JPH11344585A - 2軸移動装置 - Google Patents

2軸移動装置

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JPH11344585A
JPH11344585A JP26634998A JP26634998A JPH11344585A JP H11344585 A JPH11344585 A JP H11344585A JP 26634998 A JP26634998 A JP 26634998A JP 26634998 A JP26634998 A JP 26634998A JP H11344585 A JPH11344585 A JP H11344585A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】真直度,剛性が高くて運動再現性などに優れた
安価な2軸移動装置を提供する。 【解決手段】X方向の可動体13とY方向の可動体20
とを備えた2軸移動装置において、一方の可動体13を
転がり案内軸受LGを介して基台10上に支持するとと
もに、他方の可動体20は静圧気体軸受22を介して基
台10上に支持した。これにより可動体20上の荷重が
可動体13に負荷されることがなくなり、可動体20が
移動中に可動体13に偏荷重が加わることもないから、
高真直度,高剛性,高再現性が得られる。可動体13と
可動体20との対向面の間に上下方向の磁気吸引部を設
けて、基台10をセラミックスにすることで、より高剛
性が得られ、且つ焼付き防止、基台の経年変化や塑性変
形による軸受運動精度低下の防止が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高精度な加工装置
や測定装置,半導体製造装置や検査装置などにおいて、
試料,工具,検出器などを高い位置精度をもって移動さ
せるのに好適な2軸移動装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の2軸移動装置としては、
例えば特開平4−294947号公報に開示されたもの
がある(第1従来例)。このものは、図6に示すよう
に、移動用案内軸としての四角い枠型のX方向可動体A
Xと、この可動体AX上に重ね合わせて組み付けたステ
ージとしての長方形テーブル状のY方向可動体AYとを
有する。X方向可動体AXは、4本の枠軸のうちの相対
する2本の軸が静圧気体軸受(エアスライド)1X を介
して固定台2上に支持され、枠全体でX方向に移動可能
になっている。Y方向可動体AYは、可動体AXの残り
2本の軸上に静圧気体軸受(エアスライド)1Y を介し
てY方向に移動可能に支持されている。そして、各可動
体AX,AYはそれぞれに設置した駆動用モータで独立
に直線駆動されるようになっている。すなわち、X方向
可動体AXは固定台2に固定して設置した図外の駆動用
モータによりギヤ機構を介してX方向に移動し、Y方向
可動体AYの方は静圧気体軸受1Y に一体的に移動可能
に設置した図外の駆動用モータによりギヤ機構を介して
Y方向に移動するものである。
【0003】また、特開平8−229759号公報に
は、図7に示すような2軸移動装置が開示されている
(第2従来例)。このものは、定盤55上に、Y方向移
動体であるYステージ54が載置され、そのYステージ
54にX方向移動体であるXステージ51が組み付けら
れている。Yステージ54は、可動式のXステージ水平
方向ガイド54bの両端部の軸受取付板54aの下端面
に備えた鉛直方向静圧気体軸受53dにより定盤55上
に浮上支持されると共に、その一方の軸受取付板54a
の外側面に備えた水平方向静圧気体軸受53cにより、
片側に設けられている固定式のYステージ水平方向ガイ
ド52に案内されて、両側に設置されたリニアモータの
如き駆動アクチュエータ54cにより、Y方向に移動さ
れる。
【0004】Xステージ51は、被搬送体が装着される
移動板51aを支持すると共に、前記可動式のXステー
ジ水平方向ガイド54bを囲む水平方向軸受取付板51
bと鉛直方向軸受取付板51cを備えている。そして、
水平方向軸受取付板51bの内側面に備えた静圧気体軸
受53a及び鉛直方向軸受取付板51cの下面に備えた
静圧気体軸受53bにより、Xステージ水平方向ガイド
54bに案内されつつ、定盤55から浮上されて、駆動
アクチュエータ51cによりX方向に移動される。
【0005】そして、Xステージ51及びYステージ5
4に複数の予圧用磁石ユニット56を設け且つ定盤55
と固定ガイド52を磁性体で構成することにより、両ス
テージが常に一定の姿勢となるように調整している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
1の従来例の2軸移動装置には、次のような問題点があ
る。
【0007】真直度の悪化 上軸であるY方向可動体AYにかかる重量が、下軸であ
るX方向可動体AXに直接に負荷される。しかも、Y方
向可動体AYがそのストローク端にいる場合と、ストロ
ーク中央にいる場合とでは、下軸に対する重量負担が変
化する。特に、合成XY運動可能なテーブルであるY方
向可動体AY上に重量物が搭載された場合には、変化す
る負担重量と下軸の軸受剛性との兼ね合いで上軸の真直
度が悪化する。
【0008】軸受剛性の低下 上軸(可動体AY)と下軸(可動体AX)との軸受剛性
が直列ばねとなり、最終的にXY運動可能なテーブルで
あるY方向可動体AYの上面では次式のように軸受剛性
が低下する。
【0009】Kz=1/(1/Kx+1/Ky) Kz:XY運動するテーブル上面での軸受剛性(ばね定
数) Kx:上軸(可動体AY)単独の剛性(ばね定数) Ky、下軸(可動体AX)単独の剛性(ばね定数) 高コスト 一般的に気体軸受は加工精度が厳しく、また精度維持の
ためにセラミックスを使うなどのために、コストが高
い。これをX軸とY軸との双方に使用するので高価にな
る。
【0010】一方、上記第2の従来例は、基台(定盤)
55が磁性材(鉄)であることから、以下のような問題
点を有している。 耐焼付き性が低い 基台55と対向している静圧軸受(53b,53d)
が、何らかのアクシデントで基台に接触するようなこと
があった場合、鉄製の基台との間に焼付きが生じやす
い。
【0011】経年変化しやすい 基台55が腐食などで経年変化を起こしやすいため、基
台上面を基準面とした静圧軸受部の運動精度が変化し易
くなる。
【0012】塑性変形しやすい 装置の組立調整時や使用中に基台55の基準面が衝撃を
受けると、軽微な衝撃であっても打痕等の塑性変形が生
じる。静圧軸受と基準面との間の軸受すき間は微小であ
るから、僅かな打痕でも装置の運動精度に影響する。
【0013】本発明は、このような従来の2軸移動装置
の問題点を解決することを課題とするもので、その目的
とするところは、真直度,剛性が高くて運動再現性など
に優れた安価な2軸移動装置を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に係る本発明は、X方向の可動体とY方
向の可動体とを備えた2軸移動装置において、一方の可
動体を転がり案内軸受を介して基台上に支持するととも
に、他方の可動体は静圧気体軸受を介して基台上に支持
し、かつ一方の可動体と他方の可動体とを他の静圧気体
軸受を介して連動可能に係合したことを特徴とする。
【0015】また、請求項2に係る発明は、X方向の可
動体とY方向の可動体とを備えた2軸移動装置におい
て、一方の可動体を転がり案内軸受を介して基台上に支
持するとともに他方の可動体は静圧気体軸受を介して基
台上に支持し、かつ一方の可動体と他方の可動体とを他
の静圧気体軸受を介して連動可能に係合して、前記X方
向の可動体と前記Y方向の可動体との対向する面の間に
上下方向の磁気吸引部を設けたことを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1〜図4は本発明の一実施の形
態を示すもので、図1は本発明の2軸移動装置の平面
図、図2はそのII矢視で示す側面図、図3は図1のIII
矢視で示す側面図 、図4は図1のIV−IV線断面図であ
る。図に例示したものは、XY平面上で自在にステップ
&スキャン運動を繰り返すことができるタイプで、X軸
がステップ位置決め、Y軸が等速スキャンする。半導体
製造工程などで好適に用いることができるものである
が、本発明をこのタイプに限定するものではない。
【0017】基台10の上に、転がり案内軸受である直
動案内軸受(リニアガイド)LGのガイドレール11を
2本、Y方向に間隔をおいて平行に並べてX方向に長く
固定して取り付けている。その各ガイドレール11上に
は、それぞれ2個ずつのスライダ12を装着してある。
その2本のガイドレール11を跨ぐようにして、各スラ
イダ12の上面に、一方の可動体としてX方向の可動体
13が載置固定されている。このX方向可動体13は、
断面が凹形状で、幅方向の両サイド部に立ち上げ面13
aを形成している。また、その溝底をなす上面13bの
センターラインに沿ってリニアモータLMの固定子14
が長手方向に配設されている。なお、リニアモータLM
の移動子15の方は、後述のY方向可動体の裏面に固定
して取り付ける。
【0018】基台10の上面には、また前記2本のガイ
ドレール11,11と平行に、その中間の任意の位置に
1個のボールねじBSを、ベアリング17を介して配設
してある。そのボールねじBSのねじ軸18の一端は、
基台10の上に固定して配設した回転駆動モータM(例
えばDCサーボモータ,ACサーボモータあるいはステ
ップモータなど)の出力軸に連結してある。そして、ボ
ールねじBSのナット19が、図4に示すように、X方
向の可動体13の下面に取り付けてある。かくして、X
方向の可動体13は、基台10に固定したリニアガイド
LGで支持,案内されつつ回転駆動モータMとボールね
じBSとによりX方向に円滑に直線移動可能である。
【0019】他方の可動体であるY方向の可動体20
は、ほぼ正方形のテーブル板である。その下面の四隅に
それぞれ支柱21を下方に向けて立設すると共に、各支
柱21の下端部に上下方向の支持機能を有する静圧気体
軸受(エアパッド)22を基台10の面に対向して設け
ている。この上下方向静圧気体軸受22により、Y方向
の可動体20は基台10の面上を非接触で移動自在であ
る。Y方向の可動体20の下面には、更に、水平方向の
支持機能を有する静圧気体軸受(エアパッド)23を、
X方向の可動体13の両サイド部の立ち上げ面13aに
僅かのすき間を介して対向するように2枚平行に配設し
ている。この水平方向静圧気体軸受23により、X方向
の可動体13のX方向の直線移動がY方向可動体20に
非接触で伝達可能である。
【0020】また、先に述べたように、X方向可動体1
3に設けたリニアモータLMの移動子15をY方向可動
体20の下面に取り付けてあるから、Y方向可動体20
は当該移動子15の運動に伴いY方向に移動可能であ
る。その場合、前記水平方向静圧気体軸受23がX方向
可動体13の立ち上げ面13aを案内面として可動体2
0と共にY方向に移動して、Y方向可動体20の移動を
非接触で抵抗なく滑らかに案内する。
【0021】Y方向の可動体20の位置検出のため、そ
の上面にL型ミラー25を設置すると共に、これに対向
させて2方向のレーザ測長器26x,26yを外部に配
設してある。
【0022】次に、作用を述べる。この2軸移動装置
は、回転駆動モータMの作動をボールねじBSの作動を
介してX方向の可動体13に伝達することにより、X方
向の可動体13をX方向に移動させる。すると、水平方
向の支持機能を有する静圧気体軸受(エアパッド)23
を介して係合しているY方向の可動体20も、X方向の
可動体13の移動に連動してX方向に移動する。その移
動位置(距離)がL型ミラー25の一辺に対向配置され
たレーザ測長器26xにより測定され、位置情報として
図外の制御装置にフィードバックされる。制御装置は予
め入力してある設定位置と比較して回転駆動モータMの
作動を制御する。これによりX方向可動体13ひいては
Y方向可動体20のX方向のステップ位置決めを正確に
行うことができる。一方、X方向可動体13に搭載した
リニアモータLMの固定子14のコイルに通電すること
により、Y方向可動体20がY方向に等速移動する。そ
の移動位置(距離)がL型ミラー25の他辺に対向配置
されたレーザ測長器26yにより測定され、位置情報と
して図外の制御装置にフィードバックされる。制御装置
は予め入力してある設定位置と比較してリニアモータL
Mの作動を制御する。これによりY方向可動体20のY
方向の位置決めを正確に行うことができる。
【0023】上記の作動において、X軸を構成するX方
向可動体13を支承するリニアガイドLGの転がり振動
や、駆動用ボールねじBSの振れ回りなどが避けられ
ず、これらは真直度に悪影響を及ぼす成分である。しか
し本発明にあっては、X方向可動体13とY方向可動体
20とが非接触の水平方向静圧気体軸受23により隔離
されており、それらの悪影響がY方向可動体20に及ぶ
ことはない。
【0024】また、Y方向可動体20で構成されるXY
テーブル上に重量物を搭載して移動させた場合も、Y方
向可動体20の荷重は全て上下方向静圧気体軸受22を
介して基台10に直接支承されており、XYテーブルの
自在な二次元運動が軸への偏荷重を生じることはなく、
真直度が悪化しにくい。換言すれば、本2軸移動装置は
真直度,軸受剛性,運動再現性などの諸元が非常に良好
である。さらに、Y方向可動体20の四隅に静圧気体軸
受22を配置したので、最も安定良くY方向可動体20
を支持できる。
【0025】しかも、高価な空気軸受の使用をY軸のみ
としてX軸には安価なリニアガイドを使用したため低コ
スト化できる。なお、本発明の装置に用いる静圧気体軸
受としては、自成絞り形,オリフィス絞り形,表面絞り
形,スロット絞り形,多孔質絞り形等の公知の静圧式軸
受を任意に選定することができる。
【0026】また、リニアモータについても特に限定は
されず、ACリニア誘導モータ,ACリニア同期モー
タ,リニアパルスモータ,DCリニアモータ,DCブラ
シレスリニアモータ,ボイスコイルモータ,コア無し又
はコア付モータ,複合形のリニアハイブリッドモータ等
を任意に選定することができる。
【0027】また、上記実施形態では、X方向可動体1
3の駆動源として回転駆動モータとボールねじとを組み
合わせて使用するものを示したが、リニアモータを用い
ることもできる。
【0028】また、位置検出にレーザ測長器を用いL形
ミラーと組み合わせた例を述べたが、リニアエンコーダ
のような他の測定器でもかまわない。また、図2のX−
Y面は、水平面でも傾斜面でも良い。
【0029】また、上記実施形態では、ボールねじBS
を2本のガイドレール11,11の中間の任意の位置に
配設するものとしたが、特に両ガイドレールの中央位置
に配置すれば、可動体13,20のヨーイングを防止で
きる。
【0030】続いて、図4に対応する断面図である図5
を参照して本発明の他の実施の形態を説明する。なお、
上記第1の実施の形態と同一乃至相当部分には同一の符
号を付して、重複する説明を省略する。
【0031】図5に示すように、この実施の形態では、
X方向の可動体13とY方向の可動体20との対向する
面の間に上下方向の磁気吸引部30を設けている点が、
上記第1の実施の形態とは異なっている。図示のもの
は、当該磁気吸引部30を構成する永久磁石31をY方
向の可動体20の下面に配設し、磁性体よりなる吸引材
32を磁気ギャップを隔ててX方向の可動体13の上面
に配設しているが、この配置は逆にしてもよい。
【0032】この磁気吸引部30に作用する磁気吸引力
により、Y方向の可動体20を基台10上に浮上支持す
る上下方向静圧気体軸受22に対し下方向に予圧が負荷
される。そして、Y方向の可動体20は、第1の実施の
形態の場合に比べて上下方向に強く拘束される。その結
果、荷重を直接に受けるY方向の可動体20の上下方向
の剛性は一層高くなり、より安定する。
【0033】しかも、X方向の可動体13の方は転がり
案内軸受であるリニアガイドLGにより基台10上に支
持されているから、第2の従来例のようにXステージ,
Yステージとも静圧軸受により基台上に浮上支持された
ものより高い真直度,剛性,運動再現性を備えた2軸移
動装置を実現させることができる。且つ、鉄製の基台に
代えてセラミックスや石などを用いた基台10が使用可
能であり、静圧軸受と基台との焼付きが防止でき、また
基台の経年変化や打痕等の塑性変形が起こりにくくて、
軸受の運動精度が安定する。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る2
軸移動装置によれば、一方の軸の支持を安価な転がり案
内軸受で行い、他方の軸は静圧気体軸受で支持して荷重
を基台で受けるため、XY運動中に偏荷重となることが
なく、低コストで高真直度,高軸受剛性であり良好な運
動再現性が得られる。
【0035】また、請求項2に係る2軸移動装置によれ
ば、転がり案内軸受で基台上に支持した前記一方の軸
と、静圧気体軸受で支持して荷重を基台で受ける前記他
方の軸との間に磁気吸部を設けてその磁気吸引力の作用
で静圧気体軸受に予圧を負荷したため、前記他方の軸の
耐荷重剛性を向上できて、その結果、上記請求項1の場
合より高い真直度,剛性,運動再現性が得られると同時
に、加えて、セラミックスや石などの基台の採用によ
り、静圧軸受の焼付き防止、更に基台の経年変化や塑性
変形による軸受の運動精度の低下も防止できるという効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の平面図である。
【図2】図1のII矢視図である。
【図3】図1のIII 矢視図である。
【図4】図1のIV−IV線断面図である。
【図5】本発明の他の実施形態の、図4に相当する断面
図である。
【図6】従来例の2軸移動装置の斜視図である。
【図7】他の従来例の2軸移動装置で、(a)は側面
図、(b)は下面図、(c)はA−A断面図である。
【符号の説明】
10 基台 13 X方向の可動体 20 Y方向の可動体 22 上下方向静圧気体軸受 23 水平方向静圧気体軸受 LG 転がり案内軸受(リニアガイド) 30 磁気吸引部 31 磁石 32 吸引材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X方向の可動体とY方向の可動体とを備
    えた2軸移動装置において、一方の可動体を転がり案内
    軸受を介して基台上に支持するとともに、他方の可動体
    は静圧気体軸受を介して基台上に支持し、かつ一方の可
    動体と他方の可動体とを他の静圧気体軸受を介して連動
    可能に係合したことを特徴とする2軸移動装置。
  2. 【請求項2】 X方向の可動体とY方向の可動体とを備
    えた2軸移動装置において、一方の可動体を転がり案内
    軸受を介して基台上に支持するとともに他方の可動体は
    静圧気体軸受を介して基台上に支持し、かつ一方の可動
    体と他方の可動体とを他の静圧気体軸受を介して連動可
    能に係合して、前記X方向の可動体と前記Y方向の可動
    体との対向する面の間に上下方向の磁気吸引部を設けた
    ことを特徴とする2軸移動装置。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007232647A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2007232648A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
CN101840879A (zh) * 2009-03-18 2010-09-22 住友重机械工业株式会社 Xy工作台装置、半导体检查装置及半导体曝光装置
CN103617812A (zh) * 2013-11-20 2014-03-05 贵州航天南海科技有限责任公司 一种平移器
CN103934749A (zh) * 2014-04-25 2014-07-23 厦门安达兴精密机械有限公司 磨床直线滚动导轨安装校正方法及装置
JP2019214087A (ja) * 2018-06-12 2019-12-19 東芝機械株式会社 工作機械のガイド機構および工作機械
CN111958220A (zh) * 2020-07-31 2020-11-20 伯肯森自动化技术(上海)有限公司 一种用于机顶盒锁付位置精密定位的螺丝锁付装置
JPWO2020044685A1 (ja) * 2018-08-30 2021-09-09 住友重機械工業株式会社 ステージ装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007232647A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2007232648A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
US8517363B2 (en) 2009-03-18 2013-08-27 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. XY stage device, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor exposure apparatus
JP2010219390A (ja) * 2009-03-18 2010-09-30 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置
KR101176781B1 (ko) 2009-03-18 2012-08-24 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 Xy 스테이지장치, 반도체 검사장치, 및 반도체 노광장치
CN101840879A (zh) * 2009-03-18 2010-09-22 住友重机械工业株式会社 Xy工作台装置、半导体检查装置及半导体曝光装置
TWI412099B (zh) * 2009-03-18 2013-10-11 Sumitomo Heavy Industries XY stage apparatus, the semiconductor inspection apparatus and semiconductor device exposure
CN103617812A (zh) * 2013-11-20 2014-03-05 贵州航天南海科技有限责任公司 一种平移器
CN103934749A (zh) * 2014-04-25 2014-07-23 厦门安达兴精密机械有限公司 磨床直线滚动导轨安装校正方法及装置
JP2019214087A (ja) * 2018-06-12 2019-12-19 東芝機械株式会社 工作機械のガイド機構および工作機械
JPWO2020044685A1 (ja) * 2018-08-30 2021-09-09 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
CN111958220A (zh) * 2020-07-31 2020-11-20 伯肯森自动化技术(上海)有限公司 一种用于机顶盒锁付位置精密定位的螺丝锁付装置

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