JPH11334230A - 熱転写シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高エネルギー印字部でもカブリがなく、か
つ、高感度な転写画像を与える熱転写シートを提供す
る。 【解決手段】 支持体上に、光熱変換物質とポリイミド
樹脂を含む光熱変換層、及び顔料と軟化点が４０〜１５
０℃の温度範囲にある非晶質有機高分子重合体をそれぞ
れ３０〜７０重量％含み、厚さが０．２〜１．５ミクロ
ンの範囲にある画像形成層を順次設けた熱転写シートで
あって、光熱変換物質が下記一般式（Ｉ）で表されるイ
ンドレニン系化合物を含有することを特徴とする。式
中、Ｚは、ベンゼン環等を形成するための原子団を表
し、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立にアルキル基、アルケ
ニル基又はアリール基を表し、また、これらの少なくと
も一つの基がＬと連結して環を形成してもよい。Ｌは、
３価の連結基を表し、Ｘ¹は、陰イオンを表す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
高解像度の画像を形成する画像形成方法に利用される熱
転写シートに関するものである。特に、本発明はディジ
タル画像信号からレーザ記録により、印刷分野における
カラープルーフ（ＤＤＣＰ：ダイレクト・ディジタル・
カラープルーフ）、あるいはマスク画像を作製するのに
有用な画像形成方法に利用できる熱転写シートに関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】グラフィックアート分野ではカラー原稿
からリスフィルムを用いて作製された一組の色分解フィ
ルムを使用して印刷版の焼付けが行なわれるが、一般
に、本印刷（実際の印刷作業）の前に色分解工程での誤
りや色補正の必要性等をチェックするために、色分解フ
ィルムからカラープルーフを作製している。カラープル
ーフには中間調画像の高再現性を可能とする高解像力の
実現や、高い工程安定性等の性能が望まれている。ま
た、実際の印刷物に近似したカラープルーフを得るため
に、カラープルーフに使用される材料としては、実際の
印刷物に使用される材料、例えば基材としては印刷本紙
を、色材としては顔料を用いることが好ましい。また、
カラープルーフの作製方法としては現像液を用いない乾
式の方法の要望が高い。

【０００３】乾式のカラープルーフ作製法として、最近
の印刷前工程（プリプレス分野）における電子化システ
ムの普及に伴い、ディジタル信号から直接カラープルー
フを作製する記録システムが開発されている。このよう
な電子化システムでは、特に高画質のカラープルーフを
作製する必要があり、一般的には１５０線／インチ以上
の網点画像を再現する必要がある。そして、ディジタル
信号から高画質のプルーフを記録するためには、ディジ
タル信号により変調可能で、かつ記録光を細く絞り込む
ことが可能なレーザ光を記録ヘッドとして用いる必要が
ある。このため、レーザ光に対して高い記録感度を示
し、かつ、高精細な網点を再現可能にする高解像力を示
す記録材料の開発が必要となる。

【０００４】レーザ光を利用した転写画像形成方法に用
いられる記録材料としては、支持体上に、レーザ光を吸
収して熱を発生する光熱変換層、及び顔料が熱溶融性の
ワックス、バインダー等の成分中に分散された画像形成
層をこの順に有する熱溶融転写シート（特開平５−５８
０４５号公報）が知られている。これらの記録材料を用
いる画像形成方法では、光熱変換層のレーザ光照射領域
で発生した熱によりその領域に対応する画像形成層が溶
融し、転写シート上に積層配置された受像シート上に転
写され、受像シート上に転写画像が形成される。

【０００５】また、特開平６−２１９０５２号公報に
は、支持体上に、光熱変換物質を含む光熱変換層、非常
に薄層（０．０３〜０．３μｍ）の熱剥離層、色材を含
む画像形成層がこの順に設けられ、該熱剥離層の介在に
より結合されている該画像形成層と光熱変換層との間の
結合力が、レーザ光の照射により小さくなる熱転写シー
トを用いて、その熱転写シート上に積層配置した受像シ
ート上に高精細画像を形成する画像形成方法が記載され
ている。この画像形成方法は所謂「アブレーション」を
利用しており、具体的には、レーザ光の照射を受けた領
域で熱剥離層が一部分解し、気化するため、その領域で
の画像形成層と光熱変換層との間の接合力が弱まり、そ
の領域の画像形成層が上に積層した受像シートに転写さ
れる現象を利用している。

【０００６】これらの画像形成方法は受像シート材料と
して受像層（接着層）を付設した印刷本紙を用いること
ができること、色の異なる画像を次々と受像シート上に
転写することによって多色画像が容易に得られること等
の利点を有し、特にアブレーションを利用する画像形成
方法は高精細な画像が容易に得られるという利点を有
し、カラープルーフ（ＤＤＣＰ：ダイレクト・ディジタ
ル・カラープルーフ）、あるいは高精細なマスク画像を
作製するのに有用である。

【０００７】これらの画像形成方法に用いられる熱転写
シートの各層は、重層塗布法を利用して形成されるた
め、各層の製膜が容易であることが望まれる。光熱変換
物質（通常レーザ光を吸収することができる色素）とバ
インダーとからなる光熱変換層用のバインダーには光熱
変換物質を分散させやすいこと、優れた耐熱性を有して
いること等が要求される。従来、光熱変換層のバインダ
ーとしては、例えば、前記特開平５−５８０４５号公報
や特開平６−２１９０５２号公報に記載されているよう
に、アクリル酸等のアクリル系モノマーの単独重合体又
は共重合体、セルロースアセテート等のセルロース系ポ
リマー、ポリスチレン、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等の
ビニル系ポリマー、ポリエステル、ポリアミド等の縮合
系ポリマー、ブタジエン／スチレン共重合体のようなゴ
ム系の熱可塑性ポリマー、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、尿素／メラミン樹脂等が挙げられている。これらの
内、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポ
リエステル等のポリマーが通常好ましく使用される。

【０００８】しかしながら、本発明者の検討によると、
ポリビニルアルコール等の水溶性のポリマーを用いた光
熱変換層は一般に耐湿性が劣り、高温高湿下で長期間保
存した場合には色素の凝集が起こる場合があった。また
上記のような現象が比較的起こりにくいポリビニルブチ
ラール、ポリエステル樹脂等を用いた光熱変換層では、
光熱変換層の表面に塗布される感熱剥離層塗布液、ある
いは画像形成層塗布液に含まれる溶剤により光熱変換層
が浸され、光熱変換層に含まれる光熱変換物質がこれら
の層に移行し、その結果、光熱変換層の性能（例えば、
感度）が低下したり、カブリが発生する場合があった。
またこれらのポリマーは耐熱性も十分ではなく、従って
レーザ記録時には、熱分解や熱融着を起こしやすく、こ
れにより光熱変換層の一部が画像形成層と共に転写さ
れ、良好な画像が得られなかったり、転写操作が阻害さ
れる場合もあった。そこで、これらの弊害を防止するた
めに、ポリイミド樹脂等の耐熱性のポリマーを用いるこ
とも考えられるが、従来知られている光熱変換物質とこ
れらのポリマーを含有した光熱変換層を用いた場合、カ
ブリ防止効果はみられるものの、より改良が望まれてい
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高エ
ネルギー印字部でもカブリがなく、かつ、高感度な転写
画像を与える熱転写シートを提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、光熱変換層
に適した光熱変換物質を求めて研究を進めた。それによ
ると、ポリイミド樹脂と高い光熱変換能を有する光熱変
換物質とを組み合わせた光熱変換層は、前述のような光
熱変換物質の移行による光熱変換層の性能低下やカブリ
の発生がなく、かつ、高感度な転写画像を形成できるこ
とを見出した。

【００１１】即ち、本発明は、 ＜１＞ 支持体上に、光熱変換物質とポリイミド樹脂を
含む光熱変換層、及び顔料と軟化点が４０〜１５０℃の
温度範囲にある非晶質有機高分子重合体をそれぞれ３０
〜７０重量％含み、厚さが０．２〜１．５ミクロンの範
囲にある画像形成層をこの順に設けた熱転写シートにお
いて、光熱変換物質が下記一般式（Ｉ）で表されるイン
ドレニン系化合物であることを特徴とする熱転写シート
である。

【００１２】

【化３】

【００１３】（式中、Ｚは、ベンゼン環、ナフタレン環
又は複素芳香族環を形成するための原子団を表し、Ｒ¹
及びＲ² は、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基
又はアリール基を表し、また、これらの少なくとも一つ
の基がＬと連結して環を形成してもよい。Ｌは、３価の
連結基を表し、Ｘ^- は、陰イオンを表す。） ＜２＞ 前記一般式(I) 中の３価の連結基であるＬが、
下記一般式（Ｌ−１）又は（Ｌ−２）で表されるインド
レニン系化合物である前記＜１＞に記載の熱転写シート
である。

【００１４】

【化４】

【００１５】（式中、Ｙは、水素原子又は１価の基を表
す。） ＜３＞ 前記光熱変換層と前記画像形成層との間に感熱
剥離層を設けた前記＜１＞又は＜２＞に記載の熱転写シ
ートである。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の熱転写シートを構
成する材料について説明する。本発明の熱転写シート
は、支持体上に、光熱変換層及び画像形成層を有し、更
に必要に応じて、感熱剥離層等のその他の層を有してな
る。 ［支持体］熱転写シートの支持体の材料には特に限定は
なく、各種の支持体材料を目的に応じて用いることがで
きる。支持体材料の好ましい例としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体等の合成樹脂材料を挙げること
ができる。中でも、二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トが、機械的強度や熱に対する寸法安定性を考慮すると
好ましい。なお、本発明の熱転写シートをレーザ記録を
利用したカラープルーフの作製に用いる場合には、熱転
写シートの支持体はレーザ光を透過させる透明な合成樹
脂材料から形成することが好ましい。

【００１７】熱転写シートの支持体には、その上に設け
られる光熱変換層との密着性を向上させるために、表面
活性化処理及び／又は一層又は二層以上の下塗層の付設
を行なうことが好ましい。表面活性化処理の例として
は、グロー放電処理、コロナ放電処理等を挙げることが
できる。下塗層の材料としては、支持体と光熱変換層の
両表面に高い接着性を示し、かつ熱伝導性が小さく、ま
た耐熱性に優れたものであることが好ましい。そのよう
な下塗層の材料の例としては、スチレン、スチレン−ブ
タジエン共重合体、ゼラチン等を挙げることができる。
下塗層全体の厚さは通常０．０１〜２μｍである。ま
た、熱転写シートの光熱変換層付設側とは反対側の表面
には、必要に応じて、反射防止層等の各種の機能層の付
設、あるいは表面処理を行なうこともできる。

【００１８】［光熱変換層］前記光熱変換層は、光熱変
換物質及びポリイミド樹脂を含有し、更に必要に応じ
て、その他の成分を含有してなる。 （光熱変換物質）前記光熱変換層に含有される光熱変換
物質について説明する。本発明に用いられる光熱変換物
質は、高い光熱変換能を有することを特徴としている。
このような光熱変換物質とは、具体的には、下記一般式
(I) で表されるインドレニン系化合物である。

【００１９】

【化５】

【００２０】前記式中、Ｚによって完成される環の例と
しては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノ
リン環、ピラジン環、キノキサリン環等を挙げることが
できる。また、Ｚ上には、さらに他の置換基Ｒ³ を結合
させてもよい。このような置換基Ｒ³ としては、例え
ば、アルキル基、アリール基、複素環残基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカル
ボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリーロキシ
カルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール
カルボニルオキシ基、アルキルアミド基、アリールアミ
ド基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボン酸
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、
アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル
基、シアノ基、ニトロ基等の種々の置換基を挙げること
ができる。そして、Ｚ上に結合される上記置換基の数
（ｐ）は、通常、０又は１〜４程度が好ましい。尚、ｐ
が２以上であるとき、複数のＲ³ は互いに同じものであ
っても異なるものであってもよい。

【００２１】Ｒ³ で表される置換基の中でも、ハロゲン
原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ等）、シアノ基、置換若しくは
非置換の炭素原子数１〜２０のアルコキシ基（例えば、
メトキシ基、エトキシ基、ドデシルオキシ基、メトキシ
エトキシ基等）、炭素原子数６〜２０の置換若しくは非
置換のフェノキシ基（例えば、フェノキシ基、３，５−
ジクロロフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェ
ノキシ基等）、置換若しくは非置換の炭素原子数１〜２
０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソブ
チル基、ｔ−ペンチル基、オクタデシル基、シクロヘキ
シル基等）、炭素原子数６〜２０の置換若しくは非置換
のフェニル基（例えば、フェニル基、４−メチルフェニ
ル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、３，５−ジ
クロロフェニル基等）等が好ましい。

【００２２】Ｒ¹ 及びＲ² は、炭素原子数１〜２０のア
ルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、これら
は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ¹ 及びＲ
² は、それぞれ更に置換基を有していてもよい。これら
の基中の置換基の中でも、シー ハンシュ（C.Hansch）
等によって提唱されている疎水性パラメーターであるπ
が−１．０〜１５の範囲である置換基が好ましい。な
お、疎水性パラメーターπは下記の文献に従って算出す
ることができる。 （１）シーハンシュ、ジャーナル オブ メディカル
ケミストリー（C.Hansch、J.Med.Chem. ）、第１６巻、
１２０７頁（１９７３年）、（２）シー ハンシュ（C.
Hansch）、同誌、第２０巻、３０４頁（１９７７年）Ｒ
¹ 及びＲ² は、置換若しくは非置換のフェニル基、置換
若しくは非置換の炭素原子数１〜８の低級アルキル基、
又は、置換若しくは非置換の炭素原子数２〜８の低級ア
ルケニル基が好ましく、これらの置換基は、上記疎水性
パラメーターπが−１．０〜１５の範囲であることが好
ましい。

【００２３】Ｒ¹ 及びＲ² が有する置換基としては、ハ
ロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩ等）、置換若しくは
非置換のフェニル基（例えば、フェニル基、ｍ−クロロ
フェニル基及びｐ−メチルフェニル基等）、アルキルチ
オ基（例えば、メチルチオ基及びブチルチオ基等）、置
換若しくは非置換のフェニルチオ基（例えば、フェニル
チオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基及びｍ−メチルフェ
ニルチオ基等）、アルコキシ基（例えば、エトキシ基及
びブトキシ基等）等が好ましい。Ｒ¹ 及びＲ²は、特に
炭素原子数２〜８の非置換のアルキル基又は炭素原子数
２〜８の非置換のアルケニル基が好ましい。

【００２４】Ｌは、３価の連結基を表し、３価の置換若
しくは非置換のメチン基、又は３、５若しくは７個の置
換若しくは非置換のメチン基が共役二重結合により連結
されて生じる共役系の連結基であることが好ましいが、
下記（Ｌ−１）〜（Ｌ−９）で表される基が好ましい。

【００２５】

【化６】

【００２６】式（Ｌ−１）〜（Ｌ−９）中のＹは、水素
原子又は１価の基を表す。このような１価の基として
は、メチル基等の低級アルキル基、置換若しくは非置換
のフェニル基及びベンジル基等のアラルキル基、メトキ
シ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェ
ニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モルホリノ
基、イミダゾリジノ基及びエトキシカルボニルピペラジ
ノ基等のジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアルキルカ
ルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基、
シアノ基、ニトロ基及びＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン原
子等が好ましい。一般式（Ｉ）中のＬで表される連結基
の中でも、（Ｌ−１）及び（Ｌ−２）で表される基が最
も好ましい。

【００２７】一般式（Ｉ）中のＸ^- は、陽イオン部分の
電荷を中和するのに必要な数の陰電荷を供給するもので
あって、１価若しくは２価の陰イオンを表す。上記Ｘ^-
としては、Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等のハロゲンイオン、
ＳＯ^{2 -} 、ＨＳＯ^- 、ＣＨ₃ ＯＳＯ₃ ^- 等のアルキル硫
酸イオン、パラトルエンスルホン酸イオン、ナフタレン
−１，５−ジスホン酸イオン、メタンスルホン酸イオ
ン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、オクタンス
ルホン酸イオン、ｐ−クロロ安息香酸イオン、トリフル
オロ酢酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン等の
カルボン酸イオン、ＰＦ₆ ^- 、ＢＦ₄ ^- 、ＣｌＯ₄ ^- 、
ＩＯ₄ ^- 、タングステン酸イオン、タングストリン酸イ
オン等のヘテロポリ酸イオン、Ｈ₂ ＰＯ₄ ^- 、Ｎ
Ｏ ₃ ^- 、ピクリン酸イオン等のフェノラートイオン等が
好ましい。これらの中でもＣｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等のハ
ロゲンイオン、ＣＨ₃ ＯＳＯ₃ ^-、Ｃ₂ Ｈ₅ ＯＳ
Ｏ₃ ^- 、パラトルエンスルホン酸イオン、トリフルオロ
メタンスルホン酸イオン、Ｐ−クロロベンゼンスルホン
酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ブタンスルホン酸
イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ト
リフルオロメタンスルホン酸イオン等のパーフルオロス
ルホン酸イオン、ＰＦ^- 、ＢＦ^- 、ＣｌＯ^- 等がより好
ましく、これら中でも、トリフルオロメタンスルホン酸
イオン、ＰＦ₆ ^- 、ＣｌＯ₄ ^- 等が特に好ましい。

【００２８】一般式(I) で表されるインドレニン系化合
物の具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【００２９】

【化７】

【００３０】

【化８】

【００３１】

【化９】

【００３２】前記一般式（Ｉ）で表される架橋インドレ
ニン系化合物は、通常、カルボシアニン色素を合成する
場合と同様にして、容易に合成することができる。即
ち、ヘテロ環エナミンを、ＣＨ₃ Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ（ＯＣＨ₃ ）₂ 等のアセタール類或いはＰ
ｈＮ−ＣＨ−（ＣＨ−ＣＨ）−ＮＨＰｈで表される化合
物等と反応させることによって容易に合成することがで
きる。ここでＰｈはフェニル基を表す。また、これらの
化合物の合成方法については、例えば、特開平５−１１
６４５０号公報の記載等を参照することができる。

【００３３】本発明においては、前記一般式(I) で表さ
れるインドレニン系化合物が、光熱変換物質の主成分と
して含有されるが、本発明における効果を損ねない範囲
で、更に従来公知の光熱変換物質を含有してもよい。従
来公知の光熱変換物質とは、一般的にはレーザ光を吸収
することのできる色素（顔料等）であり、このような色
素（顔料等）の例としては、カーボンブラックのような
黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニンのような
可視から近赤外域に吸収を有する大環状化合物の顔料、
光ディスク等の高密度レーザ記録のレーザ吸収材料とし
て使用される有機染料（本発明に係るインドレニン染料
以外のシアニン染料、アントラキノン系染料、アズレン
系色素、フタロシアニン系染料）、及びジチオールニッ
ケル錯体等の有機金属化合物色素が挙げられる。

【００３４】（ポリイミド樹脂）光熱変換層に用いられ
るポリイミド樹脂は、溶媒に可溶性のポリイミド樹脂が
好ましく、例えば、以下のものが挙げられる。

【００３５】

【化１０】

【００３６】式(II)及び(III) 中、Ａｒ¹ は、式（１）
〜（３）で表される芳香族基を示し、ｎは、１０〜１０
０の整数を示す。

【００３７】

【化１１】

【００３８】

【化１２】

【００３９】式(IV)及び(V) 中、Ａｒ² は、式（４）〜
（７）で表される芳香族基を示し、ｎは、１０〜１００
の整数を示す。

【００４０】

【化１３】

【００４１】本発明において、溶媒に可溶性であること
を判断する目安としては、２５℃において、ポリイミド
樹脂が、Ｎ−メチルピロリドン１００重量部に対して、
１０重量部以上溶けることを基準としており、本発明に
好ましく用いられる。ポリイミド樹脂が、Ｎ−メチルピ
ロリドン１００重量部に対して、１００重量部以上溶け
ることがより好ましい。本発明においては、上記の溶媒
に可溶性のポリイミド樹脂が好ましく用いられるが、従
来公知の他のポリイミド樹脂を用いることもできる。ま
た、ポリイミド樹脂のガラス転移温度は２００℃以上４
００℃以下であることが好ましい。更に、ＴＤＡ法で測
定されるポリイミド樹脂の５％重量減少温度は４５０℃
以上であることが好ましい。

【００４２】（光熱変換層の形成）光熱変換層は、光熱
変換物質とポリイミド樹脂とを溶解した塗布液を調製
し、これを前記支持体上に塗布し、乾燥することにより
設けることができる。ポリイミド樹脂を溶解するための
有機溶媒としては、例えば、１，４−ジオキサン、１，
３−ジオキソラン、ジメチルアセテート、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン、ジメチルスルホオキサイド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。塗布、乾燥は、通常の塗布、乾燥
方法を利用して行うことができる。

【００４３】以上のように形成される光熱変換層は、光
熱変換物質（色素）とポリイミド樹脂の固形分重量比が
１：２０〜２：１（光熱変換物質：ポリイミド樹脂）の
範囲にあることが好ましく、特に１：１０〜２：１の範
囲にあることが好ましい。ポリイミド樹脂の量が少なす
ぎると、光熱変換層の凝集力が低下し、形成画像が受像
シートに転写される際に、光熱変換層が一緒に転写され
やすくなり、画像の混色の原因となる。またポリイミド
樹脂が多すぎると、一定の光吸収率を達成するために光
熱変換層の層厚が大きくなって、感度低下を招きやす
い。光熱変換層の層厚は、０．０３〜０．８μｍである
ことが好ましく、０．０５〜０．３μｍであることがよ
り好ましい。また光熱変換層は、７００〜２０００ｎｍ
の波長域に０．１〜１．３の範囲（更に好ましくは、
０．２〜１．１の範囲）の吸光度（光学密度）の極大を
有することが好ましい。

【００４４】光熱変換層に含有されるポリイミド樹脂
は、耐熱性（例えば、熱変形温度や熱分解温度）に優れ
ているため、バインダーに要求される条件（光熱変換層
の上に設けられる層に使用される材料の耐熱性よりも高
いこと）を達成することができる。また、本発明では、
バインダーとしてポリイミド樹脂を用いるため、樹脂の
特性に起因する塗布液の粘度安定性、長期保存性、耐湿
性が向上するという利点もある。

【００４５】［感熱剥離層］本発明の熱転写シートの光
熱変換層の上には、光熱変換層で発生した熱の作用によ
り気体を発生するか、付着水等を放出し、これにより光
熱変換層と画像形成層との間の接合強度を弱める感熱材
料を含む感熱剥離層を設けることができる。そのような
感熱材料としては、それ自身が熱により分解若しくは変
質して気体を発生する化合物（ポリマーまたは低分子化
合物）、水分等の易気化性気体を相当量吸収若しくは吸
着している化合物（ポリマーまたは低分子化合物）等を
用いることができる。これらは併用してもよい。

【００４６】熱により分解若しくは変質して気体を発生
するポリマーの例としては、ニトロセルロースのような
自己酸化性ポリマー、塩素化ポリオレフィン、塩素化ゴ
ム、ポリ塩化ゴム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ンのようなハロゲン含有ポリマー、水分等の揮発性化合
物が吸着されているポリイソブチルメタクリレート等の
アクリル系ポリマー、水分等の揮発性化合物が吸着され
ているエチルセルロース等のセルロースエステル、水分
等の揮発性化合物が吸着されているゼラチン等の天然高
分子化合物等を挙げることができる。熱により分解若し
くは変質して気体を発生する低分子化合物の例として
は、ジアゾ化合物やアジド化のような発熱分解して気体
を発生する化合物を挙げることができる。なお、上記の
ような、熱による感熱材料の分解や変質等は２８０℃以
下で発生することが好ましく、特に２３０℃以下で発生
することが好ましい。

【００４７】感熱剥離層の感熱材料として低分子化合物
を用いる場合には、バインダーと組合せることが望まし
い。バインダーとしては、上記のそれ自身が熱により分
解若しくは変質して気体を発生するポリマーを用いるこ
ともできるが、そのような性質を持たない通常のポリマ
ーバインダーを使用することもできる。感熱性の低分子
化合物とバインダーとを併用する場合には、前者と後者
の重量比は０．０２：１〜３：１であることが好まし
く、０．０５：１〜２：１であることがさらに好まし
い。感熱剥離層は、光熱変換層を、そのほぼ全面にわた
って被覆していることが望ましく、その厚さは一般に
０．０３〜１μｍであり、０．０５〜０．５μｍの範囲
にあることが好ましい。

【００４８】支持体の上に、光熱変換層、感熱剥離層、
画像形成層がこの順に積層された構成の熱転写シートの
場合には、感熱剥離層は、光熱変換層から伝えられる熱
により分解、変質し、気体を発生する。そして、この分
解あるいは気体発生により、感熱剥離層が一部消失する
か、あるいは感熱剥離層内で凝集破壊が発生し、光熱変
換層と画像形成層との間の結合力が低下する。このた
め、感熱剥離層の挙動によっては、その一部が画像形成
層に付着して、最終的に形成される画像の表面に現わ
れ、画像の混色の原因となることがある。従って、その
ような感熱剥離層の転写が発生しても、形成された画像
に目視的な混色が現われないように、感熱剥離層はほと
んど着色していないこと、即ち、可視光に対して高い透
過性を示すことが望ましい。具体的には、感熱剥離層の
光吸収率が、可視光に対し、５０％以下、好ましくは１
０％以下である。なお、本発明の熱転写シートには、独
立した感熱剥離層を設ける代わりに、前記の感熱材料を
光熱変換層塗布液に添加して光熱変換層を形成し、光熱
変換層と感熱剥離層とを兼ねるような構成とすることも
できる。

【００４９】［画像形成層］本発明の熱転写シートで
は、光熱変換層、又は所望によりその上に設けられた感
熱剥離層の上に画像形成層が設けられる。画像形成層
は、顔料及び非晶質有機高分子重合体を含有し、更に必
要に応じて、その他の成分を含有してなる。

【００５０】（顔料）顔料は一般に有機顔料と無機顔料
とに大別され、前者は特に塗膜の透明性に優れ、後者は
一般に隠蔽性に優れる。本発明の熱転写シートを印刷色
校正用に用いる場合には、印刷インキに一般に使用され
るイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックと一致する
か、あるいは色調が近い有機顔料が好適に使用される。
またその他にも、金属粉、蛍光顔料等も用いる場合があ
る。好適に使用される顔料の例としては、アゾ系顔料、
フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン
系顔料、ニトロ系顔料を挙げることができる。また、色
相別に代表的な顔料を分けて記載すれば以下のようにな
る。

【００５１】１）黄色顔料 ハンザイエローＧ、ハンザイエロー５Ｇ、ハンザイエロ
ー１０Ｇ、ハンザイエローＡ、ピグメントイエローＬ、
パーマネントイエローＮＣＧ、パーマネントイエローＦ
ＧＬ、パーマネントイエローＨＲ。 ２）赤色顔料 パーマネントレッド４Ｒ、パーマネントレッドＦ２Ｒ、
パーマネントレッドＦＲＬ、レーキレッドＣ、レーキレ
ッドＤ、ピグメントスカーレット３Ｂ、ボルドー５Ｂ、
アリザリンレーキ、ローダミンレーキＢ。 ３）青色顔料 フタロシアニンブルー、ビクトリアブルーレーキ、ファ
ストスカイブルー。 ４）黒色顔料 カーボンブラック。

【００５２】（非晶質有機高分子重合体）本発明の熱転
写シートの画像形成層に含まれる、軟化点が４０℃〜１
５０℃の非晶質有機高分子重合体としては、例えばブチ
ラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンイミン樹
脂、スルホンアミド樹脂、ポリエステルポリオール樹
脂、石油樹脂、スチレン、ビニルトルエン、α−メチル
スチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニ
ル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノ
スチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体の単独重
合体や共重合体、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート等のメタクリル酸エステル類及びメタクリ
ル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、α−エチルヘキシルアクリレート等の
アクリル酸エステル及びアクリル酸、ブタジエン、イソ
プレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテ
ル類、マレイン酸及びマレイン酸エステル類、無水マレ
イン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル
系単量体の単独あるいは他の単量体等との共重合体を用
いることができる。これらの樹脂は２種以上混合して用
いることもできる。本発明では、画像形成層は顔料を３
０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量％、非晶質
有機高分子重合体を７０〜３０重量％、好ましくは６０
〜４０重量％含む。

【００５３】（その他の成分）本発明の熱転写シートを
用いて、同一の受像シート上に多数の画像層（画像が形
成された画像形成層）を繰返し重ね合せて多色画像を作
製する場合には、画像間の密着性を高めるために画像形
成層は可塑剤を含むことが好ましい。そのような可塑剤
の例としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ−ｎ−オ
クチル、フタル酸ジ（２−エチルヘキシル、フタル酸ジ
ノニル、フタル酸ジラウリル、フタル酸ブチルラウリ
ル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル類、
アジピン酸ジ（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ジ
（２−エチルヘキシル）等の脂肪族二塩基酸エステル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリ（２−エチルヘキシ
ル）等のリン酸トリエステル類、ポリエチレングリコー
ルエステル等のポリオールポリエステル類、エポキシ脂
肪酸エステル等のエポキシ化合物が挙げられる。また、
上記のような一般的な可塑剤以外にも、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオ
ールトリメタクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、ペンタエリトリットトリアクリレート、ペ
ンタエリトリットテトラアクリレート、ジペンタエリト
リット−ポリアクリレートのようなアクリル酸エステル
類も、用いられるバインダーの種類によっては好適に併
用される。なお、可塑剤は二以上組合せて用いてもよ
い。

【００５４】また、可塑剤は一般的に、画像形成層にお
いて、顔料と非晶質有機高分子重合体の総量と可塑剤と
の重量比が、１００：１〜１００：３、好ましくは１０
０：１．５〜１００：２の範囲となるように用いられ
る。画像形成層には、上記の．．分に加えて、更に必要
に応じて、界面活性剤、増粘度剤等が添加される。画像
形成層の層厚（乾燥層厚）は０．２〜１．５μｍ、好ま
しくは０．３〜１．０μｍである。

【００５５】［受像シート］傷つき防止のために、画像
形成層の表面には通常受像シートや保護用のカバーフィ
ルム（例、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエ
チレンシート等）が積層される。受像シートは、通常、
プラスチックシート、金属シート、ガラスシート、紙等
のような通常のシート状の基材に一ないし二以上の受像
層が付設されたものである。プラスチックシートの例と
しては、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリカー
ボネートシート、ポリエチレンシート、ポリ塩化ビニル
シート、ポリ塩化ビニリデンシート、ポリスチレンシー
ト、スチレン−アクリロニトリルシート等を挙げること
ができる。また、紙としては印刷本紙、コート紙等を用
いることができる。受像シートの基材の厚さは通常１０
〜４００μｍであり、２５〜２００μｍであることが好
ましい。基材の表面は、受像層との密着性あるいは熱転
写シートの画像形成層との密着性を高めるために、コロ
ナ放電処理、グロー放電処理等の表面処理が施されてい
てもよい。

【００５６】受像シートの表面に画像形成層を転写、固
定することを補助するために、基材の表面には前述のよ
うに受像層を一層若しくは二層以上付設することが好ま
しい。受像層は、有機重合体バインダーを主体として形
成される層である。バインダーは熱可塑性樹脂であるこ
とが好ましく、その例としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の
アクリル系モノマーの単独重合体及びその共重合体、メ
チルセルロース、エチルセルロース、セルロースアセテ
ートのようなセルロース系ポリマー、ポリスチレン、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアルコール等のようなビニル系モノマーの単独重合体
及びその共重合体、ポリエステル、ポリアミドのような
縮合系ポリマー、ブタジエン−スチレン共重合体のよう
なゴム系ポリマーを挙げることができる。受像層のバイ
ンダーは、画像形成層との間の適度な接着力を得るため
に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が９０℃より低いポリマー
であることが好ましい。また、受像層のガラス転移温度
を調節するために受像層に可塑剤を添加することが好ま
しい。

【００５７】受像シートに一旦画像を転写形成した後、
これを別に用意した印刷本紙等に転写する場合には、受
像層の少なくとも一層、特に最上層を光硬化性材料から
形成することが望ましい。そのような光硬化性材料の組
成としては、例えば、ａ）付加重合によって光重合体を
形成しうる多官能ビニル又はビニリデン化合物の少なく
とも一種からなる光重合性モノマー、ｂ）有機重合体バ
インダー、ｃ）光重合開始剤、及び必要に応じて熱重合
禁止剤等の添加剤、からなる組合せを挙げることができ
る。上記の多官能ビニル化合物とビニリデン化合物の例
としては、ポリオールの不飽和エステル、特にアクリル
酸若しくはメタクリル酸のエステル（例えば、エチレン
グリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−プ
ロパンジオールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオール
トリメタクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ペンタエリトリットジメタクリレート、ペンタ
エリトリットトリメタクリレート、ペンタエリトリット
テトラメタクリレート、ペンタエリトリットジアクリレ
ート、ペンタエリトリットトリアクリレート、ペンタエ
リトリットテトラアクリレート、ジペンタエリトリット
−ポリアクリレート、１，３−プロパンジオール−ジア
クリレート、１，５−ペンタンジオール−ジメタクリレ
ート、２００〜４００の分子量を有するポリエチレング
リコールのビスアクリレート及びビスメタクリレー
ト）、不飽和アミド、特にそのアルキレン鎖が炭素原子
によって開かれていてもよいα，ω−ジアミンを有する
アクリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド、及びエチ
レンビスメタクリルアミドを挙げることができる。ま
た、多価アルコールと多価の有機酸のエステルと、アク
リル酸又はメタクリル酸との縮合によるポリエステルア
クリレートを使用することもできる。

【００５８】有機重合体バインダーとしては、前記の受
像層形成用の熱可塑性樹脂バインダーが好適に用いられ
る。前記の光重合性モノマーと上記の有機重合体バイン
ダーとは、一般には重量比で０．１：１．０〜２．０：
１．０の範囲で用いられる。光重合開始剤としては、近
紫外部に吸収を有し、可視部に吸収を持たない（あるい
は可視部の吸収が少ない）ものが用いられる。そのよう
な光重合開始剤の例としては、ベンゾフェノン、ミヒラ
ーズケトン［４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン］、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベン
ゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェノントラ
キノンのような芳香族ケトン類、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インフェネチルエーテルのようなベンゾインエーテル
類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイ等のベンゾイン
類、ならびに２−（ο−クロロフェニル）−４，５−ジ
フェニルイミダゾール二量体、２−（ο−クロロフェニ
ル）−４，５−（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール
二量体を挙げることができる。光重合開始剤は、前記の
光重合性モノマー１００重量部に対して一般に０．１〜
２０重量部の範囲の量で用いられる。

【００５９】本発明の熱転写シートと受像シートとの積
層体は、熱転写シートの画像形成層側と受像シートの受
像側（受像層側）とを重ね合せて、加圧加熱ローラに通
すことによって容易に得ることができる。この場合の加
熱温度は１３０℃以下とすることが好ましく、１００℃
以下とすることがさらに好ましい。

【００６０】［画像形成方法］次に、本発明の熱転写シ
ートを用いる画像形成方法を説明する。本発明の熱転写
シートを用いる画像形成方法では、熱転写シートの画像
形成層の表面に受像シートを積層した画像形成用積層体
を用意し、その積層体の表面にレーザ光を画像様に時系
列的に照射し、その後受像シートと熱転写シートとを剥
離させることにより、画像形成層のレーザ光被照射領域
が転写した受像シートを得る。熱転写シートと受像シー
トの接合は、レーザ光照射操作の直前に行なってもよ
い。このレーザ光照射操作は、通常、画像形成用積層体
の受像シート側を、記録ドラム（内部に真空形成機構を
有し、表面に多数の微小の開口部を有する回転ドラム）
の表面に真空引きにより密着させ、その状態で外側、す
なわち熱転写シート側よりレーザ光を照射させることに
より行なわれる。レーザ光の照射はドラムの幅方向に往
復するように走査し、その照射操作中はドラムを一定の
角速度で回転させる。

【００６１】レーザ光としては、アルゴンイオンレーザ
光、ヘリウムネオンレーザ光、ヘリウムカドミウムレー
ザ光等のガスレーザ光、ＹＡＧレーザ光等の固体レーザ
光、半導体レーザ、色素レーザ光、エキシマレーザ光等
の直接的なレーザ光が利用される。あるいは、これらの
レーザ光を二次高調波素子を通して、半分の波長に変換
した光等も用いることができる。本発明の熱転写シート
を用いる画像形成方法においては、出力パワーや変調の
しやすさ等を考慮すると、半導体レーザを用いることが
好ましい。また、本発明の熱転写シートを用いる画像形
成方法では、レーザ光は、光熱変換層上でのビーム径が
５〜５０μｍ（特に６〜３０μｍ）の範囲となるような
条件で照射することが好ましく、また走査速度は１ｍ／
秒以上（特に３ｍ／秒以上）とすることが好ましい。

【００６２】本発明の熱転写シートを用いる画像形成方
法は、黒色マスクの製造、あるいは単色画像の形成に利
用することができるが、また多色画像の形成にも有利に
利用することができる。本発明の熱転写シートを用いる
画像形成方法で、多色画像を形成するためには、例えば
互いに異なる色の色剤を含む画像形成層を有する画像形
成用積層体を独立に三種（三色）あるいは四種（四色）
製造し、それぞれについて、色分解フィルタによる画像
に基づくデジタル信号に従うレーザ光照射と、それに続
く画像記録転写シートと受像シートの引きはがし操作を
行ない、各受像シートに各色の色分解画像を独立に形成
し、ついでそれぞれの色分解画像を、別に用意した印刷
本紙等の実際の支持体若しくはそれに近似した支持体上
に順次積層させる方法が利用できる。

【００６３】

【実施例】以下に、実施例を示し本発明を具体的に説明
するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるもので
はない。文中で特に断りのない限り「部」は「重量部」
を意味する。 （実施例１） １）光熱変換層塗布液の調製 下記の各成分をスターラーで攪拌しながら混合して光熱
変換層塗布液を調製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物） １０部 ・ポリイミド樹脂（リカコートＳＮ−２０、新日本理化（株）製） ２００部 ・Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製）

【００６４】２）支持体表面への光熱変換層の形成 厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
の一方の表面上に、上記の塗布液を回転塗布機（ホワイ
ラー）を用いて塗布した後、塗布物を１００℃のオーブ
ン中で２分間乾燥して、該支持体上に光熱変換層を形成
した。得られた光熱変換層は、波長７００〜１０００ｎ
ｍの範囲では８３０ｎｍ付近に吸収極大があり、その吸
光度（光学密度：ＯＤ）をマクベス濃度計で測定したと
ころ、ＯＤ＝１．０であった。膜厚は、走査型電子顕微
鏡により、光熱変換層の断面を観察したところ、平均で
０．３μｍであった。

【００６５】３）イエロー画像形成層塗布液の調製 下記の各成分をペイントシェーカー（東洋精機（株）
製）で２時間分散処理した後、ガラスビーズを除去し、
イエロー顔料分散母液を調製した。 ［顔料分散母液組成］ ・ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、デンカ １２．６部 ブチラール＃２０００−Ｌ、ビカット軟化点５７℃） の２０重量％溶液 ・色材（イエロー顔料（Ｃ．Ｉ．ＰＹ．１４）） ２４部 ・分散助剤（ソルスパースＳ−２００００、ＩＣＩ（株）製） ０．８部 ・ｎ−プロピルアルコール １１０部 ・ガラスビーズ １００部 下記の各成分をスターラーで攪拌しながら混合して、イ
エロー画像形成層塗布液を調製した。 ［塗布液組成］ ・上記顔料分散母液 ２０部 ・ｎ−プロピルアルコール ６０部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ ０．０５部 化学工業（株）製）

【００６６】４）光熱変換層表面へのイエロー画像形成
層の形成 前記の光熱変換層の表面に、上記塗布液をホワイラーを
用いて１分間塗布した後、塗布物を１００℃のオーブン
中で２分間乾燥して、光熱変換層の上にイエロー画像形
成層（顔料６４．２重量％、ポリビニルブチラール３
３．７重量％）を形成した。得られた画像形成層の吸光
度（光学密度：ＯＤ）をマクベス濃度計で測定したとこ
ろ、ＯＤ＝０．７であった。膜厚は、前記と同様にして
測定したところ、平均で０．４μｍであった。以上の工
程により、支持体の上に、光熱変換層、及びイエロー画
像形成層がこの順に設けられた熱転写シートを作製し
た。

【００６７】（実施例２）下記の組成の光熱変換層塗布
液を使用して光熱変換層を設けた以外は、実施例１と同
様にして、支持体の上に、光熱変換層及びイエロー画像
形成層がこの順に積層された熱転写シートを作製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（前記一般式（Ｉ−８）で表される化合物） １０部 ・ポリイミド樹脂（リカコートＳＮ−２０、新日本理化（株）製） ２００部 ・Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製）

【００６８】（実施例３）下記の組成の光熱変換層塗布
液を使用して光熱変換層を設けた以外は、実施例１と同
様にして、支持体の上に、光熱変換層及びイエロー画像
形成層がこの順に積層された熱転写シートを作製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（前記一般式（Ｉ−１１）で表される化合物） １０部 ・ポリイミド樹脂（リカコートＰＮ−２０、新日本理化（株）製） ２００部 ・Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製）

【００６９】（比較例１）下記の組成の光熱変換層塗布
液を使用して光熱変換層を設けた以外は、実施例１と同
様にして、支持体の上に、光熱変換層及びイエロー画像
形成層がこの順に積層された熱転写シートを作製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（赤外線吸収色素 ＮＫ−１２６（下記式）、 １０部 日本感光色素（株）製） ・ポリアミド樹脂（ポリアミド酸ＰＡＡ−Ａ、 １６０部 三井東圧化学（株）製） ・メチルエチルケトン １０００部 ・１−メトキシ−２−プロパノール １０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製） なお、上記ポリアミド酸ＰＡＡ−Ａ（芳香族系のテトラ
カルボン酸二無水物とジアミンとの反応により得られた
もの）は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの２５重量％
溶液である。

【００７０】

【化１４】

【００７１】（比較例２）下記の組成の光熱変換層塗布
液を使用して光熱変換層を設けた以外は、実施例１と同
様にして、支持体の上に、光熱変換層及びイエロー画像
形成層がこの順に積層された熱転写シートを作製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（前記一般式（Ｉ−３）で表される化合物） １０部 ・ポリアミド樹脂（ポリアミド酸ＰＡＡ−Ａ、 １６０部 三井東圧化学（株）製） ・メチルエチルケトン １０００部 ・１−メトキシ−２−プロパノール １０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製）

【００７２】（比較例３）下記の組成の光熱変換層塗布
液を使用して光熱変換層を設けた以外は、実施例１と同
様にして、支持体の上に、光熱変換層及びイエロー画像
形成層がこの順に積層された熱転写シートを作製した。 ［塗布液組成］ ・光熱変換物質（赤外線吸収色素 ＮＫ−１２６、 １０部 日本感光色素（株）製） ・ポリイミド樹脂（リカコートＳＮ−２０、新日本理化（株）製） ２００部 ・Ｎ−メチル−２−ピロリドン ２０００部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学 １部 工業（株）製）

【００７３】＜受像シートの作製＞ １）第一受像層塗布液の調製 下記の各成分をスターラーで攪拌しながら混合して第一
受像層塗布液を調製した。 ［塗布液組成］ ・ポリ塩化ビニル（ゼオン２５、日本ゼオン（株）製） ９部 ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ ０．１部 化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン １３０部 ・トルエン ３５部 ・シクロヘキサノン ２０部 ・ジメチルホルムアミド ２０部

【００７４】２）支持体表面への第一受像層の形成 支持体（厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム）の一方の表面上に上記の塗布液をホワイラーを
用いて塗布した後、塗布物を１００℃のオーブン中で２
分間乾燥して、該支持体上に第一受像層（厚さ１μｍ）
を形成した。

【００７５】３）第二受像層塗布液の調製 下記の各成分をスターラーで攪拌しながら混合して第二
受像層塗布液を調製した。 ［塗布液組成］ ・メチルメタクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸 １７部 共重合体（ダイヤナールＢＲ−７７、三菱レーヨン（株）製） ・アルキルアクリレート／アルキルメタクリレート共重合体 １７部 （ダイヤナールＢＲ−６４、三菱レーヨン（株）製） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２２部 （Ａ−ＴＭＭＴ、新中村化学（株）製） ・界面活性剤（メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ ０．４部 化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン １００部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０５部 ・２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン １．５部

【００７６】４）第一受像層表面への第二受像層形成 支持体上の第一受像層の表面上に上記の塗布液をホワイ
ラーを用いて塗布した後、塗布物を１００℃のオーブン
中で２分間乾燥して、該第一受像層上に第二受像層（厚
さ２６μｍ）を形成した。以上の工程により、支持体の
上に、二層の受像層が積層された受像シートを作製し
た。

【００７７】＜積層体の作製＞受像シートの第二受像層
と熱転写シートの画像形成層とを重ね合わせて、積層体
を作製した。

【００７８】＜評価＞ １）感度測定 真空吸着用のサクション穴が設けられた回転ドラムに、
受像シート面側がドラム表面に接するようにして積層体
を巻き付け、ドラム内部を真空にすることによって、積
層体をドラム表面に固定した。上記のドラムを回転さ
せ、ドラム上の積層体の表面に外側から波長８３０ｎｍ
の半導体レーザ光を、光熱変換層の表面で径が７μｍの
スポットとなるように集光し、回転ドラムの回転方向
（主走査方向）に対して直角方向に移動させながら（副
走査）、積層体へのレーザ画像（画線）記録を行った。
レーザ照射条件は次の通りである。 レーザパワー：１１０ｍＷ 主走査速度：４ｍ／秒 副走査ピッチ（１回転当たりの副走査量）：２０μｍ

【００７９】上記のレーザ画像記録を行った積層体をド
ラムから取り外し、受像シートと熱転写シートとを手で
引きはがしたところ、画像（画線）形成層のレーザ照射
部のみが転写シートから受像シートに転写されているの
が確認された。光学顕微鏡により転写画像を観察したと
ころ、レーザ照射部が線状に記録されていた。この記録
線幅を測定し、以下の式から感度を求めた。結果を表１
に示す。 感度＝（レーザパワーＰ）／（線幅ｄ×線速ｖ）

【００８０】２）カブリ評価 副走査ピッチを１０μｍに変更してビームラインが重な
るようにした他は、上記と同様にしてベタ画像を記録
し、転写画像のイエローの濁り具合を以下の基準で目視
にて判断した。結果を表１に示す。 ◎ カブリなし ○ 良 △ めだたないが濁りある × オレンジ色の濁りがある ×× グリーン色の濁りがある

【００８１】

【表１】

【００８２】表１に記載された実施例１〜３の結果か
ら、ポリイミド樹脂、及び光熱変換物質として高い光熱
変換能を有する一般式(I) で表されるインドレニン系化
合物を使用して光熱変換層を形成した場合には、高性能
の光熱変換層を形成することができる。光熱変換層の分
解、若しくは光熱変換物質の昇華、分解による画像形成
層中への移行が生じることなく、これによる感度の低下
やカブリのない良好な転写画像が得られた。これに対
し、比較例１〜３では、ポリイミド樹脂及び一般式(I)
で表されるインドレニン系化合物のいずれか一方、又は
両方を使用していないため、感度及びカブリ評価のいず
れも、良い結果は得られなかった。

【００８３】

【発明の効果】本発明によれば、高エネルギー印字部で
もカブリがなく、かつ、高感度な転写画像を与えること
ができる熱転写シートを提供することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、光熱変換物質とポリイミド
   樹脂を含む光熱変換層、及び顔料と軟化点が４０〜１５
   ０℃の温度範囲にある非晶質有機高分子重合体をそれぞ
   れ３０〜７０重量％含み、厚さが０．２〜１．５ミクロ
   ンの範囲にある画像形成層を順次設けた熱転写シートで
   あって、光熱変換物質が下記一般式（Ｉ）で表されるイ
   ンドレニン系化合物を含有することを特徴とする熱転写
   シート。 【化１】 （式中、Ｚは、ベンゼン環、ナフタレン環又は複素芳香
   族環を形成するための原子団を表し、Ｒ¹ 及びＲ² は、
   それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基又はアリール
   基を表し、また、これらの少なくとも一つの基がＬと連
   結して環を形成してもよい。Ｌは、３価の連結基を表
   し、Ｘ^- は、陰イオンを表す。）
2. 【請求項２】 前記一般式(I) 中の３価の連結基である
   Ｌが、下記一般式（Ｌ−１）又は（Ｌ−２）で表される
   インドレニン系化合物である請求項１に記載の熱転写シ
   ート。 【化２】 （式中、Ｙは、水素原子又は１価の基を表す。）
3. 【請求項３】 前記光熱変換層と前記画像形成層との間
   に感熱剥離層を設けた請求項１又は２に記載の熱転写シ
   ート。