基は上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で
置換されてもよい）であり、ｎ’が０又は１乃至２から
選ばれる整数である］である上記（９）記載のチアゾー
ル化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００７５】（１１）５−（３−クロロ−４−ヒドロキ
シフェニル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾ
ール；５−（４−アミノ−３−メチルフェニル）−４−
シクロペンチル−２−エチルチアゾール；５−（４−シ
アノ−４−ニトロフェニル）−４−シクロペンチル−２
−エチルチアゾール；５−（３−アセチルアミノ−４−
カルバモイルメトキシフェニル）−４−シクロペンチル
−２−エチルチアゾール；４−シクロペンチル−２−エ
チル−５−（３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイ
ミダゾール−５−イル）チアゾール；４−シクロペンチ
ル−２−エチル−５−（３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ
−インドール−６−イル）チアゾール；４−シクロペン
チル−２−エチル−５−（２−オキソ−３Ｈ−ベンゾオ
キサゾール−６−イル）チアゾール；５−（４−カルバ
モイルフェニル）−４−シクロペンチル−２−ヒドロキ
シメチルチアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル
−５−［４−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）
フェニル］チアゾール；４−シクロペンチル−２−エチ
ル−５−［４−（Ｎ−ヒドロキシアミジノ）フェニル］
チアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル−５−
［４−（１，３−ジメチルウレイド）フェニル］チアゾ
ール；４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−
（Ｎ−ヒドロキシアミジノ）−３−ニトロフェニル］チ
アゾール；５−［４−（Ｎ−アセトキシアミジノ）フェ
ニル］−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール；
４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３−メチル−
４−オキソ−３Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−７−イ
ル）チアゾール；５−［４−（Ｎ−アセトキシアセトイ
ミドイル）フェニル］−４−シクロペンチル−２−エチ
ルチアゾール；５−［４−（Ｎ−カルバモイルオキシア
セトイミドイル）フェニル］−４−シクロペンチル−２
−エチルチアゾール；５−［４−（Ｎ−カルバモイルオ
キシアミジノ）フェニル］−４−シクロペンチル−２−
エチルチアゾール４−シクロペンチル−２−エチル−５
−［４−（Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ）フ
ェニル］チアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル
−５−［４−（Ｎ−カルバモイルメトキシアセトイミド
イル）フェニル］チアゾール及び４−シクロペンチル−
２−エチル−５−［４−（Ｎ−メチルカルバモイル）フ
ェニル］チアゾールからなる群より選ばれる上記（４）
記載のチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。

【００７６】（１２）上記（１）乃至（１１）記載のチ
アゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分
としてなる医薬組成物。

【００７７】（１３）上記（１）乃至（１１）記載のチ
アゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分
としてなるＴＮＦ（腫瘍壊死因子）−α産生阻害剤。

【００７８】（１４）上記（１）乃至（１１）記載のチ
アゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分
としてなるＩＦＮ（インタフェロン）−γ産生阻害剤。

【００７９】ここで、「低級アルキル基」とは、炭素原
子数１乃至４個のアルキル基を意味し、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基等である。

【００８０】「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等である。

【００８１】「低級ハロアルキル基」とは、前述の低級
アルキル基にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ
素原子等のハロゲン原子が置換したものを意味し、具体
的にはフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチ
ル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフ
ルオロメチル基、トリクロロメチル基、クロロエチル
基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ペン
タクロロエチル基、ブロモプロピル基、ジクロロプロピ
ル基、トリフルオロブチル基等である。

【００８２】「低級ヒドロキシアルキル基」とは、前述
の低級アルキル基に水酸基が置換したものを意味し、具
体的にはヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル
基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル
基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル
基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル
基、４−ヒドロキシブチル基、１−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピル基、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル
基、３−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基、１−ヒド
ロキシメチルプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチル
プロピル基、２−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、
３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基、２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル基等である。

【００８３】「メルカプト低級アルキル基」とは、前述
の低級アルキル基にメルカプト基が置換したものを意味
し、具体的にはメルカプトメチル基、１−メルカプトエ
チル基、２−メルカプトエチル基、１−メルカプトプロ
ピル基、２−メルカプトプロピル基、３−メルカプトプ
ロピル基、２−メルカプト−１−メチルエチル基、１−
メルカプト−１−メチルエチル基、１−メルカプトブチ
ル基、２−メルカプトブチル基、３−メルカプトブチル
基、４−メルカプトブチル基、１−メルカプト−２−メ
チルプロピル基、２−メルカプト−２−メチルプロピル
基、３−メルカプト−２−メチルプロピル基、１−メル
カプトメチルプロピル基、１−メルカプト−１−メチル
プロピル基、２−メルカプト−１−メチルプロピル基、
３−メルカプト−１−メチルプロピル基、２−メルカプ
ト−１，１−ジメチルエチル基等である。

【００８４】「低級アルコキシ基」とは、炭素原子数１
乃至４個のアルコキシ基を意味し、具体的にはメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基等である。

【００８５】「低級アルコキシ低級アルキル基」とは、
前述の低級アルキル基に前述の低級アルコキシ基が置換
したものを意味し、具体的にはメトキシメチル基、２−
メトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、４−メト
キシブチル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル
基、１−メトキシ−１−メチルエチル基等である。

【００８６】「アリール基」とは、フェニル基、ナフチ
ル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基
等である。

【００８７】「アラルキル基」とは、前述の低級アルキ
ル基に前述のアリール基が置換したものを意味し、具体
的にはベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、フ
ェネチル基、３−フェニルプロピル基、２−フェニルプ
ロピル基、４−フェニルブチル基、ナフチルメチル基、
２−ナフチルエチル基、４−ビフェニルメチル基、３−
（４−ビフェニル）プロピル基等である。

【００８８】「アラルキルオキシ基」とは、ベンジルオ
キシ基、フェネチルオキシ基、３−フェニルプロポキシ
基、ナフチルメトキシ基、２−ナフチルエトキシ基、４
−ビフェニルメトキシ基等である。

【００８９】「アラルキルオキシ低級アルキル基」と
は、前述の低級アルキル基に前述のアラルキルオキシ基
が置換したものを意味し、具体的にはベンジルオキシメ
チル基、２−（ベンジルオキシ）エチル基、フェネチル
オキシメチル基、３−フェニルプロポキシメチル基、ナ
フチルメトキシメチル基、２−ナフチルエトキシメチル
基、４−ビフェニルメトキシメチル基等である。

【００９０】「低級アルコキシカルボニル基」とは、炭
素原子数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基を意
味し、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカル
ボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基等である。

【００９１】「低級アルキルカルバモイル基」とは、カ
ルバモイル基に前述の低級アルキル基が置換したものを
意味し、具体的にはメチルカルバモイル基、エチルカル
バモイル基、プロピルカルバモイル基、イソプロピルカ
ルバモイル基、ブチルカルバモイル基、イソブチルカル
バモイル基、ｓｅｃ−ブチルカルバモイル基、ｔｅｒｔ
−ブチルカルバモイル基等である。

【００９２】「ジ低級アルキルカルバモイル基」とは、
カルバモイル基に前述の低級アルキル基が同一又は異な
ってジ置換したものを意味し、具体的にはジメチルカル
バモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジプロピルカル
バモイル基、ジイソプロピルカルバモイル基、ジブチル
カルバモイル基、ジイソブチルカルバモイル基、ジ−ｓ
ｅｃ−ブチルカルバモイル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカ
ルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−エ
チル−Ｎ−プロピルカルバモイル基等である。

【００９３】「低級アルキルチオ基」とは、炭素原子数
１乃至４個のアルキルチオ基を意味し、具体的にはメチ
ルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピ
ルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−
ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等である。

【００９４】「低級アルキルアミノ基」とは、アミノ基
に前述の低級アルキル基が置換したものを意味し、具体
的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミ
ノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブ
チルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブ
チルアミノ基等である。

【００９５】「ジ低級アルキルアミノ基」とは、アミノ
基に前述の低級アルキル基が同一又は異なってジ置換し
たものを意味し、具体的にはジメチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、
Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プ
ロピルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−イソブチルアミノ
基、Ｎ−エチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基等であ
る。

【００９６】「炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル
基」とは、具体的にはシクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基等である。

【００９７】「窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選
ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる芳香族複素環
基」とは、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から選ばれ
る１乃至３個の複素原子を有する芳香族複素環基、好ま
しくは５乃至６員の芳香族複素環基を意味し、具体的に
はピロリル基、フリル基、チエニル基、チアゾリル基、
オキサゾリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、
イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル
基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、
ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリ
アジニル基等である。

【００９８】「（低級ヒドロキシアルキル）アミノ基」
とは、アミノ基に前述の低級ヒドロキシアルキル基が置
換したものを意味し、具体的にはヒドロキシメチルアミ
ノ基、１−ヒドロキシエチルアミノ基、２−ヒドロキシ
エチルアミノ基、１−ヒドロキシプロピルアミノ基、２
−ヒドロキシプロピルアミノ基、３−ヒドロキシプロピ
ルアミノ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルアミノ
基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチルアミノ基、１−
ヒドロキシブチルアミノ基、２−ヒドロキシブチルアミ
ノ基、３−ヒドロキシブチルアミノ基、４−ヒドロキシ
ブチルアミノ基、１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル
アミノ基、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミノ
基、３−ヒドロキシ−２−メチルプロピルアミノ基、１
−ヒドロキシメチルプロピルアミノ基、１−ヒドロキシ
−１−メチルプロピルアミノ基、２−ヒドロキシ−１−
メチルプロピルアミノ基、３−ヒドロキシ−１−メチル
プロピルアミノ基、２−ヒドロキシ−１，１−ジメチル
エチルアミノ基等である。

【００９９】「ジ（低級ヒドロキシアルキル）アミノ
基」とは、アミノ基に前述の低級ヒドロキシアルキル基
が同一又は異なってジ置換したものを意味し、具体的に
はジヒドロキシメチル）アミノ基、ジ（２−ヒドロキシ
エチル）アミノ基、ジ（３−ヒドロキシプロピル）アミ
ノ基、ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミノ基、ジ（４
−ヒドロキシブチル）アミノ基、（Ｎ−ヒドロキシメチ
ル−Ｎ−２−ヒドロキシエチル）アミノ基等である。

【０１００】「（低級ハロアルキル）アミノ基」とは、
アミノ基に前述の低級ハロアルキル基が置換したものを
意味し、具体的にはフルオロメチルアミノ基、クロロメ
チルアミノ基、ブロモメチルアミノ基、ジフルオロメチ
ルアミノ基、ジクロロメチルアミノ基、トリフルオロメ
チルアミノ基、トリクロロメチルアミノ基、クロロエチ
ルアミノ基、ジフルオロエチルアミノ基、トリフルオロ
エチルアミノ基、ペンタクロロエチルアミノ基、ブロモ
プロピルアミノ基、ジクロロプロピルアミノ基、トリフ
ルオロブチルアミノ基等である。

【０１０１】「ジ（低級ハロアルキル）アミノ基」と
は、アミノ基に前述の低級ハロアルキル基がジ置換した
ものを意味し、具体的にはジ（フルオロメチル）アミノ
基、ジ（クロロメチル）アミノ基、ジ（ブロモメチル）
アミノ基、ジ（ジフルオロメチル）アミノ基、ジ（ジク
ロロメチル）アミノ基、ジ（トリフルオロメチル）アミ
ノ基、ジ（トリクロロメチル）アミノ基、ジ（クロロエ
チル）アミノ基、ジ（ジフルオロエチル）アミノ基、ジ
（トリフルオロエチル）アミノ基、ジ（ペンタクロロエ
チル）アミノ基、ジ（ブロモプロピル）アミノ基、ジ
（ジクロロプロピル）アミノ基、ジ（トリフルオロブチ
ル）アミノ基等である。

【０１０２】「カルボキシ低級アルキル基」とは、前述
の低級アルキル基にカルボキシ基が置換したものを意味
し、具体的にはカルボキシメチル基、２−カルボキシエ
チル基、２−カルボキシプロピル基、３−カルボキシプ
ロピル基、４−カルボキシブチル基等である。

【０１０３】「（カルボキシ低級アルキル）アミノ基」
とは、アミノ基に前述のカルボキシ低級アルキル基が置
換したものを意味し、具体的には（カルボキシメチル）
アミノ基、（２−カルボキシエチル）アミノ基、（２−
カルボキシプロピル）アミノ基、（３−カルボキシプロ
ピル）アミノ基、（４−カルボキシブチル）アミノ基等
である。

【０１０４】「ジ（カルボキシ低級アルキル）アミノ
基」とは、アミノ基に前述のカルボキシ低級アルキル基
がジ置換したものを意味し、具体的にはジ（カルボキシ
メチル）アミノ基、ジ（２−カルボキシエチル）アミノ
基、ジ（２−カルボキシプロピル）アミノ基、ジ（３−
カルボキシプロピル）アミノ基、ジ（４−カルボキシブ
チル）アミノ基等である。

【０１０５】「低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基」とは、前述の低級アルキル基に前述の低級アルコキ
シカルボニル基が置換したものを意味し、具体的にはメ
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソ
ブトキシカルボニルメチル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボ
ニルメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル
基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカ
ルボニルエチル基、２−プロポキシカルボニルエチル
基、３−メトキシカルボニルプロピル基、３−エトキシ
カルボニルプロピル基、４−メトキシカルボニルブチル
基、４−エトキシカルボニルブチル基等である。

【０１０６】「（低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル）アミノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基が置換したものを意味し、具
体的には（メトキシカルボニルメチル）アミノ基、（エ
トキシカルボニルメチル）アミノ基、（プロポキシカル
ボニルメチル）アミノ基、（イソプロポキシカルボニル
メチル）アミノ基、（ブトキシカルボニルメチル）アミ
ノ基、（イソブトキシカルボニルメチル）アミノ基、
（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）アミノ基、（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）アミノ基、（２−
メトキシカルボニルエチル）アミノ基、（２−エトキシ
カルボニルエチル）アミノ基、（２−プロポキシカルボ
ニルエチル）アミノ基、（３−メトキシカルボニルプロ
ピル）アミノ基、（３−エトキシカルボニルプロピル）
アミノ基、（４−メトキシカルボニルブチル）アミノ
基、（４−エトキシカルボニルブチル基）アミノ基等で
ある。

【０１０７】「ジ（低級アルコキシカルボニル低級アル
キル）アミノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基がジ置換したものを意味
し、具体的にはジ（メトキシカルボニルメチル）アミノ
基、ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ基、ジ（プ
ロポキシカルボニルメチル）アミノ基、ジ（イソプロポ
キシカルボニルメチル）アミノ基、ジ（ブトキシカルボ
ニルメチル）アミノ基、ジ（イソブトキシカルボニルメ
チル）アミノ基、ジ（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチ
ル）アミノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル）アミノ基、ジ（２−メトキシカルボニルエチル）ア
ミノ基、ジ（２−エトキシカルボニルエチル）アミノ
基、ジ（２−プロポキシカルボニルエチル）アミノ基、
ジ（３−メトキシカルボニルプロピル）アミノ基、ジ
（３−エトキシカルボニルプロピル）アミノ基、ジ（４
−メトキシカルボニルブチル）アミノ基、ジ（４−エト
キシカルボニルブチル基）アミノ等である。

【０１０８】「低級アルカノイル基」とは、炭素原子数
２乃至５個の低級アルカノイル基を意味し、具体的には
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリ
ル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基等で
ある。

【０１０９】「低級アルカノイル低級アルキル基」と
は、前述の低級アルキル基に前述の低級アルカノイル基
が置換したものを意味し、具体的にはアセチルメチル
基、２−アセチルエチル基、３−アセチルプロピル基、
４−アセチルブチル基、プロピロニルメチル基、２−プ
ロピオニルエチル基、３−プロピオニルプロピル基、ブ
チリルメチル基、２−ブチリルエチル基、イソブチリル
メチル基、２−イソブチリルエチル基、バレリルメチル
基、イソバレリルメチル基、ピバロイルメチル基、２−
ピバロイルエチル基等である。

【０１１０】「（低級アルカノイル低級アルキル）アミ
ノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルカノイル低級ア
ルキル基が置換したものを意味し、具体的には（アセチ
ルメチル）アミノ基、（２−アセチルエチル）アミノ
基、（３−アセチルプロピル）アミノ基、（４−アセチ
ルブチル）アミノ基、（プロピロニルメチル）アミノ
基、（２−プロピオニルエチル）アミノ基、（３−プロ
ピオニルプロピル）アミノ基、（ブチリルメチル）アミ
ノ基、（２−ブチリルエチル）アミノ基、（イソブチリ
ルメチル）アミノ基、（２−イソブチリルエチル）アミ
ノ基、（バレリルメチル）アミノ基、（イソバレリルメ
チル）アミノ基、（ピバロイルメチル）アミノ基、（２
−ピバロイルエチル）アミノ基等である。

【０１１１】「ジ（低級アルカノイル低級アルキル）ア
ミノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルカノイル低級
アルキル基がジ置換したものを意味し、具体的には（ア
セチルメチル）アミノ基、（２−アセチルエチル）アミ
ノ基、（３−アセチルプロピル）アミノ基、（４−アセ
チルブチル）アミノ基、（プロピロニルメチル）アミノ
基、（２−プロピオニルエチル）アミノ基、（３−プロ
ピオニルプロピル）アミノ基、（ブチリルメチル）アミ
ノ基、（２−ブチリルエチル）アミノ基、（イソブチリ
ルメチル）アミノ基、（２−イソブチリルエチル）アミ
ノ基、（バレリルメチル）アミノ基、（イソバレリルメ
チル）アミノ基、（ピバロイルメチル）アミノ基、（２
−ピバロイルエチル）アミノ基等である。

【０１１２】「カルバモイル低級アルキル基」とは、前
述のアルキル基にカルバモイル基が置換したものを意味
し、具体的にはカルバモイルメチル基、２−カルバモイ
ルエチル基、３−カルバモイルプロピル基、４−カルバ
モイルブチル基、３−カルバモイル−１−メチルプロピ
ル基、１−カルバモイルエチル基、２−カルバモイルプ
ロピル基等である。

【０１１３】「（カルバモイル低級アルキル）アミノ
基」とは、アミノ基に前述のカルバモイル低級アルキル
基が置換したものを意味し、具体的には（カルバモイル
メチル）アミノ基、（２−カルバモイルエチル）アミノ
基、（３−カルバモイルプロピル）アミノ基、（４−カ
ルバモイルブチル）アミノ基、（３−カルバモイル−１
−メチルプロピル）アミノ基、（１−カルバモイルエチ
ル）アミノ基、（２−カルバモイルプロピル）アミノ基
等である。

【０１１４】「ジ（カルバモイル低級アルキル）アミノ
基」とは、アミノ基に前述のカルバモイル低級アルキル
基がジ置換したものを意味し、具体的にはジ（カルバモ
イルメチル）アミノ基、ジ（２−カルバモイルエチル）
アミノ基、ジ（３−カルバモイルプロピル）アミノ基、
ジ（４−カルバモイルブチル）アミノ基、ジ（３−カル
バモイル−１−メチルプロピル）アミノ基、ジ（１−カ
ルバモイルエチル）アミノ基、ジ（２−カルバモイルプ
ロピル）アミノ基等である。

【０１１５】「低級アルキルカルバモイル低級アルキル
基」とは、前述の低級アルキル基に前述の低級アルキル
カルバモイル基が置換したものを意味し、具体的にはメ
チルカルバモイルメチル基、エチルカルバモイルメチル
基、プロピルカルバモイルメチル基、イソプロピルカル
バモイルメチル基、ブチルカルバモイルメチル基、イソ
ブチルカルバモイルメチル基、ｓｅｃ−ブチルカルバモ
イルメチル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルメチル
基、２−（メチルカルバモイル）エチル基、２−（エチ
ルカルバモイル）エチル基、２−（プロピルカルバモイ
ル）エチル基、２−（イソプロピルカルバモイル）エチ
ル基、２−（ブチルカルバモイル）エチル基、２−（イ
ソブチルカルバモイル）エチル基、２−（ｓｅｃ−ブチ
ルカルバモイル）エチル基、２−（ｔｅｒｔ−ブチルカ
ルバモイル）エチル基、３−（メチルカルバモイル）プ
ロピル基、３−（エチルカルバモイル）プロピル基、４
−（メチルカルバモイル）ブチル基、４−（エチルカル
バモイル）ブチル基等である。

【０１１６】「（低級アルキルカルバモイル低級アルキ
ル）アミノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルキルカ
ルバモイル低級アルキル基が置換したものを意味し、具
体的には（メチルカルバモイルメチル）アミノ基、（エ
チルカルバモイルメチル）アミノ基、（プロピルカルバ
モイルメチル）アミノ基、（イソプロピルカルバモイル
メチル）アミノ基、（ブチルカルバモイルメチル）アミ
ノ基、（イソブチルカルバモイルメチル）アミノ基、
（ｓｅｃ−ブチルカルバモイルメチル）アミノ基、（ｔ
ｅｒｔ−ブチルカルバモイルメチル）アミノ基、［２−
（メチルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（エ
チルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（プロピ
ルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（イソプロ
ピルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ブチル
カルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（イソブチル
カルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ｓｅｃ−ブ
チルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルカルバモイル）エチル］アミノ基、［３−
（メチルカルバモイル）プロピル］アミノ基、［３−
（エチルカルバモイル）プロピル］アミノ基、［４−
（メチルカルバモイル）ブチル］アミノ基、［４−（エ
チルカルバモイル）ブチル］アミノ基等である。

【０１１７】「ジ（低級アルキルカルバモイル低級アル
キル）アミノ基」とは、アミノ基に前述の低級アルキル
カルバモイル低級アルキル基がジ置換したものを意味
し、具体的にはジ（メチルカルバモイルメチル）アミノ
基、ジ（エチルカルバモイルメチル）アミノ基、ジ（プ
ロピルカルバモイルメチル）アミノ基、ジ（イソプロピ
ルカルバモイルメチル）アミノ基、ジ（ブチルカルバモ
イルメチル）アミノ基、ジ（イソブチルカルバモイルメ
チル）アミノ基、ジ（ｓｅｃ−ブチルカルバモイルメチ
ル）アミノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルメチ
ル）アミノ基、ジ［２−（メチルカルバモイル）エチ
ル］アミノ基、ジ［２−（エチルカルバモイル）エチ
ル］アミノ基、ジ［２−（プロピルカルバモイル）エチ
ル］アミノ基、ジ［２−（イソプロピルカルバモイル）
エチル］アミノ基、ジ［２−（ブチルカルバモイル）エ
チル］アミノ基、ジ［２−（イソブチルカルバモイル）
エチル］アミノ基、ジ［２−（ｓｅｃ−ブチルカルバモ
イル）エチル］アミノ基、ジ［２−（ｔｅｒｔ−ブチル
カルバモイル）エチル］アミノ基、ジ［３−（メチルカ
ルバモイル）プロピル］アミノ基、ジ［３−（エチルカ
ルバモイル）プロピル］アミノ基、ジ［４−（メチルカ
ルバモイル）ブチル］アミノ基、ジ［４−（エチルカル
バモイル）ブチル］アミノ基等である。

【０１１８】「（ジ低級アルキルカルバモイル）低級ア
ルキル基」とは、前述の低級アルキル基に前述のジ低級
アルキルカルバモイル基がジ置換したものを意味し、具
体的には（ジメチルカルバモイル）メチル基、（ジエチ
ルカルバモイル）メチル基、（ジプロピルカルバモイ
ル）メチル基、（ジイソプロピルカルバモイル）メチル
基、（ジブチルカルバモイル）メチル基、（ジイソブチ
ルカルバモイル）メチル基、（ジ−ｓｅｃ−ブチルカル
バモイル）メチル基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモ
イル）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイ
ル）メチル基、（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイ
ル）メチル基、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバモイ
ル）メチル基、２−（ジメチルカルバモイル）エチル
基、２−（ジエチルカルバモイル）エチル基、２−（ジ
プロピルカルバモイル）エチル基、２−（ジイソプロピ
ルカルバモイル）エチル基、２−（ジブチルカルバモイ
ル）エチル基、２−（ジイソブチルカルバモイル）エチ
ル基、２−（ジ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル）エチル
基、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル）エチル
基、３−（ジメチルカルバモイル）プロピル基、３−
（ジエチルカルバモイル）プロピル基、４−（ジメチル
カルバモイル）ブチル基、４−（ジエチルカルバモイ
ル）ブチル基等である。

【０１１９】「［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級
アルキル］アミノ基」とは、アミノ基に前述の（ジ低級
アルキルカルバモイル）低級アルキル基が置換したもの
を意味し、具体的には［（ジメチルカルバモイル）メチ
ル］アミノ基、［（ジエチルカルバモイル）メチル］ア
ミノ基、［（ジプロピルカルバモイル）メチル］アミノ
基、［（ジイソプロピルカルバモイル）メチル］アミノ
基、［（ジブチルカルバモイル）メチル］アミノ基、
［（ジイソブチルカルバモイル）メチル］アミノ基、
［（ジ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル）メチル］アミノ
基、［（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル）メチル］
アミノ基、［（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル）
メチル］アミノ基、［（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカル
バモイル）メチル］アミノ基、［（Ｎ−エチル−Ｎ−プ
ロピルカルバモイル）メチル］アミノ基、［２−（ジメ
チルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジエチ
ルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジプロピ
ルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジイソプ
ロピルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジブ
チルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジイソ
ブチルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２−（ジ−
ｓｅｃ−ブチルカルバモイル）エチル］アミノ基、［２
−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル）エチル］アミ
ノ基、［３−（ジメチルカルバモイル）プロピル］アミ
ノ基、［３−（ジエチルカルバモイル）プロピル］アミ
ノ基、［４−（ジメチルカルバモイル）ブチル］アミノ
基、［４−（ジエチルカルバモイル）ブチル］アミノ基
等である。

【０１２０】「ジ［（ジ低級アルキルカルバモイル）低
級アルキル］アミノ基」とは、アミノ基に前述の（ジ低
級アルキルカルバモイル）低級アルキル基がジ置換した
ものを意味し、具体的にはジ［（ジメチルカルバモイ
ル）メチル］アミノ基、ジ［（ジエチルカルバモイル）
メチル］アミノ基、ジ［（ジプロピルカルバモイル）メ
チル］アミノ基、ジ［（ジイソプロピルカルバモイル）
メチル］アミノ基、ジ［（ジブチルカルバモイル）メチ
ル］アミノ基、ジ［（ジイソブチルカルバモイル）メチ
ル］アミノ基、ジ［（ジ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイ
ル）メチル］アミノ基、ジ［（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカ
ルバモイル）メチル］アミノ基、ジ［（Ｎ−エチル−Ｎ
−メチルカルバモイル）メチル］アミノ基、ジ［（Ｎ−
メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル）メチル］アミノ
基、ジ［（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバモイル）メ
チル］アミノ基、ジ［２−（ジメチルカルバモイル）エ
チル］アミノ基、ジ［２−（ジエチルカルバモイル）エ
チル］アミノ基、ジ［２−（ジプロピルカルバモイル）
エチル］アミノ基、ジ［２−（ジイソプロピルカルバモ
イル）エチル］アミノ基、ジ［２−（ジブチルカルバモ
イル）エチル］アミノ基、ジ［２−（ジイソブチルカル
バモイル）エチル］アミノ基、ジ［２−（ジ−ｓｅｃ−
ブチルカルバモイル）エチル］アミノ基、ジ［２−（ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル）エチル］アミノ基、
ジ［３−（ジメチルカルバモイル）プロピル］アミノ
基、ジ［３−（ジエチルカルバモイル）プロピル］アミ
ノ基、ジ［４−（ジメチルカルバモイル）ブチル］アミ
ノ基、ジ［４−（ジエチルカルバモイル）ブチル］アミ
ノ基等である。

【０１２１】「アラルキルアミノ基」とは、アミノ基に
前述のアラルキル基が置換したものを意味し、具体的に
はベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、（３−フェ
ニルプロピル）アミノ基、（２−フェニルプロピル）ア
ミノ基、（４−フェニルブチル）アミノ基、（ナフチル
メチル）アミノ基、（２−ナフチルエチル）アミノ基、
（４−ビフェニルメチル）アミノ基、（３−（４−ビフ
ェニル）プロピル）アミノ基等である。

【０１２２】「ジアラルキルアミノ基」とは、アミノ基
に前述のアラルキル基がジ置換したものを意味し、具体
的にはジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基、ジ
（３−フェニルプロピル）アミノ基、ジ（２−フェニル
プロピル）アミノ基、ジ（４−フェニルブチル）アミノ
基、ジ（ナフチルメチル）アミノ基、ジ（２−ナフチル
エチル）アミノ基等である。

【０１２３】「低級アルカノイルアミノ基」とは、アミ
ノ基に前述の低級アルカノイル基が置換したものを意味
し、具体的にはアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、ブチリルアミノ基、イソブチリルアミノ基、バレリ
ルアミノ基、イソバレリルアミノ基、ピバロイルアミノ
基等である。

【０１２４】「ジ低級アルカノイルアミノ基」とは、ア
ミノ基に前述の低級アルカノイル基がジ置換したものを
意味し、具体的にはジアセチルアミノ基、ジプロピオニ
ルアミノ基、ジブチリルアミノ基、ジイソブチリルアミ
ノ基、ジバレリルアミノ基、ジイソバレリルアミノ基、
ジピバロイルアミノ基等である。

【０１２５】「低級ハロアルカノイルアミノ基」とは、
アミノ基に前述のハロゲン原子で置換された前述の低級
アルカノイル基が置換したものを意味し、具体的にはク
ロロアセチルアミノ基、フルオロアセチルアミノ基、ブ
ロモアセチルアミノ基、ジクロロアセチルアミノ基、ジ
フルオロアセチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミ
ノ基、トリクロロアセチルアミノ基、クロロプロピオニ
ルアミノ基、ジフルオロプロピオニルアミノ基、トリフ
ルオロプロピオニルアミノ基、ペンタクロロプロピオニ
ルアミノ基、ブロモブチリルアミノ基、ジクロロブチリ
ルアミノ基、トリフルオロバレリルアミノ基等である。

【０１２６】「ジ（低級ハロアルカノイル）アミノ基」
とは、アミノ基に前述のハロゲン原子で置換された前述
の低級アルカノイル基がジ置換したものを意味し、具体
的にはジ（クロロアセチル）アミノ基、ジ（フルオロア
セチル）アミノ基、ジ（ブロモアセチル）アミノ基、ジ
（ジクロロアセチル）アミノ基、ジ（ジフルオロアセチ
ル）アミノ基、ジ（トリフルオロアセチル）アミノ基、
ジ（トリクロロアセチル）アミノ基、ジ（クロロプロピ
オニル）アミノ基、ジ（ジフルオロプロピオニル）アミ
ノ基、ジ（トリフルオロプロピオニル）アミノ基、ジ
（ペンタクロロプロピオニル）アミノ基、ジ（ブロモブ
チリル）アミノ基、ジ（ジクロロブチリル）アミノ基、
ジ（トリフルオロバレリル）アミノ基等である。

【０１２７】「低級アルコキサリルアミノ基」とは、ア
ミノ基に炭素原子数３乃至６個の低級アルコキサリル基
が置換したものを意味し、具体的にはメトキサリルアミ
ノ基、エトキサリルアミノ基、プロポキサリルアミノ
基、イソプロポキサリルアミノ基、ブトキサリルアミノ
基、イソブトキサリルアミノ基、ｓｅｃ−ブトキサリル
アミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキサリルアミノ基等である。

【０１２８】「ジ低級アルコキサリルアミノ基」とは、
アミノ基に炭素原子数３乃至６個の低級アルコキサリル
基がジ置換したものを意味し、具体的にはジメトキサリ
ルアミノ基、ジエトキサリルアミノ基、ジプロポキサリ
ルアミノ基、ジイソプロポキサリルアミノ基、ジブトキ
サリルアミノ基、ジイソブトキサリルアミノ基、ジ−ｓ
ｅｃ−ブトキサリルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサ
リルアミノ基等である。

【０１２９】「（低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ
基」とは、アミノ基に水酸基で置換された前述の低級ア
ルカノイル基が置換したものを意味し、具体的には（ヒ
ドロキシアセチル）アミノ基、（２−ヒドロキシプロピ
オニル）アミノ基、（３−ヒドロキシプロピオニル）ア
ミノ基、（２−ヒドロキシブチリル）アミノ基、（３−
ヒドロキシブチリル）アミノ基、（４−ヒドロキシブチ
リル）アミノ基、（５−ヒドロキシバレリル）アミノ
基、（４−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）アミ
ノ基、（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオニ
ル）アミノ基等である。

【０１３０】「ジ（低級ヒドロキシアルカノイル）アミ
ノ基」とは、アミノ基に水酸基で置換された前述の低級
アルカノイル基が置換したものを意味し、具体的にはジ
（ヒドロキシアセチル）アミノ基、ジ（２−ヒドロキシ
プロピオニル）アミノ基、ジ（３−ヒドロキシプロピオ
ニル）アミノ基、ジ（２−ヒドロキシブチリル）アミノ
基、ジ（３−ヒドロキシブチリル）アミノ基、ジ（４−
ヒドロキシブチリル）アミノ基、ジ（５−ヒドロキシバ
レリル）アミノ基、ジ（４−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロピオニル）アミノ基、ジ（３−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルプロピオニル）アミノ基等である。

【０１３１】「（低級アルコキシ低級アルカノイル）ア
ミノ基」とは、アミノ基に水酸基で置換された前述の低
級アルカノイル基が置換したものを意味し、具体的には
（メトキシアセチル）アミノ基、（２−メトキシプロピ
オニル）アミノ基、（３−メトキシプロピオニル）アミ
ノ基、（２−メトキシブチリル）アミノ基、（３−メト
キシブチリル）アミノ基、（４−メトキシブチリル）ア
ミノ基、（５−メトキシバレリル）アミノ基、（４−メ
トキシ−２−メチルプロピオニル）アミノ基、（３−メ
トキシ−２，２−ジメチルプロピオニル）アミノ基、
（エトキシアセチル）アミノ基、（２−エトキシプロピ
オニル）アミノ基、（３−エトキシプロピオニル）アミ
ノ基、（２−エトキシブチリル）アミノ基、（３−エト
キシブチリル）アミノ基、（４−エトキシブチリル）ア
ミノ基、（５−エトキシバレリル）アミノ基、（４−エ
トキシ−２−メチルプロピオニル）アミノ基、（３−エ
トキシ−２，２−ジメチルプロピオニル）アミノ基、
（プロポキシアセチル）アミノ基、（３−プロポキシプ
ロピオニル）アミノ基、（ブトキシアセチル）アミノ
基、（３−ブキシプロピオニル）アミノ基等である。

【０１３２】「ジ（低級アルコキシ低級アルカノイル）
アミノ基」とは、アミノ基に水酸基で置換された前述の
低級アルカノイル基がジ置換したものを意味し、具体的
にはジ（メトキシアセチル）アミノ基、ジ（２−メトキ
シプロピオニル）アミノ基、ジ（３−メトキシプロピオ
ニル）アミノ基、ジ（２−メトキシブチリル）アミノ
基、ジ（３−メトキシブチリル）アミノ基、ジ（４−メ
トキシブチリル）アミノ基、ジ（５−メトキシバレリ
ル）アミノ基、ジ（４−メトキシ−２−メチルプロピオ
ニル）アミノ基、ジ（３−メトキシ−２，２−ジメチル
プロピオニル）アミノ基、ジ（エトキシアセチル）アミ
ノ基、ジ（２−エトキシプロピオニル）アミノ基、ジ
（３−エトキシプロピオニル）アミノ基、ジ（２−エト
キシブチリル）アミノ基、ジ（３−エトキシブチリル）
アミノ基、ジ（４−エトキシブチリル）アミノ基、ジ
（５−エトキシバレリル）アミノ基、ジ（４−エトキシ
−２−メチルプロピオニル）アミノ基、ジ（３−エトキ
シ−２，２−ジメチルプロピオニル）アミノ基、ジ（プ
ロポキシアセチル）アミノ基、ジ（３−プロポキシプロ
ピオニル）アミノ基、ジ（ブトキシアセチル）アミノ
基、ジ（３−ブキシプロピオニル）アミノ基等である。

【０１３３】「低級アルコキシカルボニルアミノ基」と
は、アミノ基に前述の低級アルコキシカルボニル基が置
換したものを意味し、具体的にはメトキシカルボニルア
ミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、プロポキシカル
ボニルアミノ基、イソプロポキシカルボニルアミノ基、
ブトキシカルボニルアミノ基、イソブトキシカルボニル
アミノ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等である。

【０１３４】「ジ（低級アルコキシカルボニル）アミノ
基」とは、アミノ基に前述の低級アルコキシカルボニル
基がジ置換したものを意味し、具体的にはジ（メトキシ
カルボニル）アミノ基、ジ（エトキシカルボニル）アミ
ノ基、ジ（プロポキシカルボニル）アミノ基、ジ（イソ
プロポキシカルボニル）アミノ基、ジ（ブトキシカルボ
ニル）アミノ基、ジ（イソブトキシカルボニル）アミノ
基、ジ（ｓｅｃ−ブトキシカルボニル）アミノ基、ジ
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ基等である。

【０１３５】「低級アルキル置換ウレイド基」とは、ウ
レイド基に前述の低級アルキル基が１以上置換したもの
を意味し、具体的には３−メチルウレイド基、３−エチ
ルウレイド基、３−プロピルウレイド基、３−イソプロ
ピルウレイド基、３−ブチルウレイド基、３−イソブチ
ルウレイド基、３−ｓｅｃ−ブチルウレイド基、３−ｔ
ｅｒｔ−ブチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド
基、３，３−ジエチルウレイド基、３，３−イソプロピ
ルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基、３−エチ
ル−１−メチルウレイド基、１，３−ジエチルウレイド
基、１，３−ジイソブチルウレイド基、１，３，３−ト
リメチルウレイド基等である。

【０１３６】「アラルキル置換ウレイド基」とは、ウレ
イド基に前述のアラルキル基が１以上置換したものを意
味し、具体的には３−ベンジルウレイド基、３−フェネ
チルウレイド基、３−（３−フェニルプロピル）ウレイ
ド基、３−（２−ナフチルメチル）ウレイド基、３，３
−ジベンジルウレイド基、１，３−ジベンジルウレイド
基等である。

【０１３７】「低級アルキル置換グアニジノ基」とは、
グアニジノ基に前述の低級アルキル基が１以上置換した
ものを意味し、具体的には３−メチルグアニジノ基、３
−エチルグアニジノ基、３−プロピルグアニジノ基、３
−イソプロピルグアニジノ基、３−ブチルグアニジノ
基、３−イソブチルグアニジノ基、３−ｓｅｃ−ブチル
グアニジノ基、３−ｔｅｒｔ−ブチルグアニジノ基、
３，３−ジメチルグアニジノ基、３，３−ジエチルグア
ニジノ基、１，３−イソプロピルグアニジノ基、２，３
−ジメチルウレイド基、３−エチル−２−メチルウレイ
ド基、１，３−ジメチルグアニジノ基、１，３−ジエチ
ルグアニジノ基、１，２，３−トリメチルウレイド基等
である。

【０１３８】「アラルキル置換グアニジノ基」とは、グ
アニジノ基に前述のアラルキル基が１以上置換したもの
を意味し、具体的には３−ベンジルグアニジノ基、３−
フェネチルグアニジノ基、３−（３−フェニルプロピ
ル）グアニジノ基、３−（２−ナフチルメチル）グアニ
ジノ基、３，３−ジベンジルグアニジノ基、２，３−ジ
ベンジルグアニジノ基、１，３−ジベンジルグアニジノ
基等である。

【０１３９】「低級アルカノイルオキシ基」とは、炭素
原子数２乃至５個の低級アルカノイルオキシ基を意味
し、具体的にはアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリ
ルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ
基等である。

【０１４０】「低級アルキルカルバモイルオキシ基」と
は、カルバモイルオキシ基に前述の低級アルキル基が置
換したものを意味し、具体的にはメチルカルバモイルオ
キシ基、エチルカルバモイルオキシ基、プロピルカルバ
モイルオキシ基、イソプロピルカルバモイルオキシ基、
ブチルカルバモイルオキシ基、イソブチルカルバモイル
オキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルバモイルオキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブチルカルバモイルオキシ基等である。

【０１４１】「ジ低級アルキルカルバモイルオキシ基」
とは、カルバモイルオキシ基に前述の低級アルキル基が
同一又は異なってジ置換したものを意味し、具体的には
ジメチルカルバモイルオキシ基、ジエチルカルバモイル
オキシ基、ジプロピルカルバモイルオキシ基、ジイソプ
ロピルカルバモイルオキシ基、ジブチルカルバモイルオ
キシ基、ジイソブチルカルバモイルオキシ基、ジ−ｓｅ
ｃ−ブチルカルバモイルオキシ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカル
バモイルオキシ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルカルバモイル
オキシ基等である。

【０１４２】「低級イミドイル基」とは、炭素原子数２
乃至５個の低級イミドイル基を意味し、具体的にはアセ
トイミドイル基、プロピオンイミドイル基、ブチルイミ
ドイル基、イソブチルイミドイル基、バレルイミドイル
基、イソバレルイミドイル基、ピバルイミドイル基等で
ある。

【０１４３】「窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選
ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる複素環基」と
は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から選ばれる１乃
至３個の複素原子を有する複素環基、好ましくは５乃至
６員の複素環基を意味し、具体的にはピロリル基、フリ
ル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イ
ミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル
基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリ
ル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピ
リミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、ピロ
リジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミ
ダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペ
ラジニル基、モルホリニル基、オキサゾリジニル基、オ
キサゾリニル基、チアゾリジニル基、チアゾリニル基等
である。

【０１４４】「カルバモイル低級アルコキシ基」とは、
前述の低級アルコキシ基にカルバモイル基が置換したも
のを意味し、カルバモイルメトキシ基、１−カルバモイ
ルエトキシ基、２−カルバモイルエトキシ基、１−カル
バモイルプロポキシ基、２−カルバモイルプロポキシ
基、３−カルバモイルプロポキシ基、２−カルバモイル
−１−メチルエトキシ基、１−カルバモイル−１−メチ
ルエトキシ基、１−カルバモイルブトキシ基、２−カル
バモイルブトキシ基、３−カルバモイルブトキシ基、４
−カルバモイルブトキシ基、１−カルバモイル−２−メ
チルプロポキシ基、２−カルバモイル−２−メチルプロ
ポキシ基、３−カルバモイル−２−メチルプロポキシ
基、１−カルバモイルメチルプロポキシ基、１−カルバ
モイル−１−メチルプロポキシ基、２−カルバモイル−
１−メチルプロポキシ基、３−カルバモイル−１−メチ
ルプロポキシ基、２−カルバモイル−１，１−ジメチル
エトキシ基等である。

【０１４５】「低級アルキルカルバモイル低級アルコキ
シ基」とは、前述のカルバモイル低級アルコキシ基に前
述の低級アルキル基が置換したものを意味し、具体的に
はメチルカルバモイルメトキシ基、エチルカルバモイル
メトキシ基、プロピルカルバモイルメトキシ基、イソプ
ロピルカルバモイルメトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカル
バモイルメトキシ基、２−（メチルカルバモイル）エト
キシ基、２−（エチルカルバモイル）エトキシ基、２−
（プロピルカルバモイル）エトキシ基、２−（イソプロ
ピルカルバモイル）エトキシ基、３−（メチルカルバモ
イル）プロポキシ基、３−（エチルカルバモイル）プロ
ポキシ基、４−（メチルカルバモイル）ブトキシ基、２
−（エチルカルバモイル）−２−メチルプロポキシ基等
である。

【０１４６】「（ジ低級アルキルカルバモイル）低級ア
ルコキシ基」とは、前述のカルバモイル低級アルコキシ
基に前述の低級アルキル基がジ置換したものを意味し、
具体的には（ジメチルカルバモイル）メトキシ基、（ジ
エチルカルバモイル）メトキシ基、（ジプロピルカルバ
モイル）メトキシ基、（ジイソプロピルカルバモイル）
メトキシ基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル）メ
トキシ基、２−（ジメチルカルバモイル）エトキシ基、
２−（ジエチルカルバモイル）エトキシ基、２−（ジプ
ロピルカルバモイル）エトキシ基、２−（ジイソプロピ
ルカルバモイル）エトキシ基、３−（ジメチルカルバモ
イル）プロポキシ基、３−（ジエチルカルバモイル）プ
ロポキシ基、４−（ジメチルカルバモイル）ブトキシ
基、２−（ジエチルカルバモイル）−２−メチルプロポ
キシ基等である。

【０１４７】「カルボキシ低級アルコキシ基」とは、前
述の低級アルコキシ基にカルボキシ基が置換したものを
意味し、具体的にはカルボキシメトキシ基、２−カルボ
キシエトキシ基、３−カルボキシプロポキシ基、４−カ
ルボキシブトキシ基、２−カルボキシ−１−エトキシ
基、１−カルボキシ−１−エトキシ基、３−カルボキシ
−２−メチルプロポキシ基、３−カルボキシ−１−メチ
ルプロポキシ基等である。

【０１４８】「低級アルコキシカルボニル低級アルコキ
シ基」とは、低級アルコキシ基に前述の低級アルコキシ
カルボニル基が置換したものを意味し、具体的にはメト
キシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキ
シ基、プロポキシカルボニルメトキシ基、イソプロポキ
シカルボニルメトキシ基、ブトキシカルボニルメトキシ
基、イソブトキシカルボニルメトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシカルボニルメトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシ基、２−メトキシカルボニルエトキシ基、
２−エトキシカルボニルエトキシ基、２−プロポキシカ
ルボニルエトキシ基、２−イソプロポキシカルボニルエ
トキシ基、２−ブトキシカルボニルエトキシ基、２−イ
ソブトキシカルボニルエトキシ基、２−ｓｅｃ−ブトキ
シカルボニルエトキシ基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルエトキシ基、３−メトキシカルボニルプロポキシ
基、３−エトキシカルボニルプロポキシ基、４−メトキ
シカルボニルブトキシ基、４−エトキシカルボニルブト
キシ基等である。

【０１４９】「低級アルカノイル低級アルコキシ基」と
は、前述の低級アルコキシ基に前述の低級アルカノイル
基が置換したものを意味し、具体的にはアセチルメトキ
シ基、プロピオニルメトキシ基、ブチリルメトキシ基、
イソブチリルメトキシ基、バレリルメトキシ基、イソバ
レリルメトキシ基、ピバロイルメトキシ基、２−アセチ
ルエトキシ基、２−プロピオニルエトキシ基、２−ブチ
リルエトキシ基、２−イソブチリルエトキシ基、２−バ
レリルエトキシ基、２−イソバレリルエトキシ基、２−
ピバロイルエトキシ基、３−アセチルプロポキシ基、３
−プロピオニルプロポキシ基、４−アセチルブトキシ
基、４−プロピオニルブトキシ基等である。

【０１５０】「カルバモイル低級アルキルチオ基」と
は、前述の低級アルキルチオ基にカルバモイル基が置換
したものを意味し、カルバモイルメチルチオ基、１−カ
ルバモイルエチルチオ基、２−カルバモイルエチルチオ
基、１−カルバモイルプロピルチオ基、２−カルバモイ
ルプロピルチオ基、３−カルバモイルプロピルチオ基、
２−カルバモイル−１−メチルエチルチオ基、１−カル
バモイル−１−メチルエチルチオ基、１−カルバモイル
ブチルチオ基、２−カルバモイルブチルチオ基、３−カ
ルバモイルブチルチオ基、４−カルバモイルブチルチオ
基、１−カルバモイル−２−メチルプロピルチオ基、２
−カルバモイル−２−メチルプロピルチオ基、３−カル
バモイル−２−メチルプロピルチオ基、１−カルバモイ
ルメチルプロピルチオ基、１−カルバモイル−１−メチ
ルプロピルチオ基、２−カルバモイル−１−メチルプロ
ピルチオ基、３−カルバモイル−１−メチルプロピルチ
オ基、２−カルバモイル−１，１−ジメチルエチルチオ
基等である。

【０１５１】「低級アルキルカルバモイル低級アルキル
チオ基」とは、前述のカルバモイル低級アルキルチオ基
に前述の低級アルキル基が置換したものを意味し、具体
的にはメチルカルバモイルメチルチオ基、エチルカルバ
モイルメチルチオ基、プロピルカルバモイルメチルチオ
基、イソプロピルカルバモイルメチルチオ基、ｔｅｒｔ
−ブチルカルバモイルメチルチオ基、２−（メチルカル
バモイル）エチルチオ基、２−（エチルカルバモイル）
エチルチオ基、２−（プロピルカルバモイル）エチルチ
オ基、２−（イソプロピルカルバモイル）エチルチオ
基、３−（メチルカルバモイル）プロピルチオ基、３−
（エチルカルバモイル）プロピルチオ基、４−（メチル
カルバモイル）ブチルチオ基、２−（エチルカルバモイ
ル）−２−メチルプロピルチオ基等である。

【０１５２】「（ジ低級アルキルカルバモイル）低級ア
ルキルチオ基」とは、前述のカルバモイル低級アルキル
チオ基に前述の低級アルキル基がジ置換したものを意味
し、具体的には（ジメチルカルバモイル）メチルチオ
基、（ジエチルカルバモイル）メチルチオ基、（ジプロ
ピルカルバモイル）メチルチオ基、（ジイソプロピルカ
ルバモイル）メチルチオ基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカ
ルバモイル）メチルチオ基、２−（ジメチルカルバモイ
ル）エチルチオ基、２−（ジエチルカルバモイル）エチ
ルチオ基、２−（ジプロピルカルバモイル）エチルチオ
基、２−（ジイソプロピルカルバモイル）エチルチオ
基、３−（ジメチルカルバモイル）プロピルチオ基、３
−（ジエチルカルバモイル）プロピルチオ基、４−（ジ
メチルカルバモイル）プロピルチオ基、２−（ジエチル
カルバモイル）−２−メチルプロピルチオ基等である。

【０１５３】「カルボキシ低級アルキルチオ基」とは、
前述の低級アルキルチオ基にカルボキシ基が置換したも
のを意味し、具体的にはカルボキシメチルチオ基、２−
カルボキシエチルチオ基、３−カルボキシプロピルチオ
基、４−カルボキシブチルチオ基、２−カルボキシ−１
−エチルチオ基、１−カルボキシ−１−エチルチオ基、
３−カルボキシ−２−メチルプロピルチオ基、３−カル
ボキシ−１−メチルプロピルチオ基等である。

【０１５４】「低級アルコキシカルボニル低級アルキル
チオ基」とは、低級アルキルチオ基に前述の低級アルコ
キシカルボニル基が置換したものを意味し、具体的には
メトキシカルボニルメチルチオ基、エトキシカルボニル
メチルチオ基、プロポキシカルボニルメチルチオ基、イ
ソプロポキシカルボニルメチルチオ基、ブトキシカルボ
ニルメチルチオ基、イソブトキシカルボニルメチルチオ
基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチルチオ基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ基、２−メトキシカ
ルボニルエチルチオ基、２−エトキシカルボニルエチル
チオ基、２−プロポキシカルボニルエチルチオ基、２−
イソプロポキシカルボニルエチルチオ基、２−ブトキシ
カルボニルエチルチオ基、２−イソブトキシカルボニル
エチルチオ基、２−ｓｅｃ−ブトキシカルボニルエチル
チオ基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチルチオ
基、３−メトキシカルボニルプロピルチオ基、３−エト
キシカルボニルプロピルチオ基、４−メトキシカルボニ
ルブチルチオ基、４−エトキシカルボニルブチルチオ基
等である。

【０１５５】「低級アルカノイル低級アルキルチオ基」
とは、前述の低級アルキルチオ基に前述の低級アルカノ
イル基が置換したものを意味し、具体的にはアセチルメ
チルチオ基、プロピオニルメチルチオ基、ブチリルメチ
ルチオ基、イソブチリルメチルチオ基、バレリルメチル
チオ基、イソバレリルメチルチオ基、ピバロイルメチル
チオ基、２−アセチルエチルチオ基、２−プロピオニル
エチルチオ基、２−ブチリルエチルチオ基、２−イソブ
チリルエチルチオ基、２−バレリルエチルチオ基、２−
イソバレリルエチルチオ基、２−ピバロイルエチルチオ
基、３−アセチルプロピルチオ基、３−プロピオニルプ
ロピルチオ基、４−アセチルブチルチオ基、４−プロピ
オニルブチルチオ基等である。

【０１５６】「アミノ低級アルキル基」とは、前述の低
級アルキル基にアミノ基が置換したものを意味し、具体
的にはアミノメチル基、１−アミノエチル基、２−アミ
ノエチル基、１−アミノプロピル基、２−アミノプロピ
ル基、３−アミノプロピル基、２−アミノ−１−メチル
エチル基、１−アミノ−１−メチルエチル基、１−アミ
ノブチル基、２−アミノブチル基、３−アミノブチル
基、４−アミノブチル基、１−アミノ−２−メチルプロ
ピル基、２−アミノ−２−メチルプロピル基、３−アミ
ノ−２−メチルプロピル基、１−アミノメチルプロピル
基、１−アミノ−１−メチルプロピル基、２−アミノ−
１−メチルプロピル基、３−アミノ−１−メチルプロピ
ル基、２−アミノ−１，１−ジメチルエチル基等であ
る。

【０１５７】「低級アルキルアミノ低級アルキル基」と
は、前述のアミノ低級アルキル基に前述の低級アルキル
基が置換したものを意味し、具体的にはメチルアミノメ
チル基、エチルアミノメチル基、プロピルアミノメチル
基、イソプロピルアミノメチル基、ブチルアミノメチル
基、イソブチルアミノメチル基、ｓｅｃ−ブチルアミノ
メチル基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル基、２−メチ
ルアミノエチル基、２−エチルアミノエチル基、２−プ
ロピルアミノエチル基、２−イソプロピルアミノエチル
基、３−メチルアミノプロピル基、３−エチルアミノプ
ロピル基、４−メチルアミノブチル基、４−エチルアミ
ノブチル基等である。

【０１５８】「（ジ低級アルキルアミノ）低級アルキル
基」とは、前述のアミノ低級アルキル基に前述の低級ア
ルキル基がジ置換したものを意味し、具体的にはジメチ
ルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジプロピ
ルアミノメチル基、ジイソプロピルアミノメチル基、ジ
ブチルアミノメチル基、ジイソブチルアミノメチル基、
ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノメチル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルアミノメチル基、２−ジメチルアミノエチル基、２
−ジエチルアミノエチル基、２−ジプロピルアミノエチ
ル基、２−ジイソプロピルアミノエチル基、３−ジメチ
ルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、
４−ジメチルアミノブチル基、４−ジエチルアミノブチ
ル基等である。

【０１５９】「（カルバモイル）（カルボキシ）二置換
低級アルキル基」とは、前述の低級アルキル基にカルバ
モイル基及びカルボキシ基が置換したものを意味し、具
体的には１−カルボキシ−２−カルバモイルエチル基、
２−カルボキシ−１−カルバモイルエチル基、１−カル
ボキシ−３−カルバモイルプロピル基、２−カルボキシ
−３−カルバモイルプロピル基等である。

【０１６０】「（カルバモイル）（低級アルコキシカル
ボニル）二置換低級アルキル基」とは、前述の低級アル
キル基にカルバモイル基及び前述の低級アルコキシカル
ボニル基が置換したものを意味し、具体的には１−メト
キシカルボニル−２−カルバモイルエチル基、１−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−２−カルバモイルエチル
基、１−エトキシカルボニル−２−カルバモイルエチル
基、１−メトキシカルボニル−３−カルバモイルプロピ
ル基等である。

【０１６１】より具体的に述べるならば、Ｒにおける
「低級アルキル基」として、好ましいのはメチル基、エ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であり、特に好ましいのは
エチル基である。

【０１６２】Ｒにおける「低級ハロアルキル基」とし
て、特に好ましいのはクロロメチル基である。

【０１６３】Ｒにおける「低級ヒドロキシアルキル基」
として、好ましいのはヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
プロピル基であり、特に好ましいのはヒドロキシメチル
基である。

【０１６４】Ｒにおける「低級アルコキシ低級アルキル
基」として、特に好ましいのはメトキシメチル基であ
る。

【０１６５】Ｒにおける「アラルキルオキシ低級アルキ
ル基」として、好ましいのはベンジルオキシメチル基、
ベンジルオキシプロピル基であり、特に好ましいのはベ
ンジルオキシメチル基である。

【０１６６】Ｒにおける「低級アルコキシカルボニル
基」として、特に好ましくはエトキシカルボニル基であ
る。

【０１６７】Ｒにおける「低級アルキルカルバモイル
基」として、特に好ましいのはメチルカルバモイル基で
ある。

【０１６８】Ｒにおける「ジ低級アルキルカルバモイル
基」として、特に好ましいのはジメチルカルバモイル基
である。

【０１６９】Ｒ₁における「ハロゲン原子；低級アルキ
ル基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト基；低級
アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及び
ジ低級アルキルアミノ基から選ばれる１以上の置換基で
置換されてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキ
ル基」として、好ましいのはシクロペンチル基、１−メ
チルシクロペンチル基、シクロヘキシル基であり、特に
好ましいのはシクロペンチル基、シクロヘキシル基であ
る。

【０１７０】Ｒ₂における「アリール基」として、好ま
しいのはフェニル基、ナフチル基、であり、特に好まし
いのはフェニル基である。

【０１７１】Ｒ₂における「窒素原子、酸素原子及び硫
黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる芳
香族複素環基」として、特に好ましいのはピリジル基、
チエニル基である。

【０１７２】Ｒ₂におけるＱとして、好ましいのは

【０１７３】

【化２７】

【０１７４】であり、特に好ましいのは

【０１７５】

【化２８】

【０１７６】である。

【０１７７】Ｑ₁における「アリール基」として、好ま
しいのはフェニル基、ナフチル基、であり、特に好まし
いのはフェニル基である。

【０１７８】Ｑ₁における「窒素原子、酸素原子及び硫
黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる芳
香族複素環基」として、特に好ましいのはピリジル基、
チアゾール基である。

【０１７９】Ｑ₁における「炭素原子数３乃至７個のシ
クロアルキル基」として、好ましいのはシクロペンチル
基、シクロヘキシル基であり、特に好ましくはシクロヘ
キシル基である。

【０１８０】Ｑ₁におけるＱとして、好ましいのは

【０１８１】

【化２９】

【０１８２】であり、特に好ましいのは

【０１８３】

【化３０】

【０１８４】である。

【０１８５】ｎにおいて、好ましいのは０又は１乃至２
から選ばれる整数であり、特に好ましいのは０である。

【０１８６】Ａ群において、好ましいのはシアノ基；ニ
トロ基；水酸基；ハロゲン原子（特にフッ素原子、塩素
原子）；アミノ基；低級アルキルアミノ基（特にメチル
アミノ基、エチルアミノ基）；ジ低級アルキルアミノ基
（特にジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基）；（低級
アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基（特にエ
トキシカルボニルメチルアミノ基）；（カルバモイル低
級アルキル）アミノ基（特に（カルバモイルメチル）ア
ミノ基）；低級アルカノイルアミノ基（特にアセチルア
ミノ基、プロピオニルアミノ基）；ジ低級アルカノイル
アミノ基（特にジアセチルアミノ基）；低級ハロアルカ
ノイルアミノ基（特にトリフルオロアセチルアミノ
基）；低級アルコキサリルアミノ基（特にエトキサリル
アミノ基）；（低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基
（特に（ヒドロキシアセチル）アミノ基）；（低級アル
コキシ低級アルカノイル）アミノ基（特に（メトキシア
セチル）アミノ基）；低級アルコキシカルボニルアミノ
基（特にメトキシカルボニルアミノ基）；ウレイド基；
低級アルキル置換ウレイド基（特に３−メチルウレイド
基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウ
レイド基）；グアニジノ基；低級アルカノイルオキシ基
（特にアセトキシ基）；ベンゾイル基；カルボキシ基；
１−ピペリジルカルボニル基；１−ピペラジニルカルボ
ニ基；１−ピロリジニルカルボニル基；モルホリノカル
ボニル基；低級アルキル基（特にメチル基、エチル基、
イソプロピル基）；低級アルカノイル基（特にアセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基）；
低級アルコキシ基（特にメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基）；低級アル
キルチオ基（特にメチルチオ基、エチルチオ基、プロピ
ルチオ基）；低級イミドイル基（特にアセトイミドイル
基）；アミジノ基；カルバモイル基；低級アルコキシカ
ルボニル基（特にメトキシカルボニル基）；窒素原子、
酸素原子及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３
個含んでなる複素環基（特にオキサゾリニル基イミダゾ
リニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、オキ
サゾリジニル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル
基）であり、特に好ましいのはシアノ基；ニトロ基；水
酸基；ハロゲン原子（特にフッ素原子、塩素原子）；ア
ミノ基；低級アルカノイルアミノ基（特にアセチルアミ
ノ基、プロピオニルアミノ基）；低級アルキル基（特に
メチル基、エチル基、イソプロピル基）；低級アルコキ
シ基（特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、ブトキシ基）；低級イミドイル基（特
にアセトイミドイル基）；アミジノ基；カルバモイル
基；ウレイド基；低級アルキル置換ウレイド基（特に３
−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、
１，３−ジメチルウレイド基）；イミダゾリジニル基で
ある。

【０１８７】Ｂ群おいて、好ましいのは水酸基；低級ア
ルコキシ（特にメトキシ基）；カルバモイル基；低級ア
ルコキシカルボニル基（特にメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基）；カルバモイル低級アルコキシ基
（特にカルバモイルメトキシ基）；低級アルカノイルオ
キシ基（特にアセトキシ基）；カルバモイルオキシ基で
あり、特に好ましくはカルバモイル基；低級アルカノイ
ルオキシ基（特にアセトキシ基）；カルバモイルオキシ
基である。

【０１８８】Ｃ群において、好ましいのは低級アルキル
基（特にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基）；低級ヒドロキシアルキル基（特に２−ヒドロキ
シエチル基、２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル
基）；低級ハロアルキル基（特にクロロエチル基）；カ
ルボキシ低級アルキル基（特にカルボキシメチル基）；
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基（特にエトキ
シカルボニルメチル基）；カルバモイル低級アルキル基
（特にカルバモイルメチル基）；（ジ低級アルキルアミ
ノ）低級アルキル基（特にジメチルアミノエチル基）；
（カルバモイル）（カルボキシ）二置換低級アルキル基
（特に２−カルバモイル−１−カルボキシエチル基）；
（カルバモイル）（低級アルコキシカルボニル）二置換
低級アルキル基（特に１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル−２−カルバモイルエチル基）；水酸基；低級アルコ
キシ基（特にメトキシ基）；炭素原子数３乃至７個のシ
クロアルキル基（特にシクロプロピル基）；アラルキル
基（特にベンジル基）；低級アルカノイルオキシ基（特
にアセトキシ基）；カルバモイルオキシ基；ジ低級アル
キルアミノ基（特にジメチルアミノ基）であり、特に好
ましいのは低級アルキル基（特にメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基）；水酸基；低級アルカノ
イルオキシ基（特にアセトキシ基）；カルバモイルオキ
シ基である。

【０１８９】Ｄ群において、特に好ましいのは低級アル
キル基（特にメチル基）である。

【０１９０】Ｅ群において、好ましいのは低級アルキル
基（特にメチル基）；オキソ基；アラルキル基（特にベ
ンジル基）であり、特に好ましいのはオキソ基である。

【０１９１】Ｆ群おいて、好ましいのは低級アルキル基
（特にメチル基）；水酸基；オキソ基；カルバモイル低
級アルキル基（特にカルバモイルメチル基）；低級アル
キルカルバモイル低級アルキル基（特にメチルカルバモ
イルメチル基）であり、特に好ましいのは低級アルキル
基（特にメチル基）；オキソ基である。

【０１９２】Ｒ₂におけるアリール基の置換基として、
好ましいのはシアノ基、ニトロ基、水酸基、塩素原子、
メチル基、エチル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ル基、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基、
Ｎ−ヒドロキシアミジノ基、Ｎ−アセトキシアミジノ
基、Ｎ−メトキシアミジノ基、Ｎ−カルバモイルオキシ
アミジノ基、Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ
基、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−ヒドロキシアミジノ基、Ｎ−
メトキシアセトイミドイル基、Ｎ−アセトキシアセトイ
ミドイル基、Ｎ−カルバモイルオキシアセトイミドイル
基、Ｎ−ヒドロキシアセトイミドイル基、Ｎ−（カルバ
モイルメトキシ）アセトイミドイル基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、メトキシカルボニルメトキシ基、カルバモイルメト
キシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ
基、カルバモイルメチルチオ基、アセチル基、プロピオ
ニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、
カルボキシ基、メトキシカルボニル基、カルバモイル
基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピル
カルバモイル基、Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ
−（ヒドロキシエチル）カルバモイル基、Ｎ−（クロロ
エチル）カルバモイル基、Ｎ−（エトキシカルボニルメ
チル）カルバモイル基、Ｎ−（カルバモイルメチル）カ
ルバモイル基、Ｎ−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチ
ルエチル）カルバモイル基、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル
カルバモイル基、Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイ
ル基、Ｎ−シクロプロピルカルバモイル基、Ｎ−ヒドロ
キシカルバモイル基、Ｎ−（ジメチルアミノ）カルバモ
イル基、Ｎ−（ジメチルアミノエチル）カルバモイル
基、Ｎ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−カ
ルバモイルエチル）カルバモイル基、Ｎ−（２−カルバ
モイル−１−カルボキシエチル）カルバモイル基、ピペ
リジノカルボニル基、４−メチルピペラジン−１−カル
ボニル基、アセトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオ
ニルアミノ基、エトキサリルアミノ基、（メトキシアセ
チル）アミノ基、（ヒドロキシアセチル）アミノ基、ト
リフルオロアセチルアミノ基、メトキシカルボニルアミ
ノ基、ウレイド基、３−メチルウレイド基、３，３−ジ
メチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基、グア
ニジノ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、（カルバモイ
ルメチル）アミノ基、オキサゾリニル基、４，４−ジメ
チルオキサゾリニル基、イミダゾリニル基、２，５−ジ
オキソピロリジニル基、２−オキソイミダゾリジニル
基、２−オキソオキサゾリジニル基、５−メチル−１，
２，４−オキサジアゾリル基、３−メチル−２−オキソ
イミダゾリジニル基、３−ベンジル−２−オキソイミダ
ゾリジニル基、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾ
リル基、５−メチル−１，３，４−トリアゾリル基、ジ
アセチルアミノ基、（エトキシカルボニルメチル）アミ
ノ基、エトキシカルボニルメチル基、１，１−ジエトキ
シカルボニルメチル基、フッ素原子であり、特に好まし
いのはＮ−ヒドロキシアミジノ基、Ｎ−アセトキシアミ
ジノ基、Ｎ−カルバモイルオキシアミジノ基、Ｎ−ヒド
ロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ基、Ｎ−アセトキシアセ
トイミドイル基、Ｎ−カルバモイルオキシアセトイミド
イル基、カルバモイル基、１，３−ジメチルウレイド
基、２−オキソイミダゾリジニル基、塩素原子、水酸
基、メチル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アセチ
ルアミノ基、カルバモイルメトキシ基である。

【０１９３】Ｒ₂における芳香族複素環基の置換基とし
て、好ましいのはカルボキシ基、カルバモイル基であ
る。

【０１９４】Ｒ₂におけるＱの置換基として、好ましい
のはメチル基、水酸基、オキソ基、カルバモイルメチル
基、メチルカルバモイルメチル基であり、特に好ましい
のはオキソ基、メチル基である。

【０１９５】Ｑ₁におけるアリール基の置換基として、
好ましいのは水酸基、カルバモイル基、メチル基であ
る。

【０１９６】Ｑ₁における芳香族複素環基の置換基とし
て、好ましいのは塩素原子である。

【０１９７】Ｑ₁におけるＱの置換基として、好ましい
のはメチル基、水酸基、オキソ基である。

【０１９８】「医薬上許容し得る塩」とは、上記一般式
（Ｉ）で示される化合物と無毒性の塩を形成するもので
あれば如何なるものであってもよいが、例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、りん
酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；
ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、プロピオン酸
塩、シュウ酸塩、グリコール酸塩、コハク酸塩、乳酸
塩、マレイン酸塩、ヒドロキシマレイン酸塩、メチルマ
レイン酸塩、フマール酸塩、アジピン酸塩、酒石酸塩、
リンゴ酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、ケイ皮酸塩、ア
スコルビン酸塩、サリチル酸塩、２−アセトキシ安息香
酸塩、ニコチン酸塩、イソニコチン酸塩等の有機酸塩；
メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、イセチオン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸
塩、ナフタレンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アスパ
ラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩；ナト
リウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニ
ウム塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、
Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基
塩；リジン塩、アルギニン塩等のアミノ酸塩を挙げるこ
とができる。

【０１９９】更に、より具体的に述べるならば、一般式
（Ｉ）におけるＲとしてはエチル基、ヒドロキシメチル
基が、Ｒ₁としてはシクロペンチル基が、Ｒ₂としては３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル基、４−アミノ−３
−メチルフェニル基、４−シアノ−３−ニトロフェニル
基、３−アセチルアミノ−４−カルバモイルメトキシフ
ェニル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−５−イル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ
−インドール−６−イル基、２−オキソ−３Ｈ−ベンゾ
オキサゾール−６−イル基、４−カルバモイルフェニル
基、４−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フェ
ニル基、４−（Ｎ−ヒドロキシアミジノ）フェニル基、
４−（１，３−ジメチルウレイド）フェニル基、４−
（Ｎ−ヒドロキシアミジノ）−３−ニトロフェニル基、
４−（Ｎ−アセトキシアミジノ）フェニル基、３−メチ
ル−４−オキソ−３Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−７
イル基、４−（Ｎ−アセトキシアセトイミドイル）フェ
ニル基、４−（Ｎ−カルバモイルオキシアセトイミドイ
ル）フェニル基、４−（Ｎ−カルバモイルオキシアミジ
ノ）フェニル基、４−（Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ’−メチル
アミジノ）フェニル基、４−（Ｎ−カルバモイルメトキ
シアセトイミドイル）フェニル基、４−（Ｎ−メチルカ
ルバモイル）フェニル基が特に好ましい。

【０２００】ここで、本発明化合物は場合によっては水
和物又は溶媒和物であってもよく、またそのプロドラッ
ク化合物及びその代謝物についても包含されるものであ
る。

【０２０１】本発明化合物は、優れたＴＮＦ−αの選択
的産生阻害作用及び／又はＩＦＮ−γの産生阻害作用を
有し、今までにない新しいタイプの疾患治療薬又は予防
薬として期待される。

【０２０２】一般式（Ｉ）で示される本発明化合物又は
その医薬上許容し得る塩を医薬製剤として用いる場合に
は、通常、それ自体公知の薬理学的に許容される担体、
賦形剤、希釈剤、増量剤、崩壊剤、安定剤、保存剤、緩
衝剤、乳化剤、芳香剤、着色剤、甘味剤、粘稠剤、矯味
剤、溶解補助剤、その他の添加剤、具体的には水、植物
油、エタノール又はベンジルアルコールのようなアルコ
ール、ポリエチレングリコール、グリセロールトリアゼ
テートゼラチン、ラクトース、デンプン等のような炭水
化物、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ラノリン、
ワセリン等と混合して錠剤、丸剤、散剤、顆粒剤、座
剤、注射剤、点眼剤、液剤、カプセル剤、トローチ剤、
エアゾール剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳剤、シロップ
剤等の形態により経口又は非経口的に投与することがで
きる。また、本発明化合物は人用医薬としての使用は勿
論、動物用医薬としても使用可能である。

【０２０３】投与量は、疾患の種類及び程度、投与する
化合物並びに投与経路、患者の年齢、性別、体重等によ
り変わり得るが、経口投与の場合、通常、成人１日当た
り化合物（Ｉ）を０．１〜１０００ｍｇ、特に１ｍｇ〜
３００ｍｇを投与するのが好ましい。

【０２０４】本発明の化合物は例えば下記の方法によっ
て製造することができるが、本発明の化合物の製造方法
は、これらに限定されるものではないことは勿論であ
る。

【０２０５】

【化３１】

【０２０６】（工程１）化合物（III）（式中、Ｒ及び
Ｒ₁は前述のとおりである）は、化合物（II）（式中、
Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）とクロロ炭酸エチル
等のクロロ炭酸エステルとをトリエチルアミン等の塩基
存在下、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル等
の不活性溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させるか、又は無水酢酸中、加温下ですること
により合成することができる。

【０２０７】（工程２）化合物（Ｖ）（式中、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₂は前述のとおりである）は、化合物（III）（式
中、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）と化合物（IV）
（式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ₂は前述のとおり
である）又は化合物（IV）に対応する酸無水物とを塩化
マグネシウム等のマグネシウム塩及びトリエチルアミ
ン、ピリジン、炭酸カリウム等の塩基存在下、テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等
の不活性溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させることにより合成することができる。

【０２０８】（工程３）化合物（VI）（式中、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₂は前述のとおりである）は、化合物（Ｖ）（式
中、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂は前述のとおりである）を１Ｎ乃至
４Ｎ塩酸、しゅう酸、希硫酸等の酸存在下、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、トルエン等の不
活性溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で
反応させるか、又はピリジン及び酢酸の存在下で加熱す
ることにより合成することができる。

【０２０９】（工程４）化合物（Ｉ）（式中、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₂は前述のとおりである）は、化合物（VI）（式
中、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂は前述のとおりである）を五硫化リ
ン、Ｌａｗｅｓｓｏｎ’ｓ（ローソン）試薬［２，４−
ビス−（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−
２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド］等の
チオカルボニル化試薬存在下、クロロホルム、塩化メチ
レン、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル
等の不活性溶媒これらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下
で反応させることにより合成することができる。

【０２１０】また、化合物（Ｉ）は下記の方法でも合成
することができる。

【０２１１】

【化３２】

【０２１２】（工程５）化合物（VIII）（式中、Ｒ₁、
Ｒ₂及びＸは前述のとおりである）は、化合物（VII）
（式中、Ｒ₁及びＲ₂は前述のとおりである）を臭素、塩
素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のハロゲン化試薬存在
下、トルエン、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホル
ム、酢酸等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下
乃至加温下で反応させることにより合成することができ
る。

【０２１３】（工程６）化合物（Ｉ）（式中、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₂は前述のとおりである）は、化合物（VIII）
（式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＸは前述のとおりである）と化合
物（IX）（式中、Ｒは前述のとおりである）とをエタノ
ール、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン等
の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、加熱下で反応させ
ることにより合成することができる。

【０２１４】これら上記工程１乃至工程４又は工程５乃
至工程６は、特にＲ₂がアリール基、芳香族複素環基等
である場合に有効である。

【０２１５】更に、化合物（Ｉ）は下記の方法でも合成
することができる。この方法は、特にＲ₂が−ＣＯＮＨ
−（ＣＨ₂）_n−Ｑ₁である場合に有効である。

【０２１６】

【化３３】

【０２１７】（工程７）化合物（XI）（式中、Ｒ₃はメ
チル基、エチル基、アリル基、メトキシメチル基等のカ
ルボキシ保護基であり、Ｒ₁及びＸは前述のとおりであ
る）は、化合物（Ｘ）（式中、Ｒ₁及びＲ₃は前述のとお
りである）を臭素、塩素、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等
のハロゲン化試薬存在下、トルエン、ベンゼン、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸等の有機溶
媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反
応させることにより合成することができる。

【０２１８】（工程８）化合物（XII）（式中、Ｒ、Ｒ₁
及びＲ₃は前述のとおりである）は、化合物（XI）（式
中、Ｒ₁、Ｒ₃及びＸは前述のとおりである）と化合物
（IX）（式中、Ｒは前述のとおりである）とをエタノー
ル、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の
有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、加熱下で反応させる
ことにより合成することができる。

【０２１９】（工程９）化合物（XIII）（式中、Ｒ及び
Ｒ₁は前述のとおりである）は、化合物（XII）（式中、
Ｒ、Ｒ₁及びＲ₃は前述のとおりである）から加水分解等
の常法により合成することができる。

【０２２０】（工程１０）化合物（Ｉ−１）（式中、Ｑ
₁、ｎ、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は化合物（XI
II）（式中、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）を塩化
チオニル、オキサリルクロライド等のハロゲン化剤で酸
ハロゲン化物とした後、その酸ハロゲン化物と化合物
（XIV）（式中、Ｑ₁及びｎは前述のとおりである）とを
ピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、クロロホ
ルム、塩化メチレン、トルエン等の有機溶媒又はこれら
の混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は
化合物（XIII）と化合物（XIV）とを１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸
塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルホス
ホリルアジド、カルボニルジイミダゾール等の縮合剤に
て、必要に応じてＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、
ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノル
ボルネン−２，３−ジカルボン酸イミド等の活性化剤存
在下、ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、四塩化炭素、トルエン等の有機溶媒又
はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応される
ことにより合成することができる。

【０２２１】一方、上記工程１乃至工程４、工程５乃至
工程６又は工程７乃至工程１０により得られた化合物
（Ｉ）のＲ₂の置換基を、下記の工程によりそれぞれ変
換することによっても化合物（Ｉ）を合成することがで
きる。

【０２２２】以下、例えばＲ₂がフェニル基の場合で説
明するが、これはＲ₂がフェニル基以外の芳香族複素環
基等の場合でも同様にして合成することができる。例え
ば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置換基の少なくとも
１つがアミノ基の場合には、下記の方法によっても合成
することができる。

【０２２３】

【化３４】

【０２２４】（工程１１）化合物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁及
びＡ₂は同一又は異なって水素原子又は上記Ａ群から選
ばれる置換基であり、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりであ
る）は、化合物（Ｉ₁）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は
前述のとおりである）を鉄、スズ、塩化スズ、亜鉛、硫
化ナトリウム、二硫化ナトリウム等の還元剤存在下及び
必要に応じて酢酸、塩酸、塩化アンモニウム等の酸存在
下、酢酸エチル、メタノール、エタノール、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエー
テル、ジメトキシエタン、トルエン等の有機溶媒、水或
るいはこれらの混合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させるか、又は白金黒、酸化白金、パラジウム
黒、酸化パラジウム、水酸化パラジウム、パラジウム炭
素、ラネーニッケル等の金属触媒存在下、酢酸エチル、
酢酸、メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジメ
トキシエタン、トルエン等の有機溶媒、水又はこれらの
混合溶媒中、水素ガスにて接触還元することにより合成
することができる。

【０２２５】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級ヒドロキシアルキルアミノ基、
ジ低級ヒドロキシアルキルアミノ基、低級ハロアルキル
アミノ基、ジ低級ハロアルキルアミノ基、（カルボキシ
低級アルキル）アミノ基、ジ（カルボキシ低級アルキ
ル）アミノ基、（低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル）アミノ基、ジ（低級アルコキシカルボニル低級アル
キル）アミノ基、（低級アルカノイル低級アルキル）ア
ミノ基、ジ（低級アルカノイル低級アルキル）アミノ
基、（カルバモイル低級アルキル）アミノ基、ジ（カル
バモイル低級アルキル）アミノ基、（低級アルキルカル
バモイル低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキルカ
ルバモイル低級アルキル）アミノ基、［（ジ低級アルキ
ルカルバモイル）低級アルキル］アミノ基、ジ［（ジ低
級アルキルカルバモイル）低級アルキル］アミノ基、ア
ラルキルアミノ基又はジアラルキルアミノ基等の置換ア
ミノ基の場合には、下記の方法によっても合成すること
ができる。

【０２２６】

【化３５】

【０２２７】（工程１２）化合物（Ｉ₃）（式中、Ｒ₄は
低級アルキル基、低級ヒドロキシアルキル基、低級ハロ
アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基、低級アルカノイル低級ア
ルキル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルキル
カルバモイル低級アルキル基、（ジ低級アルキルカルバ
モイル）低級アルキル基又はアラルキル基等の置換低級
アルキル基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとお
りである）は、化合物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及
びＲ₁は前述のとおりである）と化合物Ｒ₄−Ｘ（式中、
Ｒ₄及びＸは前述のとおりである）とを炭酸カリウム、
水素化ナトリウム、トリエチルアミン等の塩基存在下、
塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、エーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド
等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させることにより合成することができる。

【０２２８】また、下記の方法によっても合成すること
ができる。

【０２２９】

【化３６】

【０２３０】（工程１２’）化合物（Ｉ₃’）（式中、
Ｒ₅及びＲ₆は同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、低級ヒドロキシアルキル基、低級ハロアルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、低級アルカノイル低級アルキル基、カ
ルバモイル低級アルキル基、低級アルキルカルバモイル
低級アルキル基、（ジ低級アルキルカルバモイル）低級
アルキル基又はアラルキル基等の置換アルキル基であ
り、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、
化合物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のと
おりである）と化合物Ｒ₅−ＣＯ−Ｒ₆（式中、Ｒ₅及び
Ｒ₆前述のとおりである）とを水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化シアノホウ素化ナトリウム等の還元剤存在
下、メタノール、エタノール、エーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸、ギ酸等の有機溶
媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応さ
せることにより合成することができる。ここで、上記工
程１２又は工程１２’において（カルボキシ低級アルキ
ル）アミノ基又はジ（カルボキシ低級アルキル）アミノ
基の場合は、予めカルボキシ保護基で置換された（カル
ボキシ低級アルキル）アミノ基、ジ（カルボキシ低級ア
ルキル）アミノ基を用いて合成を行ない、常法によりカ
ルボキシ保護基を脱離することで合成することができ
る。また、ジ低級アルキルアミノ基、ジ低級ヒドロキシ
アルキルアミノ基、ジ低級ハロアルキルアミノ基、ジ
（カルボキシ低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルコ
キシカルボニル低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アル
カノイル低級アルキル）アミノ基、ジ（カルバモイル低
級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキルカルバモイル
低級アルキル）アミノ基、ジ［（ジ低級アルキルカルバ
モイル）低級アルキル］アミノ基又はジアラルキルアミ
ノ基等の二置換アミノ基は過剰量のＲ₄−Ｘ又はＲ₅−Ｃ
Ｏ−Ｒ₆と反応させることで合成することができる。

【０２３１】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルカノイルアミノ基、ジ
低級アルカノイルアミノ基、低級ハロアルカノイルアミ
ノ基、ジ低級ハロアルカノイルアミノ基、（低級ヒドロ
キシアルカノイル）アミノ基、ジ（低級ヒドロキシアル
カノイル）アミノ基、（低級アルコキシ低級アルカノイ
ル）アミノ基又はジ（低級アルコキシ低級アルカノイ
ル）アミノ基等の置換アミノ基の場合には、下記の方法
によっても合成することができる。

【０２３２】

【化３７】

【０２３３】（工程１３）化合物（Ｉ₄）（式中、Ｒ₇は
低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級ヒドロキシ
アルキル基又は低級アルコキシ低級アルキル基であり、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおり
である）と酸ハライドＲ₇ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ₇及びＸは
前述のとおりである）又は酸無水物（Ｒ₇ＣＯ）₂Ｏ（式
中、Ｒ₇は前述のとおりである）とをピリジン、トリエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペラ
ジン等の塩基存在下、塩化メチレン、クロロホルム、ト
ルエン、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ヘキサン
等の有機溶媒、水若しくはこれらの混合溶媒又は無溶媒
中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は化合物（Ｉ
₂）とＲ₇ＣＯＯＨ（式中、Ｒ₇は前述のとおりである）
とを１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド・塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、ジフェニルホスホリルアジド、カルボニルジイミ
ダゾール等の縮合剤にて、必要に応じてＮ−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール、ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−
ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸
イミド等の活性化剤存在下、ジメチルホルムアミド、ジ
クロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、四塩化炭素、ト
ルエン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃
至加温下で反応されることにより合成することができ
る。

【０２３４】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級ウレイド基、低級アルキル
置換ウレイド基、アラルキル置換ウレイド基、グアニジ
ノ基、低級アルキル置換グアニジノ基又はアラルキル置
換グアニジノ基の場合には、下記の方法によっても合成
することができる。

【０２３５】

【化３８】

【０２３６】（工程１４）例えば、Ｚが酸素原子の場合
は、化合物（Ｉ₆）（式中、Ｒ₈は水素原子、低級アルキ
ル基又はアラルキル基であり、Ｒ₉及びＲ₁₀は同一又は
異なって水素原子、低級アルキル基又はアラルキル基で
あり、Ｚは酸素原子であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前
述のとおりである）は、化合物（Ｉ₅）（式中、Ａ₁、Ａ
₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₈は前述のとおりである）と化合物Ｒ₉
Ｒ₁₀ＮＨ（式中、Ｒ₉及びＲ₁₀は前述のとおりである）
及びトリホスゲン、カルボジイミダゾール等のカルボニ
ル化剤とをトリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存
在下、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタン、エーテル、ジイソプロ
ピルエーテル等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷
却下乃至加温下で反応させるか、化合物（Ｉ₅）とＲ₉−
ＮＣＯ（式中、Ｒ₉は前述のとおりである）又はＲ₉Ｒ₁₀
ＮＣＯＸ（式中、Ｒ₉、Ｒ₁₀及びＸは前述のとおりであ
る）とを炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン等
の塩基存在下、メタノール、エタノール、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、エーテル、クロロホルム等の有機
溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応
させるか、又は化合物（Ｉ₅）とイソシアン酸ナトリウ
ム又はイソシアン酸カリウムとを酢酸、トリフルオロ酢
酸、塩酸等の酸存在下、メタノール、エタノール、ジク
ロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トル
エン、ジオキサン等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶
媒中、冷却下乃至加温下で反応させることにより合成す
ることができる。また、Ｚがイミノ基の場合は、化合物
（Ｉ₅）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₈は前述のと
おりである）とシアナミドとをジクロロメタン、クロロ
ホルム、テトラヒドロフラン等の有機溶媒又はこれらの
混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させることにより
合成することができる。

【０２３７】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがイミダゾリジニル基等の複素環
基の場合には、下記の方法によっても合成することがで
きる。

【０２３８】

【化３９】

【０２３９】（工程１５）化合物（Ｉ₇）（式中、ｍは
２乃至３の整数であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述の
とおりである）は、化合物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁、Ａ₂、
Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）と化合物Ｘ−（Ｃ
Ｈ₂）_m−ＮＣＯ（式中、ｍ及びＸは前述のとおりであ
る）とを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の塩基存在下、ジメ
チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、トルエン、エタノール等の有機溶
媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反
応させることにより合成することができる。

【０２４０】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルキルアミノ基、低級ヒ
ドロキシアルキルアミノ基、低級ハロアルキルアミノ基
又はアラルキルアミノ基等の置換アミノ基の場合には、
下記の方法によっても合成することができる。また、下
記工程１６は、例えばＱ環上の窒素原子又は複素環上の
窒素原子に低級アルキル基、低級ヒドロキシアルキル
基、低級ハロアルキル基又はアラルキル基等の置換低級
アルキル基を置換させる場合にも有効である。

【０２４１】

【化４０】

【０２４２】（工程１６）化合物（Ｉ₈）（式中、Ｒ₁₁
は低級アルキル基、低級ヒドロキシアルキル基、低級ハ
ロアルキル基又はアラルキル基等の置換アルキル基であ
り、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₇は前述のとおりである）
は、化合物（Ｉ₄）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₇
は前述のとおりである）と化合物Ｒ₁₁−Ｘ（式中、Ｒ₁₁
及びＸは前述のとおりである）とを炭酸カリウム、水素
化ナトリウム、トリエチルアミン等の塩基存在下、塩化
メチレン、クロロホルム、トルエン、エーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の
有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で
反応させることにより合成することができる。

【０２４３】（工程１７）化合物（Ｉ₃’）（式中、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₁₁は前述のとおりである）
は、化合物（Ｉ₈）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₇及
びＲ₁₁は前述のとおりである）から常法の加水分解によ
り合成することができる。

【０２４４】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが水酸基の場合には、下記の方法
によっても合成することができる。

【０２４５】

【化４１】

【０２４６】（工程１８）化合物（Ｉ₁₀）（式中、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₉）（式中、Ｒ₁₂が低級アルキル基であり、Ａ₁、
Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）を水酸化ナトリ
ウム、ナトリウムメトキシド等の塩基存在下、メタノー
ル、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジイソプロプルエーテル、ジメトキシエタン、
トルエン等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷
却下乃至加温下で加水分解させることにより合成するこ
とができる。

【０２４７】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルコキシ基又は低級アル
コキシカルボニル低級アルコキシ基等の置換低級アルコ
キシ基の場合には、下記の方法によっても合成すること
ができる。

【０２４８】

【化４２】

【０２４９】（工程１９）化合物（Ｉ₁₁）（式中、Ｒ₁₃
は低級アルキル基又は低級アルコキシカルボニル低級ア
ルキル基等の置換低級アルキル基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ
及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ₁₀）
（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）
と化合物Ｒ₁₃−Ｘ（式中、Ｒ₁₃及びＸは前述のとおりで
ある）とを水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチ
ルアミン等の塩基存在下、メタノール、エタノール、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロ
プルエーテル、ジメトキシエタン、アセトン、トルエン
等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させることにより合成することができる。

【０２５０】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがカルバモイル低級アルキルチオ
基、低級アルキルカルバモイル低級アルキルチオ基、ジ
低級アルキルカルバモイル低級アルキルチオ基、カルバ
モイル低級アルコキシ基、低級アルキルカルバモイル低
級アルコキシ基、ジ低級アルキルカルバモイル低級アル
コキシ基、（カルバモイル低級アルキル）アミノ基、
（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ基、
（ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ
基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルキルカルバ
モイル低級アルキル基、ジ低級アルキルカルバモイル低
級アルキル基、（カルバモイル低級アルキル）カルバモ
イル基、（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）カ
ルバモイル基又は（ジ低級アルキルカルバモイル低級ア
ルキル）カルバモイル基の場合には、下記の方法によっ
ても合成することができる。

【０２５１】

【化４３】

【０２５２】（工程２０）化合物（Ｉ₁₃）（式中、Ｒ₁₅
及びＲ₁₆は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
基であり、Ｌは単結合、硫黄原子、酸素原子、二級アミ
ノ基又は−ＨＮＣＯ−であり、Ｍは炭素原子数１乃至４
個の低級アルキレンであり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前
述のとおりである）は、化合物（Ｉ₁₂）（式中、Ｒ₁₄は
低級アルキル基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｌ、Ｍ、Ｒ及びＲ₁
は前述のとおりである）と化合物Ｒ_{1 5}Ｒ₁₆ＮＨ（式中、
Ｒ₁₅及びＲ₁₆は前述のとおりである）とをナトリウムメ
トキシド、水素化ナトリウム、ブチルリチウム、水酸化
ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン等の塩基
存在下又は非存在下、メタノール、エタノール、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、
トルエン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下
乃至加温下で反応させることにより合成することができ
る。また、化合物（Ｉ₁₃）は、化合物（Ｉ₁₂）を下記工
程２１と同様の方法で反応させた後、化合物Ｒ₁₅Ｒ₁₆Ｎ
Ｈと下記工程２２と同様の方法で反応させることによっ
ても合成することができる。

【０２５３】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがカルボキシ基の場合には、下記
の方法によっても合成することができる。

【０２５４】

【化４４】

【０２５５】（工程２１）化合物（Ｉ₁₅）（式中、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₁₄）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₁₄は前述
のとおりである）を常法の加水分解により合成すること
ができる。

【０２５６】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがカルバモイル基、低級アルキル
カルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、低級
ヒドロキシアルキルカルバモイル基、低級ハロアルキル
カルバモイル基、（低級アルコキシカルボニル低級アル
キル）カルバモイル基、Ｎ−低級アルコキシＮ−低級ア
ルキルカルバモイル基、シクロアルキルカルバモイル
基、ヒドロキシカルバモイル基、アミノカルバモイル
基、（低級アルキルアミノ）カルバモイル基、（ジ低級
アルキルアミノ）カルバモイル基、（アミノ低級アルキ
ル）カルバモイル基或るいは（カルバモイル）（低級ア
ルコキシカルボニル）二置換低級アルキル基等の置換カ
ルバモイル基、１−ピペリジルカルバニル基、１−ピペ
ラジニルカルボニル基、１−ピロリジニルカルボニル
基、モルホリノカルボニル基又は４−メチル−１−ピペ
ラジニルカルボニル基の場合には、下記の方法によって
も合成することができる。

【０２５７】

【化４５】

【０２５８】（工程２２）化合物（Ｉ₁₆）（式中、Ｒ₁₇
及びＲ₁₈は同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、低級ヒドロキシアルキル基、低級ハロアルキル基、
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、シクロアルキル基、水酸基、アミノ基、低級ア
ルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ低級
アルキル基或るいは（カルバモイル）（低級アルコキシ
カルボニル）二置換低級アルキル基、又はＲ₁₇とＲ₁₈が
一緒になってピペリジル基、ピペラジニル基、ピロリジ
ニル基或るいはモルホリノ基等の複素環であり、Ａ₁、
Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ
₁₅）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりであ
る）を塩化チオニル、オキサリルクロライド等のハロゲ
ン化剤及び必要に応じてジメチルホルムアミド等の触媒
を用いて酸ハロゲン化物とした後、化合物Ｒ₁₇Ｒ₁₈ＮＨ
（式中、Ｒ₁₇及びＲ₁₈は前述のとおりである）とピリジ
ン、トリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下又
は非存在下、クロロホルム、塩化メチレン、トルエン、
テトラヒドロフラン等の有機溶媒、水又はこれらの混合
溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は化合物
（Ｉ₁₅）と化合物Ｒ₁₇Ｒ₁₈ＮＨとを１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸
塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルホス
ホリルアジド、カルボニルジイミダゾール等の縮合剤に
て、必要に応じてＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、
ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノル
ボルネン−２，３−ジカルボン酸イミド等の活性化剤存
在下、ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルホキシド、四塩化炭素、トルエン等の有機溶媒又
はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応される
ことにより合成することができる。

【０２５９】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがシアノ基の場合には、下記の方
法によっても合成することができる。

【０２６０】

【化４６】

【０２６１】（工程２３）化合物（Ｉ₁₇）（式中、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₁₆’）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のと
おりである）をｐ−トルエンスルホニルクロライド等の
存在下、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性溶媒又
はこれらの混合溶媒中、加温下で反応させるか、又はオ
キシ塩化リン、塩化チオニル等の脱水剤存在下、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ピリジン等の
有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応させる
ことにより合成することができる。

【０２６２】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがヒドロキシアミジノ基又は低級
アルコキシアミジノ基等の置換アミジノ基の場合には、
下記の方法によっても合成することができる。

【０２６３】

【化４７】

【０２６４】（工程２４）化合物（Ｉ₁₈）（式中、Ｒ₁₉
は水素原子又は低級アルキル基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及
びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ₁₇）（式
中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）と化
合物Ｒ₁₉ＯＮＨ₂（式中、Ｒ₁₉は前述のとおりである）
とをメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等の
有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応さ
せることにより合成することができる。また、低級アル
カノイルオキシアミジノ基、カルバモイルオキシアミジ
ノ基、（低級アルキルカルバモイルオキシ）アミジノ基
又は（ジ低級アルキルカルバモイルオキシ）アミジノ基
等の置換アミジノ基の場合には、前述の方法で得られた
Ｒ₁₉が水素原子である化合物（Ｉ₁₈）と、酸ハライドＲ
₂₀ＣＯ−Ｘ（式中、Ｒ₂₀は低級アルキル基であり、Ｘは
前述のとおりである）又は酸無水物（Ｒ₂₀ＣＯ）₂Ｏ
（式中、Ｒ₂₀は前述のとおりである）とを上記工程１３
と同様の方法で反応させるか、又はＲ₁₉が水素原子であ
る化合物（Ｉ₁₈）と、Ｒ₂₁Ｒ₂₂ＮＣＯＸ（式中、Ｒ₂₁及
びＲ₂₂は同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基
であり、Ｘは前述のとおりである）、Ｒ₂₁−ＮＣＯ（式
中、Ｒ₂₁は前述のとおりである）又はイソシアン酸ナト
リウム或るいはイソシアン酸カリウムとを上記工程１４
と同様の方法で反応させることによっても合成すること
ができる。

【０２６５】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがＮ−ヒドロキシ−Ｎ’−低級ア
ルキルアミジノ基、Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−アラルキルア
ミジノ基等の置換アミジノ基の場合には、下記の方法に
よっても合成することができる。

【０２６６】

【化４８】

【０２６７】（工程２５）化合物（Ｉ₁₉）（式中、Ｒ₂₃
は低級アルキル基、アラルキル基であり、Ｒ₂₄は水素原
子、低級アルキル基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前
述のとおりである）は、化合物（Ｉ₁₆’’）（式中、Ａ
₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂₃は前述のとおりである）をＬ
ａｗｅｓｓｏｎ’ｓ（ローソン）試薬、五硫化リン等の
チオカルボニル化試薬存在下、クロロホルム、テトラヒ
ドロフラン、トルエン等の有機溶媒又はこれらの混合溶
媒中、冷却下乃至加温下で反応させた後、ヨウ化メチル
等のアルキル化剤とトリエチルアミン、水素化ナトリウ
ム等の塩基存在下、クロロホルム、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒又は
これらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させ、更
にＮＨ₂ＯＲ₂₄（式中、Ｒ₂₄は前述のとおりである）を
ピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、エタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の有機溶媒、水
或るいはこれらの混合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加
温下で反応させることにより合成することができる。

【０２６８】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルカノイル基、ベンゾイ
ル基の場合には、下記の方法によっても合成することが
できる。

【０２６９】

【化４９】

【０２７０】（工程２６）化合物（Ｉ₂₀）（式中、Ｒ₂₅
は低級アルキル基、アリール基であり、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及
びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ₁₅）（式
中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）をＲ
₂₅ＭｇＸ（式中、Ｒ₂₅及びＸは前述のとおりである）、
Ｒ₂₅−Ｌｉ（式中、Ｒ₂₅は前述のとおりである）等の有
機金属試薬存在下、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至
加温下で反応させることにより合成することができる。
また、同工程において過剰量のＲ₂₅ＭｇＸ又はＲ₂₅−Ｌ
ｉを用いることで、例えば１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル基等の低級ヒドロキシアルキル基を合成すること
もできる。

【０２７１】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがＮ−ヒドロキシ低級イミドイル
基、Ｎ−低級アルコキシ低級イミドイル基、Ｎ−カルバ
モイル低級アルコキシ低級イミドイル基、Ｎ−低級アル
カノイルオキシ低級イミドイル基又はカルバモイルオキ
シ低級イミドイル基等のＮ−置換低級イミドイル基の場
合には、下記の方法によっても合成することができる。

【０２７２】

【化５０】

【０２７３】（工程２７）化合物（Ｉ₂₁）（式中、Ｒ₂₆
が低級アルキル基であり、Ｒ₂₇が水素原子、低級アルキ
ル基、カルバモイル低級アルキル基等の置換低級アルキ
ル基、低級アルカノイル基又はカルバモイル基であり、
Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₂₀’）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂₆は前
述のとおりである）を上記工程２４と同様にして合成す
ることができる。

【０２７４】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つがジ（低級アルコキシカルボニ
ル）低級アルキル基である場合には、下記の方法によっ
ても合成することができる。

【０２７５】

【化５１】

【０２７６】（工程２８）化合物（Ｉ₂₃）（式中、Ｒ₂₈
は低級アルキル基であり、Ａ₁、Ｒ及びＲ₁は前述のとお
りである）は、化合物（Ｉ₂₂）（式中、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及
びＸは前述のとおりである）とＣＨ₂（ＣＯＯＲ₂₈）
₂（式中、Ｒ₂₈は前述のとおりである）で示されるマロ
ン酸ジエステル誘導体とを水素化ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基存在下、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エタノール、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の有機溶
媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応さ
せることにより合成することができる。

【０２７７】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも1つが低級アルコキシカルボニル低級
アルキル基である場合には、下記の方法によっても合成
することができる。

【０２７８】

【化５２】

【０２７９】（工程２９）化合物（Ｉ₂₄）（式中、
Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂₈は前述のとおりである）は、化合
物（Ｉ₂₃）（式中、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂₈は前述のとお
りである）を塩化リチウム存在下、ジメチルスルホキシ
ド等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃
至加温下で反応させることにより合成することができ
る。

【０２８０】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも１つが低級アルキルアミノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キルアミノ基、ジ（低級アルコキシカルボニル低級アル
キル）アミノ基等の置換低級アルキルアミノ基である場
合には、下記の方法によっても合成することができる。

【０２８１】

【化５３】

【０２８２】（工程３０）化合物（Ｉ₂₅）（式中、Ｒ₂₉
及びＲ₃₀は同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基等の置換
低級アルキル基であり、Ａ₁、Ｒ及びＲ₁は前述のとおり
である）は、化合物（Ｉ₂₂）（式中、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及び
Ｘは前述のとおりである）とＲ₂₉Ｒ₃₀ＮＨ（式中Ｒ₂₉及
びＲ₃₀は前述のとおりである）とを炭酸カリウム、トリ
エチルアミン等の塩基存在下、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等の有機溶
媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応さ
せることにより合成することができる。ここで、Ｒ₂の
置換基の少なくとも１つが低級アルコキシ基、低級アル
コキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル低
級アルコキシ基等の置換低級アルコキシ基である場合に
は、Ｒ₂₉Ｒ₃₀ＮＨの代わりにＲ₂₉ＯＨを用いることで合
成することができる。

【０２８３】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂の置
換基の少なくとも1つがオキサゾリジニル基等の複素環
基である場合には、下記の方法によっても合成すること
ができる。

【０２８４】

【化５４】

【０２８５】（工程３１）化合物（Ｉ₂₆）（式中、
Ａ₁、Ａ₂、ｍ、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、
化合物（Ｉ₂）（式中、Ａ₁、Ａ₂、Ｒ及びＲ₁は前述のと
おりである）とＸ−（ＣＨ₂）_m−ＯＣＯ−Ｘ（式中、ｍ
及びＸは前述のとおりである）とをトリエチルアミン等
の塩基存在下、トルエン、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃
至加温下で反応させた後、これを水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、トリエチルアミン等の塩基存在下、エタ
ノール、メタノール、テトラヒドロフラン等の有機溶
媒、水又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応させるこ
とにより合成することができる。

【０２８６】また、Ｒ₂がＱ環の縮合したベンゼン環で
ある場合には、下記の方法によっても合成することがで
きる。

【０２８７】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂が
１，３−ジヒドロベンゾイミダゾリル基、３Ｈ−ベンゾ
オキサゾリル基の場合には、下記の方法によっても合成
することができる。

【０２８８】

【化５５】

【０２８９】（工程３２）化合物（Ｉ₂₈）（式中、
Ｙ₁’及びＹ₂’は同一又は異なって酸素原子、二級アミ
ノ基であり、Ａ₁、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）
は、化合物（Ｉ₂₇）（式中、Ｙ₁及びＹ₂は同一又は異な
って水酸基、アミノ基であり、Ａ₁、Ｒ及びＲ₁は前述の
とおりである）とカルボジイミダゾール、尿素、クロロ
炭酸フェニル、トリホスゲン等とをピリジン、トリエチ
ルアミン等の塩基存在下又は非存在下、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、ベンゼン、エタノール等の有機溶
媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応さ
せるか、又はイソシアン酸ナトリウムと酢酸等の有機溶
媒中、冷却下乃至加温下で反応させることにより合成す
ることができる。

【０２９０】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂が
１，３−ジヒドロインドリル基の場合には、下記の方法
によっても合成することができる。

【０２９１】

【化５６】

【０２９２】(工程３３)化合物（Ｉ₂₉）（式中、Ａ₁、
Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ₂₄）
（式中、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂₈は前述のとおりである）
を鉄、スズ、塩化スズ、亜鉛、硫化ナトリウム、二硫化
ナトリウム等の還元剤存在下及び必要に応じて酢酸、塩
酸、塩化アンモニウム等の酸存在下、酢酸エチル、メタ
ノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタ
ン、トルエン等の有機溶媒、水或るいはこれらの混合溶
媒又は無溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又
は白金黒、酸化白金、パラジウム黒、酸化パラジウム、
水酸化パラジウム、パラジウム炭素、ラネーニッケル等
の金属触媒存在下、酢酸エチル、酢酸、メタノール、エ
タノール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、トル
エン等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、水素ガ
スにて接触還元することにより合成することができる。

【０２９３】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂が４
Ｈ−ベンゾオキサジニル基、キノキサリニル基の場合に
は、下記の方法によっても合成することができる。

【０２９４】

【化５７】

【０２９５】（工程３４）化合物（Ｉ₃₁）（式中、ｌは
１乃至２であり、Ｙ₃は酸素原子、二級アミノ基であ
り、Ａ₁、Ｒ及びＲ₁は前述のとおりである）は、化合物
（Ｉ₃₀）（式中、Ｒ₃₁は低級アルキル基であり、Ａ₁、
ｌ、Ｒ、Ｒ₁及びＹ₃は前述のとおりである）を鉄、ス
ズ、塩化スズ、亜鉛、硫化ナトリウム、二硫化ナトリウ
ム等の還元剤存在下及び必要に応じて酢酸、塩酸、塩化
アンモニウム等の酸存在下、酢酸エチル、メタノール、
エタノール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、トル
エン等の有機溶媒、水或るいはこれらの混合溶媒又は無
溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は白金
黒、酸化白金、パラジウム黒、酸化パラジウム、水酸化
パラジウム、パラジウム炭素、ラネーニッケル等の金属
触媒存在下、酢酸エチル、酢酸、メタノール、エタノー
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイ
ソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、トルエン等の
有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、水素ガスにて接
触還元することにより合成することができる。

【０２９６】例えば、化合物（Ｉ）において、Ｒ₂がキ
ナゾリニル基、ベンゾオキサジニル基の場合には、下記
の方法によっても合成することができる。

【０２９７】

【化５８】

【０２９８】（工程３５）化合物（Ｉ₃₃）（式中、Ｒ₃₂
は水素原子、低級アルキル基であり、Ｒ₃₃は水素原子、
低級アルキル基であり、点線の二重線は一重結合又は二
重結合を示し、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁及びＹ₁’は前述のとおり
である）は、化合物（Ｉ₃₂）（式中、Ａ₁、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ
₃₂及びＹ₁は前述のとおりである）と化合物Ｒ₃₃−ＣＨ
Ｏ（式中、Ｒ ₃₃は前述のとおりである）又は化合物Ｒ₃₃
−Ｃ（ＯＥｔ）₃（式中、Ｒ₃₃は前述のとおりである）
とをエタノール、ギ酸、酢酸等の有機溶媒又はこれらの
混合溶媒中、加温下で反応させることにより合成するこ
とができる。

【０２９９】更に、化合物（I）において、Ｒが低級ヒ
ドロキシアルキル基である場合には、下記の方法によっ
ても合成することができる。

【０３００】

【化５９】

【０３０１】（工程３６）化合物（Ｉ₃₅）（式中、Ｙ₄
は炭素原子数１乃至４個の低級アルキレン基であり、Ｒ
₁及びＲ₂は前述のとおりである）は、化合物（Ｉ₃₄）
（式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＹ₄は前述のとおりである）を臭
化水素、塩化水素等の酸存在下、酢酸等の有機溶媒、水
又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応させることによ
り合成することができる。なお、Ｙ₄がメチレン基の場
合には、更に生成物を酢酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム又は酢酸カリウムと、エタノール、ジメチルスルホキ
シド等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷却下
乃至加温下で反応させた後、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の塩基存在下、エタノール、テトラヒドロフ
ラン等の有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、冷却下
乃至加温下で反応させることによっても合成することが
できる。

【０３０２】なお、Ｒ₂における置換基が２以上の場合
には、これら上記の工程を組み合わせることにより合成
することができる。

【０３０３】このようにして得られた化合物（Ｉ）は公
知の分離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽
出、晶析、再結晶又はクロマトグラフィー等により、単
離精製することができる。

【０３０４】本発明の化合物には、不斉炭素に基づく立
体異性体１個以上が含まれ、そのような異性体及びそれ
らの混合物は全てこの発明の範囲内に包含される。

【発明の実施の形態】

【０３０５】次に実施例及び試験例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【実施例】

実施例１ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（４−メトキシ
カルボニルフェニル）チアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチ
ル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−メトキシカルボニ
ルフェニル）の合成 工程１）４−シクロペンチル−２−エチル−５−オキサ
ゾロン（式（III）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル） Ｎ−プロピオニル−シクロペンチルグリシン（１０．０
０ｇ）の酢酸エチル（７０ｍｌ）懸濁液に、トリエチル
アミン（８．３９ｍｌ）を滴下した。この溶液に氷冷中
攪拌下、クロロ炭酸エチル（５．２８ｍｌ）を滴下し、
１．５時間攪拌した。析出した沈澱物を濾過して除いた
後、櫨液を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。これを濾過し、減圧濃縮することによ
り、油状物の表題化合物を定量的に得た。

【０３０６】工程２）４−シクロペンチル−２−エチル
−４−（４−メトキシカルボニルフェニル）−５−オキ
サゾロン（式（III）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝４−メトキシカルボニルフェニル） 上記工程１）で得られた油状物をテトラヒドロフラン
（７０ｍｌ）に溶解し、塩化マグネシウム（５．２６
ｇ）を加えた。この懸濁液に氷冷中攪拌下、トリエチル
アミン（１６ｍｌ）を滴下し、３０分間攪拌した。その
後、テレフタル酸モノメチルエステルクロライド（１
０．００ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液を
滴下し、氷冷下で１時間、更に室温で１時間攪拌した。
この反応液は分離精製せずにそのまま次工程に用いた。

【０３０７】工程３）２−Ｎ−プロピオニルアミノ−２
−シクロペンチル−４’−メトキシカルボニルアセトフ
ェノン（式（Ｖ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝４−メトキシカルボニルフェニル） 上記工程２）で得られた反応液に氷冷下、４Ｎ塩酸（３
０ｍｌ）を加え、１５分間攪拌した後室温で１時間攪拌
した。酢酸エチルを加え、有機層を分離後、飽和重曹水
及び飽和食塩水で洗浄した。これを硫酸マグネシウムで
乾燥した後、濾過、減圧濃縮を行なった。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘ
キサン：酢酸エチル＝３：１）で精製することにより白
色結晶の表題化合物（７．７０ｇ、収率４８％）を得
た。

【０３０８】工程４） 上記工程３）で得られた化合物
（５．００ｇ）のクロロホルム（５０ｍｌ）溶液に五硫
化リン（５．２６ｇ）を加え、３時間加熱還流した。室
温まで冷却した後、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し
た。硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行な
った。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で
精製することにより淡黄色結晶の表題化合物（２．７１
ｇ、収率５５％）を得た。

【０３０９】実施例２乃至４０ 実施例１と同様にして表１乃至表２０の化合物を得た。

【０３１０】

【表１】

【０３１１】

【表２】

【０３１２】

【表３】

【０３１３】

【表４】

【０３１４】

【表５】

【０３１５】

【表６】

【０３１６】

【表７】

【０３１７】

【表８】

【０３１８】

【表９】

【０３１９】

【表１０】

【０３２０】

【表１１】

【０３２１】

【表１２】

【０３２２】

【表１３】

【０３２３】

【表１４】

【０３２４】

【表１５】

【０３２５】

【表１６】

【０３２６】

【表１７】

【０３２７】

【表１８】

【０３２８】

【表１９】

【０３２９】

【表２０】

【０３３０】実施例４１ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［Ｎ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）カルバモイル］チアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）カルバモイル）の合成 工程７）エチル ３−シクロペンチル−３−オキソ−２
−ブロモプロピオネート（式（XI）；Ｒ₁＝シクロペン
チル、Ｒ₃＝エチル、Ｘ＝臭素原子） エチル ３−シクロペンチル−３−オキソプロピオネー
ト（３．９８ｇ）の四塩化炭素（２０ｍｌ）−水（２０
ｍｌ）混合溶液に氷冷中攪拌下、臭素（１．００ｍｌ）
の四塩化炭素（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１５分間攪拌
した。その後、クロロホルムを加え、水、飽和食塩水で
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過、減
圧濃縮することにより油状物の表題化合物（６．５３
ｇ）を定量的に得た。

【０３３１】工程８）４−シクロペンチル−５−エトキ
シカルボニル−２−エチルチアゾール（式（XII）；Ｒ
＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₃＝エチル） 上記工程７）で得られた化合物（６．５２ｇ）をエタノ
ール（５０ｍｌ）に溶解し、チオプロピオンアミド
（１．９３ｇ）を加え、３時間加熱還流した。その後、
この溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝９：１）で精製することにより表題化合物（１．８
６ｇ、収率３４％）を得た。

【０３３２】工程９）５−カルボキシ−４−シクロペン
チル−２−エチルチアゾール（式（XIII）；Ｒ＝エチ
ル、Ｒ₁＝シクロペンチル） 上記工程８）で得られた化合物（２．００ｇ）のエタノ
ール（１２ｍｌ）溶液に、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
（６ｍｌ）を加え、室温中で５時間攪拌した。塩酸を加
え酸性にした後、クロロホルムで抽出した。水、飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過、減圧濃縮を行った。得られた残渣をヘキサンで結晶
化させることにより表題化合物（８５３ｍｇ、収率４８
％）を得た。

【０３３３】工程１０）上記工程９）で得られた化合物
（１００ｍｇ）のアセトニトリル（２ｍｌ）−ジメチル
ホルムアミド（１ｍｌ）混合溶液に、４−アミノフェノ
ール（４９ｍｇ）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール
（６０ｍｇ）及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（１１１ｍｇ）を
加え、室温で２日間攪拌した。水を加えた後、クロロホ
ルムで抽出し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過、減圧濃縮した。
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製す
ることにより表題化合物（１１１ｍｇ、収率７９％）を
得た。

【０３３４】実施例４２乃至４４ 実施例４２と同様にして表２１乃至表２２の化合物を得
た。

【０３３５】

【表２１】

【０３３６】

【表２２】

【０３３７】実施例４５ ５−（４−アミノフェニル）−４−シクロペンチル−２
−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シ
クロペンチル、Ｒ₂＝４−アミノフェニル）の合成 工程１１）鉄紛（１．５２ｇ）、塩化アンモニウム
（２．４３ｇ）及び水（３５ｍｌ）の懸濁液に、上記実
施例１と同様にして得られた実施例３２の化合物（２．
７５ｇ）のメタノール（３５ｍｌ）溶液を室温で加え、
２時間加熱還流した。不溶物を濾過した後、濾液を減圧
濃縮し、クロロホルム−水で抽出した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾
過、減圧濃縮を行なった。得られた固体をヘキサン−酢
酸エチルで再結晶することにより表題化合物（２．３１
ｇ、収率９３％）を得た。

【０３３８】実施例４６乃至５１ 実施例４５と同様にして表２３乃至表２６の化合物を得
た。

【０３３９】

【表２３】

【０３４０】

【表２４】

【０３４１】

【表２５】

【０３４２】

【表２６】

【０３４３】実施例５２ ４−シクロヘキシル−２−エチル−５−（４−エチルア
ミノフェニル）チアゾール（Ａ）（式（Ｉ）；Ｒ＝エチ
ル、Ｒ₁＝シクロヘキシル、Ｒ₂＝４−エチルアミノフェ
ニル）及び４−シクロヘキシル−２−エチル−５−（ジ
エチルアミノフェニル）チアゾール（Ｂ）（式（Ｉ）；
Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロヘキシル、Ｒ₂＝４−ジエチル
アミノフェニル）の合成 工程１２）６０％水素化ナトリウム（４２ｍｇ）のジメ
チルスルホキシド（１ｍｌ）溶液に、上記実施例４５と
同様にして得られた実施例４６の化合物（２４５ｍｇ）
のジメチルスルホキシド（１ｍｌ）溶液を加え、室温で
攪拌した後、ヨウ化エチル（３２０ｍｇ）を加え、一晩
攪拌した。その後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、濾過、減圧濃縮を行なった。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝９：１〜７：３）で分離精製すること
により表題化合物（Ａ）（１３１ｍｇ、収率４８％）及
び（Ｂ）（４２ｍｇ、収率１４％）を得た。

【０３４４】実施例５３ 実施例５２と同様にして表２７乃至表２８の化合物を得
た。

【０３４５】

【表２７】

【０３４６】

【表２８】

【０３４７】実施例５４ ５−（４−アセチルアミノフェニル）−４−シクロヘキ
シル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、
Ｒ₁＝シクロヘキシル、Ｒ₂＝４−アセチルアミノフェニ
ル）の合成 工程１３）上記実施例４５と同様にして得られた実施例
４６の化合物（１２９ｍｇ）のピリジン（２ｍｌ）溶液
に、氷冷中攪拌下、無水酢酸（１３８ｍｇ）を加え、室
温で一晩攪拌した。反応液を減圧濃縮した後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロロ
ホルム：メタノール＝９８：２）で精製した。得られた
固体をクロロホルム−ヘキサンで結晶化することにより
表題化合物（９５ｍｇ、収率６４％）を得た。

【０３４８】実施例５５ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（４−トリフル
オロアセチルアミノフェニル）チアゾール（式（Ｉ）；
Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−トリフル
オロアセチルアミノフェニル）の合成 工程１３）上記実施例４５で得られた化合物（８．２１
ｇ）のクロロホルム（１００ｍｌ）溶液にトリエチルア
ミン（４．４１ｍｌ）を加えた。この溶液に、氷冷中攪
拌下、トリフルオロ酢酸無水物（４．４６ｍｌ）を滴下
し、３０分間攪拌した。反応液を水及び飽和食塩水で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、減圧濃
縮を行なうことにより表題化合物（１１．１４ｇ）を定
量的に得た。

【０３４９】実施例５６乃至６５ 実施例５４又は実施例５５と同様にして表２９乃至表３
４の化合物を得た。

【０３５０】

【表２９】

【０３５１】

【表３０】

【０３５２】

【表３１】

【０３５３】

【表３２】

【０３５４】

【表３３】

【０３５５】

【表３４】

【０３５６】実施例６６ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（１，３
−ジメチルウレイド）フェニル］チアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
（１，３−ジメチルウレイド）フェニル）の合成 工程１４）上記実施例５２と同様にして得られた４−シ
クロペンチル−２−エチル−５−（４−メチルアミノフ
ェニル）チアゾール（３０８ｍｇ）及びトリエチルアミ
ン（０．２９ｍｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶
液に、氷冷中攪拌下、トリホスゲン（１０４ｍｇ）を加
え、３０分間攪拌した。その後、４０％メチルアミン水
溶液（２ｍｌ）を加え、室温で１５分間攪拌した。溶液
を減圧濃縮した後、水を加え、析出した固体を濾取し
た。得られた残渣をジイソプロピルエーテルで再結晶す
ることにより表題化合物（１６８ｍｇ、収率４７％）を
得た。

【０３５７】実施例６７乃至７２ 実施例６６と同様にして表３５乃至表３８の化合物を得
た。

【０３５８】

【表３５】

【０３５９】

【表３６】

【０３６０】

【表３７】

【０３６１】

【表３８】

【０３６２】実施例７３ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（２−オ
キソイミダゾリジン−１−イル）フェニル］チアゾール
（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝
４−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フェニ
ル） 工程１５）上記実施例４５で得られた化合物（２００ｍ
ｇ）のトルエン（３ｍｌ）溶液に２−クロロエチルイソ
シアネート（１００ｍｇ）を加え、３０分間加熱還流し
た。室温まで冷却した後、析出した固体を濾取した。こ
の固体に水酸化カリウム（０．１０ｇ）の水（１ｍｌ）
−エタノール（６ｍｌ）溶液を加え、３０分間１００℃
で加熱した。室温に冷却した後、得られた固体を濾取
し、ヘキサン−酢酸エチルで再結晶することにより表題
化合物（１２０ｍｇ、収率４８％）を得た。

【０３６３】

【表３９】

【０３６４】実施例７４ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（３−メ
チル−２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フェニ
ル］チアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロ
ペンチル、Ｒ₂＝４−（３−メチル−２−オキソイミダ
ゾリジン−１−イル）フェニル） 工程１６）上記実施例７３で得られた化合物（２６０ｍ
ｇ）のジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液を、氷冷中
攪拌下、６０％水素化ナトリウム（３０ｍｇ）のテトラ
ヒドロフラン（２ｍｌ）懸濁液に加え、３０分間攪拌し
た。その後、ヨウ化メチル（０．１ｍｌ）を加え、室温
で３時間攪拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチル
で抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、濾過、減圧濃縮を行なった。得たれ
た固体をエタノールで再結晶することにより表題化合物
（１８５ｍｇ、収率６９％）を得た。

【０３６５】実施例７５乃至７７ 実施例７４と同様にして表４０乃至表４１の化合物を得
た。

【０３６６】

【表４０】

【０３６７】

【表４１】

【０３６８】実施例７８ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（４−メチルア
ミノフェニル）チアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ
₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−メチルアミノフェニル）
の合成 工程１６）４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４
−（Ｎ−メチル−Ｎ−トリフルオロアセチルアミノ）フ
ェニル］チアゾール（式（Ｉ₈）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シ
クロペンチル、Ｒ₇＝トリフルオロメチル、Ｒ₁₁＝メチ
ル、Ａ₁及びＡ₂＝水素原子） 水素化ナトリウム（１．６１ｇ）のテトラヒドロフラン
（２５ｍｌ）−ジメチルホルムアミド（２５ｍｌ）懸濁
液に氷冷中攪拌下、上記実施例５５で得られた化合物
（１０．５９ｇ）のテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）−
ジメチルホルムアミド（２５ｍｌ）の混合溶液を加え、
３０分間攪拌した後、更にヨウ化メチル（２．５１ｍ
ｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈し、水、飽和食塩水で洗浄した。その後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮した。得られ
た残渣は精製せずにそのまま次工程に用いた。

【０３６９】工程１７）上記工程１６）で得られた残渣
をメタノール（１００ｍｌ）−テトラヒドロフラン（１
００ｍｌ）混合溶液に溶解し、更に４Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液（２０ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。
その後、反応液を減圧濃縮し、得られた残渣にクロロホ
ルムを加え、水、飽和食塩水で洗浄した。これを無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行った。得ら
れた残渣をエタノールで再結晶することにより表題化合
物（４．３０ｇ、収率５３％）を得た。

【０３７０】

【表４２】

【０３７１】実施例７９ ５−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−４−シ
クロペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝
エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル） 工程１８）上記実施例１と同様にして得られた実施例１
８の化合物（４．０７ｇ）のエタノール（３０ｍｌ）溶
液に、水酸化ナトリウム（０．６０ｇ）の水（１０ｍ
ｌ）溶液を加え、室温で１時間攪拌した。溶液を減圧濃
縮した後、２Ｎ塩酸を加え、酸性にし、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル溶液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。その後、濾過、減圧濃縮し、残
渣をエタノールで結晶化することにより表題化合物
（３．４６ｇ、収率９７％）を得た。

【０３７２】実施例８０乃至８７ 実施例７９と同様にして表４３乃至表４７の化合物を得
た。

【０３７３】

【表４３】

【０３７４】

【表４４】

【０３７５】

【表４５】

【０３７６】

【表４６】

【０３７７】

【表４７】

【０３７８】実施例８８ ４−シクロペンチル−５−（４−エトキシフェニル）−
２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝
シクロペンチル、Ｒ₂＝４−エトキシフェニル）の合成 工程１９）上記実施例７９と同様にして得られた実施例
８２の化合物（１３７ｍｇ）及び炭酸カリウム（１０４
ｍｇ）のアセトン（５ｍｌ）懸濁液に、ヨウ化エチル
（２３４ｍｇ）を加え、８時間加熱還流した。反応液を
減圧濃縮した後、酢酸エチル−水で抽出した。有機層を
希塩酸及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、濾過、減圧濃縮を行なった。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４５：５）で精製することにより油状
物の表題化合物（１２６ｍｇ、収率８４％）を得た。

【０３７９】実施例８９乃至９５ 実施例８８と同様にして表４８乃至表５１の化合物を得
た。

【０３８０】

【表４８】

【０３８１】

【表４９】

【０３８２】

【表５０】

【０３８３】

【表５１】

【０３８４】実施例９６ ５−（４−カルバモイルメトキシフェニル）−４−シク
ロペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エ
チル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−カルバモイルメ
トキシフェニル）の合成 工程２０）上記実施例８８と同様にして得られた実施例
９５の化合物（２．３５ｇ）のエタノール（１０ｍｌ）
溶液に、室温中攪拌下、２８％アンモニア水（１０ｍ
ｌ）を加え、一晩攪拌した。水を加え、析出した固体を
濾取することにより白色固体の表題化合物（２．０８
ｇ、収率８６％）を得た。

【０３８５】実施例９７乃至１０７ 実施例９６と同様にして表５２乃至表５７の化合物を得
た。

【０３８６】

【表５２】

【０３８７】

【表５３】

【０３８８】

【表５４】

【０３８９】

【表５５】

【０３９０】

【表５６】

【０３９１】

【表５７】

【０３９２】実施例１０８ ５−（４−カルボキシフェニル）−４−シクロペンチル
−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁
＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−カルボキシフェニル）の
合成 工程２１）上記実施例１で得られた化合物（１１．０
ｇ）のメタノール−テトラヒドロフラン（１：１）（１
５０ｍｌ）に、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（３０ｍ
ｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液を減圧濃縮
した後、１Ｎ塩酸を加え、酸性にし、析出した固体を濾
過した。ヘキサンで結晶化することにより表題化合物
（８．８２ｇ、収率８４％）を得た。

【０３９３】実施例１０９乃至１１３ 実施例１０８と同様にして表５８乃至表６０の化合物を
得た。

【０３９４】

【表５８】

【０３９５】

【表５９】

【０３９６】

【表６０】

【０３９７】実施例１１４ ５−（４−カルバモイルフェニル）−４−シクロペンチ
ル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ
₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−カルバモイルフェニル）
の合成 工程２２）上記実施例１０８で得られた化合物（４．１
１ｇ）の塩化メチレン（５０ｍｌ）懸濁液に、オキサリ
ルクロライド（１．８ｍｌ）及び少量のジメチルホルム
アミドを加え、室温で１．５時間攪拌した。減圧濃縮し
た後、残渣をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶か
し、氷冷中攪拌下、２８％アンモニア水（１５ｍｌ）を
滴下し、３０分間攪拌した。クロロホルムで抽出した
後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、濾過、減圧濃縮を行
なった。得られた固体を酢酸エチル−メタノールで再結
晶することにより表題化合物（２．９８ｇ、収率７３
％）を得た。

【０３９８】実施例１１５乃至１４９ 実施例１１４と同様にして表６１乃至表７８の化合物を
得た。

【０３９９】

【表６１】

【０４００】

【表６２】

【０４０１】

【表６３】

【０４０２】

【表６４】

【０４０３】

【表６５】

【０４０４】

【表６６】

【０４０５】

【表６７】

【０４０６】

【表６８】

【０４０７】

【表６９】

【０４０８】

【表７０】

【０４０９】

【表７１】

【０４１０】

【表７２】

【０４１１】

【表７３】

【０４１２】

【表７４】

【０４１３】

【表７５】

【０４１４】

【表７６】

【０４１５】

【表７７】

【０４１６】

【表７８】

【０４１７】実施例１５０ ５−（４−シアノ−３−ニトロフェニル）−４−シクロ
ペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチ
ル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−シアノ−３−ニト
ロフェニル）の合成 工程２３）上記実施例１１４と同様にして得られた実施
例１２２の化合物（１０．８１ｇ）のピリジン（１００
ｍｌ）溶液に、ｐ−トルエンスルホニルクロライド（２
３．８７ｇ）を加え、１００℃で１時間加熱攪拌した。
室温まで冷却後、水を加え、３０分間攪拌した。１Ｎ塩
酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥、濾過、減圧濃縮を行なった。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、得られた結晶をエ
タノールで再結晶することにより淡黄色結晶の表題化合
物（６．７２ｇ、収率７３％）を得た。

【０４１８】実施例１５１乃至１５８ 実施例１５０と同様にして表７９乃至表８３の化合物を
得た。

【０４１９】

【表７９】

【０４２０】

【表８０】

【０４２１】

【表８１】

【０４２２】

【表８２】

【０４２３】

【表８３】

【０４２４】実施例１５９ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（Ｎ−ヒ
ドロキシアミジノ）フェニル］チアゾール（式（Ｉ）；
Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−（Ｎ−ヒ
ドロキシアミジノ）フェニル）の合成 工程２４）上記実施例１５０と同様にして得られた実施
例１５５の化合物（２８０ｍｇ）のエタノール（１．５
ｍｌ）−水（３ｍｌ）混合液に、５０％ヒドロキシルア
ミン水溶液（０．１５ｍｌ）を加え、２時間加熱還流し
た。反応液を減圧濃縮した後、残渣を酢酸エチル−水で
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮を行なった。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ク
ロロホルム：テトラヒドロフラン＝８：１）で精製し、
得られた白色固体をエーテルで再結晶することにより白
色粉末の表題化合物（２４３ｍｇ、収率７８％）を得
た。

【０４２５】実施例１６０ ５−［４−（Ｎ−カルバモイルオキシアミジノ）フェニ
ル］−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
（Ｎ−カルバモイルオキシアミジノ）フェニル）の合成 工程２４）上記実施例１５９で得られた化合物（２００
ｍｇ）のジオキサン（３ｍｌ）−水（１．５ｍｌ）混合
溶液に４Ｎ塩酸−ジオキサン溶液（１ｍｌ）を加え、更
にイソシアン酸カリウム（７０ｍｇ）を加え、室温で１
晩攪拌した。この反応液に水を加え、析出した結晶を濾
取した。得られた結晶をエタノールで再結晶することに
より表題化合物（８２ｍｇ、収率３６％）を得た。

【０４２６】実施例１６１乃至１６３ 実施例１５９又は実施例１６０と同様にして表８４乃至
表８６の化合物を得た。

【０４２７】

【表８４】

【０４２８】

【表８５】

【０４２９】

【表８６】

【０４３０】実施例１６４ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（Ｎ−ヒ
ドロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ）フェニル］チアゾー
ル（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂
＝４−（Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ）フェ
ニル）の合成 工程２５）上記実施例１１４と同様にして得られた実施
例１１６の化合物（３１０ｍｇ）及びローソン試薬（４
００ｍｇ）のテトラヒドロフラン（７ｍｌ）溶液を５５
℃で３時間加熱攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えた
後、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮を行なった。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８５：１５）で精製するこ
とにより４−シクロペンチル−２−エチル−５−（４−
メチルアミノチオカルボニルフェニル）チアゾール（３
３０ｍｇ）を得た。これをジメチルホルムアミド（４．
５ｍｌ）に溶かし、氷冷中攪拌下、６０％水素化ナトリ
ウム（４５ｍｇ）を加え、３０分間攪拌した。更に、ヨ
ウ化メチル（８０μｌ）を加え、室温で１時間攪拌した
後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、減圧
濃縮を行なった。得られた油状物をピリジン（２ｍｌ）
に溶かし、ヒドロキシルアミン塩酸塩（２００ｍｇ）を
加え、室温で２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸
エチルで抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、乾燥し、濾
過、減圧濃縮を行なった。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
６：４）で精製し、得られた固体をクロロホルム−ヘキ
サンで結晶化することにより白色結晶の表題化合物（２
３０ｍｇ、収率７１％）を得た。

【０４３１】実施例１６５ 実施例１６４と同様にして表８７の化合物を得た。

【０４３２】

【表８７】

【０４３３】実施例１６６ ５−（４−アセチルフェニル）−４−シクロペンチル−
２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝
シクロペンチル、Ｒ₂＝４−アセチルフェニル）の合成 工程２６）上記実施例１０８で得られた化合物（３．５
０ｇ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液に、ア
ルゴン気流下、氷冷中で攪拌しながら１．０Ｎメチルリ
チウムエーテル溶液（２２．４ｍｌ）を滴下し、室温で
４時間攪拌した。反応液を再度氷冷し、１Ｎ塩酸（２０
ｍｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。エーテル−水
で抽出した後、有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮を
行なった。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝９：
１）で精製し、その結晶をヘキサン−エーテルで再結晶
することにより表題化合物（２．１０ｇ、収率６３％）
を得た。

【０４３４】実施例１６７乃至１７２ 実施例１６６と同様にして表８８乃至表９１の化合物を
得た。

【０４３５】

【表８８】

【０４３６】

【表８９】

【０４３７】

【表９０】

【０４３８】

【表９１】

【０４３９】実施例１７３ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（Ｎ−ヒ
ドロキシアセトイミドイル）フェニル］チアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
（Ｎ−ヒドロキシアセトイミドイル）フェニル）の合成 工程２７）上記実施例１６６で得られた化合物（２５５
ｍｇ）のメタノール（３ｍｌ）−テトラヒドフラン（１
ｍｌ）混合溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩（１３５
ｍｇ）及びトリエチルアミン（０．２６ｍｌ）を加え、
６時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エ
チル−水を加え、抽出した。有機層を水及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮
を行なった。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８：
２）で精製することにより白色粉末の表題化合物（２３
０ｍｇ、収率８６％）を得た。

【０４４０】実施例１７４乃至１７６ 実施例１７３又は実施例１６０と同様にして表９２乃至
表９３の化合物を得た。

【０４４１】

【表９２】

【０４４２】

【表９３】

【０４４３】実施例１７７ ４−シクロペンチル−５−（４−ジエトキシカルボニル
メチル−３−ニトロフェニル）−２−エチルチアゾール
（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝
４−ジエトキシカルボニルメチル−３−ニトロフェニ
ル）の合成 工程２８）６０％水素化ナトリウム（２００ｍｇ）のジ
メチルホルムアミド（１５ｍｌ）懸濁液にアルゴン気流
下、氷冷中で攪拌しながらマロン酸ジエチル（０．７１
ｍｌ）を加え、３０分間攪拌した。この溶液に上記実施
例１と同様にして得られた実施例３６の化合物（１．０
０ｇ）のジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液を滴下
し、室温で１晩攪拌した。更に、８０℃で４時間加熱し
た後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。この抽出液を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾
過、減圧濃縮を行った。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）で精製することにより表題化合物（５００
ｍｇ、収率３５％）を得た。

【０４４４】

【表９４】

【０４４５】実施例１７８ ４−シクロペンチル−５−（４−エトキシカルボニルメ
チル−３−ニトロフェニル）−２−エチルチアゾール
（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝
４−エトキシカルボニルメチル−３−ニトロフェニル）
の合成 工程２９）上記実施例１７７で得られた化合物（５００
ｍｇ）のジメチルスルホキシド（１０ｍｌ）溶液に塩化
リチウム（１３８ｍｇ）及び水（２９ｍｇ）を加え、
３．５時間加熱還流した。その後、水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。この抽出液を水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行っ
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で精製
することにより油状物の表題化合物（４０８ｍｇ、収率
９６％）を得た。

【０４４６】

【表９５】

【０４４７】実施例１７９ ４−シクロペンチル−５−［４−（Ｎ−エトキシカルボ
ニルメチルアミノ）−３−ニトロフェニル］−２−エチ
ルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペ
ンチル、Ｒ₂＝４−（Ｎ−エトキシカルボニルメチルア
ミノ）−３−ニトロフェニル）の合成 工程３０）上記実施例１と同様にして得られた実施例３
６の化合物（４００ｍｇ）、グリシンエチルエステル塩
酸塩（２６２ｍｇ）及び炭酸カリウム（５１８ｍｇ）の
ジメチルスルホキシド（５ｍｌ）懸濁液を１００℃で１
時間加熱攪拌し、反応液を水−酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過、減圧濃縮を行なった。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）で精製することにより黄褐色
固体の表題化合物（４２２ｍｇ、収率８３％）を得た。

【０４４８】

【表９６】

【０４４９】実施例１８０ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（２−オ
キソオキサゾリジン−３−イル）フェニル］チアゾール
（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝
４−（２−オキソオキサゾリジン−３−イル）フェニ
ル）の合成 工程３１）上記実施例４５で得られた化合物（１２５ｍ
ｇ）及びトリエチルアミン（０．１ｍｌ）のトルエン
（３ｍｌ）溶液に、氷冷中攪拌下、クロロ炭酸２−クロ
ロエチル（８０ｍｇ）を加え、３０分間攪拌した。酢酸
エチルを加えた後、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮を行った。得られた
残渣をエタノール（３ｍｌ）に溶解し、室温中、水酸化
カリウム（０．１０ｇ）のエタノール（２ｍｌ）溶液を
加え、７０℃で５分間加熱した。この反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行
った。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精
製することにより表題化合物（８０ｍｇ、収率５２％）
を得た。

【０４５０】

【表９７】

【０４５１】実施例１８１ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３−ヒドロ−
２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−イル）チ
アゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイミ
ダゾール−５−イル）の合成 工程３２）上記実施例４５と同様にして得られた実施例
５１の化合物（６．１１ｇ）のテトラヒドロフラン（５
０ｍｌ）溶液に、カルボジイミダゾール（５．１６ｇ）
を加え、３時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮した
後、テトラヒドロフラン及びヘプタンを加え、析出した
固体を濾取した。固体をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で
精製し、得られた結晶をエタノールで再結晶することに
より表題化合物（２．５０ｇ、収率３８％）を得た。

【０４５２】実施例１８２乃至１８７ 実施例１８１と同様にして表９８乃至表１０１の化合物
を得た。

【０４５３】

【表９８】

【０４５４】

【表９９】

【０４５５】

【表１００】

【０４５６】

【表１０１】

【０４５７】実施例１８８ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３−ヒドロ−
２−オキソ−１Ｈ−インドール−６−イル）チアゾール
（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝
３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−インドール−６−イ
ル）の合成 工程３３）上記上記実施例１７８で得られた化合物（３
９８ｍｇ）の酢酸（１５ｍｌ）溶液に、鉄粉（２２９ｍ
ｇ）を加え、１時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮し
た後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。更
に、有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮を行なっ
た。得られた残渣をクロロホルム−ヘキサンで結晶化す
ることにより表題化合物（２１０ｍｇ、収率６５％）を
得た。

【０４５８】

【表１０２】

【０４５９】実施例１８９ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３，４−ジヒ
ドロ−２−オキソ−１Ｈ−キノキサリン−７−イル）チ
アゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝３，４−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−キノ
キサリン−７−イル）の合成 工程３４）上記実施例１７９で得られた化合物（１３８
ｍｇ）のエタノール（５ｍｌ）溶液に、１０％パラジウ
ム炭素（１５ｍｇ）を加え、水素ガス雰囲気下、室温で
２時間攪拌した。反応液を濾過し、触媒を除いた後、減
圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
１）で精製することにより淡黄色固体の表題化合物（６
９ｍｇ、収率６２％）を得た。

【０４６０】実施例１９０乃至１９３ 実施例１８９と同様にして表１０３乃至表１０５の化合
物を得た。

【０４６１】

【表１０３】

【０４６２】

【表１０４】

【０４６３】

【表１０５】

【０４６４】実施例１９４ ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（２，３−ジヒ
ドロ−３−メチル−４−オキソベンゾ［１，３］オキサ
ジン−７−イル）（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シク
ロペンチル、Ｒ₂＝２，３−ジヒドロ−３−メチル−４
−オキソベンゾ［１，３］オキサジン−７−イル）の合
成 工程３５）４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３
−ヒドロキシ−４−メチルカルバモイルフェニル）チア
ゾール（２２８ｍｇ）のギ酸（２ｍｌ）溶液にホルマリ
ン（０．１６ｍｌ）を加え、１２０℃で２時間加熱し
た。溶液を減圧濃縮した後、クロロホルムを加え、飽和
重曹水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、濾過、減圧濃縮を行った。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、粗生成物を得
た。この粗生成物をエーテル−ヘキサンで結晶化させる
ことにより表題化合物（２０７ｍｇ、収率８８％）を得
た。

【０４６５】実施例１９５乃至１９７ 実施例１９４と同様にして表１０６乃至表１０７の化合
物を得た。

【０４６６】

【表１０６】

【０４６７】

【表１０７】

【０４６８】実施例１９８ ５−（４−カルバモイルフェニル）−４−シクロペンチ
ル−２−ヒドロキシメチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝
ヒドロキシメチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−カ
ルバモイルフェニル）の合成 工程３６）上記実施例１１４と同様にして得られた実施
例１４３の化合物（５．７１ｇ）に３０％臭化水素−酢
酸（８０ｍｌ）を加え、９０℃で３時間加熱した。反応
液を減圧濃縮した後、クロロホルム−水で抽出した。有
機層を水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過、減圧濃縮を行なった。得られ
た残渣をエタノール（１５ｍｌ）−ジメチルスルホキシ
ド（２５ｍｌ）の混合溶液に溶かし、酢酸カリウム
（４．３ｇ）を加え、１００℃で１０時間加熱攪拌し
た。反応液を減圧濃縮した後、テトラヒドロフラン（５
０ｍｌ）、エタノール（５０ｍｌ）及び４Ｎ水酸化ナト
リウム水溶液（５ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌し
た。減圧濃縮した後、残渣に氷水を加え、析出した結晶
を濾取した。この結晶をメタノールで再結晶することに
より白色結晶の表題化合物（３．４３ｇ、収率７８％）
を得た。

【０４６９】実施例１９９ 実施例１９８と同様にして表１０８の化合物を得た。

【０４７０】

【表１０８】

【０４７１】実施例２００ ５−（４−アセトキシ−３−ジアセチルアミノフェニ
ル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
アセトキシ−３−ジアセチルアミノフェニル）の合成 上記実施例１と同様にして得られた実施例１９の化合物
を用いて、工程１１）及び工程１３）を行うことにより
表題化合物を得た。

【０４７２】実施例２０１ ５−（３−アミノ−４−カルボキシフェニル）−４−シ
クロペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝
エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−アミノ−４−
カルボキシフェニル）の合成 上記実施例１と同様にして得られた実施例２１の化合物
を用いて、工程１１）及び工程２１）を行うことにより
表題化合物を得た。

【０４７３】実施例２０２ ５−（３−アミノ−４−カルバモイルフェニル）−４−
シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ
＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−アミノ−４
−カルバモイルフェニル）の合成 上記実施例２０１で得られた化合物を用いて、工程２
２）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４７４】実施例２０３ ５−（３−アミノ−４−シアノフェニル）−４−シクロ
ペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチ
ル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−アミノ−４−シア
ノフェニル）の合成 上記実施例２０２で得られた化合物を用いて、工程２
３）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４７５】実施例２０４ ５−（３−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）
−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−
アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）の合成 上記実施例１と同様にして得られた実施例１９の化合物
を用いて、工程１１）、工程１３）及び工程１８）を行
うことにより表題化合物を得た。

【０４７６】実施例２０５ ５−（３−アセチルアミノ−４−カルバモイルメトキシ
フェニル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾー
ル（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂
＝３−アセチルアミノ−４−カルバモイルメトキシフェ
ニル）の合成 上記実施例２０４で得られた化合物を用いて、工程１
９）乃至工程２０）を行うことにより表題化合物を得
た。

【０４７７】実施例２０６ ５−（３−アセチルアミノ−４−カルバモイルメトキシ
フェニル）−４−シクロペンチル−２−メチルチアゾー
ル（式（Ｉ）；Ｒ＝メチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂
＝３−アセチルアミノ−４−カルバモイルメトキシフェ
ニル）の合成 ５−（４−アセトキシ−３−ニトロフェニル）−４−シ
クロペンチル−２−メチルチアゾールを用いて、工程１
１）、工程１３）及び工程１８）乃至工程２０）を行う
ことにより表題化合物を得た。

【０４７８】実施例２０７ ５−（３−カルバモイルメチル−２−オキソベンゾオキ
サゾール−６−イル）−４−シクロペンチル−２−エチ
ルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペ
ンチル、Ｒ₂＝３−カルバモイルメチル−２−オキソベ
ンゾオキサゾール−６−イル）の合成 上記実施例１８１と同様にして得られた実施例１８２の
化合物を用いて、工程１６）及び工程２０）を行うこと
により表題化合物を得た。

【０４７９】実施例２０８ ５−（４−カルボキシ−３−ヒドロキシフェニル）−４
−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；
Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−カルボキ
シ−３−ヒドロキシフェニル）の合成 ５−（３−アセトキシ−４−メトキシカルボニルフェニ
ル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾールを用
いて、工程１８）及び工程２１）を行うことにより表題
化合物を得た。

【０４８０】実施例２０９ ５−（４−カルバモイル−３−ヒドロキシフェニル）−
４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
カルバモイル−３−ヒドロキシフェニル）の合成 上記実施例２０８で得られた化合物を用いて、工程２
２）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４８１】実施例２１０ ４−シクロペンチル−５−（４−シアノ−３−ヒドロキ
シフェニル）−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝
エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−シアノ−３−
ヒドロキシフェニル）の合成 上記実施例２０９で得られた化合物を用いて、工程２
３）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４８２】実施例２１１ ５−（３−オキソ−４Ｈ−ベンゾ［１，４］オキサジン
−７−イル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾ
ール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、
Ｒ₂＝３−オキソ−４Ｈ−ベンゾ［１，４］オキサジン
−７−イル）の合成 ４−シクロペンチル−２−エチル−５−（３−ヒドロキ
シ−４−ニトロフェニル）チアゾールを用いて、工程１
９）及び工程３４）を行うことにより表題化合物を得
た。

【０４８３】実施例２１２ ５−（４−アミノ−３−カルバモイルメトキシフェニ
ル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−
アミノ−３−カルバモイルメトキシフェニル）の合成 上記実施例９６と同様にして得られた実施例１０７の化
合物を用いて、工程１１）を行うことにより表題化合物
を得た。

【０４８４】実施例２１３ ５−（３−アミノ−４−カルバモイルメトキシフェニ
ル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール（式
（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝３−
アミノ−４−カルバモイルメトキシフェニル）の合成 上記実施例７９と同様にして得られた実施例８４の化合
物を用いて、工程１９）、工程２０）及び工程１１）を
行うことにより表題化合物を得た。

【０４８５】実施例２１４ ５−［４−［Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル］
フェニル］−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾー
ル（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂
＝４−［Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル］フェ
ニル）の合成 上記実施例１１４と同様にして得られた実施例１３０の
化合物を用いて、工程２１）を行うことにより表題化合
物を得た。

【０４８６】実施例２１５ ５−［４−［Ｎ−（２−カルバモイル−１−カルボキシ
エチル）カルバモイル］フェニル］−４−シクロペンチ
ル−２−エチルチアゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ
₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−［Ｎ−（カルボキシメチ
ル）カルバモイル］フェニル）の合成 上記実施例１１４と同様にして得られた実施例１４１の
化合物を用いて、工程２１）を行うことにより表題化合
物を得た。

【０４８７】実施例２１６ ５−［４−（Ｎ−カルバモイルメトキシアセトイミドイ
ル）フェニル］−４−シクロペンチル−２−エチルチア
ゾール（式（Ｉ）；Ｒ＝エチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝４−（Ｎ−カルバモイルメトキシアセトイミ
ドイル）フェニル）の合成 上記実施例１６６で得られた化合物を用いて、工程２
７）及び工程２０）を行うことにより表題化合物を得
た。

【０４８８】実施例２１７ ４−シクロペンチル−５−（４−シアノフェニル）−２
−ヒドロキシメチルフェニル（式（Ｉ）；Ｒ＝ヒドロキ
シメチル、Ｒ₁＝シクロペンチル、Ｒ₂＝４−シアノフェ
ニル）の合成 上記実施例１９８で得られた化合物を用いて、工程２
３）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４８９】実施例２１８ ４−シクロペンチル−５−［４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ジノ）フェニル］−２−ヒドロキシメチルフェニル（式
（Ｉ）；Ｒ＝ヒドロキシメチル、Ｒ₁＝シクロペンチ
ル、Ｒ₂＝４−シアノフェニル）の合成 上記実施例２１７で得られた化合物を用いて、工程２
４）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４９０】実施例２１９ ５−（２−オキソ−２Ｈ−ベンゾオキサゾール−６−イ
ル）−４−シクロペンチル−２−ヒドロキシメチルフェ
ニル（式（Ｉ）；Ｒ＝ヒドロキシメチル、Ｒ₁＝シクロ
ペンチル、Ｒ₂＝２−オキソ−２Ｈ−ベンゾオキサゾー
ル−６−イル）の合成 ５−（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）−４−シ
クロペンチル−２−ヒドロキシメチルチアゾールを用い
て、工程３２）を行うことにより表題化合物を得た。

【０４９１】なお、実施例２００乃至２１９で得られた
化合物を表１０９乃至表１１８に示す。

【０４９２】

【表１０９】

【０４９３】

【表１１０】

【０４９４】

【表１１１】

【０４９５】

【表１１２】

【０４９６】

【表１１３】

【０４９７】

【表１１４】

【０４９８】

【表１１５】

【０４９９】

【表１１６】

【０５００】

【表１１７】

【０５０１】

【表１１８】

【０５０２】次に、本発明化合物のＴＮＦ−α及びＩＦ
Ｎ−γ産生阻害作用について行った試験結果を示す。 （試験例１）：ヒト末梢血単核球（ＰＢＭＣ：ｐｅｒｉ
ｐｈｅｒａｌ ｂｌｏｏｄ ｍｏｎｏｎｕｃｌｅａｒ
ｃｅｌｌ）からのサイトカイン産生抑制作用 （１）ヒトＰＢＭＣの分離と培養 ヒト血液からｍｏｎｏ−ｐｏｌｙ ｒｅｓｏｌｖｉｎｇ
ｍｅｄｉｕｍ（大日本製薬）を用いて、ＰＢＭＣ画分
を分離した。このＰＢＭＣを５％ＦＣＳ／ＲＰＭＩ １
６４０培地で培養し、その後、試験化合物を最終濃度
（０．００１〜１０μＭ）で加え、更にＬＰＳ（リポポ
リサッカライド）を最終濃度が１０μｇ／ｍｌになるよ
うに加えた。２０時間インキュベートした上清を分取
し、−４０℃にて冷凍保存した。また、同様のＰＢＭＣ
にｃｏｎＡ（コンカナバリンＡ）を最終濃度１０μｇ／
ｍｌになるように加え、１５時間インキュベートした上
清を分取し、−４０℃で冷凍保存した。

【０５０３】（２）サイトカインの測定 実験当日、上清解凍し、サイトカインの産生量をＥＬＩ
ＳＡ法で測定した。このとき、ＴＮＦ−αは［（ｈ）Ｔ
ＮＦ−α］ｈｕｍａｎ，ＥＬＩＳＡ ｓｙｓｔｅｍ（Ａ
ｍｅｒｓｈａｍ）を、ＩＬ−６は［（ｈ）ＩＬ−６］ｈ
ｕｍａｎ，ＥＬＩＳＡ ｓｙｓｔｅｍ（Ａｍｅｒｓｈａ
ｍ）を、ＩＬ−１βはｈｕｍａｎ ＩＬ−１β ｉｍｍ
ｕｎｏａｓｓａｙ（Ｒ＆Ｄ ｓｙｓｔｅｍｓ）を、ＩＬ
−８はｈｕｍａｎ ＩＬ−８ ｉｍｍｕｎｏａｓｓａｙ
（Ｒ＆Ｄ ｓｙｓｔｅｍｓ）（以上ＬＰＳ刺激）を、Ｉ
ＦＮ−γは［（ｈ）ＩＦＮ−γ］ｈｕｍａｎ，ＥＬＩＳ
Ａｓｙｓｔｅｍ（Ａｍｅｒｓｈａｍ）（以上ｃｏｎＡ刺
激）を用いて測定した。方法はそれぞれのキットの測定
方法に従い行なった。結果はＩＣ₅₀で示した。結果を表
１１９乃至表１２２に示した。

【０５０４】試験例２：ＬＰＳ刺激によるｉｎ ｖｉｖ
ｏ ＴＮＦ−α産生阻害作用 ５週齢の雄性ＩＣＲマウスに、０．５％ＣＭＣ−Ｎａ
（カルボキシメチルセルロースナトリウム）で懸濁させ
た試験化合物を１０ｍｇ／ｋｇの用量で経口投与し、更
に経口投与の１時間後に０．０１ｍｇ／ｋｇの用量でＬ
ＰＳを静脈内投与した。そして、ＬＰＳ投与の１時間後
に眼底より採血し、遠心分離した後、血漿中のＴＮＦ−
αをＥＬＩＳＡ法（Ｇｅｎｚｙｍｅ）にて測定した。試
験化合物投与群のＴＮＦ−α阻害率を％阻害で示した。
結果を表１１９乃至表１２２に示した。

【０５０５】

【表１１９】

【０５０６】

【表１２０】

【０５０７】

【表１２１】

【０５０８】

【表１２２】

【０５０９】試験例３：マウスコラーゲン関節炎に対す
る作用 ８週齢の雄性ＤＢＡ／１マウス（日本チャールス・リバ
ー）を実験に用いた。コラーゲン関節炎（ＣＩＡ）は、
０日目にＴｙｐｅＩＩ コラーゲン（冨士化学薬品：Ｋ
−４２）２ｍｇ／ｍｌ ０．１Ｎ酢酸を等量のフロイン
ト完全アジュバント（Ｄｉｆｃｏ）と混合してエマルジ
ョンを作り、０．１ｍｇ／０．１ｍｌ／マウスの用量
で、マウスの尾根部にエーテル麻酔下、皮内投与するこ
とで惹起させた。関節炎の評価は経日的にスコア化する
ことにより行なった。試験化合物は、０．５％ＣＭＣ−
Ｎａに懸濁させ、０日目から５１日目までの５２日間、
１日１回連続投与した。用量は３ｍｇ／ｋｇ・ｐ．ｏ．
とした。結果を表１２３に示した。

【０５１０】

【表１２３】

【０５１１】

【発明の効果】以上の試験結果等により、本発明に係る
化合物（Ｉ）は優れたＴＮＦ−α選択的産生阻害作用を
有している。また、ＩＦＮ−γに対しても産生阻害作用
を有している。更に、一部化合物においてはＰＤＥＩＶ
阻害作用を有している。従って、ＴＮＦ−α及び／又は
ＩＦＮ−γの産生を阻害することは数多くの疾患、特に
炎症疾患、関節リウマチ等の自己免疫疾患、アレルギー
疾患等に非常に効果的な作用を示し、今までにない新し
いタイプの治療薬又は予防薬として有用である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 277/28 Ｃ０７Ｄ 277/28 277/30 277/30 277/34 277/34 277/36 277/36 277/40 277/40 277/48 277/48 277/56 277/56 417/04 ２０９ 417/04 ２０９ ２１３ ２１３ ２３３ ２３３ ２３９ ２３９ ２４１ ２４１ ２４９ ２４９ ２６３ ２６３ ２６５ ２６５ ３３３ ３３３ 417/10 ２０７ 417/10 ２０７ ２３３ ２３３ ２４９ ２４９ ２６３ ２６３ ２７１ ２７１ 417/12 ２１３ 417/12 ２１３

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒは低級アルキル基；低級ハロアルキル基；低
   級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ低級アルキル
   基；アラルキルオキシ低級アルキル基；カルボキシ基；
   低級アルコキシカルボニル基；カルバモイル基；低級ア
   ルキルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモイル
   基であり、Ｒ₁はハロゲン原子；低級アルキル基；水酸
   基；低級アルコキシ基；メルカプト基；低級アルキルチ
   オ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及びジ低級アル
   キルアミノ基から選ばれる置換基で置換されてもよい炭
   素原子数３乃至７個のシクロアルキル基であり、Ｒ₂は
   アリール基；窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ば
   れる複素原子を１乃至３個含んでなる芳香族複素環基
   （ここで、これらアリール基又は芳香族複素環基は下記
   Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換されてもよ
   い）；一般式 【化２】 （ここで、Ｑは 【化３】 であり、これらは下記Ｆ群から選ばれる１乃至３個の置
   換基で置換されてもよい）又は−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）_n
   −Ｑ₁［ここで、Ｑ₁はアリール基；窒素原子、酸素原子
   及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んで
   なる芳香族複素環基；炭素原子数３乃至７個のシクロア
   ルキル基（ここで、これらアリール基、複素環基又はシ
   クロアルキル基は下記Ａ群から選ばれる１乃至３個の置
   換基で置換されてもよい）又は一般式 【化４】 （ここで、Ｑは前述のとおりであり、これらは下記Ｆ群
   から選ばれる１乃至３個の置換基で置換されてもよい）
   であり、ｎは０又は１乃至４から選ばれる整数である］
   である］で表わされるチアゾール化合物又はその医薬上
   許容し得る塩。 Ａ群 シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ
   基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキルアミノ基；
   （低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；ジ（低級ヒドロ
   キシアルキル）アミノ基；（低級ハロアルキル）アミノ
   基；ジ（低級ハロアルキル）アミノ基；（カルボキシ低
   級アルキル）アミノ基；ジ（カルボキシ低級アルキル）
   アミノ基；（低級アルコキシカルボニル低級アルキル）
   アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニル低級アルキ
   ル）アミノ基；（低級アルカノイル低級アルキル）アミ
   ノ基；ジ（低級アルカノイル低級アルキル）アミノ基；
   （カルバモイル低級アルキル）アミノ基；ジ（カルバモ
   イル低級アルキル）アミノ基；（低級アルキルカルバモ
   イル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルキルカルバ
   モイル低級アルキル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカ
   ルバモイル）低級アルキル］アミノ基；ジ［（ジ低級ア
   ルキルカルバモイル）低級アルキル］アミノ基；アラル
   キルアミノ基；ジアラルキルアミノ基；低級アルカノイ
   ルアミノ基；ジ低級アルカノイルアミノ基；低級ハロア
   ルカノイルアミノ基；ジ（低級ハロアルカノイル）アミ
   ノ基；オキサルアミノ基；ジオキサルアミノ基；低級ア
   ルコキサリルアミノ基；ジ低級アルコキサリルアミノ
   基；（低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；ジ（低
   級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；（低級アルコキ
   シ低級アルカノイル）アミノ基；ジ（低級アルコキシ低
   級アルカノイル）アミノ基；低級アルコキシカルボニル
   アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニル）アミノ基；
   ウレイド基；低級アルキル置換ウレイド基；アラルキル
   置換ウレイド基；グアニジノ基；低級アルキル置換グア
   ニジノ基；アラルキル置換グアニジノ基；低級アルカノ
   イルオキシ基；カルバモイルオキシ基；低級アルキルカ
   ルバモイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモイルオキ
   シ基；ベンゾイル基；カルボキシ基；メルカプト基；１
   −ピペリジルカルボニル基；１−ピペラジニルカルボニ
   基；１−ピロリジニルカルボニル基；モルホリノカルボ
   ニル基；低級アルキル基；低級アルカノイル基；低級ア
   ルコキシ基；低級アルキルチオ基；低級イミドイル基；
   アミジノ基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニ
   ル基；窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる複
   素原子を１乃至３個含んでなる複素環基（ここで、これ
   ら低級アルキル基、低級アルカノイル基、低級アルコキ
   シ基、低級アルキルチオ基、低級イミドイル基及び低級
   アルコキシカルボニル基は下記Ｂ群から選ばれる１乃至
   ２個の置換基で置換されてもよく、これらカルバモイル
   基及びアミジノ基は下記Ｃ群から選ばれる１乃至３個の
   置換基で置換されてもよく、これら１−ピペリジルカル
   ボニル基、１−ピペラジニルカルボニ基、１−ピロリジ
   ニルカルボニル基及びモルホリノカルボニル基は下記Ｄ
   群から選ばれる１乃至２個の置換基で置換されてもよ
   く、またこれら複素環基は下記Ｅ群より選ばれる１乃至
   ３個の置換基で置換されてもよい）、 Ｂ群 水酸基；低級アルコキシ基；ハロゲン原子；メルカプト
   基；低級アルキルチオ基；カルバモイル基；低級アルキ
   ルカルバモイル基；ジ低級アルキルカルバモイル基；カ
   ルボキシ基；低級アルコキシカルボニル基；低級アルカ
   ノイル基；ベンゾイル基；カルバモイル低級アルコキシ
   基；低級アルキルカルバモイル低級アルコキシ基；（ジ
   低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ基；カルボ
   キシ低級アルコキシ基；低級アルコキシカルボニル低級
   アルコキシ基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；カ
   ルバモイル低級アルキルチオ基；低級アルキルカルバモ
   イル低級アルキルチオ基；（ジ低級アルキルカルバモイ
   ル）低級アルキルチオ基；カルボキシ低級アルキルチオ
   基；低級アルコキシカルボニル低級アルキルチオ基；低
   級アルカノイル低級アルキルチオ基；低級アルカノイル
   オキシ基；カルバモイルオキシ基；低級アルキルカルバ
   モイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモイルオキシ
   基；アミノ基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキル
   アミノ基；（低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；ジ
   （低級ヒドロキシアルキル）アミノ基；（低級ハロアル
   キル）アミノ基；ジ（低級ハロアルキル）アミノ基；
   （カルボキシ低級アルキル）アミノ基；ジ（カルボキシ
   低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキシカルボニル
   低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルコキシカルボニ
   ル低級アルキル）アミノ基；（低級アルカノイル低級ア
   ルキル）アミノ基；ジ（低級アルカノイル低級アルキ
   ル）アミノ基；（カルバモイル低級アルキル）アミノ
   基；ジ（カルバモイル低級アルキル）アミノ基；（低級
   アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ基；ジ（低
   級アルキルカルバモイル低級アルキル）アミノ基；
   ［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル］アミ
   ノ基；ジ［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキ
   ル］アミノ基；アラルキルアミノ基；ジアラルキルアミ
   ノ基；低級アルカノイルアミノ基；ジ低級アルカノイル
   アミノ基；低級ハロアルカノイルアミノ基；ジ（低級ハ
   ロアルカノイル）アミノ基；オキサルアミノ基；ジオキ
   サルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ基；ジ低級ア
   ルコキサリルアミノ基；（低級ヒドロキシアルカノイ
   ル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルカノイル）アミ
   ノ基；（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミノ基；
   ジ（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミノ基；低級
   アルコキシカルボニルアミノ基；ジ（低級アルコキシカ
   ルボニル）アミノ基、 Ｃ群 低級アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級ハロ
   アルキル基；カルボキシ低級アルキル基；メルカプト低
   級アルキル基；低級アルコキシカルボニル低級アルキル
   基；低級アルカノイル低級アルキル基；カルバモイル低
   級アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アルキル
   基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル基；
   アミノ低級アルキル基；低級アルキルアミノ低級アルキ
   ル基；（ジ低級アルキルアミノ）低級アルキル基；（カ
   ルバモイル）（カルボキシ）二置換低級アルキル基；
   （カルバモイル）（低級アルコキシカルボニル）二置換
   低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；炭素原子
   数３乃至７個のシクロアルキル基；アラルキル基；低級
   アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基；低級ア
   ルキルカルバモイルオキシ基；ジ低級アルキルカルバモ
   イルオキシ基；低級アルコキシ低級アルコキシ基；低級
   アルカノイル低級アルコキシ基；カルバモイル低級アル
   コキシ基；低級アルキルカルバモイル低級アルコキシ
   基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ
   基；カルボキシ低級アルコキシ基；低級アルコキシカル
   ボニル低級アルコキシ基；アミノ基；低級アルキルアミ
   ノ基；ジ低級アルキルアミノ基；（低級ヒドロキシアル
   キル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルキル）アミノ
   基；（低級ハロアルキル）アミノ基；ジ（低級ハロアル
   キル）アミノ基；（カルボキシ低級アルキル）アミノ
   基；ジ（カルボキシ低級アルキル）アミノ基；（低級ア
   ルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級
   アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；（低級
   アルカノイル低級アルキル）アミノ基；ジ（低級アルカ
   ノイル低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル低級ア
   ルキル）アミノ基；ジ（カルバモイル低級アルキル）ア
   ミノ基；（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）ア
   ミノ基；ジ（低級アルキルカルバモイル低級アルキル）
   アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アル
   キル］アミノ基；ジ［（ジ低級アルキルカルバモイル）
   低級アルキル］アミノ基；アラルキルアミノ基；ジアラ
   ルキルアミノ基；低級アルカノイルアミノ基；ジ低級ア
   ルカノイルアミノ基；低級ハロアルカノイルアミノ基；
   ジ（低級ハロアルカノイル）アミノ基；オキサルアミノ
   基；ジオキサルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ
   基；ジ低級アルコキサリルアミノ基；（低級ヒドロキシ
   アルカノイル）アミノ基；ジ（低級ヒドロキシアルカノ
   イル）アミノ基；（低級アルコキシ低級アルカノイル）
   アミノ基；ジ（低級アルコキシ低級アルカノイル）アミ
   ノ基；低級アルコキシカルボニルアミノ基；ジ（低級ア
   ルコキシカルボニル）アミノ基、 Ｄ群 低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；ハロゲン
   原子；アミノ基、 Ｅ群 水酸基；メルカプト基；ハロゲン原子；低級アルキル
   基；低級アルコキシ基；低級アルキルチオ基；アミノ
   基；オキソ基；低級ハロアルキル基；アラルキル基；低
   級ヒドロキシアルキル基；カルボキシ低級アルキル基；
   低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；カルバモイ
   ル低級アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アル
   キル基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルキル
   基；低級アルカノイル低級アルキル基；低級アルコキシ
   低級アルキル基；カルボキシ低級アルコキシ基；低級ア
   ルコキシカルボニル低級アルコキシ基；カルバモイル低
   級アルコキシ；低級アルキルカルバモイル低級アルコキ
   シ基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低級アルコキシ
   基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；（カルボキシ
   低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキシカルボニル
   低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル低級アルキ
   ル）アミノ基；（低級アルキルカルバモイル低級アルキ
   ル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモイル）低級
   アルキル］アミノ基、 Ｆ群 低級アルキル基；水酸基；メルカプト基；ハロゲン原
   子；低級アルコキシ基；低級アルキルチオ基；アミノ
   基；オキソ基；低級ハロアルキル基；カルボキシ低級ア
   ルキル基；低級アルコキシカルボニル低級アルキル基；
   カルバモイル低級アルキル基；低級アルキルカルバモイ
   ル低級アルキル基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低
   級アルキル基；低級アルカノイル低級アルキル基；低級
   アルコキシ低級アルキル基；カルボキシ低級アルコキシ
   基；低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基；カル
   バモイル低級アルコキシ基；低級アルキルカルバモイル
   低級アルコキシ基；（ジ低級アルキルカルバモイル）低
   級アルコキシ基；低級アルカノイル低級アルコキシ基；
   （カルボキシ低級アルキル）アミノ基；（低級アルコキ
   シカルボニル低級アルキル）アミノ基；（カルバモイル
   低級アルキル）アミノ基；（低級アルキルカルバモイル
   低級アルキル）アミノ基；［（ジ低級アルキルカルバモ
   イル）低級アルキル］アミノ基。
2. 【請求項２】 Ｒが低級アルキル基；低級ハロアルキル
   基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコキシ低級
   アルキル基であり、Ｒ₁が低級アルキル基で置換されて
   もよい炭素原子数５乃至７個のシクロアルキル基であ
   り、Ｒ₂がフェニル基又はナフチル基；ピロリル基、フ
   リル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、
   イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル
   基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリ
   ル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピ
   リミジニル基、ピリダジニル基及びトリアジニル基から
   選ばれる芳香族複素環基（ここで、これらフェニル基、
   ナフチル基又は芳香族複素環基は下記Ａ’群から選ばれ
   る１乃至３個の置換基で置換されてもよい）；一般式 【化５】 （ここで、Ｑが 【化６】 であり、これらは下記Ｆ’群から選ばれる１乃至３個の
   置換基で置換されてもよい）又は−ＣＯＮＨ−（Ｃ
   Ｈ₂）_n−Ｑ₁［ここで、Ｑ₁がフェニル基又はナフチル
   基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、チアゾリル
   基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル
   基、イソオキサゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾ
   リル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル
   基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基及
   びトリアジニル基から選ばれる芳香族複素環基である
   （ここで、これらフェニル基、ナフチル基又は芳香族複
   素環基は下記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で
   置換されてもよい）であり、ｎが０又は１乃至２から選
   ばれる整数である］である請求項１記載のチアゾール化
   合物又はその医薬上許容し得る塩。 Ａ’群 シアノ基；ニトロ基；水酸基；ハロゲン原子；アミノ
   基；低級アルキルアミノ基；ジ低級アルキルアミノ基；
   （低級アルコキシカルボニル低級アルキル）アミノ基；
   （カルバモイル低級アルキル）アミノ基；低級アルカノ
   イルアミノ基；ジ低級アルカノイルアミノ基；低級ハロ
   アルカノイルアミノ基；低級アルコキサリルアミノ基；
   （低級ヒドロキシアルカノイル）アミノ基；（低級アル
   コキシ低級アルカノイル）アミノ基；低級アルコキシカ
   ルボニルアミノ基；ウレイド基；低級アルキル置換ウレ
   イド基；グアニジノ基；低級アルカノイルオキシ基；ベ
   ンゾイル基；カルボキシ基；１−ピペリジルカルボニル
   基；１−ピペラジニルカルボニ基；１−ピロリジニルカ
   ルボニル基；モルホリノカルボニル基；低級アルキル
   基；低級アルカノイル基；低級アルコキシ基；低級アル
   キルチオ基；低級イミドイル基；アミジノ基；カルバモ
   イル基；低級アルコキシカルボニル基；窒素原子、酸素
   原子及び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含
   んでなる複素環基（ここで、これら低級アルキル基、低
   級アルカノイル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
   オ基、低級イミドイル基及び低級アルコキシカルボニル
   基は下記Ｂ’群から選ばれる１乃至２個の置換基で置換
   されてもよく、これらカルバモイル基及びアミジノ基は
   下記Ｃ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換され
   てもよく、これら１−ピペリジルカルボニル基、１−ピ
   ペラジニルカルボニ基、１−ピロリジニルカルボニル基
   及びモルホリノカルボニル基は下記Ｄ’群から選ばれる
   １乃至２個の置換基で置換されてもよく、またこれら複
   素環基は下記Ｅ’群より選ばれる１乃至３個の置換基で
   置換されてもよい）、 Ｂ’群 水酸基；低級アルコキシ基；カルバモイル基；低級アル
   コキシカルボニル基；カルバモイル低級アルコキシ基；
   低級アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基、 Ｃ’群 低級アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基；低級ハロ
   アルキル基；カルボキシ低級アルキル基；低級アルコキ
   シカルボニル低級アルキル基；カルバモイル低級アルキ
   ル基；（ジ低級アルキルアミノ）低級アルキル基；（カ
   ルバモイル）（カルボキシ）二置換低級アルキル基；
   （カルバモイル）（低級アルコキシカルボニル）二置換
   低級アルキル基；水酸基；低級アルコキシ基；炭素原子
   数３乃至７個のシクロアルキル基；アラルキル基；低級
   アルカノイルオキシ基；カルバモイルオキシ基；ジ低級
   アルキルアミノ基、 Ｄ’群 低級アルキル基、 Ｅ’群 低級アルキル基；オキソ基；アラルキル基、 Ｆ’群 低級アルキル基；水酸基；オキソ基；カルバモイル低級
   アルキル基；低級アルキルカルバモイル低級アルキル
   基。
3. 【請求項３】 Ｒがメチル基、エチル基、ヒドロキシメ
   チル基又はメトキシメチル基であり、Ｒ₁がシクロペン
   チル基又はシクロヘキシル基である請求項１記載のチア
   ゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。
4. 【請求項４】 一般式（Ｉ’） 【化７】 ［式中、Ｒ’は低級アルキル基；低級ハロアルキル基；
   低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ低級アルキ
   ル基；アラルキルオキシ低級アルキル基；カルボキシ
   基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモイル基；低
   級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモ
   イル基であり、Ｒ₁’はハロゲン原子；低級アルキル
   基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト基；低級ア
   ルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及びジ
   低級アルキルアミノ基から選ばれる置換基で置換されて
   もよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル基であ
   り、Ｒ₂’はアリール基（ここで、このアリール基は上
   記Ａ群から選ばれる１乃至３個の置換で置換されてもよ
   い）又は一般式 【化８】 （ここで、Ｑ’は 【化９】 であり、これらは上記Ｆ群から選ばれる１乃至３個の置
   換基で置換されてもよい）である］で表わされるチアゾ
   ール化合物又はその医薬上許容し得る塩。
5. 【請求項５】 Ｒ’が低級アルキル基；低級ハロアルキ
   ル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコキシ低
   級アルキル基であり、Ｒ₁’が低級アルキル基で置換さ
   れてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロアルキル基で
   あり、Ｒ₂’がアリール基（ここで、このアリール基は
   上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で置換され
   てもよい）又は一般式 【化１０】 （ここで、Ｑ’が 【化１１】 であり、これらは上記Ｆ’群から選ばれる１乃至３個の
   置換基で置換されてもよい）である請求項４記載のチア
   ゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。
6. 【請求項６】 Ｒ’がメチル基、エチル基、ヒドドロキ
   シメチル基又はメトキシメチル基であり、Ｒ₁’がシク
   ロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、Ｒ₂’が低
   級アルキル基；ハロゲン原子；水酸基；アミノ基；シア
   ノ基；ニトロ基；低級アルキル基、水酸基、低級アルカ
   ノイルオキシ基及びカルバモイルオキシ基から選ばれる
   １乃至３個の置換基で置換されてもよいアミジノ基；低
   級アルカノイルオキシ基、カルバモイルオキシ基又はカ
   ルバモイル低級アルコキシ基で置換されてもよい低級イ
   ミドイル基；カルバモイル基；低級アルキルカルバモイ
   ル基；低級アルキル基で置換されてもよいウレイド基及
   びオキソ基で置換されてもよいイミダゾリジニル基から
   選ばれる１乃至２個の置換基で置換されてもよいフェニ
   ル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイミダゾ
   リル基、３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−インドリル
   基、２−オキソ−３Ｈ−ベンゾオキサゾリル基又は３−
   メチル−４−オキソ−３Ｈ−１，３−ベンゾオキサジニ
   ル基である請求項４記載のチアゾール化合物又はその医
   薬上許容し得る塩。
7. 【請求項７】 一般式（Ｉ’’） 【化１２】 ［式中、Ｒ’’は低級アルキル基；低級ハロアルキル
   基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ低級ア
   ルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル基；カルボキ
   シ基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモイル基；
   低級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバ
   モイル基であり、Ｒ₁’’はハロゲン原子；低級アルキ
   ル基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト基;低級
   アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及び
   ジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置換基で置換され
   てもよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル基であ
   り、Ｒ₂’’は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選
   ばれる複素原子を１乃至３個含んでなる芳香族複素環基
   である（ここで、この芳香族複素環基は上記Ａ群から選
   ばれる１乃至３個の置換基で置換されてもよい）］で表
   わされるチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る
   塩。
8. 【請求項８】 Ｒ’’が低級アルキル基；低級ハロアル
   キル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコキシ
   低級アルキル基であり、Ｒ₁’’が低級アルキル基で置
   換されてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロアルキル
   基であり、Ｒ₂’’が置換されてもよく、ピロリル基、
   フリル基、チエニル基、チアゾリル基、オキサゾリル
   基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾ
   リル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジア
   ゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル
   基、ピリミジニル基、ピリダジニル基及びトリアジニル
   基から選ばれる芳香族複素環基（ここで、この芳香族複
   素環基は上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で
   置換されてもよい）である請求項７記載のチアゾール化
   合物又はその医薬上許容し得る塩。
9. 【請求項９】 一般式（Ｉ’’’） 【化１３】 ［式中、Ｒ’’’は低級アルキル基；低級ハロアルキル
   基；低級ヒドロキシアルキル基；低級アルコキシ低級ア
   ルキル基；アラルキルオキシ低級アルキル基；カルボキ
   シ基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモイル基；
   低級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバ
   モイル基であり、Ｒ₁’’’はハロゲン原子；低級アル
   キル基；水酸基；低級アルコキシ基；メルカプト基;低
   級アルキルチオ基；アミノ基；低級アルキルアミノ基及
   びジ低級アルキルアミノ基から選ばれる置換基で置換さ
   れてもよい炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル基で
   あり、Ｒ₂’’’は−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）_n’−Ｑ₁’
   ［ここで、Ｑ₁’はアリール基；窒素原子、酸素原子及
   び硫黄原子から選ばれる複素原子を１乃至３個含んでな
   る芳香族複素環基；炭素原子数３乃至７個のシクロアル
   キル基である（ここで、これらアリール基、芳香族複素
   環基又はシクロアルキル基は上記Ａ群から選ばれる１乃
   至３個の置換基で置換されてもよい）であり、ｎ’は０
   又は１乃至４から選ばれる整数である］で表わされるチ
   アゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。
10. 【請求項１０】 Ｒ’’’が低級アルキル基；低級ハロ
    アルキル基；低級ヒドロキシアルキル基又は低級アルコ
    キシ低級アルキル基であり、Ｒ₁’’’が低級アルキル
    基で置換されてもよい炭素原子数５乃至７個のシクロア
    ルキル基であり、Ｒ₂’’’が−ＣＯＮＨ−（Ｃ
    Ｈ₂）_n’−Ｑ₁’［ここで、Ｑ₁’がアリール基；ピリジ
    ル基及びチアゾリル基から選ばれる置換されてもよい芳
    香族複素環基（ここで、これらアリール基又は芳香族複
    素環基は上記Ａ’群から選ばれる１乃至３個の置換基で
    置換されてもよい）であり、ｎ’が０又は１乃至２から
    選ばれる整数である］である請求項９記載のチアゾール
    化合物又はその医薬上許容し得る塩。
11. 【請求項１１】 ５−（３−クロロ−４−ヒドロキシフ
    ェニル）−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾー
    ル；５−（４−アミノ−３−メチルフェニル）−４−シ
    クロペンチル−２−エチルチアゾール；５−（４−シア
    ノ−４−ニトロフェニル）−４−シクロペンチル−２−
    エチルチアゾール；５−（３−アセチルアミノ−４−カ
    ルバモイルメトキシフェニル）−４−シクロペンチル−
    ２−エチルチアゾール；４−シクロペンチル−２−エチ
    ル−５−（３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンゾイミ
    ダゾール−５−イル）チアゾール；４−シクロペンチル
    −２−エチル−５−（３−ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−
    インドール−６−イル）チアゾール；４−シクロペンチ
    ル−２−エチル−５−（２−オキソ−３Ｈ−ベンゾオキ
    サゾール−６−イル）チアゾール；５−（４−カルバモ
    イルフェニル）−４−シクロペンチル−２−ヒドロキシ
    メチルチアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル−
    ５−［４−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）フ
    ェニル］チアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル
    −５−［４−（Ｎ−ヒドロキシアミジノ）フェニル］チ
    アゾール；４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４
    −（１，３−ジメチルウレイド）フェニル］チアゾー
    ル；４−シクロペンチル−２−エチル−５−［４−（Ｎ
    −ヒドロキシアミジノ）−３−ニトロフェニル］チアゾ
    ール；５−［４−（Ｎ−アセトキシアミジノ）フェニ
    ル］−４−シクロペンチル−２−エチルチアゾール；４
    −シクロペンチル−２−エチル−５−（３−メチル−４
    −オキソ−３Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−７−イ
    ル）チアゾール；５−［４−（Ｎ−アセトキシアセトイ
    ミドイル）フェニル］−４−シクロペンチル−２−エチ
    ルチアゾール；５−［４−（Ｎ−カルバモイルオキシア
    セトイミドイル）フェニル］−４−シクロペンチル−２
    −エチルチアゾール；５−［４−（Ｎ−カルバモイルオ
    キシアミジノ）フェニル］−４−シクロペンチル−２−
    エチルチアゾール；４−シクロペンチル−２−エチル−
    ５−［４−（Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ’−メチルアミジノ）
    フェニル］チアゾール；４−シクロペンチル−２−エチ
    ル−５−［４−（Ｎ−カルバモイルメトキシアセトイミ
    ドイル）フェニル］チアゾール及び４−シクロペンチル
    −２−エチル−５−［４−（Ｎ−メチルカルバモイル）
    フェニル］チアゾールからなる群より選ばれる請求項４
    記載のチアゾール化合物又はその医薬上許容し得る塩。
12. 【請求項１２】 請求項１乃至１１記載のチアゾール化
    合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分としてなる
    医薬組成物。
13. 【請求項１３】 請求項１乃至１１記載のチアゾール化
    合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分としてなる
    ＴＮＦ（腫瘍壊死因子）−α産生阻害剤。
14. 【請求項１４】 請求項１乃至１１記載のチアゾール化
    合物又はその医薬上許容し得る塩を有効成分としてなる
    ＩＦＮ（インタフェロン）−γ産生阻害剤。