JPH1138263A - グレーティング形成方法 - Google Patents
グレーティング形成方法Info
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- JPH1138263A JPH1138263A JP19151797A JP19151797A JPH1138263A JP H1138263 A JPH1138263 A JP H1138263A JP 19151797 A JP19151797 A JP 19151797A JP 19151797 A JP19151797 A JP 19151797A JP H1138263 A JPH1138263 A JP H1138263A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクトで低損失の複数のグレーティング
を短時間に製作する。 【解決手段】 少なくともコア領域１１にＧｅ元素が添
加された石英系の光ファイバ１０の周囲に位相格子板２
１，２２および２３を配置し、その位相格子板２１，２
２および２３それぞれに照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 そ
れぞれを入射させ、光ファイバ１０の光軸方向に沿って
干渉縞を形成して、複数のグレーティングを同時に形成
する。
を短時間に製作する。 【解決手段】 少なくともコア領域１１にＧｅ元素が添
加された石英系の光ファイバ１０の周囲に位相格子板２
１，２２および２３を配置し、その位相格子板２１，２
２および２３それぞれに照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 そ
れぞれを入射させ、光ファイバ１０の光軸方向に沿って
干渉縞を形成して、複数のグレーティングを同時に形成
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路（光ファ
イバ、平面型光導波路）にグレーティングを形成する技
術に関するものである。
イバ、平面型光導波路）にグレーティングを形成する技
術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、Ｇｅ（ゲルマニウム）元素が
添加された石英系の光ファイバに紫外光を照射すると光
ファイバの照射部分の屈折率が大きくなることを利用し
て、光ファイバにグレーティングを形成することが行わ
れている。この光ファイバグレーティングは、伝搬する
信号光の波長λ、グレーティング周期Λおよび実効的な
屈折率ｎeff の間の関係に依って、その信号光を反射、
放射または透過させる。したがって、光ファイバグレー
ティングは、例えば、多波長の信号光が伝搬してきた場
合に、そのうちの特定の波長の信号光のみを反射させ、
他の波長の信号光を透過させるフィルタ等として利用さ
れる。
添加された石英系の光ファイバに紫外光を照射すると光
ファイバの照射部分の屈折率が大きくなることを利用し
て、光ファイバにグレーティングを形成することが行わ
れている。この光ファイバグレーティングは、伝搬する
信号光の波長λ、グレーティング周期Λおよび実効的な
屈折率ｎeff の間の関係に依って、その信号光を反射、
放射または透過させる。したがって、光ファイバグレー
ティングは、例えば、多波長の信号光が伝搬してきた場
合に、そのうちの特定の波長の信号光のみを反射させ、
他の波長の信号光を透過させるフィルタ等として利用さ
れる。
【０００３】このように光ファイバグレーティングを利
用したフィルタであって多波長の信号光のうちの複数の
波長の信号光を反射させるものを作製するのに、従来で
は以下のようにして作製していた。図６は、従来のグレ
ーティング形成方法の説明図である。先ず、上記複数の
波長の信号光それぞれを反射させ得る特性（グレーティ
ング周期Λおよび実効的な屈折率ｎeff ）を有するグレ
ーティングを、互いに異なる光ファイバ１１０，１２０
および１３０それぞれに形成する（図６（ａ））。そし
て、光ファイバ１１０と光ファイバ１２０の一端とを接
続するとともに、光ファイバ１２０の他端と光ファイバ
１３０とを接続する（図６（ｂ））。
用したフィルタであって多波長の信号光のうちの複数の
波長の信号光を反射させるものを作製するのに、従来で
は以下のようにして作製していた。図６は、従来のグレ
ーティング形成方法の説明図である。先ず、上記複数の
波長の信号光それぞれを反射させ得る特性（グレーティ
ング周期Λおよび実効的な屈折率ｎeff ）を有するグレ
ーティングを、互いに異なる光ファイバ１１０，１２０
および１３０それぞれに形成する（図６（ａ））。そし
て、光ファイバ１１０と光ファイバ１２０の一端とを接
続するとともに、光ファイバ１２０の他端と光ファイバ
１３０とを接続する（図６（ｂ））。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、所望の特性を有する光ファイバグレーティン
グを製作することができるものの、その製作に際して工
程数が多く時間を要するという問題点がある。また、そ
れぞれグレーティングが形成された複数の光ファイバを
縦続接続する必要があるので、全体として長くなるとい
う問題点もある。さらに、融着接続またはコネクタ接続
において伝送損失が生ずるという問題点もある。
来例では、所望の特性を有する光ファイバグレーティン
グを製作することができるものの、その製作に際して工
程数が多く時間を要するという問題点がある。また、そ
れぞれグレーティングが形成された複数の光ファイバを
縦続接続する必要があるので、全体として長くなるとい
う問題点もある。さらに、融着接続またはコネクタ接続
において伝送損失が生ずるという問題点もある。
【０００５】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、コンパクトで低損失の複数のグレーテ
ィングを短時間に製作することができるグレーティング
形成方法を提供することを目的とする。
れたものであり、コンパクトで低損失の複数のグレーテ
ィングを短時間に製作することができるグレーティング
形成方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係るグレーティ
ング形成方法は、光導波路の光軸に沿ってグレーティン
グを形成するグレーティング形成方法であって、光導波
路の互いに異なる複数の照射面それぞれに複数の照射光
それぞれを照射して２以上のグレーティングを形成す
る、ことを特徴とする。
ング形成方法は、光導波路の光軸に沿ってグレーティン
グを形成するグレーティング形成方法であって、光導波
路の互いに異なる複数の照射面それぞれに複数の照射光
それぞれを照射して２以上のグレーティングを形成す
る、ことを特徴とする。
【０００７】また、上記複数の照射光それぞれは、互い
に異なる光源それぞれからの出射光であることを特徴と
する。この場合には、複数の照射光それぞれは、互いに
干渉することはない。
に異なる光源それぞれからの出射光であることを特徴と
する。この場合には、複数の照射光それぞれは、互いに
干渉することはない。
【０００８】また、上記複数の照射光それぞれは波長が
互いに異なることを特徴とする。この場合には、グレー
ティングの周期は、照射光の波長に応じた値となる。
互いに異なることを特徴とする。この場合には、グレー
ティングの周期は、照射光の波長に応じた値となる。
【０００９】また、上記複数の照射面のうち何れかの２
つの照射面は重なっていることを特徴とする。この場合
には、全体としてコンパクトな構成となる。
つの照射面は重なっていることを特徴とする。この場合
には、全体としてコンパクトな構成となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。また、本発明は、光ファイバおよび平面型光導
波路の双方に適用可能であるが、以下では、光ファイバ
について説明する。
の実施の形態を詳細に説明する。尚、図面の説明におい
て同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省
略する。また、本発明は、光ファイバおよび平面型光導
波路の双方に適用可能であるが、以下では、光ファイバ
について説明する。
【００１１】（第１の実施形態）先ず、第１の実施形態
について説明する。図１は、第１の実施形態に係るグレ
ーティング形成方法の説明図である。図１（ａ）は、光
ファイバ１０の光軸方向に平行な方向から見た図であ
り、図１（ｂ）は、光ファイバ１０の光軸方向に垂直な
方向から見た図である。ここでは、３種類のグレーティ
ングを形成する場合について説明する。
について説明する。図１は、第１の実施形態に係るグレ
ーティング形成方法の説明図である。図１（ａ）は、光
ファイバ１０の光軸方向に平行な方向から見た図であ
り、図１（ｂ）は、光ファイバ１０の光軸方向に垂直な
方向から見た図である。ここでは、３種類のグレーティ
ングを形成する場合について説明する。
【００１２】光ファイバ１０は、石英系の光ファイバで
あって、そのコア領域１１（または、コア領域１１およ
びクラッド領域１２の双方）にＧｅ元素が添加されたも
のである。すなわち、この光ファイバ１０は、石英ガラ
スに例えば７．５ｗｔ％のＧeＯ2（酸化ゲルマニウム）
が添加されたコア領域１１と、石英ガラスからなるクラ
ッド領域１２とを備える。ここで、Ｇｅ元素は、屈折率
を高めるための添加物である。この光ファイバ１０は、
如何なる製造方法により製造されてもよく、例えば、Ｍ
ＣＶＤ法、ＶＡＤ法およびＯＶＤ法等により製造された
光ファイバ母材を電気炉で加熱して線引することにより
製造することができる。
あって、そのコア領域１１（または、コア領域１１およ
びクラッド領域１２の双方）にＧｅ元素が添加されたも
のである。すなわち、この光ファイバ１０は、石英ガラ
スに例えば７．５ｗｔ％のＧeＯ2（酸化ゲルマニウム）
が添加されたコア領域１１と、石英ガラスからなるクラ
ッド領域１２とを備える。ここで、Ｇｅ元素は、屈折率
を高めるための添加物である。この光ファイバ１０は、
如何なる製造方法により製造されてもよく、例えば、Ｍ
ＣＶＤ法、ＶＡＤ法およびＯＶＤ法等により製造された
光ファイバ母材を電気炉で加熱して線引することにより
製造することができる。
【００１３】この光ファイバ１０は、所定の位置と方位
に配置された位相格子板２１，２２および２３が囲む空
間に配置される。これら位相格子板２１，２２および２
３それぞれは、一方の面にそれぞれ所定の周期で凹凸の
格子が形成された透明平板であって、照射光Ａ1 ，Ａ2
およびＡ3 それぞれを入力して、光ファイバ１０の光軸
方向に沿ってそれぞれの照射光の干渉縞を形成するもの
である。また、本実施形態においては、位相格子板２
１，２２および２３それぞれにより形成される干渉縞が
光ファイバ１０の光軸方向について互いに重複しないよ
う、位相格子板２１，２２および２３それぞれが配置さ
れている。
に配置された位相格子板２１，２２および２３が囲む空
間に配置される。これら位相格子板２１，２２および２
３それぞれは、一方の面にそれぞれ所定の周期で凹凸の
格子が形成された透明平板であって、照射光Ａ1 ，Ａ2
およびＡ3 それぞれを入力して、光ファイバ１０の光軸
方向に沿ってそれぞれの照射光の干渉縞を形成するもの
である。また、本実施形態においては、位相格子板２
１，２２および２３それぞれにより形成される干渉縞が
光ファイバ１０の光軸方向について互いに重複しないよ
う、位相格子板２１，２２および２３それぞれが配置さ
れている。
【００１４】位相格子板２１，２２および２３それぞれ
に入射する照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれは、Ｇ
ｅ元素が添加された光ファイバ１０の屈折率を上昇させ
得る波長であって、例えば、アルゴンレーザ光源から出
射された波長２４４ｎｍの紫外レーザ光などが好適に用
いられる。そして、これら照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3
それぞれは、位相格子板２１，２２および２３それぞれ
に入射する。
に入射する照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれは、Ｇ
ｅ元素が添加された光ファイバ１０の屈折率を上昇させ
得る波長であって、例えば、アルゴンレーザ光源から出
射された波長２４４ｎｍの紫外レーザ光などが好適に用
いられる。そして、これら照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3
それぞれは、位相格子板２１，２２および２３それぞれ
に入射する。
【００１５】このとき、照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 そ
れぞれは、互いに同時に入射してもよい。また、照射光
Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれの波長は、同一であって
もよいし、異なるものであってもよい。また、照射光Ａ
1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれは、１つの光源から出射し
たものを分岐したものであってもよいし、互いに別に設
けられた光源それぞれから出射したものであってもよ
い。
れぞれは、互いに同時に入射してもよい。また、照射光
Ａ1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれの波長は、同一であって
もよいし、異なるものであってもよい。また、照射光Ａ
1 ，Ａ2 およびＡ3 それぞれは、１つの光源から出射し
たものを分岐したものであってもよいし、互いに別に設
けられた光源それぞれから出射したものであってもよ
い。
【００１６】図２は、グレーティング形成方法の詳細な
説明図である。なお、この図では、説明を簡便にするた
め、光ファイバ１０および位相格子板２１のみを記して
おり、位相格子板２２および２３を省略している。
説明図である。なお、この図では、説明を簡便にするた
め、光ファイバ１０および位相格子板２１のみを記して
おり、位相格子板２２および２３を省略している。
【００１７】照射光Ａ1 が位相格子板２１に入射する
と、その照射光Ａ1 は、一部が位相格子板２１により回
折されることなくそのまま透過して照射光Ａ10となり、
他の一部が位相格子板２１により回折されて照射光Ａ1
1，Ａ12となる。このうち、照射光Ａ10は、位相格子板
２１の凹凸の形状を最適に設計することにより、実質的
に無視できる程度に強度を小さくすることができる。し
たがって、照射光Ａ1 が一定以上の光束径を有すれば、
分岐された照射光Ａ11およびＡ12のみが実質的に光ファ
イバ１０において干渉縞を形成する。そして、この干渉
縞が形成された光ファイバ１０のＧｅ元素が添加された
コア領域１１において、その干渉縞の光強度分布に応じ
た屈折率上昇が起こり、これによりグレーティングが形
成される。なお、この図において、グレーティング形成
領域３１におけるコア領域１１のハッチング部分は、そ
れ以外の部分よりも屈折率が大きいことを表している。
と、その照射光Ａ1 は、一部が位相格子板２１により回
折されることなくそのまま透過して照射光Ａ10となり、
他の一部が位相格子板２１により回折されて照射光Ａ1
1，Ａ12となる。このうち、照射光Ａ10は、位相格子板
２１の凹凸の形状を最適に設計することにより、実質的
に無視できる程度に強度を小さくすることができる。し
たがって、照射光Ａ1 が一定以上の光束径を有すれば、
分岐された照射光Ａ11およびＡ12のみが実質的に光ファ
イバ１０において干渉縞を形成する。そして、この干渉
縞が形成された光ファイバ１０のＧｅ元素が添加された
コア領域１１において、その干渉縞の光強度分布に応じ
た屈折率上昇が起こり、これによりグレーティングが形
成される。なお、この図において、グレーティング形成
領域３１におけるコア領域１１のハッチング部分は、そ
れ以外の部分よりも屈折率が大きいことを表している。
【００１８】図３は、第１の実施形態に係るグレーティ
ング形成方法により形成されたグレーティングの説明図
である。なお、この図では、光ファイバ１０を１本の線
で表し、また、グレーティングをその線と交差する一定
間隔の複数の線で表している。以上の方法により形成さ
れたグレーティングは、この図に示すように、位相格子
板２１，２２および２３それぞれによりグレーティング
が形成されたグレーティング形成領域３１，３２および
３３それぞれからなる。なお、本実施形態の場合には、
グレーティング形成領域３１，３２および３３は互いに
重複することはない。
ング形成方法により形成されたグレーティングの説明図
である。なお、この図では、光ファイバ１０を１本の線
で表し、また、グレーティングをその線と交差する一定
間隔の複数の線で表している。以上の方法により形成さ
れたグレーティングは、この図に示すように、位相格子
板２１，２２および２３それぞれによりグレーティング
が形成されたグレーティング形成領域３１，３２および
３３それぞれからなる。なお、本実施形態の場合には、
グレーティング形成領域３１，３２および３３は互いに
重複することはない。
【００１９】以上のように、照射光Ａ1 ，Ａ2 およびＡ
3 それぞれを位相格子板２１，２２および２３それぞれ
に入射させ、１本の光ファイバ１０のグレーティング形
成領域３１，３２および３３それぞれにグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。
3 それぞれを位相格子板２１，２２および２３それぞれ
に入射させ、１本の光ファイバ１０のグレーティング形
成領域３１，３２および３３それぞれにグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。
【００２０】（第２の実施形態）次に、第２の実施形態
について説明する。図４は、第２の実施形態に係るグレ
ーティング形成方法の説明図である。図４（ａ）は、光
ファイバ４０の光軸方向に平行な方向から見た図であ
り、図４（ｂ）は、光ファイバ４０の光軸方向に垂直な
方向から見た図である。ここでも、３種類のグレーティ
ングを形成する場合について説明する。
について説明する。図４は、第２の実施形態に係るグレ
ーティング形成方法の説明図である。図４（ａ）は、光
ファイバ４０の光軸方向に平行な方向から見た図であ
り、図４（ｂ）は、光ファイバ４０の光軸方向に垂直な
方向から見た図である。ここでも、３種類のグレーティ
ングを形成する場合について説明する。
【００２１】光ファイバ４０は、第１の実施形態におけ
る光ファイバ１０と同様のものであり、位相格子板５
１，５２および５３それぞれも、第１の実施形態におけ
る位相格子板２１，２２または２３と同様のものであ
る。また、第１の実施形態の場合と同様に、光ファイバ
４０は、所定の位置と方位に配置された位相格子板５
１，５２および５３が囲む空間に配置され、位相格子板
５１，５２および５３それぞれに照射光Ａ4 ，Ａ5 およ
びＡ6 それぞれが入射する。
る光ファイバ１０と同様のものであり、位相格子板５
１，５２および５３それぞれも、第１の実施形態におけ
る位相格子板２１，２２または２３と同様のものであ
る。また、第１の実施形態の場合と同様に、光ファイバ
４０は、所定の位置と方位に配置された位相格子板５
１，５２および５３が囲む空間に配置され、位相格子板
５１，５２および５３それぞれに照射光Ａ4 ，Ａ5 およ
びＡ6 それぞれが入射する。
【００２２】しかし、第１の実施形態の場合と異なり、
本実施形態では、位相格子板５１，５２および５３それ
ぞれにより形成される干渉縞が光ファイバ４０の光軸方
向について重複する領域を有するよう、位相格子板５
１，５２および５３それぞれが配置されている。
本実施形態では、位相格子板５１，５２および５３それ
ぞれにより形成される干渉縞が光ファイバ４０の光軸方
向について重複する領域を有するよう、位相格子板５
１，５２および５３それぞれが配置されている。
【００２３】照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ6 それぞれの波
長は、同一であってもよいし、異なるものであってもよ
い。また、照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ6 それぞれは、１
つの光源から出射したものを分岐したものであってもよ
いし、互いに別に設けられた光源それぞれから出射した
ものであってもよい。
長は、同一であってもよいし、異なるものであってもよ
い。また、照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ6 それぞれは、１
つの光源から出射したものを分岐したものであってもよ
いし、互いに別に設けられた光源それぞれから出射した
ものであってもよい。
【００２４】ただし、本実施形態においては、位相格子
板５１，５２および５３それぞれにより形成される干渉
縞が重複する領域を有するので、照射光Ａ4 ，Ａ5 およ
びＡ6 それぞれは、相互間で干渉しないことが必要であ
る。したがって、照射光Ａ4，Ａ5 およびＡ6 それぞれ
は、互いに異なる光源から出射されたものであるのが好
適である。あるいは、照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ6 それ
ぞれは、１つの光源から出射されて互いに分岐されたも
のであっても、例えば、互いに直交する偏光状態とした
り、光路差をコヒーレント長以上として互いに干渉しな
いようにするのが好適である。
板５１，５２および５３それぞれにより形成される干渉
縞が重複する領域を有するので、照射光Ａ4 ，Ａ5 およ
びＡ6 それぞれは、相互間で干渉しないことが必要であ
る。したがって、照射光Ａ4，Ａ5 およびＡ6 それぞれ
は、互いに異なる光源から出射されたものであるのが好
適である。あるいは、照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ6 それ
ぞれは、１つの光源から出射されて互いに分岐されたも
のであっても、例えば、互いに直交する偏光状態とした
り、光路差をコヒーレント長以上として互いに干渉しな
いようにするのが好適である。
【００２５】図５は、第２の実施形態に係るグレーティ
ング形成方法により形成されたグレーティングの説明図
である。なお、この図では、光ファイバ４０を１本の線
で表し、また、グレーティングをその線と交差する一定
間隔の複数の線で表している。以上の方法により形成さ
れたグレーティングは、この図に示すように、位相格子
板５１，５２および５３それぞれによりグレーティング
が形成されたグレーティング形成領域６１，６２および
６３それぞれからなる。なお、本実施形態の場合には、
グレーティング形成領域６１，６２および６３は互いに
重複する領域を有している。
ング形成方法により形成されたグレーティングの説明図
である。なお、この図では、光ファイバ４０を１本の線
で表し、また、グレーティングをその線と交差する一定
間隔の複数の線で表している。以上の方法により形成さ
れたグレーティングは、この図に示すように、位相格子
板５１，５２および５３それぞれによりグレーティング
が形成されたグレーティング形成領域６１，６２および
６３それぞれからなる。なお、本実施形態の場合には、
グレーティング形成領域６１，６２および６３は互いに
重複する領域を有している。
【００２６】以上のように、照射光Ａ4 ，Ａ5 およびＡ
6 それぞれを位相格子板５１，５２および５３それぞれ
に入射させ、１本の光ファイバ４０のグレーティング形
成領域６１，６２および６３それぞれにグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。特
に、本実施形態では、グレーティング形成領域６１，６
２および６３それぞれの間で重複する領域を有するの
で、第１の実施形態の比べて更にコンパクトである。
6 それぞれを位相格子板５１，５２および５３それぞれ
に入射させ、１本の光ファイバ４０のグレーティング形
成領域６１，６２および６３それぞれにグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。特
に、本実施形態では、グレーティング形成領域６１，６
２および６３それぞれの間で重複する領域を有するの
で、第１の実施形態の比べて更にコンパクトである。
【００２７】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく種々の変形が可能である。例えば、上記実施形
態の説明においては、位相格子板を用いて位相格子法に
より干渉縞を形成したが、位相格子板を用いることな
く、干渉性を有する２光束を光ファイバで交差させて干
渉縞を形成してもよい。
ではなく種々の変形が可能である。例えば、上記実施形
態の説明においては、位相格子板を用いて位相格子法に
より干渉縞を形成したが、位相格子板を用いることな
く、干渉性を有する２光束を光ファイバで交差させて干
渉縞を形成してもよい。
【００２８】また、上記実施形態の説明においては、１
本の光ファイバに形成されるグレーティングの数を３と
したが、これに限られるものではなく任意の数でよい。
また、上記実施形態の説明においては、光ファイバにグ
レーティングを形成する場合について説明したが、平面
型光導波路にグレーティングを形成する場合も同様であ
る。
本の光ファイバに形成されるグレーティングの数を３と
したが、これに限られるものではなく任意の数でよい。
また、上記実施形態の説明においては、光ファイバにグ
レーティングを形成する場合について説明したが、平面
型光導波路にグレーティングを形成する場合も同様であ
る。
【００２９】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、光導波路（光ファイバおよび平面型光導波路の
双方を含む）の互いに異なる複数の照射面それぞれに複
数の照射光それぞれを照射して２以上のグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。
よれば、光導波路（光ファイバおよび平面型光導波路の
双方を含む）の互いに異なる複数の照射面それぞれに複
数の照射光それぞれを照射して２以上のグレーティング
を形成することにしたので、コンパクトで低損失の複数
のグレーティングを短時間に製作することができる。
【００３０】また、上記複数の照射光それぞれは、互い
に異なる光源それぞれからの出射光である場合には、複
数の照射光それぞれは、互いに干渉することはない。ま
た、上記複数の照射光それぞれは波長が互いに異なる場
合には、グレーティングの周期は、照射光の波長に応じ
た値となる。また、上記複数の照射面のうち何れかの２
つの照射面は重なっている場合には、全体として更にコ
ンパクトな構成となる。
に異なる光源それぞれからの出射光である場合には、複
数の照射光それぞれは、互いに干渉することはない。ま
た、上記複数の照射光それぞれは波長が互いに異なる場
合には、グレーティングの周期は、照射光の波長に応じ
た値となる。また、上記複数の照射面のうち何れかの２
つの照射面は重なっている場合には、全体として更にコ
ンパクトな構成となる。
【図１】第１の実施形態に係るグレーティング形成方法
の説明図である。
の説明図である。
【図２】グレーティング形成方法の詳細な説明図であ
る。
る。
【図３】第１の実施形態に係るグレーティング形成方法
により形成されたグレーティングの説明図である。
により形成されたグレーティングの説明図である。
【図４】第２の実施形態に係るグレーティング形成方法
の説明図である。
の説明図である。
【図５】第２の実施形態に係るグレーティング形成方法
により形成されたグレーティングの説明図である。
により形成されたグレーティングの説明図である。
【図６】従来のグレーティング形成方法の説明図であ
る。
る。
１０…光ファイバ、１１…コア領域、１２…クラッド領
域、２１，２２，２３…位相格子板、３１，３２，３３
…グレーティング形成領域、４０…光ファイバ、４１…
コア領域、４２…クラッド領域、５１，５２，５３…位
相格子板、６１，６２，６３…グレーティング形成領
域。
域、２１，２２，２３…位相格子板、３１，３２，３３
…グレーティング形成領域、４０…光ファイバ、４１…
コア領域、４２…クラッド領域、５１，５２，５３…位
相格子板、６１，６２，６３…グレーティング形成領
域。
Claims (4)
- 【請求項１】 光導波路の光軸に沿ってグレーティング
を形成するグレーティング形成方法であって、前記光導
波路の互いに異なる複数の照射面それぞれに複数の照射
光それぞれを照射して２以上のグレーティングを形成す
る、ことを特徴とするグレーティング形成方法。 - 【請求項２】 前記複数の照射光それぞれは、互いに異
なる光源それぞれからの出射光である、ことを特徴とす
る請求項１記載のグレーティング形成方法。 - 【請求項３】 前記複数の照射光それぞれは波長が互い
に異なる、ことを特徴とする請求項２記載のグレーティ
ング形成方法。 - 【請求項４】 前記複数の照射面のうち何れかの２つの
照射面は重なっている、ことを特徴とする請求項１記載
のグレーティング形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19151797A JPH1138263A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | グレーティング形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19151797A JPH1138263A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | グレーティング形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138263A true JPH1138263A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16275981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19151797A Pending JPH1138263A (ja) | 1997-07-16 | 1997-07-16 | グレーティング形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1138263A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011128402A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラフィック光学素子の作製方法及びそれにより作製されたホログラフィック光学素子 |
-
1997
- 1997-07-16 JP JP19151797A patent/JPH1138263A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011128402A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラフィック光学素子の作製方法及びそれにより作製されたホログラフィック光学素子 |
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