JPH1145870A - Spin processor - Google Patents

Spin processor

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Publication number
JPH1145870A
JPH1145870A JP19856597A JP19856597A JPH1145870A JP H1145870 A JPH1145870 A JP H1145870A JP 19856597 A JP19856597 A JP 19856597A JP 19856597 A JP19856597 A JP 19856597A JP H1145870 A JPH1145870 A JP H1145870A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding table
substrate
balance weight
force
pin
Prior art date
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Pending
Application number
JP19856597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akinori Iso
明典 磯
Harumichi Hirose
治道 廣瀬
Katsunori Kaneko
勝則 金子
Kenji Sakashita
健司 坂下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Engineering Works Co Ltd filed Critical Shibaura Engineering Works Co Ltd
Priority to JP19856597A priority Critical patent/JPH1145870A/en
Publication of JPH1145870A publication Critical patent/JPH1145870A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spin processor which enables satisfactory retention of a substrate, without causing warpings of a holding table even with rotational driving. SOLUTION: A spin processor 20 has a holding table 30 and a retention means 39 for retaining an outer periphery of a substrate 31 of an upper surface of the holding table 30, and rotationally drives the substrate 31 together with the holding plate 30. In this case, on a lower surface of the holding table 30 opposite to the side where the retention means 39 is provided, a balance weight 41 which generates a reverse force against the force which acts in a direction perpendicular to the holding table 30 generated in the retention means 39 by the rotational driving of the holding table 30 is mounted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を回転させて
洗浄処理、乾燥処理を行うスピン処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin processing apparatus for performing a cleaning process and a drying process by rotating a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、液晶表示装置の製造過程におい
ては、ワークとしての矩形状のガラス製の基板に回路パ
ターンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがあ
る。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが
繰り返し行われる。
2. Description of the Related Art For example, in a manufacturing process of a liquid crystal display device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a rectangular glass substrate as a work. In these processes, the processing of the substrate and the cleaning are repeatedly performed.

【0003】洗浄された基板を乾燥させるためには、上
記基板を保持テーブルに保持し、この保持テーブルとと
もに高速回転させ、それによって生じる遠心力を利用し
て上記基板に付着した洗浄液を除去するということが行
われている。
In order to dry the washed substrate, the substrate is held on a holding table, rotated at a high speed together with the holding table, and a centrifugal force generated thereby is used to remove the cleaning liquid attached to the substrate. That is being done.

【0004】上記矩形状の基板を保持するための保持テ
ーブルは、円盤状に形成された本体部を有し、この本体
部の円盤状の外周に4本のアームが周方向に所定の間隔
で外周に突設されてなる。4本のアームは同じ長さを有
しており、それぞれのアームの先端部には係合部として
所定間隔で離間した2本の第1のピンと、この第1のピ
ンに比べて短く、この第1のピンよりもアームの基端側
に位置する1本の第2のピンが突設されている。
A holding table for holding the rectangular substrate has a disk-shaped main body, and four arms are provided at predetermined intervals in a circumferential direction on a disk-shaped outer periphery of the main body. It is provided on the outer periphery. The four arms have the same length, and at the tip of each arm are two first pins that are separated at a predetermined interval as engagement portions, and are shorter than the first pins. One second pin protrudes from the first pin located closer to the base end of the arm.

【0005】上記保持テーブルの上面では、上記基板の
4つの角部を各アームの一対の第1のピンに係合させる
とともに、角部下面を上記第2のピンに支持させる。つ
まり、基板は保持テーブルの4本のアームがその矩形の
対角線方向に沿う状態で保持されている。
On the upper surface of the holding table, four corners of the substrate are engaged with a pair of first pins of each arm, and lower surfaces of the corners are supported by the second pins. That is, the substrate is held with the four arms of the holding table along the diagonal direction of the rectangle.

【0006】そして、上記基板を保持した保持テーブル
を高速で回転させれば、遠心力によって上記基板に付着
した洗浄液が除去され、この基板を乾燥させることがで
きる。
When the holding table holding the substrate is rotated at a high speed, the cleaning liquid attached to the substrate is removed by centrifugal force, and the substrate can be dried.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、液晶
表示装置の大型化によって基板も大きくなってきてい
る。例えば従来は300mm ×400mm の大きさであったが、
最近では550mm ×650mm の大きさの基板が用いられるよ
うになってきている。
Recently, the size of the liquid crystal display device has been increased, and the size of the substrate has been increased. For example, in the past it was 300 mm × 400 mm,
Recently, substrates having a size of 550 mm × 650 mm have been used.

【0008】そのため、上記保持テーブルに基板を載置
させてこの基板を回転駆動させる場合、上記第1のピン
を外方へ押す遠心力も大きなものとなっている。ここ
で、上記第1のピンは上記保持テーブルの上面に突設し
て設けられているため、図4に示すように、この保持テ
ーブル1は下方へ向かい所定の寸法dだけ撓んでしま
う。これは、この第1のピン2が回転する場合、この第
1のピン2の重心Pから上記保持テーブル1の回転中心
Oに向かう向心力Fが発生することによって上記第1の
ピン2が回転可能となっており、この向心力Fを水平方
向成分F1 と垂直方向成分F2 に分解した場合、垂直方
向成分F2 が上記保持テーブル1を下方に撓ませる力と
して作用するためである。
Therefore, when the substrate is placed on the holding table and the substrate is driven to rotate, the centrifugal force for pushing the first pin outward is also large. Here, since the first pins are provided so as to protrude from the upper surface of the holding table, as shown in FIG. 4, the holding table 1 is bent downward by a predetermined dimension d. This is because, when the first pin 2 rotates, a centripetal force F is generated from the center of gravity P of the first pin 2 toward the rotation center O of the holding table 1 so that the first pin 2 can rotate. When the centripetal force F is decomposed into a horizontal component F 1 and a vertical component F 2 , the vertical component F 2 acts as a force to bend the holding table 1 downward.

【0009】この保持テーブル1に生じる反りは、上記
4本のアームにより構成されている保持テーブルのみな
らず、例えば角テーブルのときも同様に生じている。角
テーブルの場合の一例として、900mm 角の保持テーブル
を1600rpm で回転駆動させたときには、この第1のピン
2の取り付けられている位置は、約7mm 程度下方に反る
ことがある。
The warpage of the holding table 1 occurs not only in the case of the holding table constituted by the four arms but also in the case of, for example, a square table. As an example of a square table, when a 900 mm square holding table is driven to rotate at 1600 rpm, the position where the first pin 2 is attached may warp downward by about 7 mm.

【0010】このように保持テーブル1が下方に反る
と、上記第1のピン2が上記基板3の外縁部を良好に係
止できなくなり、そのためこの基板3が保持テーブル1
から外方へ向かい飛散して基板3が破損するといった不
具合が発生している。
When the holding table 1 is warped downward in this manner, the first pins 2 cannot satisfactorily lock the outer edge of the substrate 3 and, therefore, the substrate 3
There is a problem that the substrate 3 is damaged by scattering outward from the substrate.

【0011】また、上記第1のピン2が仮に上記保持テ
ーブル1の下面に取り付けられている場合にも、この保
持テーブル1が回転駆動により上面へ反るようになる。
本発明は上記の事情にもとづきなされたもので、その目
的とするところは、回転駆動によっても保持テーブルが
反らず、基板を良好に係止することが可能なスピン処理
装置を提供しようとするものである。
Further, even when the first pin 2 is temporarily attached to the lower surface of the holding table 1, the holding table 1 is warped to the upper surface by rotation.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a spin processing apparatus which can hold a substrate well without rotating a holding table even by rotational driving. Things.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
保持テーブルおよびこの保持テーブルの上面に基板の外
周を係止する係止手段を有し、この基板を保持テーブル
とともに回転駆動させるスピン処理装置において、上記
保持テーブルの係止手段が設けられた反対側の下面に
は、この保持テーブルの回転駆動によって係止手段に生
じるこの保持テーブルに垂直な向きに作用する力に抗し
て逆向きの力を発生させるバランスウェイトが取り付け
られたことを特徴としている。
According to the first aspect of the present invention,
In a spin processing apparatus having a holding table and a locking means for locking the outer periphery of the substrate on the upper surface of the holding table, and rotating the substrate together with the holding table, the opposite side where the locking means of the holding table is provided A balance weight for generating a reverse force against a force acting on the holding table in a direction perpendicular to the holding table generated by the rotation means of the holding table due to the rotation of the holding table is attached to a lower surface of the holding table. .

【0013】請求項2記載の発明は、上記バランスウェ
イトは上記係止手段よりも外周側に取り付けられている
ことを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置であ
る。請求項1の発明によると、上記保持テーブルの係止
手段が設けられた反対側の下面には、この保持テーブル
の回転駆動によって係止手段に生じるこの保持テーブル
に垂直な向きに作用する力に抗して逆向きの力を発生さ
せるバランスウェイトが取り付けられているため、上記
保持テーブルを回転駆動させれば上記係止手段に生じる
保持テーブルを押し下げる下向きの力と、バランスウェ
イトに生じる保持テーブルを押し上げる上向きの力とが
打ち消し合い、そのため保持テーブルが下方に反るのを
防止することが可能となっている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the spin processing apparatus according to the first aspect, wherein the balance weight is attached to an outer peripheral side of the locking means. According to the first aspect of the present invention, the lower surface of the holding table opposite to the side on which the locking means is provided is provided with a force generated in the locking means by the rotation driving of the holding table and acting in a direction perpendicular to the holding table. Since a balance weight for generating a reverse force is attached to the holding table, if the holding table is rotationally driven, a downward force generated by the locking means to push down the holding table and a holding table generated by the balance weight are reduced. The upward force pushing up cancels each other out, so that it is possible to prevent the holding table from warping downward.

【0014】請求項2の発明によると、上記バランスウ
ェイトは上記係止手段よりも外周側に取り付けられてい
るため、このバランスウェイトの重量を軽量化すること
が可能となっている。
According to the second aspect of the present invention, since the balance weight is attached to the outer peripheral side of the locking means, the weight of the balance weight can be reduced.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1ないし図3に基づいて説明する。図1に示す
スピン処理装置20は、カップ21を備えている。この
カップ21は下カップ21aと上カップ21bとから構
成されている。上記下カップ21aは上面が開放したお
椀状に形成され、その底部中心部分には通孔22が形成
され、外周の上端縁には受けフランジ23が形成されて
いる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The spin processing device 20 shown in FIG. The cup 21 includes a lower cup 21a and an upper cup 21b. The lower cup 21a is formed in a bowl shape with an open upper surface, a through hole 22 is formed at the bottom center portion, and a receiving flange 23 is formed at the upper end edge of the outer periphery.

【0016】上記上カップ21bは外周面が凸曲面をな
したリング状に形成されていて、その外周面には取付け
部材24を介して連結フランジ25が設けられている。
そして、上カップ21bはその連結フランジ25を上記
受フランジ23にパッキング26を介して接合させ、そ
れらを複数の蝶ナット27で結合することで一体化され
ている。
The upper cup 21b is formed in a ring shape with an outer peripheral surface having a convex curved surface, and a coupling flange 25 is provided on the outer peripheral surface via a mounting member 24.
The upper cup 21b is integrated by joining the connecting flange 25 to the receiving flange 23 via a packing 26 and connecting them with a plurality of wing nuts 27.

【0017】上記下カップ21aに形成された通孔22
からそのカップ21の内部へはモータ28の駆動軸29
が挿通されている。この駆動軸29の上端には保持テー
ブル30が取り付けられ、上記モータ28によって高速
回転させられるようになっている。この保持テーブル3
0には、前工程である、洗浄工程で洗浄された液晶表示
装置に用いられる矩形状の基板31が後述するごとく保
持されるようになっている。したがって、上記保持テー
ブル30が高速回転されることで、上記基板31に付着
した洗浄液が遠心力で除去されるようになっている。
A through hole 22 formed in the lower cup 21a
The drive shaft 29 of the motor 28
Is inserted. A holding table 30 is attached to the upper end of the drive shaft 29, and is rotated at a high speed by the motor 28. This holding table 3
At 0, a rectangular substrate 31 used in the liquid crystal display device that has been cleaned in the cleaning process, which is the previous process, is held as described later. Therefore, when the holding table 30 is rotated at a high speed, the cleaning liquid attached to the substrate 31 is removed by centrifugal force.

【0018】上記下カップ21aの底壁には複数の排水
口体32が設けられ、この排水口体32は図示しない排
水ポンプに配管接続されている。また、下カップ21a
の周壁には、上カップ21bの下端よりも上部に周方向
に所定間隔で複数の排気口体33が接続され、これらは
図示しない排気ポンプに配管接続されている。
A plurality of drain ports 32 are provided on the bottom wall of the lower cup 21a, and the drain ports 32 are connected to a drain pump (not shown) by piping. Also, the lower cup 21a
A plurality of exhaust ports 33 are connected to the peripheral wall at predetermined intervals in the circumferential direction above the lower end of the upper cup 21b, and these are connected to an exhaust pump (not shown) by piping.

【0019】上記排水口体32からは下カップ21aに
溜まる洗浄液が排出され、上記排気口体33は上記保持
テーブル30が高速回転されることで発生する空気流を
同図に矢印Aで示すように円滑な流れとするための吸引
力を発生させるようになっている。
The washing liquid accumulated in the lower cup 21a is discharged from the drain port 32, and the exhaust port 33 indicates an air flow generated by the high-speed rotation of the holding table 30 as shown by an arrow A in FIG. A suction force for smooth flow is generated.

【0020】図2に示すように、上記保持テーブル30
は、円板状に形成された中心部34と、この中心部34
の外周に例えば90度間隔で設けられたそれぞれ2本の
アームが対を成す2組のアーム35a,35bからなる
本体部36を有する。各アーム35a,35bは直杆部
37の先端に先端部38が例えばT字型を成すように設
けられている。なお、この先端部38はT字型に限られ
ず、例えば鉤型など、種々の形状に設定することは勿論
可能である。
As shown in FIG. 2, the holding table 30
A central part 34 formed in a disk shape;
Has a main body portion 36 composed of two sets of arms 35a and 35b, each pair of which is provided on the outer periphery at 90 ° intervals, for example. Each of the arms 35a and 35b is provided at the tip of a straight rod portion 37 such that the tip 38 has, for example, a T-shape. Note that the tip portion 38 is not limited to the T-shape, but may be set in various shapes such as a hook shape.

【0021】上記各アーム35a,35bの先端部38
の上面には、係合部を形成する一対の第1のピン39が
周方向に所定間隔で離間して立設されているとともに、
この第1のピン39よりも径方向内方で、一対の第1の
ピン39の間の部分には、第1のピン39よりも高さ寸
法が低い第2のピン40が立設されている。
The tip 38 of each of the arms 35a and 35b
A pair of first pins 39 forming an engaging portion are erected at predetermined intervals in the circumferential direction on the upper surface of the
A second pin 40 having a lower height than the first pin 39 is provided upright at a portion radially inward of the first pin 39 and between the pair of first pins 39. I have.

【0022】上記一対の第1のアーム35aに設けられ
た第1のピン39の間隔は上記基板31の短手方向の寸
法よりもわずかに大きく設定され、一対の第2のアーム
35bに設けられた第1のピン39の間隔は上記基板3
1の短手方向と直交する長手方向の寸法よりもわずかに
大きく設定されている。
The distance between the first pins 39 provided on the pair of first arms 35a is set slightly larger than the width of the substrate 31 in the short direction, and is provided on the pair of second arms 35b. The distance between the first pins 39 is
1 is set slightly larger than the dimension in the longitudinal direction orthogonal to the lateral direction.

【0023】そのため、上記基板31は幅方向両側を一
対の第1のアーム35aの第1のピン39に係合させ、
幅方向と直交する長手方向両側を一対の第2のアーム3
5bの第1のピン39に係合させるとともに、それぞれ
の側辺部の下面を第1のピン39よりも基端側に設けら
れた第2のピン40の上端と係合させて保持されるよう
になっている。
Therefore, the board 31 is engaged on both sides in the width direction with the first pins 39 of the pair of first arms 35a,
A pair of second arms 3 on both sides in the longitudinal direction orthogonal to the width direction.
5b is engaged with the first pin 39, and the lower surface of each side is engaged with and held by the upper end of the second pin 40 provided on the base end side of the first pin 39. It has become.

【0024】上記第1のアーム35aと第2のアーム3
5bの上記第1のピン39が取り付けられた位置の下面
側には、バランスウェイト41が取り付けられている。
このバランスウェイト41は、保持テーブル30の回転
駆動によって上記第1のピン39に生じる下向きの力に
抗して上向きの力を生じさせるために取り付けられたも
のであり、そのためこのバランスウェイト41の重量お
よび高さが適宜となるように調整されている。
The first arm 35a and the second arm 3
A balance weight 41 is attached to the lower surface of the position 5b where the first pin 39 is attached.
The balance weight 41 is attached to generate an upward force against the downward force generated on the first pin 39 due to the rotational driving of the holding table 30. Therefore, the weight of the balance weight 41 is And the height is adjusted appropriately.

【0025】しかしながら、上記バランスウェイト41
は回転駆動によって生じる空気抵抗およびこのバランス
ウェイト41の回転によって気流が周囲へ影響を及ぼさ
ないようにするために、突設している高さが適宜制限さ
れたものとなっている。
However, the balance weight 41
The protruding height is appropriately limited in order to prevent the airflow from affecting the surrounding due to the air resistance generated by the rotational drive and the rotation of the balance weight 41.

【0026】なお、このバランスウェイト41を取り付
ける位置は、上記第1のピン39の下方に限られず、こ
れよりも径方向外周側でも内周側でも構わない。例え
ば、径方向外周側に上記バランスウェイト41を取り付
けた場合には、このバランスウェイト41の重量を軽量
化することが可能となっている。
The position at which the balance weight 41 is attached is not limited to below the first pin 39, but may be radially outer or inner. For example, when the balance weight 41 is attached to the radially outer side, the weight of the balance weight 41 can be reduced.

【0027】また、バランスウェイト41では、重量と
重心の位置が重要な要素となるため、この形状はこの重
量と重心の位置が所用の要件を満たし、かつ空気抵抗が
少ないもの(その例としては円柱状、円錐状などで、上
端部が緩やかな曲面を有するもの)であれば、如何なる
形状に形成することも可能となっている。
In the balance weight 41, since the weight and the position of the center of gravity are important factors, the shape is such that the weight and the position of the center of gravity satisfy the required requirements and the air resistance is low (for example, Any shape can be used as long as the shape is a columnar shape, a conical shape, and the like, and the upper end portion has a gentle curved surface.

【0028】以上のような構成のスピン処理装置20の
作用について、以下に説明する。上記モータ28を作動
させて上記保持テーブル30を回転駆動させると、この
保持テーブル30上に突設して設けられた第1のピン3
9の重心Pに回転による向心力が発生する。図3(a)
に示すように、この向心力は、第1のピン39の重心P
から上記保持テーブル30の回転中心Oに向かう力であ
り、これを向心力Fとする。この向心力Fを水平方向成
分F1 と垂直方向成分F2 に分解した場合、垂直方向成
分F2 が上記保持テーブル30を下方に撓ませようとし
て作用する。この垂直方向成分F2 は、上記保持テーブ
ル30を下方へ撓ませようとしてこの第1のピン39に
よる基板31の保持を悪化させるものである。
The operation of the spin processing device 20 configured as described above will be described below. When the motor 28 is operated to rotate the holding table 30, the first pin 3 provided on the holding table 30 is provided.
A centripetal force due to rotation is generated at the center of gravity P of No. 9. FIG. 3 (a)
As shown in the figure, this centripetal force is the center of gravity P of the first pin 39.
From the direction toward the rotation center O of the holding table 30, and this is referred to as a centripetal force F. Disassembling the centripetal force F and vertical component F 2 horizontal components F 1, the vertical component F 2 acts in an effort deflect the holding table 30 downward. The vertical component F 2 is to exacerbate the holding of the substrate 31 by the first pin 39 in an attempt deflect the holding table 30 downward.

【0029】しかしながら、上記保持テーブル30の下
面にはバランスウェイト41が取り付けられており、そ
のためこのバランスウェイト41にも上記保持テーブル
30の回転駆動によってバランスウェイト41の重心Q
から保持テーブル30の回転中心Oに向かう向心力Wが
発生する。これを図3(b)に示す。
However, the balance weight 41 is attached to the lower surface of the holding table 30. Therefore, the balance weight 41 is also driven by the rotation of the holding table 30 so that the center of gravity Q of the balance weight 41 can be adjusted.
, A centripetal force W toward the rotation center O of the holding table 30 is generated. This is shown in FIG.

【0030】そして上記向心力Wを水平方向成分W1
垂直方向成分W2 に分解した場合、垂直方向成分W2
上記保持テーブル30を押し上げて上方へ撓ませようと
して作用する。
When the centripetal force W is decomposed into a horizontal component W 1 and a vertical component W 2 , the vertical component W 2 acts to push up the holding table 30 to bend upward.

【0031】そのため、上述の下向きの力F2 と上向き
の力W2 とが打ち消し合い、この保持テーブル30の撓
みを防止できるようになっている。なお、上記バランス
ウェイト41の重量および取り付け位置を適宜調整する
ことにより、上記保持テーブル30に生じる撓みを完全
に解消することも当然可能となっている。
Therefore, the above-described downward force F 2 and upward force W 2 cancel each other, and the bending of the holding table 30 can be prevented. By appropriately adjusting the weight and the mounting position of the balance weight 41, it is naturally possible to completely eliminate the bending generated in the holding table 30.

【0032】このように上記保持テーブル30の撓みが
防止されると、この保持テーブル30の上面に取り付け
られている第1のピン39の基板31の係止状態が悪化
し、そのため上記保持テーブル30の回転駆動中に基板
31が飛び出すのを防止することが可能となっている。
When the bending of the holding table 30 is prevented as described above, the locking state of the first pins 39 attached to the upper surface of the holding table 30 to the substrate 31 is deteriorated, and therefore, the holding table 30 It is possible to prevent the substrate 31 from jumping out during the rotational driving of the substrate 31.

【0033】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、保
持テーブル30は4本のアーム35a,35bにより構
成されたものであるが、これ以外にも例えば900mm 角の
板状に形成されたテーブルなど、種々の保持テーブルに
対して適用可能となっている。
While the embodiment of the present invention has been described above, the present invention can be variously modified. This is described below. In the above embodiment, the holding table 30 is constituted by the four arms 35a and 35b. However, other than this, various types of holding tables such as a 900 mm square plate-shaped table may be used. Applicable.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によると、上記保持テーブルの係止手段が設けられた
反対側の下面には、この保持テーブルの回転駆動によっ
て係止手段に生じるこの保持テーブルに垂直な向きに作
用する力に抗して逆向きの力を発生させるバランスウェ
イトが取り付けられているため、上記保持テーブルを回
転駆動させれば上記係止手段に生じる保持テーブルを押
し下げる下向きの力と、バランスウェイトに生じる保持
テーブルを押し上げる上向きの力とが打ち消し合い、そ
のため保持テーブルが下方に反るのを防止することが可
能となっている。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the lower surface of the holding table opposite to the side on which the locking means is provided is generated in the locking means by the rotational driving of the holding table. Since a balance weight for generating a force in the opposite direction to the force acting in the vertical direction is attached to the holding table, if the holding table is rotationally driven, the holding table generated in the locking means is pushed down. The downward force and the upward force generated by the balance weight and pushing up the holding table cancel each other out, so that it is possible to prevent the holding table from warping downward.

【0035】請求項2記載の発明によると、上記バラン
スウェイトは上記係止手段よりも外周側に取り付けられ
ているため、このバランスウェイトの重量を軽量化する
ことが可能となっている。
According to the second aspect of the present invention, since the balance weight is attached to the outer peripheral side of the locking means, the weight of the balance weight can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係わり、スピン処理装
置の形状を示す側断面図。
FIG. 1 is a side sectional view showing a shape of a spin processing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態に係わる保持テーブルの形状を示
す平面図。
FIG. 2 is a plan view showing the shape of the holding table according to the embodiment.

【図3】同実施の形態に係わる保持テーブルの回転駆動
時に生じる力の状態を示す図であり、(a)は第1のピ
ンに生じる力の状態を示す図であり、(b)はバランス
ウェイトに生じる力の状態を示す図。
3A and 3B are diagrams illustrating a state of a force generated when the holding table according to the embodiment is rotationally driven, FIG. 3A is a diagram illustrating a state of a force generated on a first pin, and FIG. The figure which shows the state of the force which arises in a weight.

【図4】従来の保持テーブルに生じる保持テーブルの撓
みおよびこの保持テーブルに対して生じる力を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing the bending of a holding table that occurs in a conventional holding table and the force that occurs on the holding table.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20…スピン処理装置 21…カップ 30…保持テーブル 31…基板 35a,35b…アーム 39…第1のピン 41…バランスウェイト Reference Signs List 20 spin processing device 21 cup 30 holding table 31 substrate 35a, 35b arm 39 first pin 41 balance weight

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂下 健司 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Kenji Sakashita 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa, Japan Inside Ofuna Plant of Shibaura Works

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 保持テーブルおよびこの保持テーブルの
上面に基板の外周を係止する係止手段を有し、この基板
を保持テーブルとともに回転駆動させるスピン処理装置
において、 上記保持テーブルの係止手段が設けられた反対側の下面
には、この保持テーブルの回転駆動によって係止手段に
生じるこの保持テーブルに垂直な向きに作用する力に抗
して逆向きの力を発生させるバランスウェイトが取り付
けられたことを特徴とするスピン処理装置。
1. A spin processing apparatus having a holding table and a locking means for locking an outer periphery of a substrate on an upper surface of the holding table, and rotating the substrate together with the holding table. On the lower surface on the opposite side provided, a balance weight for generating a reverse force against a force acting on the retaining table in a direction perpendicular to the retaining table generated by the rotation drive of the retaining table is attached. A spin processing device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 上記バランスウェイトは上記係止手段よ
りも外周側に取り付けられていることを特徴とする請求
項1記載のスピン処理装置。
2. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein said balance weight is attached to an outer peripheral side of said locking means.
JP19856597A 1997-07-24 1997-07-24 Spin processor Pending JPH1145870A (en)

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JP2001185522A (en) * 1999-12-24 2001-07-06 Shibaura Mechatronics Corp Apparatus for treating rectangular substrate
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