JPH11349347A - Crystalline low melting point glass composition - Google Patents

Crystalline low melting point glass composition

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JPH11349347A
JPH11349347A JP10159508A JP15950898A JPH11349347A JP H11349347 A JPH11349347 A JP H11349347A JP 10159508 A JP10159508 A JP 10159508A JP 15950898 A JP15950898 A JP 15950898A JP H11349347 A JPH11349347 A JP H11349347A
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JP
Japan
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powder
composition
weight
low
glass
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JP10159508A
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Japanese (ja)
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Ryuichi Tanabe
隆一 田辺
Hiroshi Usui
寛 臼井
Yasuko Douya
康子 堂谷
Tsuneo Manabe
恒夫 真鍋
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/08Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glass composition without containing lead at all, capable of using for sealing, coating, conductor, formation of partition wall, etc. SOLUTION: This glass composition is obtained by adding 1-10,000 wt.ppm crystal powder of compound oxide containing phosphorus, tin and/or zinc to low-melting point glass powder comprising 0.1-45 mol.% SnO, 5-74.9 mol.% ZnO, 25-50 mol.% P2 O5 , 0-20 mol.% Al2 O3 , 0-20 mol.% B2 O3 , 0-40 mol.% Li2 O+ Na2 O+K2 O and 0-40 mol.% MgO+CaO+SrO+BaO.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、鉛成分を含有しな
い結晶性低融点ガラス組成物に関し、さらにこれを用い
た、ブラウン管のパネルとファンネルとの封着やプラズ
マディスプレイパネル(PDP)や蛍光表示管(VF
D)における封着に用いる封着用組成物、基体の被覆用
組成物、PDPやVFDの隔壁形成用組成物等に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a crystalline low-melting glass composition containing no lead component, and further uses the same to seal a cathode ray tube panel to a funnel, a plasma display panel (PDP) or a fluorescent display. Tube (VF
The present invention relates to a sealing composition, a composition for coating a substrate, a composition for forming a partition wall of PDP and VFD, etc. used for the sealing in D).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ブラウン管のパネルとファンネル
との封着には、特公昭36−17821に開示されるタ
イプのPbO−B23 −ZnO−SiO2 系結晶性低
融点ガラスを用い、440〜450℃の温度に30〜4
0分程度保持し封着していた。こうして封着されたパネ
ルとファンネルは10-6Torr以上の高真空を得るた
め300〜380℃に加熱されつつ排気される。
Conventionally, the sealing of the cathode ray tube panel and the funnel, using a type of PbO-B 2 O 3 -ZnO- SiO 2 based crystalline low melting glass disclosed in JP-B 36-17821, 30-4 at a temperature of 440-450 ° C
It was held for about 0 minutes and sealed. The panel and the funnel thus sealed are exhausted while being heated to 300 to 380 ° C. in order to obtain a high vacuum of 10 −6 Torr or more.

【0003】また従来、PDPやVFDにおけるガラス
基板の封着には、低融点ガラスを用い、440〜500
℃で封着していた。こうして封着されたパネルは、VF
Dの場合は、真空を得るために250〜380℃に加熱
されつつ排気され、封止される。また、PDPの場合
は、やはり250〜380℃に加熱されつつ排気され、
ネオン、Ne−Xe、He−Xe等の放電ガスが100
〜500Torrになるように封入される。
[0003] Conventionally, low-melting glass has been used for sealing glass substrates in PDPs and VFDs.
Sealed at ℃. The panel sealed in this way is VF
In the case of D, the gas is exhausted while being heated to 250 to 380 ° C. in order to obtain a vacuum, and is sealed. In the case of PDP, exhaust is also performed while being heated to 250 to 380 ° C.
100 discharge gas such as neon, Ne-Xe, He-Xe
It is sealed so as to be ~ 500 Torr.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の封着用粉末ガラ
スには鉛成分を含有するガラスが用いられていたが、最
近では鉛成分を含有しないガラスが求められている。
A glass containing a lead component has been used as a conventional powdered glass for sealing. Recently, however, a glass containing no lead component has been demanded.

【0005】また、従来の封着用粉末ガラスは、バルブ
やガラス基板との熱膨張率がマッチングせずパネルが割
れたり、排気のときの加熱によりガラスが流動したり、
発泡したり、シール部分が割れたりしていた。
[0005] Further, in the conventional powdered glass for sealing, the coefficient of thermal expansion with the bulb or the glass substrate does not match, the panel is broken, the glass flows due to heating at the time of exhausting,
It was foaming or the seal was cracked.

【0006】鉛を含まない封着用のガラスとしては、R
2 O(R:アルカリ金属)、ZnO、P25 を主成分
とするガラスが提案されている(米国特許第51224
84号)が、このガラスには、450℃未満で短時間に
封着すると、流動性が不足して充分な封着をしにくいと
いう問題と、非結晶性ガラスであるため排気工程で割れ
やすいという問題がある。
[0006] Lead-free sealing glasses include R
A glass mainly composed of 2 O (R: alkali metal), ZnO, and P 2 O 5 has been proposed (US Pat. No. 5,124,224).
No. 84), this glass has a problem that if it is sealed at a temperature lower than 450 ° C. for a short time, the fluidity is insufficient and it is difficult to sufficiently seal the glass. There is a problem.

【0007】また、SnO、ZnO、P25 を主成分
とする結晶性の低融点ガラスが提案されている(米国特
許第5246890号)が、流動性が不充分である。
[0007] A crystalline low-melting glass containing SnO, ZnO, and P 2 O 5 as main components has been proposed (US Pat. No. 5,246,890), but has insufficient fluidity.

【0008】さらに、同じくSnO、ZnO、P25
を主成分とする低融点ガラスも米国特許5281560
号に提案されているが、このガラスは、非結晶性のガラ
スであり、排気工程での昇温時に割れたり変形したりす
る可能性がある。
Further, SnO, ZnO, P 2 O 5
US Pat. No. 5,281,560 also discloses a low-melting glass mainly composed of
This glass is an amorphous glass, and may be broken or deformed when the temperature is raised in an exhaust process.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、実質的にモル
表示で、SnOに換算したスズ酸化物:0.1〜45
%、ZnO:5〜74.9%、P25 :25〜50
%、Al23 :0〜20%、B23 :0〜20%、
Li2 O+Na2 O+K2 O:0〜40%、MgO+C
aO+SrO+BaO:0〜40%、からなる低融点ガ
ラスの粉末に、リンとスズ及び/又は亜鉛とを含む複合
酸化物の結晶粉末を該低融点ガラスの粉末に対して1〜
10000重量ppm添加してなる結晶性低融点ガラス
組成物を提供する。本ガラス組成物は、ブラウン管、P
DP、VFDの封着用、基体の被覆用、PDP、VFD
などの隔壁形成用等の組成物又は導電性ペースト、抵抗
ペーストなどの機能性ペーストとして用いるのに適す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a tin oxide substantially converted to SnO in the form of mol: 0.1 to 45.
%, ZnO: 5~74.9%, P 2 O 5: 25~50
%, Al 2 O 3 : 0 to 20%, B 2 O 3 : 0 to 20%,
Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 0~40%, MgO + C
aO + SrO + BaO: 0-40%, a low-melting-point glass powder, a composite oxide crystal powder containing phosphorus, tin and / or zinc is added to the low-melting-point glass powder by 1 to 1%.
Provided is a crystalline low-melting glass composition to which 10,000 ppm by weight is added. The present glass composition comprises a cathode ray tube, P
Sealing of DP and VFD, for coating of substrate, PDP, VFD
It is suitable for use as a composition for forming barrier ribs or the like or a functional paste such as a conductive paste or a resistance paste.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本明細書でいうガラスの結晶性、
非結晶性は、示差熱分析(DTA)を行った場合に結晶
化による発熱ピークがあるかないかで区別する。すなわ
ち、10℃/分で昇温し、焼成温度(430〜600
℃)で2時間保持したときに発熱ピークの生じるものを
結晶性とし、そうでないものを非結晶性とする。また、
ガラスが低融点であるとは、軟化点が600℃以下のも
のであることをいう。さらに、低膨張セラミックスフィ
ラーとは、50〜300℃における平均熱膨張係数が7
0×10-7/℃以下のセラミックスフィラーをいう。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The crystallinity of glass as referred to in the present specification,
Non-crystallinity is distinguished by whether or not there is an exothermic peak due to crystallization when differential thermal analysis (DTA) is performed. That is, the temperature is raised at a rate of 10 ° C./min, and the firing temperature (430 to 600
(C) for 2 hours, and those that generate an exothermic peak are made crystalline, and those that do not are made non-crystalline. Also,
That the glass has a low melting point means that the softening point is 600 ° C. or lower. Furthermore, the low expansion ceramic filler has an average thermal expansion coefficient of 7 at 50 to 300 ° C.
A ceramic filler of 0 × 10 −7 / ° C. or less.

【0011】本発明における結晶性低融点ガラス組成物
の組成範囲について説明する。SnOに換算したスズ酸
化物の含有量が0.1モル%(以下、単に%という)未
満では軟化点が高くなりすぎ、流動性が悪く、封着部の
強度、気密性が損なわれるおそれがある。この観点でよ
り好ましい含有量は1%以上である。45%超ではガラ
ス化が困難になる。この観点でより好ましい含有量は4
3%以下である。
The composition range of the crystalline low melting glass composition of the present invention will be described. If the tin oxide content in terms of SnO is less than 0.1 mol% (hereinafter simply referred to as “%”), the softening point becomes too high, the fluidity is poor, and the strength and airtightness of the sealing portion may be impaired. is there. From this viewpoint, a more preferable content is 1% or more. If it exceeds 45%, vitrification becomes difficult. The more preferable content in this respect is 4
3% or less.

【0012】ZnOは5%より少ないと熱膨張係数が大
きくなり、パネルとファンネル又はガラス基板とのマッ
チングが悪くなるおそれがある。含有量が74.9モル
%超では失透が出やすくなる。この観点でより好ましい
含有量は70%以下である。
If ZnO is less than 5%, the coefficient of thermal expansion becomes large, and the matching between the panel and the funnel or glass substrate may be deteriorated. If the content exceeds 74.9 mol%, devitrification tends to occur. From this viewpoint, a more preferable content is 70% or less.

【0013】P25 の含有量が25%未満ではガラス
化が困難になる。より好ましい含有量は30%以上であ
る。50%超では封着物の耐水性が低下する。より好ま
しい含有量は40%以下である。
When the content of P 2 O 5 is less than 25%, vitrification becomes difficult. A more preferred content is 30% or more. If it exceeds 50%, the water resistance of the sealed article will be reduced. A more preferred content is 40% or less.

【0014】Al23 は必須成分ではないが含有させ
ることによって封着物の熱膨張係数を低下させうる。含
有量が20%超ではガラスの軟化点が高くなりすぎ、流
動性が悪くなり、封着部の強度、気密性が損なわれ、さ
らに結晶化が抑制される。より好ましい含有量は10%
以下である。
Although Al 2 O 3 is not an essential component, the inclusion of Al 2 O 3 can lower the thermal expansion coefficient of the sealed article. If the content is more than 20%, the softening point of the glass becomes too high, the fluidity becomes poor, the strength and the airtightness of the sealed portion are impaired, and the crystallization is further suppressed. More preferred content is 10%
It is as follows.

【0015】B23 は必須成分ではないが含有させる
ことによって封着物の熱膨張係数を低下させうる。含有
量が20%超ではガラスの軟化点が高くなりすぎ、流動
性が悪くなり、封着部の強度、気密性が損なわれる。よ
り好ましい含有量は10%以下である。
Although B 2 O 3 is not an essential component, its inclusion can lower the coefficient of thermal expansion of the sealed article. If the content is more than 20%, the softening point of the glass becomes too high, the fluidity becomes poor, and the strength and airtightness of the sealed portion are impaired. A more preferred content is 10% or less.

【0016】Li2 O、Na2 O、K2 Oはいずれも必
須成分ではないが、これらのうち1種以上を含有させる
ことによって封着対象物と封着用組成物との接着性を向
上させうる。これらが合量で40%超では結晶性が増大
し、流動性が損なわれる。より好ましい含有量は合量で
30%以下である。
Although Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are not essential components, the inclusion of at least one of them improves the adhesion between the object to be sealed and the sealing composition. sell. If the total amount exceeds 40%, the crystallinity increases and the fluidity is impaired. A more preferred content is 30% or less in total.

【0017】MgO、CaO、SrO、BaOはいずれ
も必須成分ではないが、これらのうち1種以上含有させ
ることによって封着対象物と封着用組成物との接着性を
向上させうる。これらが合量で40%超ではガラスの軟
化点が高くなりすぎ、流動性が損なわれる。より好まし
い含有量は30%以下である。
Although MgO, CaO, SrO and BaO are not essential components, the inclusion of at least one of them can improve the adhesion between the object to be sealed and the sealing composition. If the total amount exceeds 40%, the softening point of the glass becomes too high, and the fluidity is impaired. A more preferred content is 30% or less.

【0018】本発明では、上記組成からなる低融点ガラ
スの粉末に、リンとスズ及び/又は亜鉛とを含む複合酸
化物の結晶粉末を低融点ガラスの粉末に対して1〜10
000重量ppm添加する。この結晶粉末は低融点ガラ
ス粉末の結晶化の際の核(種結晶)となり、結晶化を促
進する働きをする。すなわち、結晶化の際、SnOとP
25 、SnOとP25 とZnO、又はZnOとP2
5 からなる結晶の析出を促進する。
In the present invention, the low-melting glass powder having the above-mentioned composition is mixed with a composite oxide crystal powder containing phosphorus, tin and / or zinc by 1 to 10 times the low-melting glass powder.
000 ppm by weight. This crystal powder becomes a nucleus (seed crystal) at the time of crystallization of the low melting point glass powder, and functions to promote crystallization. That is, during crystallization, SnO and P
2 O 5 , SnO and P 2 O 5 and ZnO, or ZnO and P 2
To promote the precipitation of consisting of O 5 crystal.

【0019】結晶粉末の添加量が、1ppm未満では、
結晶析出の促進効果が得られず、10000ppm超で
は、結晶の析出が促進されすぎ、流動性が損なわれるお
それがある。
If the amount of the crystal powder is less than 1 ppm,
The effect of accelerating the precipitation of crystals cannot be obtained, and if it exceeds 10,000 ppm, the precipitation of crystals is excessively promoted, and the fluidity may be impaired.

【0020】なお、この結晶粉末には、他の酸化物成分
を含ませうる。たとえば、Li2 O、Na2 O、K2
O、MgO、CaO、SrO又はBaOを含むものを使
用できる。この場合、リンとスズ及び/又は亜鉛とを含
む複合酸化物中のリンとスズ及び/又は亜鉛の複合酸化
物の合量は、それぞれをSnO、P25 、ZnOに換
算した合量のモル表示で80%以上であれば、充分な結
晶析出促進効果が得られる。また、結晶粉末の粒径は、
結晶析出を迅速化するため、100μm以下であること
が好ましい。
The crystal powder may contain another oxide component. For example, Li 2 O, Na 2 O, K 2
Those containing O, MgO, CaO, SrO or BaO can be used. In this case, the total amount of the composite oxide of phosphorus, tin, and / or zinc in the composite oxide containing phosphorus, tin, and / or zinc is the total amount of SnO, P 2 O 5 , and ZnO, respectively. If it is 80% or more in terms of mole, a sufficient crystal precipitation promoting effect can be obtained. Also, the particle size of the crystal powder is
In order to speed up crystal precipitation, the thickness is preferably 100 μm or less.

【0021】上記結晶粉末の作成法としては、SnO/
25 /ZnOを例えば、モル比で0.1〜45/2
5〜50/5〜74.9含有する原料を焼結したり、該
当する組成のガラスを結晶化することによって作製でき
る。
As a method for preparing the above crystal powder, SnO /
P 2 O 5 / ZnO is, for example, 0.1 to 45/2 in a molar ratio.
It can be produced by sintering a raw material containing 5-50 / 5-74.9 or crystallizing a glass having a corresponding composition.

【0022】本発明の結晶性低融点ガラス組成物をブラ
ウン管の封着用途に用いる場合は、結晶性低融点ガラス
組成物粉末を60〜100重量%とし、低膨張セラミッ
クスフィラー粉末を必須ではないが0〜40重量%とし
た組成物であって、焼成後の50〜300℃の平均熱膨
張係数が80×10-7〜110×10-7/℃とすること
が好ましい。低膨張セラミックスフィラー粉末と混合す
ることにより熱膨張係数を小さくし、パネル及びファン
ネルと平均熱膨張係数とをマッチングさせることができ
る。
When the crystalline low melting point glass composition of the present invention is used for sealing a cathode ray tube, the crystalline low melting point glass composition powder is 60 to 100% by weight, and the low expansion ceramic filler powder is not essential. The composition is preferably 0 to 40% by weight, and preferably has an average coefficient of thermal expansion at 50 to 300 ° C. after firing of 80 × 10 −7 to 110 × 10 −7 / ° C. By mixing with the low expansion ceramic filler powder, the coefficient of thermal expansion can be reduced, and the panel and funnel can be matched with the average coefficient of thermal expansion.

【0023】結晶性低融点ガラス組成物粉末の含有量が
60重量%未満では、ガラス分が少なく、流動性が悪く
なり封着部の気密性が損なわれる。
When the content of the crystalline low-melting glass composition powder is less than 60% by weight, the glass content is small, the fluidity is deteriorated, and the airtightness of the sealing portion is impaired.

【0024】また、この場合、50〜300℃における
本発明の封着用組成物による封着体の焼成後の平均熱膨
張係数は80×10-7〜110×10-7/℃の範囲とす
る。平均熱膨張係数がこの範囲外であると、パネルガラ
ス、ファンネルガラス又は封着部に引張応力が働き、バ
ルブの耐圧強度が低下する。
In this case, the average coefficient of thermal expansion of the sealed body after firing with the sealing composition of the present invention at 50 to 300 ° C. is in the range of 80 × 10 -7 to 110 × 10 -7 / ° C. . If the average coefficient of thermal expansion is out of this range, a tensile stress acts on the panel glass, the funnel glass or the sealing portion, and the pressure resistance of the bulb decreases.

【0025】低膨張セラミックスフィラーとしては、ジ
ルコン、コージエライト、アルミナ、ムライト、シリ
カ、β−ユークリプタイト、β−スポジュメン及びβ−
石英固溶体から選ばれた1種以上が好ましい。こうした
セラミックスフィラーのうち、コージエライト、ジルコ
ンは封着強度に優れ特に望ましい。
Examples of the low expansion ceramic filler include zircon, cordierite, alumina, mullite, silica, β-eucryptite, β-spodumene and β-
One or more selected from quartz solid solutions are preferred. Among these ceramic fillers, cordierite and zircon are particularly preferable because of their excellent sealing strength.

【0026】この封着用組成物は、400〜600℃の
温度に5〜60分保持することにより、カラーブラウン
管のパネルとファンネルとを封着でき、接着後の300
〜380℃の排気時の加熱により、流動したり、発泡し
たり、機械的強度が損なわれたりすることがない。
The sealing composition can be sealed at a temperature of 400 to 600 ° C. for 5 to 60 minutes to seal a panel of a color CRT with a funnel,
Heating at the time of evacuation at 380 ° C. does not cause fluidization, foaming, or loss of mechanical strength.

【0027】また本発明の結晶性低融点ガラス組成物を
PDP又はVFDの封着用途に用いる場合は、結晶性低
融点ガラス組成物粉末を50〜100重量%とし、低膨
張セラミックスフィラー粉末を必須ではないが0〜50
重量%とした組成物であって、焼成後の50〜250℃
の平均熱膨張係数が60×10-7〜90×10-7/℃と
することが好ましい。低膨張セラミックスフィラーと混
合することにより、ブラウン管用の封着組成物の場合と
同様に熱膨張係数を小さくし、ガラス基板同志をマッチ
ングとさせる効果がある。
When the crystalline low melting point glass composition of the present invention is used for sealing PDP or VFD, the crystalline low melting point glass composition powder should be 50 to 100% by weight, and the low expansion ceramic filler powder is essential. Not 50
% By weight, and after firing, 50 to 250 ° C.
Preferably has an average thermal expansion coefficient of 60 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. Mixing with the low expansion ceramic filler has the effect of reducing the coefficient of thermal expansion and matching glass substrates as in the case of the sealing composition for cathode ray tubes.

【0028】結晶性低融点ガラス組成物粉末の含有量が
50重量%未満では、ガラス分が少なく、流動性が悪く
なり封着部の気密性が損なわれる。
When the content of the crystalline low-melting glass composition powder is less than 50% by weight, the glass content is small, the fluidity is deteriorated, and the airtightness of the sealed portion is impaired.

【0029】また、この場合、50〜250℃における
封着用組成物の焼成後の平均熱膨張係数は60〜90×
10-7/℃とするのが好ましい。熱膨張係数がこの範囲
外では、基板ガラス又は封着部に引張応力が働き、耐圧
強度が低下する。
In this case, the average thermal expansion coefficient of the sealing composition at 50 to 250 ° C. after firing is 60 to 90 ×.
It is preferably 10 -7 / ° C. If the coefficient of thermal expansion is out of this range, a tensile stress acts on the substrate glass or the sealing portion, and the pressure resistance decreases.

【0030】低膨張セラミックスフィラーとしては、ブ
ラウン管用の封着組成物の場合と同様にジルコン、コー
ジエライト、アルミナ、ムライト、シリカ、β−ユーク
リプタイト、β−スポジュメン及びβ−石英固溶体から
選ばれた1種以上が好ましく、こうしたセラミックスフ
ィラーのうち、コージエライト、ジルコンは封着強度に
優れ特に望ましい。
The low expansion ceramic filler is selected from zircon, cordierite, alumina, mullite, silica, β-eucryptite, β-spodumene and β-quartz solid solution as in the case of the sealing composition for cathode ray tubes. One or more types are preferable, and among these ceramic fillers, cordierite and zircon are particularly preferable because of their excellent sealing strength.

【0031】この封着用組成物は、430〜600℃で
5分〜60分程度の加熱で、PDP用ガラス基板又はV
FD用ガラス基板を封着でき、接着後の280〜380
℃の排気時の加熱により流動したり、発泡したり、機械
的強度が損なわれたりすることがない。この組成物に着
色のために顔料を添加して使用することもできる。
The sealing composition is heated at 430 to 600 ° C. for about 5 to 60 minutes to form a glass substrate for PDP or a glass substrate.
A glass substrate for FD can be sealed, and 280 to 380 after bonding.
There is no flow, no foaming, and no loss in mechanical strength due to heating at the time of exhaustion at ° C. A pigment may be added to the composition for coloring.

【0032】また、本発明の結晶性低融点ガラス組成物
を基体の被覆用に用いる場合は、結晶性低融点ガラス組
成物の粉末を50〜100重量%とし、低膨張セラミッ
クスフィラー粉末を0〜50重量%とした組成物とする
ことが好ましい。かかる被覆用組成物は400〜700
℃で5分〜1時間程度の加熱で基体の被覆ができる。こ
こで、基体の材料としては、ガラスやセラミックスなど
の耐熱材料を用いることができる。また低膨張セラミッ
クスフィラーとしては、前述のものを用いることができ
る。
When the crystalline low melting glass composition of the present invention is used for coating a substrate, the powder of the crystalline low melting glass composition is 50 to 100% by weight, and the low expansion ceramic filler powder is 0 to 100% by weight. Preferably, the composition is 50% by weight. Such coating compositions are 400-700.
The substrate can be coated by heating at a temperature of about 5 minutes to 1 hour. Here, a heat-resistant material such as glass or ceramics can be used as the material of the base. As the low expansion ceramic filler, those described above can be used.

【0033】また、本発明の結晶性低融点ガラス組成物
をPDP、VFD用の隔壁形成に用いる場合は、結晶性
低融点ガラス組成物の粉末を50〜100重量%とし、
低膨張セラミックスフィラー粉末を0〜50重量%とし
た組成物とすることが好ましい。場合に応じて白色顔料
(例えばTiO2 )、黒色顔料(例えばFe−Mn系、
Fe−Co−Cr系、Fe−Mn−Al系の顔料)を添
加することができる。また低膨張セラミックスフィラー
としては、前述のものを用いることができる。
When the crystalline low-melting glass composition of the present invention is used for forming barrier ribs for PDP and VFD, the powder of the crystalline low-melting glass composition is 50 to 100% by weight,
It is preferable to use a composition containing 0 to 50% by weight of the low expansion ceramic filler powder. Depending on the case, a white pigment (for example, TiO 2 ), a black pigment (for example, Fe—Mn type,
Fe-Co-Cr-based and Fe-Mn-Al-based pigments) can be added. As the low expansion ceramic filler, those described above can be used.

【0034】本発明の結晶性低融点ガラス組成物の粉末
やこれを用いた各種用途の組成物粉末は、エチルセルロ
ース、ニトロセルロース、アクリル樹脂、ポリα−メチ
ルスチレン樹脂、ブチラール樹脂などの樹脂成分やα−
テルピネオール、酢酸イソアミル、2,2,4−トリメ
チル−1,3ペンタンジオールモノイソブチレート、フ
ェノキシエタノール、エチルセロソルブ、ジブチルセロ
ソルブ、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセ
テート、エチレングリコールモノフェニルエーテル等の
適当な溶剤を含むビヒクルと混練してぺースト化して使
用することができる。
The powder of the crystalline low-melting glass composition of the present invention or the composition powder for various uses using the same may be a resin component such as ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylic resin, poly α-methylstyrene resin, butyral resin, or the like. α-
Suitable solvents such as terpineol, isoamyl acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3 pentanediol monoisobutyrate, phenoxyethanol, ethyl cellosolve, dibutyl cellosolve, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, ethylene glycol monophenyl ether Can be kneaded with a vehicle containing and used as a paste.

【0035】また、本発明の結晶性低融点ガラス組成物
は導電性ペースト、抵抗ペースト、誘電体ペーストなど
のバインダーとして用いることができる。たとえば、導
電性ペーストのバインダーとして用いる場合は、結晶性
低融点ガラスの粉末1〜50重量%、導電性粉末50〜
90重量%及び必要に応じて低膨張セラミックスフィラ
ー粉末0〜10重量%からなる導電性組成物とする。導
電性ペーストとして用いるときは、これに適宜有機質の
ビヒクルを加えて、ペ−スト状にすることが好ましい。
ここで、導電性粉末としてはAg、Pd、Al、Ni、
Cu、Au、又はこれらの混合物等の導電性を持つ粉末
である。かかる導電性ペーストは400〜900℃、5
分〜1時間程度の加熱焼成をすることにより、導電体を
形成できる。
Further, the crystalline low melting point glass composition of the present invention can be used as a binder such as a conductive paste, a resistance paste, and a dielectric paste. For example, when used as a binder for a conductive paste, 1 to 50% by weight of a crystalline low melting point glass powder and 50 to 50% of a conductive powder are used.
The conductive composition is 90% by weight and, if necessary, 0 to 10% by weight of the low expansion ceramic filler powder. When used as a conductive paste, an organic vehicle is preferably added to the paste to form a paste.
Here, as the conductive powder, Ag, Pd, Al, Ni,
A conductive powder such as Cu, Au, or a mixture thereof. Such a conductive paste is at 400 to 900 ° C., 5
The conductor can be formed by heating and baking for about one minute to one hour.

【0036】[0036]

【実施例】低融点ガラスの成分のうちP25 成分を除
く固体原料中に85%正リン酸を滴下して得られた原料
スラリーをよく混合した後、120℃で乾燥して粉末バ
ッチを作成した。この原料を石英ルツボ中に入れ、ふた
をして1000〜1100℃で溶融した後、水砕又はロ
ーラーを通すことによりフレーク状のガラスにした。次
いでボールミルにて所定時間粉砕し、表1、表2の例9
〜12のガラス組成欄に示す低融点ガラス粉末を製造し
た。
EXAMPLE A raw material slurry obtained by dropping 85% orthophosphoric acid into a solid raw material excluding the P 2 O 5 component among the low melting glass components was thoroughly mixed, and then dried at 120 ° C. to obtain a powder batch. It was created. This raw material was placed in a quartz crucible, covered and melted at 1000 to 1100 ° C., and then flaked into glass by granulation or through a roller. Next, the mixture was pulverized for a predetermined time by a ball mill, and Example 9 in Tables 1 and 2 was used.
The low-melting glass powders shown in the glass composition columns of Nos. To 12 were produced.

【0037】一方、表3に示す組成のガラスを同様に溶
融、ガラス化した後、600℃で1時間保持して結晶化
ガラスを作成し、これをボールミルで所定時間粉砕して
SnO、ZnO、P25 成分を含む組成の種結晶とし
ての複合酸化物結晶性粉末を作成した。種結晶として表
1のガラス組成に記載されたガラスを焼成して、結晶化
し、粉砕、粉末化して使用してもよい。その場合そのガ
ラスを表1にしめす焼成温度より100℃高い温度で焼
成し結晶化ガラスを作成し粉砕して粉末化する。
On the other hand, a glass having the composition shown in Table 3 was similarly melted and vitrified, and kept at 600 ° C. for 1 hour to prepare a crystallized glass, which was pulverized by a ball mill for a predetermined time to obtain SnO, ZnO, A composite oxide crystalline powder was prepared as a seed crystal having a composition containing a P 2 O 5 component. The glass described in the glass composition of Table 1 as a seed crystal may be fired, crystallized, pulverized, and powdered for use. In that case, the glass is fired at a temperature 100 ° C. higher than the firing temperature shown in Table 1 to produce a crystallized glass, which is ground and powdered.

【0038】これらの低融点ガラス粉末と種結晶粉末と
低膨張セラミックスフィラー粉末とを表1の構成欄に示
す重量割合(種結晶は低融点ガラス粉末に対する添加割
合)で混合し、封着用組成物を調製した。種結晶No.
6を使用する場合は、対応する欄のガラス組成を上記の
要領で焼成して、結晶化したものを使用している。
The low melting point glass powder, the seed crystal powder, and the low expansion ceramic filler powder are mixed at the weight ratio shown in the constitution column of Table 1 (the seed crystal is added to the low melting point glass powder), and a sealing composition is prepared. Was prepared. Seed crystal No.
In the case of using 6, a glass composition obtained by firing the glass composition in the corresponding column in the above manner and crystallizing is used.

【0039】この封着用組成物について、フローボタン
径、接着残留歪、熱膨張係数を測定した結果を表1に示
す。表1、表2の例1〜3、例10は、本発明の封着用
組成物をブラウン管用に用いた場合の例であり、表1、
表2の例4〜9、11、12は、PDP又はVFDの封
着用に用いた場合の例である。表1、表2において、例
1〜例9は実施例、例10〜例12は比較例である。表
中に示した特性の測定法は次のとおりである。
Table 1 shows the results of measuring the flow button diameter, the residual adhesive strain, and the coefficient of thermal expansion of this sealing composition. Examples 1 to 3 and 10 of Table 1 and Table 2 are examples when the sealing composition of the present invention is used for a cathode ray tube.
Examples 4 to 9, 11, and 12 in Table 2 are examples when used for sealing PDP or VFD. In Tables 1 and 2, Examples 1 to 9 are Examples and Examples 10 to 12 are Comparative Examples. The measuring methods of the characteristics shown in the table are as follows.

【0040】フローボタン径:封着時の組成物の流動性
を示すもので、ブラウン管用では以下のとおり行った。
封着用組成物の試料粉末5.5gを直径12.7mmの
円柱状に加圧成形後、表1、表2に記載した焼成温度
(単位:℃)に、10分間保持したとき、封着用組成物
が流動した直径(単位:mm)である。このフローボタ
ン径は26.5mm以上が望ましい。
Flow button diameter: This indicates the fluidity of the composition at the time of sealing. For a cathode ray tube, the procedure was as follows.
5.5 g of a sample powder of the sealing composition was press-molded into a columnar shape having a diameter of 12.7 mm, and then maintained at the firing temperature (unit: ° C.) described in Tables 1 and 2 for 10 minutes. It is the diameter (unit: mm) through which the material has flowed. The diameter of the flow button is desirably 26.5 mm or more.

【0041】また、PDP、VFDにおいては以下のよ
うに行った。封着用組成物の試料粉末3.5gを直径1
2.7mmの円柱状に加圧成形後、表1、表2に記載し
た焼成温度(単位:℃)に、15分間保持したとき、封
着組成物が流動した直径(単位:mm)である。このフ
ローボタン径は20mm以上が望ましい。
In PDP and VFD, the procedure was as follows. 3.5 g of a sample powder of the sealing composition
It is the diameter (unit: mm) at which the sealing composition flowed when pressed at a firing temperature (unit: ° C.) described in Tables 1 and 2 for 15 minutes after being pressed into a 2.7 mm cylindrical shape. . This flow button diameter is desirably 20 mm or more.

【0042】接着残留歪:封着用組成物とビヒクル(酢
酸イソアミルにニトロセルロース1.2%を溶解した溶
液)とを重量比6.5:1の割合で混合してペーストと
した。このペーストをブラウン管用ではファンネルガラ
ス片、PDP、VFD用では基板ガラス片の上に塗布
し、それぞれフローボタン径の場合と同条件で焼成後、
ガラス片と封着用組成物との間に発生した残留歪み(単
位:nm/cm)をポーラリメーターを用いて測定し
た。「+」は封着用組成物が圧縮歪みを受ける場合、
「−」は封着用組成物が引っ張り歪みを受ける場合をそ
れぞれ示す。この残留歪みは−100〜+500nm/
cmの範囲が望ましい。
Adhesive residual strain: A paste was prepared by mixing the sealing composition and a vehicle (a solution of 1.2% nitrocellulose in isoamyl acetate) at a weight ratio of 6.5: 1. This paste is coated on a funnel glass piece for cathode ray tubes and a substrate glass piece for PDP and VFD, and fired under the same conditions as for the flow button diameter, respectively.
The residual strain (unit: nm / cm) generated between the glass piece and the sealing composition was measured using a polarimeter. "+" Indicates that the sealing composition is subjected to compressive strain.
"-" Indicates the case where the sealing composition is subjected to tensile strain. This residual strain is -100 to +500 nm /
The range of cm is desirable.

【0043】熱膨張係数:封着用組成物をフローボタン
径の場合と同条件で焼成後、所定寸法に研磨して、熱膨
張測定装置により昇温速度10℃/分の条件で伸びの量
を測定した。ブラウン管用においては50〜300℃ま
での平均熱膨張係数、PDP、VFDにおいては50〜
250℃までの平均熱膨張係数(単位:10-7/℃)を
算出した。ブラウン管ガラスとの熱膨張係数のマッチン
グを考慮すると、平均熱膨張係数は80〜110×10
-7/℃の範囲が望ましく、基板ガラスとの熱膨張係数の
マッチングを考慮すると、平均熱膨張係数は60〜90
×10-7/℃の範囲が望ましい。
Coefficient of thermal expansion: After baking the sealing composition under the same conditions as in the case of the flow button diameter, it is polished to a predetermined size, and the amount of elongation is measured by a thermal expansion measuring device at a temperature rising rate of 10 ° C./min. It was measured. Average coefficient of thermal expansion up to 50 to 300 ° C for cathode ray tubes, 50 to 300 ° C for PDP and VFD
The average coefficient of thermal expansion up to 250 ° C. (unit: 10 −7 / ° C.) was calculated. Considering the matching of the coefficient of thermal expansion with the CRT glass, the average coefficient of thermal expansion is 80 to 110 × 10
-7 / ° C. is desirable, and in consideration of matching of the coefficient of thermal expansion with the substrate glass, the average coefficient of thermal expansion is 60 to 90.
A range of × 10 -7 / ° C is desirable.

【0044】表1、表2のブラウン管用封着用組成物を
ペースト化し、25型のブラウン管のファンネルとパネ
ルとの間に介在させ、400〜600℃に30分間保持
して、ファンネルとパネルとを封着してバルブを製造し
た。また、表1、表2のPDP、VFD用の封着用組成
物をペースト化し、あらかじめ放電電極、リブ等を形成
したPDP用ガラス基板の端部に枠状に塗布して、別の
PDP用ガラス基板と対向させてPDP用セルを形成し
た後、430〜600℃に30分間保持してガラス基板
どうしを封着し、PDPを製造した。また電極、蛍光体
による発光部を形成した基板の端部にガラスセラミック
ス組成物のペーストを枠状に塗布して、基板の端部の間
にグリッドを設置して介在させた状態で、別のガラス基
板と対向させてVFDのセルを形成した後、430〜6
00℃に30分間保持してガラス基板どうしを封着し、
VFDを製造した。これらのバルブ及びパネルについ
て、耐水圧強度、耐熱強度、限界排気昇温速度を測定し
た結果を表1、表2に示した。それぞれの測定法は次の
とおりである。
The compositions for sealing CRTs shown in Tables 1 and 2 were pasted, interposed between the funnel and the panel of a 25-inch CRT, and kept at 400 to 600 ° C. for 30 minutes to bond the funnel and the panel. The valve was manufactured by sealing. Further, the sealing compositions for PDPs and VFDs in Tables 1 and 2 are pasted and applied in a frame shape to the edge of a PDP glass substrate on which discharge electrodes, ribs and the like are formed in advance, and another PDP glass is formed. After a cell for PDP was formed facing the substrate, the glass substrates were sealed at 430 to 600 ° C. for 30 minutes to produce a PDP. In addition, a paste of a glass ceramic composition is applied in a frame shape to the end of the substrate on which the light emitting portion is formed by the electrode and the phosphor, and another grid is interposed by placing a grid between the ends of the substrate. After forming a VFD cell facing the glass substrate, 430-6
Hold at 00 ° C for 30 minutes to seal the glass substrates together,
VFD was manufactured. Tables 1 and 2 show the results of measuring the water pressure resistance, the heat resistance, and the limit exhaust gas heating rate for these valves and panels. Each measuring method is as follows.

【0045】耐水圧強度:バルブ又はパネルの内外に水
による圧力差を与えて破壊するときの圧力差を測定した
(単位:kg/cm2 、5個の平均値)。バルブ又はパ
ネルとしての強度を保証するために、通常この強度が3
kg/cm2 以上であることが好ましい。
Water pressure strength: The pressure difference when breaking by applying a pressure difference between water inside and outside the valve or panel was measured (unit: kg / cm 2 , average value of 5 pieces). In order to guarantee the strength of the valve or panel, this strength is usually 3
It is preferably at least kg / cm 2 .

【0046】耐熱強度:バルブ又はパネルの内外に水と
湯による温度差を与えて破壊するときの温度差を測定し
た(単位:℃、5個の平均値)。バルブやPDP、VF
Dのパネルを製造する際の熱処理工程で発生する熱応力
を考慮すると、通常この強度は40℃以上であることが
好ましい。
Heat resistant strength: The temperature difference when breaking by applying a temperature difference between water and hot water inside and outside the valve or panel was measured (unit: ° C., average value of 5 pieces). Valve, PDP, VF
In consideration of the thermal stress generated in the heat treatment step when manufacturing the panel D, it is usually preferable that the strength be 40 ° C. or higher.

【0047】限界排気昇温速度:バルブ又はパネルを真
空に排気しながら350℃まで昇温させる際に、割れな
い限界の昇温速度を測定した(単位:℃/分)。排気工
程でのパネルの割れを防ぐためには、10℃/分以上が
好ましい。
Critical Exhaust Heating Rate: When elevating the temperature to 350 ° C. while evacuating the valve or panel, the critical heating rate at which no cracking occurs was measured (unit: ° C./min). In order to prevent cracking of the panel in the evacuation step, the temperature is preferably 10 ° C./min or more.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】また、本発明の低融点ガラスを基体被覆用
(表中では被覆と記載)、導電性ペーストのバインダー
用(表中では導体と記載)、隔壁形成用(表中では隔壁
と記載)として用いた場合の例を表2に示す。それぞ
れ、表中の焼成温度で焼成した場合の焼結性と平均熱膨
張係数とを記載した。例13〜15は実施例、例16は
比較例である。なお、焼結性の評価は、焼成後の焼結体
の断面を電子顕微鏡により1000倍で観察し、ボイド
割合(空孔割合)が20%未満のものを焼結性良とし、
20%以上のものを焼結性不良とした。
The low-melting glass of the present invention is used for coating a substrate (described as coating in the table), as a binder for a conductive paste (described as conductor in the table), and for forming partition walls (described as partition walls in the table). Table 2 shows an example in the case of using the above. In each case, the sinterability and average coefficient of thermal expansion when fired at the firing temperatures in the table are described. Examples 13 to 15 are working examples, and example 16 is a comparative example. The evaluation of sinterability was performed by observing the cross section of the sintered body after firing at a magnification of 1000 with an electron microscope, and those having a void ratio (void ratio) of less than 20% were regarded as having good sinterability.
Those with 20% or more were determined to have poor sinterability.

【0050】基体の被覆用に用いる場合は表2に示す割
合で、低融点ガラス粉末とセラミックスフィラー粉末と
結晶粉末を混合し、エチルセルロースを溶解させたα−
テルピネオールからなるビヒクルと混練し、ペースト化
した。そのペーストをスクリーン印刷し、表の焼成温度
で焼成した。焼結後の平均熱膨張係数(50〜250
℃)を表2に示す。
When used for coating a substrate, the low melting point glass powder, the ceramic filler powder and the crystal powder were mixed at the ratios shown in Table 2 to dissolve α-cellulose in which ethyl cellulose was dissolved.
It was kneaded with a vehicle consisting of terpineol and made into a paste. The paste was screen printed and fired at the firing temperatures shown in the table. Average coefficient of thermal expansion after sintering (50 to 250
° C) is shown in Table 2.

【0051】導電性ペーストに用いる場合としては、表
2に示す割合で、導電粉末と低融点ガラス粉末と結晶粉
末を混合し、エチルセルロースを溶解させたα−テルピ
ネオールからなるビヒクルと混練し、ペースト化した。
そのペーストを所定のパターンにスクリーン印刷し、乾
燥後、表の焼成温度で焼成し、導体パターンを形成し
た。焼結後の平均熱膨張係数(50〜250℃)を表2
に示す。
When used as a conductive paste, a conductive powder, a low-melting glass powder and a crystal powder are mixed at the ratios shown in Table 2, and kneaded with a vehicle made of α-terpineol in which ethyl cellulose is dissolved to form a paste. did.
The paste was screen-printed in a predetermined pattern, dried, and fired at the firing temperature shown in the table to form a conductor pattern. Table 2 shows the average coefficient of thermal expansion (50 to 250 ° C.) after sintering.
Shown in

【0052】PDP、VFDの隔壁に用いる場合として
は、表2に示す割合で、低融点ガラス粉末とセラミック
スフィラー粉末と結晶粉末を混合し、エチルセルロース
を溶解させたα−テルピネオールからなるビヒクルと混
練し、ペースト化した。そのペーストをスクリーン印刷
し、乾燥後サンドブラストによりパターニングを行った
あるいは、ペースト中に感光性樹脂を混合し、スクリー
ン印刷、乾燥後、露光し、エッチングにより、パターン
形成してもよい。パターン形成後、表の焼成温度で焼成
し、所定の隔壁(リブ)を形成した。焼結後の平均熱膨
張係数(50〜250℃)を表2に示す。
When used for the partition walls of PDP and VFD, low melting glass powder, ceramic filler powder and crystal powder are mixed at the ratio shown in Table 2 and kneaded with a vehicle made of α-terpineol in which ethyl cellulose is dissolved. , Into a paste. The paste may be screen-printed and dried, followed by patterning by sandblasting. Alternatively, a photosensitive resin may be mixed into the paste, screen-printed, dried, exposed, and etched to form a pattern. After the pattern formation, baking was performed at the baking temperature shown in the table to form predetermined partition walls (ribs). Table 2 shows the average coefficient of thermal expansion (50 to 250 ° C.) after sintering.

【0053】表から、本発明に係わる組成物は従来品以
上の特性を有することがわかる。
From the table, it can be seen that the composition according to the present invention has more properties than conventional products.

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【表3】 [Table 3]

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、鉛を全く含まず、ブラ
ウン管、PDP、VFDの封着用、基体の被覆用、PD
P、VFDなどの隔壁形成用の組成物等又は導電性ペー
スト、抵抗性ペーストなどの機能性ペーストとして用い
るのに適する結晶性低融点ガラス組成物が得られる。
According to the present invention, no lead is contained, a cathode ray tube, PDP, VFD sealing, substrate coating, PD
A crystalline low-melting glass composition suitable for use as a composition for forming a partition such as P or VFD or a functional paste such as a conductive paste or a resistive paste is obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 真鍋 恒夫 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tsuneo Manabe Asahi Glass Co., Ltd., 1150 Hazawacho, Kanagawa-ku, Yokohama, Kanagawa

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】実質的にモル表示で、 SnOに換算したスズ酸化物 0.1〜45%、 ZnO 5〜74.9
%、 P25 25〜50%、 Al23 0〜20%、 B23 0〜20%、 Li2 O+Na2 O+K2 O 0〜40%、 MgO+CaO+SrO+BaO 0〜40%、 からなる低融点ガラスの粉末に、リンとスズ及び/又は
亜鉛とを含む複合酸化物の結晶粉末を該低融点ガラスの
粉末に対して1〜10000重量ppm添加してなる結
晶性低融点ガラス組成物。
1. Tin oxide 0.1 to 45% in terms of SnO, ZnO 5 to 74.9 substantially in molar terms.
%, P 2 O 5 25~50% , Al 2 O 3 0~20%, B 2 O 3 0~20%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~40%, MgO + CaO + SrO + BaO 0~40%, low consisting A crystalline low-melting glass composition comprising a melting point glass powder and a complex oxide crystal powder containing phosphorus, tin and / or zinc added to the low-melting glass powder in an amount of 1 to 10,000 ppm by weight.
【請求項2】請求項1記載の結晶性低融点ガラス組成物
粉末60〜100重量%と、低膨張セラミックスフィラ
ー粉末0〜40重量%とからなり、焼成後の50〜30
0℃の平均熱膨張係数が80×10-7〜110×10-7
/℃である、ブラウン管のパネルとファンネルとを封着
するための封着用組成物。
2. A composition comprising 60 to 100% by weight of the crystalline low-melting glass composition powder according to claim 1 and 0 to 40% by weight of a low expansion ceramic filler powder, and 50 to 30% after firing.
The average coefficient of thermal expansion at 0 ° C. is 80 × 10 −7 to 110 × 10 −7.
/ C, a sealing composition for sealing a panel of a CRT and a funnel.
【請求項3】請求項1記載の結晶性低融点ガラス組成物
粉末50〜100重量%と、低膨張セラミックスフィラ
ー粉末0〜50重量%とからなり、焼成後の50〜25
0℃の平均熱膨張係数が60×10-7〜90×10-7
℃である、プラズマディスプレイパネル又は蛍光表示管
を封着するための封着用組成物。
3. The composition of claim 1, comprising 50 to 100% by weight of the crystalline low melting glass composition powder according to claim 1 and 0 to 50% by weight of the low expansion ceramic filler powder.
The average thermal expansion coefficient at 0 ° C. is 60 × 10 −7 to 90 × 10 −7 /
A sealing composition for sealing a plasma display panel or a fluorescent display tube, which is at 0 ° C.
【請求項4】請求項1記載の結晶性低融点ガラス組成物
粉末50〜100重量%と、低膨張セラミックスフィラ
ー粉末0〜50重量%とからなる基体の被覆用組成物。
4. A composition for coating a substrate, comprising 50 to 100% by weight of the crystalline low melting glass composition powder according to claim 1 and 0 to 50% by weight of a low expansion ceramic filler powder.
【請求項5】請求項1記載の結晶性低融点ガラス組成物
粉末50〜100重量%と、低膨張セラミックスフィラ
ー粉末0〜50重量%とからなる、プラズマディスプレ
イパネル又は蛍光表示管用の隔壁形成用組成物。
5. A partition for a plasma display panel or a fluorescent display tube, comprising 50 to 100% by weight of the crystalline low melting point glass composition powder according to claim 1 and 0 to 50% by weight of a low expansion ceramic filler powder. Composition.
【請求項6】無機成分が、請求項1記載の結晶性低融点
ガラス組成物粉末1〜50重量%、導電性粉末50〜9
9重量%、及び低膨張セラミックスフィラー粉末0〜1
0重量%からなる導電性ペースト。
6. The crystalline low melting glass composition powder according to claim 1, wherein the inorganic component is 1 to 50% by weight, and the conductive powder is 50 to 9%.
9% by weight and low expansion ceramic filler powder 0-1
Conductive paste consisting of 0% by weight.
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