JPH1137960A - 照射室開放型ｘ線分析装置 - Google Patents
照射室開放型ｘ線分析装置Info
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- JPH1137960A JPH1137960A JP9189584A JP18958497A JPH1137960A JP H1137960 A JPH1137960 A JP H1137960A JP 9189584 A JP9189584 A JP 9189584A JP 18958497 A JP18958497 A JP 18958497A JP H1137960 A JPH1137960 A JP H1137960A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広い試料面からＸ線分析目標箇所を容易に確
認して測定位置に短時間に位置決めできる照射室開放型
Ｘ線分析装置を提供する。 【解決手段】 試料３に１次Ｘ線１を照射するＸ線源４
と、試料３からの２次Ｘ線２を検出する検出器５とが照
射室６に収納され、この照射室６を形成するケース７
に、照射室６の外方に位置した試料３によって覆われる
照射窓８が形成された照射室開放型Ｘ線分析装置におい
て、ケース７における照射窓８の周辺部分９は、透明な
素材で形成する。さらに、照射窓８を覆う試料３を照射
窓８および透明な周辺部分９を通してケース７の内方か
ら観視させる観視機器１０を設ける。
認して測定位置に短時間に位置決めできる照射室開放型
Ｘ線分析装置を提供する。 【解決手段】 試料３に１次Ｘ線１を照射するＸ線源４
と、試料３からの２次Ｘ線２を検出する検出器５とが照
射室６に収納され、この照射室６を形成するケース７
に、照射室６の外方に位置した試料３によって覆われる
照射窓８が形成された照射室開放型Ｘ線分析装置におい
て、ケース７における照射窓８の周辺部分９は、透明な
素材で形成する。さらに、照射窓８を覆う試料３を照射
窓８および透明な周辺部分９を通してケース７の内方か
ら観視させる観視機器１０を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、照射室の照射窓に
載置した試料に対して照射室内のＸ線源からＸ線を照射
するようにした照射室開放型Ｘ線分析装置に関するもの
である。
載置した試料に対して照射室内のＸ線源からＸ線を照射
するようにした照射室開放型Ｘ線分析装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】遺跡の一部や美術品の様な通常のＸ線分
析装置の試料室に入らなく、かつ分割できない試料をＸ
線分析する場合や分析装置を分析現場に随時移動させＸ
線分析する場合、図５に示すように、照射窓３３を開け
た照射室３４内に、試料３０に１次Ｘ線Ｂ１を照射する
Ｘ線源３５と、試料３０からの２次Ｘ線Ｂ２を検出する
検出器３６を設け、照射窓３３に試料３０を載置してＸ
線分析するようにした照射室開放型Ｘ線分析装置が使用
される。このＸ線分析装置では、照射窓３３に試料３０
を載置してＸ線分析を行うことで、Ｘ線が照射室３４の
外部に漏れるのを防止できる。このようなＸ線分析装置
で、図６に示すような紙幣を試料として、そのインク元
素をＸ線分析して偽札判定を行うような場合、試料３０
のＸ線分析目標箇所Ｄを確認するために、照射室３４内
に配置したＣＣＤ撮像素子３７などにより、照射窓３３
付近を撮影し、その映像を照射室３４の外部に設置した
モニターテレビ３８に映し出すことにより、Ｘ線分析目
標箇所Ｄが正しく照射窓３３に位置合わせされているか
を確認していた。なお、紙幣等、Ｘ線を透過する試料を
分析する場合は防Ｘ線カバー４０をかぶせる。
析装置の試料室に入らなく、かつ分割できない試料をＸ
線分析する場合や分析装置を分析現場に随時移動させＸ
線分析する場合、図５に示すように、照射窓３３を開け
た照射室３４内に、試料３０に１次Ｘ線Ｂ１を照射する
Ｘ線源３５と、試料３０からの２次Ｘ線Ｂ２を検出する
検出器３６を設け、照射窓３３に試料３０を載置してＸ
線分析するようにした照射室開放型Ｘ線分析装置が使用
される。このＸ線分析装置では、照射窓３３に試料３０
を載置してＸ線分析を行うことで、Ｘ線が照射室３４の
外部に漏れるのを防止できる。このようなＸ線分析装置
で、図６に示すような紙幣を試料として、そのインク元
素をＸ線分析して偽札判定を行うような場合、試料３０
のＸ線分析目標箇所Ｄを確認するために、照射室３４内
に配置したＣＣＤ撮像素子３７などにより、照射窓３３
付近を撮影し、その映像を照射室３４の外部に設置した
モニターテレビ３８に映し出すことにより、Ｘ線分析目
標箇所Ｄが正しく照射窓３３に位置合わせされているか
を確認していた。なお、紙幣等、Ｘ線を透過する試料を
分析する場合は防Ｘ線カバー４０をかぶせる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、一般的にこの
ようなＸ線分析装置では、小さい試料でも十分測定でき
るように照射窓３３は小さくしてあるため、試料が大き
い場合、モニターテレビ３８に映し出された試料３０の
映像は、図５に示すように小さい照射窓３３から見える
局所部分でしかなく、その位置が試料全体におけるどの
位置にあたるかを容易に確認できず、Ｘ線分析目標箇所
Ｄを照射窓３３に位置合わせするのが容易でないという
問題点があった。
ようなＸ線分析装置では、小さい試料でも十分測定でき
るように照射窓３３は小さくしてあるため、試料が大き
い場合、モニターテレビ３８に映し出された試料３０の
映像は、図５に示すように小さい照射窓３３から見える
局所部分でしかなく、その位置が試料全体におけるどの
位置にあたるかを容易に確認できず、Ｘ線分析目標箇所
Ｄを照射窓３３に位置合わせするのが容易でないという
問題点があった。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、広い試料面からＸ線分析目標箇所を容易に確認
して測定位置に短時間に位置決めできる照射室開放型Ｘ
線分析装置を提供することを目的とする。
もので、広い試料面からＸ線分析目標箇所を容易に確認
して測定位置に短時間に位置決めできる照射室開放型Ｘ
線分析装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記試料からの２次Ｘ線を
検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形
成するケースに、前記照射室の外方に位置した前記試料
によって覆われる照射窓が形成され、前記ケースにおけ
る照射窓の周辺部分が、透明な素材で形成され、さら
に、前記照射窓を覆う試料を前記照射窓および透明素材
を通してケースの内方から観視させる観視機器を備えて
いる。
に、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記試料からの２次Ｘ線を
検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形
成するケースに、前記照射室の外方に位置した前記試料
によって覆われる照射窓が形成され、前記ケースにおけ
る照射窓の周辺部分が、透明な素材で形成され、さら
に、前記照射窓を覆う試料を前記照射窓および透明素材
を通してケースの内方から観視させる観視機器を備えて
いる。
【０００６】請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置によ
れば、試料のうち、照射窓を覆っている部分だけでな
く、照射窓の周辺に位置する部分も観視機器によって観
視できるので、照射窓を覆っている箇所が試料全体のど
の位置に相当するかを容易に確認でき、Ｘ線分析する目
標箇所を照射窓に位置合わせする作業を短時間で行うこ
とができる。
れば、試料のうち、照射窓を覆っている部分だけでな
く、照射窓の周辺に位置する部分も観視機器によって観
視できるので、照射窓を覆っている箇所が試料全体のど
の位置に相当するかを容易に確認でき、Ｘ線分析する目
標箇所を照射窓に位置合わせする作業を短時間で行うこ
とができる。
【０００７】請求項２の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置において、前
記観視機器が、前記ケース内に設置されて前記試料を撮
影する撮像素子と、前記ケースの外方に設置されて前記
撮像素子による映像を映出する画像表示装置とを備える
ものとしている。この構成によれば、画像表示装置によ
って試料を観視できるので、壁面や床面のような広い面
状の試料に照射窓を密着させて分析する場合のように、
照射窓が横向きまたは下向きとなるような姿勢であって
も、試料の観視が容易になる。また、観視機器として、
照射室内に設置する部材は撮像素子だけとなるので、観
視機器によって照射室内におけるＸ線源や検出器の配置
が大幅に制限されることがなく、Ｘ線分析装置の本体を
コンパクトに構成できる。
は、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置において、前
記観視機器が、前記ケース内に設置されて前記試料を撮
影する撮像素子と、前記ケースの外方に設置されて前記
撮像素子による映像を映出する画像表示装置とを備える
ものとしている。この構成によれば、画像表示装置によ
って試料を観視できるので、壁面や床面のような広い面
状の試料に照射窓を密着させて分析する場合のように、
照射窓が横向きまたは下向きとなるような姿勢であって
も、試料の観視が容易になる。また、観視機器として、
照射室内に設置する部材は撮像素子だけとなるので、観
視機器によって照射室内におけるＸ線源や検出器の配置
が大幅に制限されることがなく、Ｘ線分析装置の本体を
コンパクトに構成できる。
【０００８】請求項３の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１において、前記観視機器が、先端がケース
内に侵入して設けられたファイバースコープと、このフ
ァイバースコープの末端に接続されてケース外に位置し
前記試料をファイバースコープを通して撮影する撮像素
子と、ケース外に位置し前記撮像素子による映像を映出
する画像表示装置とを備えたものとしている。この構成
によれば、観視機器として、照射室内にはファイバース
コープを侵入させるだけでよいので、観視機器によって
照射室内におけるＸ線源や検出器の配置が大幅に制限さ
れることがなく、Ｘ線分析装置の本体をコンパクトに構
成できる。
は、請求項１において、前記観視機器が、先端がケース
内に侵入して設けられたファイバースコープと、このフ
ァイバースコープの末端に接続されてケース外に位置し
前記試料をファイバースコープを通して撮影する撮像素
子と、ケース外に位置し前記撮像素子による映像を映出
する画像表示装置とを備えたものとしている。この構成
によれば、観視機器として、照射室内にはファイバース
コープを侵入させるだけでよいので、観視機器によって
照射室内におけるＸ線源や検出器の配置が大幅に制限さ
れることがなく、Ｘ線分析装置の本体をコンパクトに構
成できる。
【０００９】請求項４の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１において、前記観視機器は、先端がケース
内に侵入して設けられたファイバースコープと、このフ
ァイバースコープの末端に接続されてケースの外方に位
置し前記試料をファイバースコープを通して観視させる
接眼部とを備えたものとしている。この構成によれば、
やはり、観視機器によって照射室内におけるＸ線源や検
出器の配置が大幅に制限されることがないうえに、ファ
イバースコープの末端に接眼部を設けただけなので、観
視機器をより簡単、かつ安価に構成できる。
は、請求項１において、前記観視機器は、先端がケース
内に侵入して設けられたファイバースコープと、このフ
ァイバースコープの末端に接続されてケースの外方に位
置し前記試料をファイバースコープを通して観視させる
接眼部とを備えたものとしている。この構成によれば、
やはり、観視機器によって照射室内におけるＸ線源や検
出器の配置が大幅に制限されることがないうえに、ファ
イバースコープの末端に接眼部を設けただけなので、観
視機器をより簡単、かつ安価に構成できる。
【００１０】請求項５の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１において、前記観視機器が、前記ケース内
に設置されたミラーと、ケースに設けられて透明な素材
からなり前記ミラーを通して前記試料を観視させるのぞ
き窓とを備えたものとしている。この構成によれば、観
視機器として、照射室内にはミラーを設置するだけでよ
いので、観視機器によって照射室内におけるＸ線源や検
出器の配置が大幅に制限されることがなく、また観視機
器を安価に構成できる。
は、請求項１において、前記観視機器が、前記ケース内
に設置されたミラーと、ケースに設けられて透明な素材
からなり前記ミラーを通して前記試料を観視させるのぞ
き窓とを備えたものとしている。この構成によれば、観
視機器として、照射室内にはミラーを設置するだけでよ
いので、観視機器によって照射室内におけるＸ線源や検
出器の配置が大幅に制限されることがなく、また観視機
器を安価に構成できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明の第１実施形態であ
る照射室開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図
である。この照射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２は、
試料３に１次Ｘ線Ｂ１を照射するＸ線源４と、試料３か
らの２次Ｘ線Ｂ２を検出する検出器５とを照射室６に収
納したものである。照射室６を形成するケース７は、そ
の上部に照射窓８を開口させた試料台７ａを有し、照射
室６の外側から試料台７ａに載置する試料３によって照
射窓８が覆われる。試料３が紙幣のようなＸ線を透過し
やすい材質の場合や、照射窓８より小さくてＸ線が外部
に出る場合は、照射窓８を覆う防Ｘ線カバー４０をかぶ
せる。
に基づいて説明する。図１は本発明の第１実施形態であ
る照射室開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図
である。この照射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２は、
試料３に１次Ｘ線Ｂ１を照射するＸ線源４と、試料３か
らの２次Ｘ線Ｂ２を検出する検出器５とを照射室６に収
納したものである。照射室６を形成するケース７は、そ
の上部に照射窓８を開口させた試料台７ａを有し、照射
室６の外側から試料台７ａに載置する試料３によって照
射窓８が覆われる。試料３が紙幣のようなＸ線を透過し
やすい材質の場合や、照射窓８より小さくてＸ線が外部
に出る場合は、照射窓８を覆う防Ｘ線カバー４０をかぶ
せる。
【００１２】ケース７の試料台７ａにおける照射窓８の
周辺部分９は、耐Ｘ線強度が高く、Ｘ線透過率の低いガ
ラスやアクリル樹脂などの透明な素材で形成されてい
る。観視機器１０は、試料台７ａに載置されて照射窓８
を覆う試料３を、照射窓８および周辺部分９を通してケ
ース７の内方から観視させる機器であって、ＣＣＤのよ
うな撮像素子１１と、モニターテレビのような画像表示
装置１２とからなる。撮像素子１１は、ケース７内に設
置されて試料台７ａ上の試料３を撮影する。画像表示装
置１２は、ケース７の外方に設置されて撮像素子１１に
よる映像を映し出す。
周辺部分９は、耐Ｘ線強度が高く、Ｘ線透過率の低いガ
ラスやアクリル樹脂などの透明な素材で形成されてい
る。観視機器１０は、試料台７ａに載置されて照射窓８
を覆う試料３を、照射窓８および周辺部分９を通してケ
ース７の内方から観視させる機器であって、ＣＣＤのよ
うな撮像素子１１と、モニターテレビのような画像表示
装置１２とからなる。撮像素子１１は、ケース７内に設
置されて試料台７ａ上の試料３を撮影する。画像表示装
置１２は、ケース７の外方に設置されて撮像素子１１に
よる映像を映し出す。
【００１３】前記構成の照射室開放型Ｘ線分析装置１に
よると、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のう
ち、試料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、照射
窓８および透明な周辺部分９を通して撮像素子１１に撮
影され、その映像がケース７の外部に設置された画像表
示装置１２に映し出されるので、その映像を観視するこ
とにより、試料３のうち照射窓８に位置する箇所と、そ
の周囲の部分との相対位置関係を容易に確認でき、Ｘ線
分析をしたい箇所を照射窓８の部分に位置合わせする作
業を短時間で行うことができる。すなわち、例えばこの
照射室開放型Ｘ線分析装置１により、紙幣のインク元素
をＸ線分析し偽札判定を行う場合、試料３である紙幣を
試料台７ａに載置すると、図１のように紙幣の印刷面の
うち、照射窓８に対応する部分Ａのほか、その周囲の部
分が画像表示装置１２に映し出されるので、その映像に
基づき、Ｘ線分析をしたい箇所を照射窓８に位置合わせ
する作業を容易に行うことができる。
よると、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のう
ち、試料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、照射
窓８および透明な周辺部分９を通して撮像素子１１に撮
影され、その映像がケース７の外部に設置された画像表
示装置１２に映し出されるので、その映像を観視するこ
とにより、試料３のうち照射窓８に位置する箇所と、そ
の周囲の部分との相対位置関係を容易に確認でき、Ｘ線
分析をしたい箇所を照射窓８の部分に位置合わせする作
業を短時間で行うことができる。すなわち、例えばこの
照射室開放型Ｘ線分析装置１により、紙幣のインク元素
をＸ線分析し偽札判定を行う場合、試料３である紙幣を
試料台７ａに載置すると、図１のように紙幣の印刷面の
うち、照射窓８に対応する部分Ａのほか、その周囲の部
分が画像表示装置１２に映し出されるので、その映像に
基づき、Ｘ線分析をしたい箇所を照射窓８に位置合わせ
する作業を容易に行うことができる。
【００１４】また、試料台７ａにおいて、照射窓８は単
なる開口であるのに対して、その周辺部分９は透明であ
るため、画像表示装置１２に映し出される映像のうち、
照射窓８に対応する部分Ａは、その周囲の部分よりも透
明度がより高くなるから、識別は容易である。その結
果、画像表示装置１２に映し出された映像に基づきＸ線
分析をしたい箇所を照射窓８に位置合わせする作業を、
より容易に行うことができる。なお、照射窓８に対応す
る部分Ａと、その周囲の部分とをより明確に区分するた
めに、周辺部分９を着色素材または透明度を低下させた
素材で形成してもよい。
なる開口であるのに対して、その周辺部分９は透明であ
るため、画像表示装置１２に映し出される映像のうち、
照射窓８に対応する部分Ａは、その周囲の部分よりも透
明度がより高くなるから、識別は容易である。その結
果、画像表示装置１２に映し出された映像に基づきＸ線
分析をしたい箇所を照射窓８に位置合わせする作業を、
より容易に行うことができる。なお、照射窓８に対応す
る部分Ａと、その周囲の部分とをより明確に区分するた
めに、周辺部分９を着色素材または透明度を低下させた
素材で形成してもよい。
【００１５】また、観視機器１０のうち、照射室６内に
設置するものは外形寸法の小さい撮像素子１１だけであ
るため、照射室６内におけるＸ線源４や検出器５の配置
が撮像素子１１により大幅に制限されることがなく、照
射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２をコンパクトに構成
できる。なお、撮像される面が広くなるので、撮像素子
１１の光学倍率は、図５に示した従来例の場合に比べて
低くてよい。
設置するものは外形寸法の小さい撮像素子１１だけであ
るため、照射室６内におけるＸ線源４や検出器５の配置
が撮像素子１１により大幅に制限されることがなく、照
射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２をコンパクトに構成
できる。なお、撮像される面が広くなるので、撮像素子
１１の光学倍率は、図５に示した従来例の場合に比べて
低くてよい。
【００１６】図２は本発明の第２実施形態である照射室
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１では、観視
機器１０Ａが、ファイバースコープ１３と、ＣＣＤなど
の撮像素子１４と、モニターテレビなどの画像表示装置
１２とで構成されている。ファイバースコープ１３は、
その先端をケース７内に侵入させ試料台７ａに向けた状
態で設置される。撮像素子１４は、ファイバースコープ
１３の末端に接続されてケース７外に配置され、試料台
７ａ上の試料３をファイバースコープ１３を通して撮影
する。画像表示装置１２は、ケース７の外方に設置され
て撮像素子１４による映像を映し出す。試料台７ａの透
明な周辺部分９などは図１の構成の場合と同様である。
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１では、観視
機器１０Ａが、ファイバースコープ１３と、ＣＣＤなど
の撮像素子１４と、モニターテレビなどの画像表示装置
１２とで構成されている。ファイバースコープ１３は、
その先端をケース７内に侵入させ試料台７ａに向けた状
態で設置される。撮像素子１４は、ファイバースコープ
１３の末端に接続されてケース７外に配置され、試料台
７ａ上の試料３をファイバースコープ１３を通して撮影
する。画像表示装置１２は、ケース７の外方に設置され
て撮像素子１４による映像を映し出す。試料台７ａの透
明な周辺部分９などは図１の構成の場合と同様である。
【００１７】この照射室開放型Ｘ線分析装置１による
と、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のうち、試
料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、試料台７ａ
の照射窓８および透明な周辺部分９とファイバースコー
プ１３とを通してケース７の外部の撮像素子１４に撮影
され、その映像が画像表示装置１２に映し出されるの
で、その映像を観視することにより、試料３のうち照射
窓８に位置する箇所と、その周囲の部分との相対位置関
係を容易に確認でき、Ｘ線分析をしたい箇所を照射窓８
の位置に位置合わせする作業を短時間で行うことができ
る。
と、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のうち、試
料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、試料台７ａ
の照射窓８および透明な周辺部分９とファイバースコー
プ１３とを通してケース７の外部の撮像素子１４に撮影
され、その映像が画像表示装置１２に映し出されるの
で、その映像を観視することにより、試料３のうち照射
窓８に位置する箇所と、その周囲の部分との相対位置関
係を容易に確認でき、Ｘ線分析をしたい箇所を照射窓８
の位置に位置合わせする作業を短時間で行うことができ
る。
【００１８】また、観視機器１０Ａのうち、照射室６内
に設置するものはファイバースコープ１３の先端だけで
あるため、照射室６内におけるＸ線源４や検出器５の配
置がファイバースコープ１３により制限されることはほ
とんどなく、照射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２をよ
りコンパクトに構成できる。
に設置するものはファイバースコープ１３の先端だけで
あるため、照射室６内におけるＸ線源４や検出器５の配
置がファイバースコープ１３により制限されることはほ
とんどなく、照射室開放型Ｘ線分析装置１の本体２をよ
りコンパクトに構成できる。
【００１９】図３は本発明の第３実施形態である照射室
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１の観視機器
１０Ｂは、図２における観視機器１０Ａの撮像素子１４
や画像表示装置１２を省略して、ケース７外に導出した
ファイバースコープ１３の末端に拡大レンズのような接
眼部１８を設け、接眼部１８およびファイバースコープ
１３を通して試料台７ａ上の試料３の映像を直接、肉眼
で観視する。この場合、観視機器１０Ｂをより簡単、か
つ安価に構成できる。
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１の観視機器
１０Ｂは、図２における観視機器１０Ａの撮像素子１４
や画像表示装置１２を省略して、ケース７外に導出した
ファイバースコープ１３の末端に拡大レンズのような接
眼部１８を設け、接眼部１８およびファイバースコープ
１３を通して試料台７ａ上の試料３の映像を直接、肉眼
で観視する。この場合、観視機器１０Ｂをより簡単、か
つ安価に構成できる。
【００２０】図４は本発明の第４実施形態である照射室
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１では、観視
機器１０Ｃが、ケース７内に設置されたミラー１５と、
ケース７上の試料台７ａから外れた位置に設けられたの
ぞき窓１６とで構成されている。のぞき窓１６は、耐Ｘ
線強度が高く、Ｘ線透過率の低いガラスやアクリル樹脂
などの透明な素材で形成され、ミラー１５を通して試料
台７ａ上の試料３を肉眼で観視するものである。試料台
７ａの透明な周辺部分９などは図１の構成の場合と同様
である。
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置１では、観視
機器１０Ｃが、ケース７内に設置されたミラー１５と、
ケース７上の試料台７ａから外れた位置に設けられたの
ぞき窓１６とで構成されている。のぞき窓１６は、耐Ｘ
線強度が高く、Ｘ線透過率の低いガラスやアクリル樹脂
などの透明な素材で形成され、ミラー１５を通して試料
台７ａ上の試料３を肉眼で観視するものである。試料台
７ａの透明な周辺部分９などは図１の構成の場合と同様
である。
【００２１】この照射室開放型Ｘ線分析装置１による
と、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のうち、試
料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、試料台７ａ
の照射窓８および透明な周辺部分９を通してケース７内
のミラー１５で反射され、その反射映像がケース７外か
らのぞき窓１６を通して観視される。これにより、試料
３のうち照射窓８に位置する箇所と、その周囲の部分と
の相対位置関係を容易に確認でき、Ｘ線分析をしたい箇
所を照射窓８の位置に位置合わせする作業を短時間で行
うことができる。
と、ケース７の試料台７ａに載置した試料３のうち、試
料台７ａに重なるかなり広い範囲の部分が、試料台７ａ
の照射窓８および透明な周辺部分９を通してケース７内
のミラー１５で反射され、その反射映像がケース７外か
らのぞき窓１６を通して観視される。これにより、試料
３のうち照射窓８に位置する箇所と、その周囲の部分と
の相対位置関係を容易に確認でき、Ｘ線分析をしたい箇
所を照射窓８の位置に位置合わせする作業を短時間で行
うことができる。
【００２２】また、観視機器１０Ｂのうち、照射室６内
に設置するものはミラー１５だけであるため、照射室６
内におけるＸ線源４や検出器５の配置がミラー１５によ
り制限されることはほとんどなく、照射室開放型Ｘ線分
析装置１をよりコンパクトに、かつ安価に構成できる。
に設置するものはミラー１５だけであるため、照射室６
内におけるＸ線源４や検出器５の配置がミラー１５によ
り制限されることはほとんどなく、照射室開放型Ｘ線分
析装置１をよりコンパクトに、かつ安価に構成できる。
【００２３】なお、前記各実施形態では、照射窓８の上
に試料３を載置してＸ線分析する構成のＸ線分析装置１
の場合について示したが、照射窓８を建築物のような定
置物体である試料３に押し当ててＸ線分析するハンディ
タイプの照射室開放型Ｘ線分析装置１に同じ構成を装備
しても、同様の機能を付与することができる。
に試料３を載置してＸ線分析する構成のＸ線分析装置１
の場合について示したが、照射窓８を建築物のような定
置物体である試料３に押し当ててＸ線分析するハンディ
タイプの照射室開放型Ｘ線分析装置１に同じ構成を装備
しても、同様の機能を付与することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料のうち、照射窓を覆っている部分だけでなく、照射
窓の周辺に位置する部分も観視機器によって観視できる
ので、照射窓を覆っている箇所が試料全体のどの位置に
相当するかを容易に確認でき、Ｘ線分析する目標測定箇
所を照射窓に位置合わせする作業を短時間で行うことが
できる。
試料のうち、照射窓を覆っている部分だけでなく、照射
窓の周辺に位置する部分も観視機器によって観視できる
ので、照射窓を覆っている箇所が試料全体のどの位置に
相当するかを容易に確認でき、Ｘ線分析する目標測定箇
所を照射窓に位置合わせする作業を短時間で行うことが
できる。
【図１】本発明の第１実施形態の照射室開放型Ｘ線分析
装置の概略構成を示す概念図である。
装置の概略構成を示す概念図である。
【図２】第２実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置の概
略構成を示す概念図である。
略構成を示す概念図である。
【図３】第３実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置の概
略構成を示す概念図である。
略構成を示す概念図である。
【図４】第４実施形態の照射室開放型Ｘ線分析装置の概
略構成を示す概念図である。
略構成を示す概念図である。
【図５】従来例の概略構成を示す概念図である。
【図６】Ｘ線分析に供される紙幣の平面図である。
１…照射室開放型Ｘ線分析装置、２…本体、３…試料、
４…Ｘ線源、５…検出器、６…照射室、７…ケース、８
…照射窓、９…周辺部分、１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０
Ｃ…観視機器、１１…撮像素子、１２…画像表示装置、
１３…ファイバースコープ、１４…撮像素子、１５…ミ
ラー、１６…のぞき窓、１８…接眼部、Ｂ１…１次Ｘ
線、Ｂ２…２次Ｘ線。
４…Ｘ線源、５…検出器、６…照射室、７…ケース、８
…照射窓、９…周辺部分、１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０
Ｃ…観視機器、１１…撮像素子、１２…画像表示装置、
１３…ファイバースコープ、１４…撮像素子、１５…ミ
ラー、１６…のぞき窓、１８…接眼部、Ｂ１…１次Ｘ
線、Ｂ２…２次Ｘ線。
Claims (5)
- 【請求項１】 試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、前
記試料からの２次Ｘ線を検出する検出器とが照射室に収
納され、この照射室を形成するケースに、前記照射室の
外方に位置した前記試料によって覆われる照射窓が形成
され、前記ケースにおける照射窓の周辺部分が、透明な
素材で形成され、さらに、前記照射窓を覆う試料を前記
照射窓および透明素材を通してケースの内方から観視さ
せる観視機器を備えている照射室開放型Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記観視機器は、前
記ケース内に設置されて前記試料を撮影する撮像素子
と、前記ケースの外方に設置されて前記撮像素子による
映像を映出する画像表示装置とを備えている照射室開放
型Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項１において、前記観視機器は、先
端がケース内に侵入して設けられたファイバースコープ
と、このファイバースコープの末端に接続されて前記試
料をファイバースコープを通して撮影する撮像素子と、
前記撮像素子による映像を映出する画像表示装置とを備
え、前記撮像素子と画像表示装置は前記ケースの外方に
配置されている照射室開放型Ｘ線分析装置。 - 【請求項４】 請求項１において、前記観視機器は、先
端がケース内に侵入して設けられたファイバースコープ
と、このファイバースコープの末端に接続されてケース
の外方に位置し前記試料をファイバースコープを通して
観視させる接眼部とを備えた照射室開放型Ｘ線分析装
置。 - 【請求項５】 請求項１において、前記観視機器は、前
記ケース内に設置されたミラーと、ケースに設けられて
透明な素材からなり前記ミラーを通して前記試料を観視
させるのぞき窓とを備えている照射室開放型Ｘ線分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09189584A JP3096013B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09189584A JP3096013B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1137960A true JPH1137960A (ja) | 1999-02-12 |
| JP3096013B2 JP3096013B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=16243783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09189584A Expired - Fee Related JP3096013B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3096013B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003168642A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-13 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 極紫外光露光装置 |
| JP2012215483A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Shimadzu Corp | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2013221744A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-28 | Horiba Ltd | Ｘ線検出装置 |
| JP2020085826A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析システム、蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JP5524521B2 (ja) * | 2009-06-30 | 2014-06-18 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP5782154B2 (ja) * | 2014-04-10 | 2015-09-24 | 株式会社堀場製作所 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| KR101961856B1 (ko) | 2016-08-23 | 2019-03-25 | 최정환 | 세라믹-금속 타일의 제조방법 |
-
1997
- 1997-07-15 JP JP09189584A patent/JP3096013B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2013221744A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-28 | Horiba Ltd | Ｘ線検出装置 |
| CN103376272A (zh) * | 2012-04-12 | 2013-10-30 | 株式会社堀场制作所 | X射线检测装置 |
| JP2020085826A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析システム、蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3096013B2 (ja) | 2000-10-10 |
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