JPH113854A - 露光装置、露光方法及び位置検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板の位置検出精度をより向上させることがで
きる露光装置、露光方法及び基板の位置検出装置を提供
する。 【解決手段】アライメントセンサ１と基板Ｐとの間で形
成される空間のうち、アライメントセンサ１の検出用光
束が通過する基板Ｐ側の空間の少なくとも一部を囲う可
動式カバー５を備えているので、かかる空間に温度の異
なる空気が侵入することを防止でき、それにより光束の
通過する空間内の空気の屈折率を一定に維持し、よって
アライメントセンサ１の検出精度を向上させることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体または、液
晶表示素子等の基板をフォトリソグラフィ工程で製造す
る際に使用される露光装置、露光方法、及び基板の位置
検出装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶ディスプレィ（ＬＣＤ）を
製造するためのフォトリソグラフィ工程（マスクパター
ンのレジスト像を基板上に形成する工程）では、マスク
としてのレチクルのパターンを投影光学系を介して、フ
ォトレジストが塗布された基板（又はプレート等）上に
露光する投影露光装置（ステッパー等）が使用されてい
る。

【０００３】一般的な投影露光装置において、レチクル
に描画されたパターンは、投影光学系により基板上に露
光転写される。その際、基板を載せたステージは、光軸
に垂直な方向にはレーザ干渉計により精密に位置決めさ
れ、また光軸の方向にもＡＦセンサを用いて高さ決めさ
れる。

【０００４】投影露光装置においてこのように各種セン
サを用いて、レチクルと基板の位置や姿勢を正確に測定
するのは、基板に露光転写すべきレチクルの描画パター
ンが、極めて微細だからである。即ち、近年においては
ＬＣＤの画像分解能が更に高まり、例えば３ミクロン以
下の線幅を有するパターンを基板に形成することが要求
されているのである。

【０００５】従って、レチクルや基板の位置決めを極め
て精密に行うべく、基板ステージやレチクルステージの
位置決め精度の要求が非常に厳しいものとなっている。
同様に、レチクルと基板との相対位置に関するアライメ
ント誤差の許容範囲も極めて制限されている。

【０００６】一方、レチクルや基板の位置決めを精密に
達成する際には、以下に述べる障害がある。露光装置
は、一般に厳密に温度管理すべく、チャンバに密閉され
た構成となっている。しかしチャンバ内にはステージ駆
動部、露光光を吸収したレチクルやプレート、外部と熱
交換するチャンバの壁部等、数多くの熱源が存在する。

【０００７】かかる熱源やチャンバ内の空調の空気の流
れであるサイドフローによるわずかな空気密度差によ
り、チャンバ内の空気は空間的に均一にならず、また、
時間的にも変動する。これが、空気の屈折率の時間的ゆ
らぎや、空間的勾配の原因となる。

【０００８】ここで、上述したレーザ干渉計はもちろ
ん、ＡＦセンサ、レベリングセンサ、アライメントセン
サにおいては、通常、光を用いたセンサを用いるので、
かかる測定光が空気の屈折率がゆらいだ空間を通過する
ことになると、レチクルや基板の位置測定精度の低下を
きたす。また露光光が、上記空間を通過すると、結像状
態に悪影響を及ぼす恐れもある。

【０００９】更に、基板のアライメント位置を検出する
アライメントセンサを例に取り、従来技の問題点を更に
詳細に説明する。図５は液晶ディスプレイ用の基板を露
光得る露光装置に設けられた、従来技術による露光装置
の正面図である。

【００１０】図５において、中央に配置された投影光学
系ＰＬの両側には、投影光学系ＰＬの合焦位置と、感光
基板Ｐの表面高さ（光軸方向）位置とのずれ量を測定す
る一対のＡＦセンサ１１が配置されている。更に，ＡＦ
センサ１１の側方には、それぞれアライメントセンサ１
が配置されている。

【００１１】感光基板Ｐは、投影光学系ＰＬの下方で基
板ホルダＰＨに保持されて、基板ステージＰＳＴ上に載
せられている。搬入用スライドアーム１６と搬出用スラ
イドアーム１７とが、投影光学系ＰＬと基板ホルダＰＨ
との間に侵入し、基板ホルダＰＨの基板Ｐを交換できる
ようになっている。

【００１２】搬入用スライドアーム１６は、露光しよう
とする感光基板Ｐを基板収納部（不図示）から基板ホル
ダＰＨまで搬送するものであり、一方搬出用スライドア
ーム１７は、露光された感光基板Ｐを基板ホルダＰＨか
ら基板収納部へと搬送するものである。基板ホルダＰＨ
は、感光基板Ｐを吸着保持して露光時のその平面度を高
めるようにしている。

【００１３】基板ステージＰＳＴは、ステージ受け渡し
部１８と基板ホルダＰＨを保持し、図示しない干渉計に
よりその位置を測定され、位置決め制御が行われる。

【００１４】ステージ受け渡し部１８は上下に移動する
ようになっており、搬入用スライドアーム１６により搬
送された感光基板Ｐを受け取って、基板ホルダＰＨに渡
し、かつ基板ホルダＰＨから搬出用スライドアーム１７
へと、感光基板Ｐを渡すよう機能する。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、投影光学系
ＰＬの光軸から離れる方向に基板ステージＰＳＴを水平
に移動させれば、基板Ｐの搬入出を比較的広い空間内で
行うことができる。しかし、基板Ｐの搬入出毎に基板ス
テージＰＳＴを長いストロークで移動させていたので
は、その動作に時間がかかってしまう。また、基板ステ
ージＰＳＴを移動させる機構も大がかりとなり、露光装
置の大型化を招く。

【００１６】そこで、投影光学系ＰＬの下方に基板ステ
ージＰＳＴを位置させたまま、基板Ｐの搬入出を行うこ
とが必要となる。更に、基板Ｐの搬入出を迅速に行うた
めには、搬出用スライドアーム１７の基板搬出後に、直
ちに搬入用スライドアーム１６の基板搬入を行えるよう
に、投影光学系ＰＬの下方で両スライドアーム１６，１
７の移動経路を交差させる必要がある。従って、投影光
学系ＰＬと基板ホルダＰＨとの間に、両スライドアーム
１６，１７が高さ方向に重合できるほどに広い空間を確
保する必要がある。

【００１７】更に、処理能力の向上や市場の要請によ
り、感光基板Ｐが大型化しつつあり、かかる感光基板Ｐ
をスライドアーム１６，１７で搬入出する際に、感光基
板Ｐが自重等によって大きく撓むことが多い、従って、
基板の不測の接触を避けるため、両スライドアーム１
６，１７の間隔及びスライドアーム１６，１７と他の部
品との間隔を比較的大きく確保しなければならない。よ
って、投影光学系ＰＬと基板ホルダＰＨとの間には、更
に広い空間が要求されている。

【００１８】一方、感光基板Ｐを基板ホルダＰＨから引
き剥がす際に、静電気が発生する。この静電気は、感光
基板Ｐの接触面積が広ければ広いほど、また引き剥がす
速度が速ければ早いほど多量に発生する。しかるに、感
光基板Ｐに蓄積された静電気が、近くにある金属に対し
て放電すると、感光基板Ｐに形成された回路パターンに
ダメージを与え、それにより基板の歩留まりが悪くなる
恐れがある。これを防止するため、基板Ｐの搬入出に際
し、他の金属部品との十分なクリアランスを確保する必
要もある。

【００１９】以上のような理由に基づき、アライメント
センサ１と基板ホルダＰＨに保持された基板Ｐとの間で
必要な間隔は、５０ｍｍ程度まで拡大するに至った。と
ころが、上述したようにチャンバ内に数多くの熱源が存
在し、一方チャンバ内は常に空調による空気の流れが生
じており、従ってチャンバ内の空気は空間的に均一にな
らず、また時間的にも変動する。

【００２０】従って、アライメントセンサ１と基板Ｐと
の間を、温度の異なる空気が通過すると、アライメント
１から射出される測定光が空気の屈折率がゆらいだ空間
を通過することになり、それにより基板のアライメント
検出精度が低下することとなっている。

【００２１】そこで、本願発明は、基板の位置検出精度
をより向上させることができる露光装置、露光方法及び
基板の位置検出装置を提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決すべ
く、本願発明の露光装置は、レチクル（Ｒ）のパターン
の像を投影光学系（ＰＬ）を介してアライメントマーク
（ＰＭ）が形成された基板（Ｐ）に露光する露光装置に
おいて、投影光学系（ＰＬ）の光軸（ＡＸ）に対して所
定の関係を有した光軸（ＡＸ₂）に沿ってアライメント
マーク（ＰＭ）を検出する光束を基板（Ｐ）に照射し、
基板（Ｐ）の位置を検出する位置検出手段（１）と、位
置検出手段（１）と基板（Ｐ）との間で形成される空間
のうち光束が通過する基板（Ｐ）側の空間の少なくとも
一部を囲うカバー（５）と、を備えたことを特徴とす
る。

【００２３】本願発明の露光装置によれば、位置検出手
段（１）と基板（Ｐ）との間で形成される空間のうち光
束が通過する基板（Ｐ）側の空間の少なくとも一部を囲
うカバー（５）を備えているので、かかる空間に温度の
異なる空気が侵入することを防止でき、それにより光束
の通過する空間内の空気の屈折率を一定に維持し、よっ
て位置検出手段（１）の検出精度を向上させることがで
きる。

【００２４】本願発明による、アライメントマーク（Ｐ
Ｍ）を有した基板（Ｐ）に位置検出手段（１）の検出光
の光束を照射し、基板（Ｐ）のアライメントマーク（Ｐ
Ｍ）の位置を検出し、レチクル（Ｒ）のパターンを投影
光学系（ＰＬ）を介して基板（Ｐ）に露光する露光方法
は、位置検出手段（１）と基板（Ｐ）との間の光束の光
路中で、位置検出手段（１）と基板（Ｐ）との間で形成
される空間のうち光束が通過する基板（Ｐ）側の空間の
少なくとも一部を囲い、基板（Ｐ）のアライメントマー
ク（ＰＭ）の位置を検出することを特徴とする。

【００２５】本願発明による露光方法によれば、位置検
出手段（１）と基板（Ｐ）との間の光束の光路中で、位
置検出手段（１）と基板（Ｐ）との間で形成される空間
のうち光束が通過する基板（Ｐ）側の空間の少なくとも
一部を囲い、基板（Ｐ）のアライメントマーク（ＰＭ）
の位置を検出するので、かかる空間に温度の異なる空気
が侵入することを防止でき、それにより光束の通過する
空間内の空気の屈折率を一定に維持し、よって位置検出
手段（１）の検出精度を向上させることができる。

【００２６】本願発明の位置検出装置は、被検出面
（Ｐ）に対して検出光学系（１１３，１１６）を介して
位置検出光の光束を照射することにより、被検出面
（Ｐ）の位置を検出する位置検出手段（１）と、位置検
出手段（１）と被検出面（Ｐ）との間で形成される空間
のうち光束が通過する被検出面（Ｐ）側の空間の少なく
とも一部を囲う第１の位置（Ｂ）と、第１の位置（Ｂ）
にあるときよりも被検出面（Ｐ）側の空間を開放する第
２の位置（Ａ）との間を移動可能な可動式カバー（５）
と、可動式カバー（５）を、第１の位置（Ｂ）と第２の
位置（Ａ）との間で駆動させる駆動手段（６）とを、備
えたことを特徴とする。

【００２７】本願発明による位置検出装置によれば、位
置検出手段（１）と被検出面（Ｐ）との間で形成される
空間のうち光束が通過する被検出面（Ｐ）側の空間の少
なくとも一部を囲う第１の位置（Ｂ）と、第１の位置
（Ｂ）にあるときよりも被検出面（Ｐ）側の空間を開放
する第２の位置（Ａ）との間を移動可能な可動式カバー
（５）と、可動式カバー（５）を、第１の位置（Ｂ）と
第２の位置（Ａ）との間で駆動させる駆動手段（６）と
を備えているので、かかる空間に温度の異なる空気が侵
入することを防止でき、それにより光束の通過する空間
内の空気の屈折率を一定に維持し、よって位置検出手段
（１）の検出精度を向上させることができる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を、
図面を参照して以下に詳細に説明する。図１に示した露
光システムとしての投影露光装置は、液晶製造用ステッ
パの一例である。図１に示したように、一般に、ステッ
パは、チャンバ１０１の中に設置されている。チャンバ
１０１内では、通常のクリーンルームよりも精度の高い
温度制御がなされており、例えば、クリーンルームの温
度制御が±２乃至３℃の範囲であるのに対して、チャン
バ１内では±０．１℃以内に保たれている。

【００２９】また、図示した液晶製造用ステッパは、サ
イドフロー型のチャンバを用いたステッパであり、空気
中に浮遊する粒子が装置に付着するのを防止するために
チャンバ１０１の側面に空気吹き出し口１０２が設置さ
れており、図中矢印で示したように吹き出し口１０２か
ら投影露光系ＰＬの光軸に対し垂直に温度制御された空
気流が移動する。チャンバ１０１，特に投影光学系を含
む露光装置本体部に、クリーンルーム内に浮遊する異物
（ゴミ）等が流入するのを防止するため、ＨＥＰＡ（又
はＵＬＰＡ）フィルタが、チャンバ１０１の空気取り入
れ口または吹き出し口１０２の近傍に配置されている。

【００３０】図１の投影露光装置は、水銀ランプ等の光
源及び照明光学系（不図示）、レチクルＲを載置するレ
チクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、基板Ｐを移動
する基板ステージＰＳＴ、基板の位置合わせ用のアライ
メントセンサ１等から主に構成されている。照明光学系
は、フライアイレンズ、コンデンサレンズ等からなり、
最終的にコンデンサレンズ１０３を介してレチクルＲを
照明している。照明光学系は、光源からの照明光で、回
路パターン等が描かれたマスクであるレチクルＲをほぼ
照度均一かつ所定の立体角で照明する。これらの図示し
ない光源及び照明光学系は、一般に、図中、レチクルＲ
ＳＴの上方又は光学反射系を用いる場合にはレチクルス
テージＲＳＴの側方に配置されている。特に、光源はチ
ャンバ１０１の外側に配置される。

【００３１】レチクルステージＲＳＴは、投影光学系Ｐ
Ｌの光軸ＡＸ上であって投影光学系ＰＬとコンデンサレ
ンズ１０３との間に設置され、モータ等で構成されたレ
チクル駆動部（不図示）により、光軸ＡＸに対し垂直方
向にＸ、Ｙ方向への移動及びθ方向への回転が可能とな
っている。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルホ
ルダＲＨが設置され、レチクルＲがレチクルホルダＲＨ
上に設置される。レチクルＲは、図示しない真空チャッ
クによりレチクルホルダＲＨに吸着保持されている。ま
た、レチクルステージＲＳＴの上方には、光軸ＡＸを挟
んで対向するレチクルアライメント顕微鏡１０４が装着
されている。この２組の顕微鏡１０４によりレチクルＲ
に形成された基準マークを観察して、レチクルＲが所定
の基準位置に精度良く位置決められるようにレチクルス
テージＲＳＴの初期位置を決定する。

【００３２】レチクルＲは、レチクルステージＲＳＴ上
で、矩形の照明領域で照明される。この照明領域は、レ
チクルステージＲＳＴの上方であってかつレチクルＲと
共役な面またはその近傍に配置された視野絞り（不図
示）により画定される。

【００３３】レチクルＲを通過した照明光は投影光学系
ＰＬに入射し、投影光学系ＰＬによるレチクルＲの回路
パターン像が基板Ｐ上に形成される。投影光学系ＰＬに
は、複数のレンズエレメントが光軸ＡＸを共通の光軸と
するように収容されている。投影光学系ＰＬは、その外
周部であって光軸方向の中央部にフランジ１２４を備
え、フランジ部１２４により露光装置本体の架台１２３
に固定されている。

【００３４】基板Ｐは、基板ステージＰＳＴ上に保持さ
れた基板ホルダＰＨに真空吸着されている。基板ステー
ジＰＳＴは、レチクルステージＲＳＴと同様、モータ等
で構成された基板ステージ駆動部（不図示）により、光
軸ＡＸに対し垂直方向に、Ｘ、Ｙ方向への移動及びθ方
向への回転が可能である。基板ステージＰＳＴの端部に
は移動鏡１０８が固定され、干渉計１０９からのレーザ
ビームを移動鏡１０８により反射し、反射光を干渉計１
０９によって検出することによって、基板ステージＰＳ
ＴのＸＹ平面内での座標位置が常時モニタされる。これ
により、基板Ｐ上の所定位置にレチクルＲ上のパターン
像を露光する際の微小位置決定動作と、次の露光領域へ
移動する動作とを繰り返す。

【００３５】投影露光装置では、基板Ｐ上にすでに露光
により形成されたパターンに対して、新たなパターンを
精度良く重ねて露光する機能がある。この機能を実行す
るため、投影露光装置は基板Ｐ上の位置合わせ用のマー
クの位置を検出して、重ね合わせ露光を行う位置を決定
する機能（基板アライメント系）を備える。本例では、
この基板アライメント系として、投影光学系ＰＬとは別
に設けられた光学式アライメントセンサ１を備えてい
る。このアライメントセンサ１は、光源１１３より射出
されたレーザ光を、ミラー等で折り曲げて基板Ｐ上に向
け、基板Ｐ上に形成されたアライメントマークＰＭとの
差を検出器１１４で検出し、判断装置１１５でアライメ
ントずれ量を求めるようになっている。

【００３６】図２は、本願発明の第１の実施の形態にか
かる可動式カバー５の断面図である。位置検出手段とし
てのアライメントセンサ１は、下方に突出したレーザ光
の射出筒１ａを２本有している。各射出筒１ａを囲うよ
うにして、上下に移動自在な可動式カバー５が配置され
ている。

【００３７】図３は、可動式カバー５を駆動する駆動装
置を示す斜視図である。図３において、円筒状の可動式
カバー５は、その側面に、軸線方向に沿って延在する第
１板部５ａを接続し、更に第１板部５ａに対して直交す
るように、より長い第２板部５ｂを接続している。

【００３８】第２板部５ｂの中央部において、水平方向
に延びる駆動板５ｃが取り付けられている。一方、第２
板部５ｂの上端部においては、それに対し直交する小寸
の検出板５ｄが形成されている。なお、可動式カバー５
と、第１板部５ａと、第２板部５ｂと、検出板５ｄと
は、１枚の平板を折り曲げることによって容易に形成で
きる。

【００３９】空気圧により動作するエアシリンダである
駆動手段としての駆動装置６は、アライメントセンサ１
（図１）に固定されており、鉛直方向に延在するその駆
動軸６ａの下端を駆動板５ｃに連結させている。従っ
て、駆動軸６ａの上下動により可動式カバー５は上下に
移動する。検出器７，８もアライメントセンサ１（図
１）に固定されている。駆動軸６ａの移動端である上端
において、検出板５ｄは検出器７に対向する。一方、駆
動軸６ａの移動端である下端において、検出板５ｄは検
出器８に対向する。従って、検出器７，８により、可動
式カバー５の位置を光学的に検出することができる。

【００４０】かかる駆動装置６の周辺を覆うようにし
て、箱状の防塵カバー９が設けられている。なお、図２
においては、防塵カバー９は、実際に取り付けられる位
置より駆動装置から側方に離されて示されている。防塵
カバー９は、駆動装置６の摺動部等から塵埃が飛散して
基板上等に落下することを防止するものである。なお、
防塵カバー９の上面には、不図示の真空源に接続された
排出口９ａを設け、かかる排出口９ａを介して塵埃を吸
引することにより、その飛散をより効果的に防止してい
る。

【００４１】本実施の形態にかかる可動式カバー５の動
作について説明する。図２において、基板Ｐを交換する
必要がある場合、駆動装置６は可動式カバー５を実線で
示す位置Ａまで引き上げる。可動式カバー５が位置Ａま
で引き上げられたことを、検出器７が検出し、駆動装置
６の位置を保持させる。この状態で、基板搬送手段とし
ての搬出・搬入スライドアーム（図５）を用いて、基板
収納部（不図示）と基板ホルダＰＨとの間で基板Ｐを交
換する。可動式カバー５は、射出筒１ａの高さまで引き
上げられているので、可動式カバー５の下端と基板ホル
ダＰＨとの間の空間は広く、よって搬出・搬入スライド
アームをかかる空間で容易に交差させることができる。

【００４２】一方、基板Ｐの交換が終わり、基板のアラ
イメントを行う際には、駆動装置６は可動式カバー５を
二点鎖線で示す位置Ｂまで下降させる。可動式カバー５
が位置Ａまで下降したことを、検出器８が検出し、駆動
装置６の位置を保持させる。この状態で、アライメント
検出が行われる。可動式カバー５が下降した状態におい
ては、射出筒１ａの下方が可動式カバー５に覆われて、
かかる部分の空気の流動が減るので、空気の屈折率を極
力維持して検出精度を向上させることができる。

【００４３】なお、感光基板Ｐに金属または非金属製の
可動式カバー５が接近することになるが、かかる場合、
基板Ｐは常に基板ホルダに吸着されているのであるか
ら、基板の静電気帯電量も低く、放電は生じない。

【００４４】駆動装置６として、本実施の形態ではエア
シリンダを用いたが、これにこだわらず、例えばモータ
やソレノイドを用いることもできる。また、エアシリン
ダ等による駆動下では、可動式カバー５は移動端で急停
止するので、その場合の衝撃・振動等を減少させるた
め、ショックアブソーバ等の防振装置を設けても良い。
また、アライメントセンサ１の検出時において、感光基
板Ｐと可動式カバー５との間隔は小さい方が好ましい
が、射出筒１ａの下方がある程度覆われていれば、空気
の流動が防止され、検出精度は向上する。

【００４５】図４は、本願発明の第２の実施の形態にか
かる可動式カバー１５の断面図である。図４に示す第２
の実施の形態が、図２に示す第１の実施の形態と異なる
点は、１つの駆動装置６により、２つの可動式カバー１
５を移動させるようにした点である。この構成により、
装置の簡素化と製造コストの低減が図れる。

【００４６】より具体的には、図４において、駆動装置
６は、射出筒１ａの間に配置されており、駆動軸６ａ
を、円筒状のカバー１５を連結する板部１５ａのほぼ中
央部に連結して、上下動させるようになっている。かか
る第２の実施の形態におけるその他の構成及び動作につ
いては、第１の実施の形態と同様であるので、その説明
を省略する。

【００４７】

【発明の効果】以上述べたように、本願発明の露光装置
によれば、位置検出手段と基板との間で形成される空間
のうち光束が通過する基板側の空間の少なくとも一部を
囲うカバーを備えているので、かかる空間に温度の異な
る空気が侵入することを防止でき、それにより光束の通
過する空間内の空気の屈折率を一定に維持し、よって位
置検出手段の検出精度を向上させることができる。

【００４８】本願発明による露光方法によれば、位置検
出手段と基板との間の前記光束の光路中で、位置検出手
段と基板との間で形成される空間のうち光束が通過する
基板側の空間の少なくとも一部を囲い、基板のアライメ
ントマークの位置を検出するので、かかる空間に温度の
異なる空気が侵入することを防止でき、それにより光束
の通過する空間内の空気の屈折率を一定に維持し、よっ
て位置検出手段の検出精度を向上させることができる。

【００４９】本願発明による位置検出装置によれば、位
置検出手段と被検出面との間で形成される空間のうち光
束が通過する被検出面側の空間の少なくとも一部を囲う
第１の位置と、第１の位置にあるときよりも被検出面側
の空間を開放する第２の位置との間を移動可能な可動式
カバーと、可動式カバーを、第１の位置と第２の位置と
の間で駆動させる駆動手段とを備えているので、かかる
空間に温度の異なる空気が侵入することを防止でき、そ
れにより光束の通過する空間内の空気の屈折率を一定に
維持し、よって位置検出手段の検出精度を向上させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明による液晶製造用ステッパの概略図で
ある。

【図２】本願発明の第１の実施の形態にかかる可動式カ
バー５の断面図である。

【図３】可動式カバー５を駆動する駆動装置を示す斜視
図である。

【図４】本願発明の第２の実施の形態にかかる可動式カ
バー１５の断面図である。

【図５】液晶ディスプレイ用の基板を露光得る露光装置
に設けられた、従来技術による露光装置の正面図であ
る。

【符号の説明】

１………アライメントセンサ ５、１５………可動式カバー ６………駆動装置 ７，８………検出器 ９………防塵カバー Ｐ………基板

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクのパターンの像を投影光学系を介
   してアライメントマークが形成された基板に露光する露
   光装置において、 前記投影光学系の光軸に対して所定の関係を有した光軸
   に沿って前記アライメントマークを検出する光束を前記
   基板に照射し、前記基板の位置を検出する位置検出手段
   と、 前記位置検出手段と前記基板との間で形成される空間の
   うち前記光束が通過する前記基板側の空間の少なくとも
   一部を囲うカバーと、を備えたことを特徴とする露光装
   置。
2. 【請求項２】 前記基板を収納している収納部から露光
   位置に搬送する搬送手段を有し、前記カバーは、前記基
   板搬送手段による基板搬送動作と連動し、前記基板搬送
   動作中は前記基板側の空間を囲う位置から退避すること
   を特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記カバーは、移動させるための駆動手
   段を更に有し、駆動手段を動作させた際に発生する塵埃
   の飛散を防止する防塵カバーを備えたことを特徴とする
   請求項２記載の露光装置。
4. 【請求項４】 アライメントマークを有した基板に位置
   検出手段の検出光の光束を照射し、前記基板のアライメ
   ントマークの位置を検出し、前記マスクのパターンを投
   影光学系を介して前記基板に露光する露光方法におい
   て、 前記位置検出手段と前記基板との間の前記光束の光路中
   で、前記位置検出手段と前記基板との間で形成される空
   間のうち前記光束が通過する前記基板側の空間の少なく
   とも一部を囲い、前記基板の前記アライメントマークの
   位置を検出することを特徴とする露光方法。
5. 【請求項５】 前記基板を基板収納部から露光位置に搬
   送する際には、少なくとも前記カバーが前記空間を囲う
   位置から退避した位置に移動させることを特徴とする請
   求項４記載の露光方法。
6. 【請求項６】 被検出面に対して検出光学系を介して位
   置検出光の光束を照射することにより、前記被検出面の
   位置を検出する位置検出手段と、 前記位置検出手段と前記被検出面との間で形成される空
   間のうち前記光束が通過する前記被検出面側の空間の少
   なくとも一部を囲う第１の位置と、前記第１の位置にあ
   るときよりも前記被検出面側の空間を開放する第２の位
   置との間を移動可能な可動式カバーと、 前記可動式カバーを、前記第１の位置と前記第２の位置
   との間で駆動させる駆動手段とを、備えたことを特徴と
   する位置検出装置。
7. 【請求項７】 前記位置検出装置がレーザ光であること
   を特徴とする請求項６記載の位置検出装置。