JPH1149638A - O/w/o型エマルション - Google Patents
O/w/o型エマルションInfo
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- JPH1149638A JPH1149638A JP22085497A JP22085497A JPH1149638A JP H1149638 A JPH1149638 A JP H1149638A JP 22085497 A JP22085497 A JP 22085497A JP 22085497 A JP22085497 A JP 22085497A JP H1149638 A JPH1149638 A JP H1149638A
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Abstract
わらず、水相成分を多量に含有でき、きわめて安定なO
/W/O型エマルションを提供する。このO/W/O型
エマルションは塗布時ののびに優れ、塗布後の保護感も
高いものである。 【構成】A)親水性界面活性剤、B)油分、C)水を含
有する成分に400気圧以上の高圧ホモジナイザー処理
に相当する剪断力を与えることによって得られるO/W
型マイクロエマルションを、油相に分散してO/W/O
型マイクロエマルションを得る。
Description
ルションに関し、詳しくは親水性界面活性剤の含有量が
少ないにもかかわらず、水相成分を多量に含有でき、き
わめて安定なO/W/O型エマルションに関する。
て、乳化型のクリームや乳液が多用されている。このよ
うな乳化の形態には大別してW/Oエマルションタイプ
とO/Wエマルションタイプがあるが、W/O型エマル
ションは外相が油相なので、皮膚に塗布した際の保護実
感の高いクリームや乳液が得られるが、反面塗布時の伸
びが悪いという欠点を有している。近年ではシリコーン
系油剤やシリコーン系界面活性剤を配合することで塗布
時の伸びの悪さを軽減できるようになったが、O/W型
エマルションに比べるとまだ十分に改善されたとはいえ
ない状況である。逆にO/W型エマルションは外相が水
相であるため、塗布時のクリームや乳液の伸びは良好で
あるものの、塗布後の皮膚の保護効果や保湿効果が今一
つ高くないという欠点を有する。
O/W/O型エマルションの形態とすることが提案され
ている。このようなO/W/O型エマルションの製法と
しては、第1段階でO/W型エマルションを作成し、つ
いで第2段階としてこのO/W型エマルションを油相に
分散する方法が一般的に用いられている。しかしなが
ら、第1段階のO/W型エマルションの平均粒子径は、
一般に知られている乳化方法では1μm程度が限界であ
るため、このO/W型エマルションを油相に分散して得
られるO/W/O型エマルションの平均粒子径はさらに
大きくなってしまい、温度的、経時的に不安定なものと
なりやすい。そのため、相当大量の界面活性剤を配合し
て第1段階のO/W型エマルションを微粒子化する必要
があるが、こうした場合には目的とする微粒子のO/W
/O型エマルションが製造できたにしても製造に使用し
た界面活性剤の量が多いため、界面活性剤と他の相との
相互作用が強く働き、やはり不安定なエマルションにな
ってしまうという問題があった。
得る方法では、さっぱり感を出すために水相の含有量を
多くするには、エマルションのサイズを小さくすること
により水相の含有量を増やす方法が考えられる。しかし
このためには従来の技術では親水性界面活性剤の量を増
やす必要があり、前述のO/W/O型エマルションの安
定性の悪化の問題のほかに、界面活性剤の量が多くなる
ため、塗布時の感触が悪化し、せっかく水相量を増やし
て塗布時のさっぱり感を出そうとしてもキャンセルされ
てしまい、結局はさっぱり感のあるO/W/O型エマル
ションを提供することが難しいものであった。
0重量%以上の大量の水相を含有することができる上、
きわめて安定なO/W/O型エマルションを提供するこ
とを目的とする。
いて、鋭意研究を進めた結果、400気圧以上の高圧ホ
モジナイザー処理に相当する剪断力を与えることによっ
て得られるO/W型マイクロエマルションでは親水性界
面活性剤がごく少量でも0.1μm以下のマイクロエマ
ルションを製造でき、これをさらに油相中に分散してや
れば、温度的、経時的にきわめて安定なO/W/O型複
合エマルションが得られること、またこのO/W/O型
エマルションには水相を40重量%以上の量で含有させ
ることができるため、従来にないさっぱりした感触のエ
マルションが得られることを見い出し、本発明を完成さ
せるに至った。
活性剤で水相を多量に含有でき、しかも経時的、温度的
に安定なO/W/O型エマルションに関するものであ
る。
する。
ションの製造に用いられるA成分の親水性界面活性剤と
しては、O/W型のマイクロエマルションを得るため
に、HLBが親水性のものを用いる必要があるが、それ
以外は通常の親水性界面活性剤を用いることができ、特
に限定はされない。具体的に例を挙げると、陰イオン界
面活性剤としては、例えば、ラウリン酸ナトリウム、パ
ルミチン酸カリウム等の脂肪酸セッケン、ラウリル硫酸
ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム等の高級アルキル硫
酸エステル塩、ポリオキシエチレン(以下、POEとい
う)ラウリル硫酸トリリエタノールアミン等のアルキル
エーテル硫酸エステル塩、ラウロイルザルコシンナトリ
ウム等のN−アシルサルコシン酸、N−ミリストイル−
N−メチルタウリンナトリウム等の高級脂肪酸アミドス
ルホン酸塩、POEオレイルエーテルリン酸ナトリウ
ム、POEステアリルエーテルリン酸等のリン酸エステ
ル塩、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のスルホコハク酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノー
ルアミン、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、N−ラウロイルグルタミン酸モノ
ナトリウム、N−ステアロイルグルタミン酸ジナトリウ
ム、N−ミリストイル−L−グルタミン酸モノナトリウ
ム等のN−アシルグルタミン酸塩等があげられる。陽イ
オン界面活性剤としては、例えば、塩化ステアリルトリ
メチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニ
ウム等のアルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキ
ルジメチルアンモニウム塩、アルキル四級化アンモニウ
ム塩、アルキルアミン塩等が挙げられる。
ンデシル−N,N-(ヒドロキシエチルカルボキシメチ
ル)−2−イミダゾリンナトリウム、2−ココイル−2
−イミダゾリニウムヒドロキサイド−1−カルボキシエ
チロキシ2ナトリウム塩等のイミダゾリン系両面界面活
性剤、2−ヘプタデシル−N−カルボキシメチル−N−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリル
ジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキルベタイン、アミ
ドベタイン、スルホベタイン等のベタイン系界面活性
剤、N−ラウリルβ−アラニン、N−ステアリルβ−ア
ラニン等のアミノ酸塩等が挙げられる。
以上を組合せて用いることができる。本発明での第1段
階として製造されるO/W型マイクロエマルションに用
いられるB成分の油分は、通常化粧料に用いられる油分
であれば特には限定されず、具体的な例としては、例え
ば流動パラフィン、スクワラン、スクワレン、プリスタ
ン、パラフィン、ワセリン等の炭化水素類等、ジオクチ
ルエーテル等のエーテル類等、エチレングリコールジオ
クチルエーテル等のジエーテル類等、オクタン酸セチ
ル、ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソ
プロピル、ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸ミリスチ
ル、オレイン酸デシル、オレイン酸オレイル等のモノエ
ステル類、イソステアリルアルコール、オクチルドデカ
ノール等の高級アルコール類等、オレイルアルコールや
ラノリンアルコール等の不飽和高級アルコール類等、エ
イコセン酸等の高級脂肪酸類、セバシン酸ジ−2−エチ
ルヘキシル、アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル等のジ
エステル類等、グリセロールモノオレイルエーテル等の
グリセリルモノエーテル類、ラウロイルラウリルアミン
等の酸アミド類等、アボガド油、ツバキ油、タートル
油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、ミンク油、
オリーブ油、ナタネ油、卵黄油、ゴマ油、パーシック
油、小麦胚芽油、サザンカ油、ヒマシ油、アマニ油、サ
フラワー油、綿実油、エノ油、大豆油、落花生油、茶実
油、カヤ油、コメヌカ油、シナギリ油、日本キリ油、ホ
ホバ油、胚芽油、カカオ脂、ヤシ油等の植物、動物油脂
類等が挙げられる。これらの油分のなかでも、流動パラ
フィンや、スクワランのような炭化水素系油分のごとき
極性の低い油分を用いると、得られるO/W/O型エマ
ルションがさらに安定化するので特に好ましい。本発明
ではこれら油分の一種または二種以上を用いるものであ
る。
W型マイクロエマルションは、親水性界面活性剤が最終
的に得られるO/W/O型エマルションの全量に対して
0.01〜1重量%、好ましくは0.01〜0.5重量
%の配合量となる量を用いて製造される。最終的に得ら
れるO/W/Oエマルション全量に対して1重量%を越
える量の親水性界面活性剤を配合してO/W型マイクロ
エマルションを製造した場合は、かかるO/W型マイク
ロエマルションを油相に分散してO/W/O型エマルシ
ョンを製造した場合には、O/W型エマルションのまま
でO/W/O型エマルションにならないか、なったとし
てもエマルション中の親水性界面活性剤が他相に影響を
与え、得られたエマルションの温度的、経時的安定性が
きわめて悪化してしまう。0.01重量%〜0.5重量
%の範囲であればより安定に製造でき、特に好ましい。
あるO/W型マイクロエマルションは、A成分の親水性
界面活性剤とB成分の油分とC成分の水とを、強力な剪
断力を与え得る乳化機、例えば高圧ホモジナイザー、あ
るいは超音波乳化機等を用いて調製が可能である。高圧
ホモジナイザーを用いる場合には、400気圧以上の圧
力下で乳化するのが好ましいが、さらに好ましくは、5
0℃以上の温度と600気圧以上の圧力下で乳化するの
が良い。このようにして得られたO/W型マイクロエマ
ルションの平均粒子径は0.01〜0.2μの範囲にあ
ることが好ましい。
ルションには、前記親水性界面活性剤、油分、水の他
に、任意成分として化粧料に一般に使用される各種の成
分を配合することができる。例えばエチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級
アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、1,3−ブチレングリコール、グリセリン、ジグ
リセリン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、ポリエチレングリコール等の多価アルコール類、
ソルビタン、ソルビトール、マルチトール、マルトトリ
オース、マンニトール等の糖類、ヒアルロン酸ナトリウ
ム、トレハロース、硫酸化トレハロース等の多糖類やそ
の誘導体、アスコルビン酸、アスコルビン酸燐酸エステ
ル、トコフェロール、酢酸トコフェロール、ビタミンA
等のビタミン類、パラベン類やグルコン酸クロルヘキシ
ジン等の防腐剤類、ブチルヒドロキシトルエン等の酸化
防止剤、アラビアゴム、カルボキシビニルポリマー等の
増粘剤、クエン酸塩、酢酸塩等のpH調整剤、パラアミ
ノ安息香酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体等の紫外線吸
収剤、酸化チタン、シリカゲル、タルク等の粉体類、香
料、色素等、ヒアルロン酸、胎盤抽出物、朝鮮人参エキ
ス、ステロール配糖体、β−カロチン、スーパーオキシ
ドデスムターゼ等の各種目的に応じた薬効成分等を任意
に選択して用いることができる。また、本発明の効果を
損なわない範囲で、A成分の親水性界面活性剤の他に、
親油性界面活性剤を少量併用することも可能である。
ョンを、さらに油相に分散させてO/W/O型エマルシ
ョンを製造する。ここでの分散は通常の剪断力を与え得
る乳化機、例えばディスパー等で十分である。O/W型
マイクロエマルションを分散させる油相の成分として
は、通常化粧料に使用される油分であれば特に限定はさ
れず、例えばO/W型マイクロエマルションで例示した
油分や、揮発性シリコーン油、ポリジメチルシロキサ
ン、有機変性ポリシロキサン等を使用することができ
る。この油相にはこの他、シリコーン系界面活性剤や蔗
糖脂肪酸エステル等の親油性界面活性剤を適量配合して
やると良好に複合エマルションを製造できるのでさらに
好ましい。
説明する。 <O/W型マイクロエマルション>表1〜3の成分を用
いて本発明に適用される製造例1〜3のO/W型エマル
ションを製造した。
クロフルイダイザー(みづほ工業製)を用いてO/W型
マイクロエマルションとした。得られたマイクロエマル
ションの平均粒子径は光学顕微鏡で観察したところ、製
造例1では70μ、製造例2では150μ、製造例3で
は100μであった。
施例>製造例1〜3のO/W型エマルションを用いて、
表4〜6の組成のO/W/O型エマルションを製造し
た。
000rpmで撹拌してO/W/O型エマルションを得
た。
000rpmで撹拌してO/W/O型エマルションを得
た。
000rpmで撹拌してO/W/O型エマルションを得
た。
ョンの電子顕微鏡写真を図1に示す。
>次に実施例1のO/W/O型エマルションと、通常の
ディスパーを用いて製造した製造例1と同一組成のO/
W型マイクロエマルションを用いて製造したO/W/O
型エマルションを比較例1、O/W型マイクロエマルシ
ョンの脂肪酸と水酸化カリウムの量を10倍に増量(増
量分は水で調整)してマイクロフルイダイザーで乳化し
て得られたO/W/O型エマルションを比較例2とし
て、これらの経時安定性を比較した。結果を表7に示
す。
/W/O型エマルションは非常に安定であった。
>実施例3のO/W/O型エマルションに対して、製造
例3のマイクロエマルションの代わりに純水を用いて製
造したW/O型エマルションを比較例3とし、女性専門
パネラー10名による使用感触の官能評価を実施した。
評価項目は塗布時ののびの軽さと塗布後の保護感の2項
目とし、それぞれ5段階で評点をつけてもらい、10人
の平均値で評価した。得られた結果を表9に示す。
マルションは、W/O型エマルションに比べてきわめて
のびが軽いにもかかわらず、塗布後の保護感はW/O型
エマルションと同等以上であることが証明された。
マルション中のスクワランをスクワレンに全量置換した
O/W/O型エマルションを製造し、別途同量のスクワ
レンを含有するO/W型エマルションを製造し、それぞ
れを40℃の温度条件でキセノンテスターで12時間処
理してTBA法により、過酸化物の生成率を調べた。そ
の結果、本発明のO/W/O型エマルションでは最内相
に不飽和化合物であるスクワレンが存在するため、TB
A値は3と低かったが、O/W型エマルションではTB
A値が53まで上昇していた。この結果、本発明のO/
W/O型エマルションでは不飽和化合物のような酸素に
対する安定性の低い物質をきわめて安定に配合しうるこ
とが判明した。
水性界面活性剤の含有量が少ないにもかかわらず、水相
成分を多量に含有でき、きわめて安定なO/W/O型エ
マルションを製造することができる。その結果、きわめ
てのびが軽く、W/O型エマルションに匹敵する塗布後
の保護感を与えるエマルションを提供することが可能と
なった。また、本発明のO/W/O型エマルションは最
内相に酸素に不安定な物質を安定に配合することが可能
である。
査型電子顕微鏡で撮影した写真である。
Claims (6)
- 【請求項1】 A)親水性界面活性剤、B)油分、C)
水を含有する成分に400気圧以上の高圧ホモジナイザ
ー処理に相当する剪断力を与えることによって得られる
O/W型マイクロエマルションを、油相に分散して得ら
れるO/W/O型マイクロエマルション。 - 【請求項2】 油相に分散されるO/W型マイクロエマ
ルションの平均粒子径が0.01〜0.2μmである請
求項1に記載のO/W/O型エマルション。 - 【請求項3】 親水性界面活性剤の量が、O/W/O型
エマルションの全量に対して0.01〜1重量%である
請求項1または2に記載のO/W/O型エマルション。 - 【請求項4】 親水性界面活性剤の量が、O/W/O型
エマルションの全量に対して0.01〜0.5重量%で
ある請求項1または2に記載のO/W/O型エマルショ
ン。 - 【請求項5】 水相成分の量がO/W/O型エマルショ
ンの全量に対して40重量%以上である請求項1〜4の
いずれかに記載のO/W/O型エマルション。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のO/W
/O型エマルションを配合してなる化粧料。
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---|---|---|---|
JP22085497A JP3939821B2 (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | O/w/o型エマルション |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22085497A JP3939821B2 (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | O/w/o型エマルション |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1149638A true JPH1149638A (ja) | 1999-02-23 |
JP3939821B2 JP3939821B2 (ja) | 2007-07-04 |
Family
ID=16757589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22085497A Expired - Fee Related JP3939821B2 (ja) | 1997-08-01 | 1997-08-01 | O/w/o型エマルション |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3939821B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100425259B1 (ko) * | 2001-02-15 | 2004-03-30 | 한국콜마 주식회사 | 라인형 초고속 미립자 분쇄기를 이용한 수상/실리콘상제형의 화장료 조성물과 그 제조방법 |
WO2019004405A1 (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-03 | Shiseido Company, Ltd. | COSMETIC MAKE-UP PRODUCT |
-
1997
- 1997-08-01 JP JP22085497A patent/JP3939821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100425259B1 (ko) * | 2001-02-15 | 2004-03-30 | 한국콜마 주식회사 | 라인형 초고속 미립자 분쇄기를 이용한 수상/실리콘상제형의 화장료 조성물과 그 제조방법 |
WO2019004405A1 (en) * | 2017-06-29 | 2019-01-03 | Shiseido Company, Ltd. | COSMETIC MAKE-UP PRODUCT |
KR20200020776A (ko) * | 2017-06-29 | 2020-02-26 | 가부시키가이샤 시세이도 | 메이크업 화장료 |
CN110868990A (zh) * | 2017-06-29 | 2020-03-06 | 株式会社资生堂 | 彩妆化妆品 |
JP2020525457A (ja) * | 2017-06-29 | 2020-08-27 | 株式会社 資生堂 | メーキャップ化粧料 |
EP3644939A4 (en) * | 2017-06-29 | 2021-03-17 | Shiseido Company, Ltd. | MAKE-UP COSMETIC PRODUCT |
CN110868990B (zh) * | 2017-06-29 | 2023-09-08 | 株式会社资生堂 | 彩妆化妆品 |
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JP3939821B2 (ja) | 2007-07-04 |
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