JPH11330775A - 透明性を有する積層型電波反射防止体及び電波反射防止方法 - Google Patents

透明性を有する積層型電波反射防止体及び電波反射防止方法

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JPH11330775A
JPH11330775A JP13476698A JP13476698A JPH11330775A JP H11330775 A JPH11330775 A JP H11330775A JP 13476698 A JP13476698 A JP 13476698A JP 13476698 A JP13476698 A JP 13476698A JP H11330775 A JPH11330775 A JP H11330775A
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radio wave
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ito
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JP13476698A
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Toshiaki Nagano
利昭 長野
Satoru Maki
哲 槙
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Kansai Paint Co Ltd
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Kansai Paint Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜、軽量で施工作業性が良く、透明性を有
する電波遮蔽能および電波反射防止能の優れた電波反射
防止体を得る。 【構成】 板状または紐帯状のITOで形成される幾何
学的模様状に形成された厚さ0.01〜50μmのIT
Oパターン層(A)、必要ならば介在してもよい透明支
持層(B)、さらに透明樹脂層(C)、および必要なら
ば介在してもよい透明支持層(D)を順次積層してなる
積層体を1単位として該積層体単位を層(A)側が層
(C)または層(D)側に面するように複数個積層して
なる透明な複数単位構造体を、電波反射体層(E)上
に、該構造体の層(C)または層(D)側が層(E)に
面するように積層してなる構造を有する積層型電波反射
防止体、及び上記複数単位構造体を金属表面を有する電
波反射構造体上に形成することを特徴とする電波反射防
止方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
〔発明の詳細な説明〕
【0002】
【従来の技術およびその課題】従来、電子機器などにお
ける電波による誤作動などを回避するために、電子機器
のハウジングに導電性塗料を塗布する方法やプラスチッ
ク基材上に亜鉛、アルミニウム、鉄、銅などの金属薄膜
をメッキ、貼り合せ、蒸着などによって形成する方法等
が知られている。しかしながら上記ハウジングに導電性
塗料を塗布する方法においては電波遮蔽効果が小さく、
また経時的に効果が低下しやすく、また着色しており透
明性がなく被塗物の景観が損なわれるいという欠点があ
る。またプラスチック基材上に金属薄膜を形成する方法
においては、電波を反射する量が多く、二次的な電波に
よる障害の問題がある。さらに特開平2−241098
号公報には、フィルムの表面に導電性金属を用いて幾何
学的模様を描いて成る電磁波シールド用フィルムが記載
されており、このものは電磁波の遮蔽性に優れているこ
とが示されているが、これらのものはいずれも電子機器
等より発生する電磁波の漏えい防止あるいは外部からの
電磁波による電子機器の誤作動等を防止するための遮蔽
材料としては有効に作用し得るが、例えば橋りょう、建
築物などによる電波の反射に起因するレーダーの偽像等
の電波障害を防止するには有効に作用しない。
【0003】電波の反射によるこれらの障害を防止する
ものとして、フェライト又はフェライトと金属粉末もし
くはカーボン粉末との混合物を有機高分子中に分散させ
てなる電波吸収材料が知られている。しかしながら、上
記材料で実用的な吸収特性を得るためには狭帯域周波数
(有効帯域幅0.5〜1GHz 未満程度)の電波の場合で
も少なくとも重量4kg/m2 以上で膜厚1mm以上、広帯域
周波数(有効帯域幅1〜5GHz 程度)の電波の場合には
少なくとも重量約12kg/m2 以上、4.5mm以上の膜厚
が必要であり、また透明性を有していないために被塗物
の景観を損なうなどの問題点があった。したがって使用
に際しては厚みおよび重量が大きく施工作業性が悪く、
また建造物等に施工する場合には建造物全体の強度、バ
ランスに配慮が必要となり、外観が損なわれる等の欠点
を有している。そこで薄膜、軽量で施工作業性が良く、
透明性を有する電波遮蔽能および電波反射防止能の優れ
た電波反射防止体の開発が要望されていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため電波反射防止体および電波反射防止方法に
ついて鋭意研究の結果、幾何学的模様状に形成されたイ
ンジウム−錫酸化物(本発明において「ITO」と略称
することがある)パターン層を透明樹脂層を介して複数
個積層してなる構造体を電波反射体上に形成することに
よって電波を遮蔽でき、かつ透明で優れた電波反射防止
能を発揮できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。
【0005】本発明の特徴は、本来、電波の反射体とし
て作用するITO層をパターン状に形成し、これを透明
樹脂層を介して複数個積層した構造体を電波反射体に装
着することにより、驚くべきことには従来にない軽量に
して薄膜においても効果的に電波の反射を防止できるこ
とを見出したことにある。すなわちITOパターン層の
ITO部のみでは殆ど電波反射体として作用し、また当
該ITOパターン層がない場合には従来のものと同様
な、重量が大きく厚膜のフェライト膜層が必要となる
が、これらの問題を上述の如き効果を有する本発明によ
って解決したものである。
【0006】すなわち本発明は、板状または紐帯状のイ
ンジウム−錫酸化物(ITO)層で形成される幾何学的
模様状に形成された厚さ0.5〜50μmのITOパタ
ーン層(A)、必要ならば介在してもよい透明支持層
(B)、さらに透明樹脂層(C)、および必要ならば介
在してもよい透明支持層(D)を順次積層してなる積層
体を1単位として該積層体単位を層(A)側が層(C)
または層(D)側に面するように複数個積層してなる透
明な複数単位構造体を、透明な電波反射体層(E)上
に、該構造体の層(C)または層(D)側が層(E)に
面するように積層してなる構造を有する積層型電波反射
防止体を提供するものである。
【0007】また本発明は、構造体上に、上記積層型電
波反射防止体を形成することを特徴とする電波反射防止
方法を提供するものである。
【0008】さらに本発明は、電波反射構造体上に、上
記複数単位構造体を形成することを特徴とする電波反射
防止方法を提供するものである。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の電波反射防止体におい
て、ITOパターン層(A)は透明樹脂層(C)上に、
透明支持層(B)を介して又は介さずに積層されてい
る。ITOパターン層(A)は樹脂層(C)上に直接形
成してもよいし、支持層(B)上に形成した後、層
(B)側を樹脂層(C)に接着してもよい。
【0010】ITOパターン層(A)を樹脂層(C)上
に直接形成する方法としては、樹脂層(C)上に、パタ
ーン形状に見合った空孔を有するメタルマスクなどのパ
ターンマスクを介して、蒸着、スパッタリングなどによ
り形成する方法や、樹脂層(C)上にITO層を形成し
た後にエッチングしてパターンを形成するエッチング
法、パターンメッキ法、転写法など従来公知の方法が利
用できる。
【0011】支持層(B)上にITOパターン層(A)
を形成した後、層(B)側を樹脂層(C)に接着する方
法において、支持層(B)上にITOパターン層(A)
を形成する方法としては、支持層(B)となるポリエチ
レンテレフタレートなどのプラスチックシート上に、蒸
着、スパッタリングなどによりITOの薄膜を形成して
なるITOシートのITO層をエッチングしてパターン
を形成するエッチング法を好適に利用することができる
し、また、支持層(B)となるプラスチックシート上
に、パターン形状に見合った空孔を有するパターンマス
クを介して、蒸着、スパッタリングなどにより形成する
方法、パターンメッキ法、転写法など従来公知の方法が
利用できる。
【0012】ITOシートを用いてエッチング法により
ITOパターン層(A)を形成するには、ITOシート
上にフォトレジスト法や印刷法によってエッチングレジ
スト層を形成し、さらにレジスト層が形成されていない
露出したITO部分をエッチングによって除去する方法
が挙げられる。転写法としては、予め転写用基板上にI
TO製パターンを形成しておき、このパターンを支持層
(B)又は樹脂層(C)上に転写する方法が挙げられ
る。
【0013】支持層(B)上にITOパターン層(A)
が形成されたITOシートは、その支持層(B)を樹脂
層(C)上に接着剤などによって貼着することによっ
て、樹脂層(C)−支持層(B)−ITOパターン層
(A)の積層体を得ることができる。
【0014】ITOパターン層(A)の形状は板状また
は紐帯状のITOで形成される幾何学的模様状であれば
よく、例えば円形、方形、多角形、リング状、不定形な
どの板状のITOを図形単位として複数個を、例えば市
松模様、格子状、ストライプ状、水玉状などの幾何学的
模様状に配列したものであってもよく、また紐帯状IT
Oで形成される後記図1〜図11に示すような重層構造
を有するパターンや後記図13〜図17に示すような渦
巻状パターンが図形単位として1単位であっても、図1
2や図18のように複数の図形単位が、市松模様状、格
子状、ストライプ状、水玉状などに配列したものであっ
てもよい。また、上記模様、パターンは平面的に混在し
ていてもよい。
【0015】ITOパターン層(A)の模様において、
非ITOパターン部/ITOパターン部の面積比が0.
1〜10であることが好ましく、0.2〜5であること
がさらに好ましい。また模様における図形単位の大きさ
は、板状の場合は一辺の長さ、対角、直径が30mm以下
であることが好ましく、紐帯状重層構造や渦巻状の場合
には、最長径、最長辺等、図形単位の金属パターン上の
任意の2点間の最長直線距離が300mm以下であること
が好ましい。またITOパターン層(A)の膜厚は、
0.01〜50μm、好ましくは0.05〜10μmの
範囲内であることが好適である。
【0016】本発明において、透明支持層(B)は上記
ITOパターン層(A)と樹脂層(C)との間に、必要
に応じて介在してもよい層である。支持層(B)は、例
えばITOパターン層(A)や樹脂層(C)を形成する
際の支持体として必要に応じて使用される。支持層
(B)は透明で電波の大部分を透過できる支持層であれ
ば特に制限されるものではないが、一般に膜厚10〜5
00μm程度のプラスチックシートが挙げられる。この
プラスチックシートにはプラスチックフィルムも包含さ
れる。プラスチックシートの種類としては透明なこと以
外に特に制限はなく、例えばポリアミド、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリウレタン、ハイパロンゴム、塩
化ゴム、クロロプレンゴム、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、フェノール樹脂などが挙げられる。
【0017】本発明において、透明支持層(D)は樹脂
層(C)のITOパターン層(A)と反対側に必要に応
じて介在してもよい層であり、支持層(D)は、例えば
塗布して樹脂層(C)を形成する際の支持体として必要
に応じて使用される。支持層(D)としては支持層
(B)として使用可能であるものとして掲げたものを同
様に使用できる。
【0018】本発明において透明樹脂層(C)として
は、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ロジン、セ
ラック、エステルゴム、ハイパロン(クロロスルホン化
ポリエチレン)ゴム、塩化ゴム、クロロプレンゴム、ポ
リオレフィン樹脂、炭化水素樹脂、塩化ビニリデン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹
脂、シリコン系樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル樹
脂などの樹脂製の透明シートが挙げられる。
【0019】また透明樹脂層(C)は、上記樹脂又は樹
脂溶液中に透明な誘電材粉末を分散させた分散物を、シ
ート状に成型することによって、又は支持層(B)もし
くは支持層(D)上に塗布、乾燥させることによっても
得ることができる。透明樹脂層(C)の厚さは特に限定
されるものではないが、通常約50μm〜3mm、好ま
しくは100μm〜2mmの範囲にあることが適してい
る。
【0020】上記樹脂又は樹脂溶液に分散させることが
できる透明な誘電材粉末としては、シリカ粉末、チタン
酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコ
ニウム、チタン酸カリウムなどの粒子又はウィスカーな
どであるチタン酸化合物、シリコンカーバイド、チッ化
ケイ素などを挙げることができる。これらの透明な誘電
材粉末は、粒子状であっても繊維状であってもよく、そ
の粒径または繊維の直径は特に限定されるものではない
が、一般に100μm 以下であることが分散性、透明性
などの点から好ましい。これらのうち、なかでもシリカ
粉末が好適であり、シリカ粉末は親水性シリカであって
も、疎水性シリカであってもよく、また微粒子であるコ
ロイダルシリカであってもよい。樹脂固形分100重量
部に対する上記透明誘電材の粉末の配合量は、400重
量部以下、好ましくは3〜200重量部であることが適
している。
【0021】樹脂又は樹脂溶液中に上記透明な誘電材粉
末を分散するに際して、この粉末の混練による分散を加
熱下に行なうことができ、また必要に応じて樹脂を溶解
もしくは分散させる溶剤を配合し、混練、撹拌などによ
り上記透明な誘電材粉末を分散させるなど公知の方法に
よって行なうことができる。またこれらの分散物中には
アミノプラスト、ポリイソシアネートなどの硬化剤を配
合してもよい。
【0022】透明樹脂層(C)の作用効果は明らかでは
ないが、ITOパターン層のITOのない部分から内部
に入り込んだ電波の行路長を変化させ、層(A)で反射
してITOパターン層のITOのない部分から外部へ出
ていく電波の位相を変化させるものと考えられ、これに
よってITOパターン層のITOで反射される電波と上
記位相を変化させた電波との干渉によって電波のエネル
ギーを消失させる効果を有するものと考えられる。この
際、樹脂層(C)中にシリカ粉末等の透明な誘電材粉末
を含有させておくと、これらを含まない場合に比べ行路
長変化が大きくなり、電波の吸収帯域幅が広くなる傾向
がある。しかしながら、これらの粉末を含有させること
により重量は大きくなるため、これらの粉末の使用は電
波反射防止体の使用目的に応じて適宜選定されるべきで
ある。
【0023】本発明電波反射防止体において、ITOパ
ターン層(A)、必要ならば介在してもよい透明支持層
(B)、さらに透明樹脂層(C)および必要ならば介在
してもよい透明支持層(D)が順次積層されて積層体が
形成されているが、これらの各層間は接着剤などによっ
て接着されていてもよい。本発明電波反射防止体におい
ては、上記積層体を1単位として該積層体単位を層
(A)側が層(C)または層(D)側に面するように複
数個積層してなる透明な複数単位構造体を、電波反射体
層(E)上に、該構造体の層(C)または層(D)側が
層(E)に面するように積層されている。
【0024】上記複数単位構造体を形成する積層体単位
の積層数は特に限定されるものではないが、通常2〜1
0、好ましくは2〜5である。10以上の積層数として
も電波反射防止効果のさらなる向上はあまりなく、かえ
って重量、厚さの面で不利となってくる。各積層体単位
におけるITOパターン層(A)のパターンの種類、配
列は各単位で同一であっても異なっていてもよく、また
樹脂層(C)も各単位で同一であっても異なっていても
よく、また支持層(B)または(D)は各単位で、存在
していてもいなくてもよく、また同一であっても異なっ
ていてもよい。積層体単位を複数個積層することによっ
て効果的に電波の反射を防止できる周波数帯域を広くで
きる。
【0025】前記電波反射体層(E)は、入ってきた電
波を100%ないしは、ほぼ100%(約99%以上)
反射することができる透明な金属酸化物の層であればよ
く、一般にITO層が好適に使用される。電波反射体層
(E)となりうるITO層としては、例えば、前記IT
OシートにおけるITO層であることができ、ITOシ
ートを使用することによって、ITO層である電波反射
体層(E)をプラスチックによって補強されたものとす
ることができる。電波反射体層(E)がITO層である
場合のITO層の膜厚は、通常、0.01μm程度以上
であり、さらには0.05〜50μm程度であることが
好ましく、プラスチックを含めたITOシートの全膜厚
は、強度、軽量化などの観点から10〜500μm程度
であることが好ましい。
【0026】本発明電波反射防止体において、前記複数
単位構造体を形成する各積層体単位間および複数単位構
造体と電波反射防止体との間は、接着剤によって接着さ
れていてもよい。また本発明の電波反射防止体は、電波
反射防止体の防食性、耐候性、材料特性の保持性の向上
などのため、最上層のITOパターン層(A)上に、ク
リヤ樹脂層が設けられていてもよい。この最上層のクリ
ヤ樹脂層は、クリヤ塗膜層であってもプラスチックフィ
ルム層であってもよく、クリヤ樹脂層の樹脂種として
は、例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0027】最上層のクリヤ樹脂層として使用できるプ
ラスチックシート層としては、例えば前記透明支持層
(B)として使用可能なプラスチックシートを挙げるこ
とができる。最上層のクリヤ樹脂層としてプラスチック
シートを使用する場合の一例としては、プラスチックシ
ート上にパターン層(A)を形成し、このものをパター
ン層(A)が、透明支持層(B)又は透明樹脂層(C)
と面するように積層した積層体を最上の積層体とする場
合を挙げることができる。
【0028】本発明の電波反射防止方法においては、電
波の遮蔽および電波の反射防止をすべき構造体に上記本
発明の電波反射防止体を接着剤などによって貼着するこ
とによって電波の遮蔽および電波の反射防止を効果的に
行なうことができる。また本発明の電波反射防止方法に
おいて、電波の反射を防止すべき構造体が、その表面に
金属やITOなどである電波反射構造体である場合に
は、この電波反射構造体が、前記本発明の電波反射防止
体の電波反射体層(E)と同様に電波の遮蔽などの働き
を行なうことができるので、この電波反射構造体上に
は、前記電波反射防止体から電波反射体層(E)を除い
た積層体を形成することによっても効果的に電波反射防
止を行なうことができる。
【0029】また本発明の電波反射防止体の電波反射体
層(E)の面に前もって粘着剤を塗布し、その上に離型
紙を積層しておくことによって施工現場にて剥離紙をは
がして貼着するだけで構造体上に電波反射防止体を形成
することができる。
【0030】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明する。なお、以下「部」は重量基準によるものとす
る。
【0031】実施例1 アクリル樹脂80部とメラミン樹脂20部との混合物1
00部(固形分量)に対してコロイダルシリカMIBK
−ST(日産化学(株)製、商品名、平均粒径約10n
mのシリカ微粉末の有機溶剤分散液、固形分約30%)
333部(固形分量で100部)を含有する塗料を、平
滑な厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(D−1)層上に乾燥膜厚が100μmとなるよう
に塗布し、常温で20分間放置した後、100℃で20
分間、ついで130℃で20分間加熱して成型して(D
−1)層上に樹脂層(C−1)を作成した。
【0032】また別に、ITOシート(注1)[(B−
1)層として厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを有する]のITO層上に「ゾンネEDU
V376」(関西ペイント(株)製、商品名、ネガ型フ
ォトレジスト)を電着塗装法により膜厚約20μmとな
るように塗装し、最外周の円弧の直径が約5mm、紐帯の
線幅が約100μm、紐帯の円弧間の線間隔(スペー
ス)が約100μmの図13に示した渦巻パターンを図
形単位として、図形単位間の最短距離が2mmとなるよう
格子状に配列した、図18様のパターンを有するネガ型
フォトマスクを介して超高圧水銀灯で100 mj/cm2
光して選択的に硬化させた後、1%炭酸ソーダ水で現像
し、次いで露出したITOを塩化第二鉄で除去しITO
製パターン層(A−1)を形成した。(A−1)層を有
する(B−1)層と(C−1)層を有する(D−1)層
の(B−1)層面と(C−1)層面とを接着剤で接着し
て積層体単位−1を得た。
【0033】別に、ネガ型フォトマスクとして一辺が1
0mmの正方形を市松模様状に配列したパターンを有する
フォトマスクを使用する以外は上記パターン層(A−
1)を得たのと全く同様にして(B−1)層上にパター
ン層(A−2)を形成した。得られた(A−2)層を有
する(B−1)層と厚さ300μmのポリエチレンテレ
フタレートシート(C−2)層とを接着剤で接着して積
層体単位−2を得た。積層体単位−1の(D−1)層と
積層体単位−2の(A−2)層とを接着剤で接着し、こ
の複層構造体の(C−2)層面に、電波反射体層である
ITO層(E−1)を有するITOシート(注1)を接
着剤にて接着して積層型電波反射防止体を得た。
【0034】(注1)ITOシート:厚さ約50μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、スパッタリ
ングにより厚さ約1μmのITO層が形成されてなる透
明シート。
【0035】実施例2 ポリエチレンテレフタレートフィルム〔(D−2)層:
膜厚80μm〕上に、アクリル樹脂100部に対してA
EROSIL200(日本アエロジル(株)製、商品
名、シリカ微粉末、平均粒径約12nm)150部、チ
タン酸バリウム50部を含有する塗料を乾燥膜厚が50
μmになるように塗布、乾燥し、樹脂層(C−3)を形
成した。またネガ型フォトマスクとして図1に示す図形
単位様の図形単位(最外周の一辺の長さが約20mm、紐
帯の線幅が約250μm、紐帯間の線間隔(スペース)
が約250μm)が上下左右に1mm間隔に並ぶように配
列したパターンを有するフォトマスクを使用する以外は
実施例1におけるパターン層(A−1)の作成と同様に
して支持層(B−1)上にパターン層(A−3)を形成
した。(C−3)層を有する(D−2)層と(A−3)
層を有する(B−1)層とを(C−3)層面と(B−
1)層面とが接着するように接着剤にて接着して積層体
単位−3を得た。次いで実施例1における積層体単位−
1の(D−1)層と積層体単位−3の(A−3)層との
間ならびに上記積層体単位−3の(D−2)層と実施例
1における積層体単位−2の(A−2)層との間をそれ
ぞれ接着剤にて接着して複層単位構造体を得た。この構
造体の(C−2)層面に厚さ50μmのITOシート
(注1)を接着剤を用いて接着して積層型電波反射防止
体を得た。
【0036】実施例3 実施例2における(D−2)層を有する(C−3)層と
実施例1における(A−1)層を有する(B−1)層と
を(C−3)層と(B−1)層とが接着するように接着
剤で接着して積層体単位−4を得た。この積層体単位−
4の(D−2)層面と実施例2における積層体単位−3
の(A−3)層面とを接着剤にて接着して複層単位構造
体を得た。この構造体の(D−2)層面に厚さ50μm
のITOシート(注1)を接着剤にて接着して積層型電
波反射防止体を得た。
【0037】実施例4 実施例1でのITOパターン層(A−1)の形成におい
て、フォトマスクとして円弧の線幅、スペースの異なる
下記表1に示す(A−4)、(A−5)、(A−6)お
よび(A−7)用の図13に示すような渦巻パターンを
図形単位として、図形単位間の最短距離が約2mmとなる
よう格子状に配列した、図18様のパターンを有するネ
ガ型フォトマスクを使用する以外は同様に行ない、(B
−1)層上にそれぞれ下記表1に記載の(A−4)層、
(A−5)層、(A−6)層、(A−7)層を形成し
た。
【0038】
【表1】
【0039】また別に、実施例1の(C−1)層の作成
において、コロイダルシリカMIBK−STの量を33
3部から167部(固形分量で50部)に変更する以外
は同様に行なって樹脂層(C−4)を得た。実施例1に
おける(A−1)層を有する(B−1)層の(B−1)
層面に上記(C−4)層を接着剤で接着して積層体単位
−5を得た。また上記(A−4)、(A−5)、(A−
6)または(A−7)層を有する各(B−1)層の(B
−1)層面のそれぞれに上記(C−4)層を接着剤で接
着して積層体単位−6〜9を得た。積層体単位−6は
(A−4)層、積層体単位−7は(A−5)層、積層体
単位−8は(A−6)層、積層体単位−9は(A−7)
層をそれぞれ有するものとする。次いで積層体単位−5
の(A−1)層面と積層体単位−9の(C−4)層面と
の間ならびにこの積層体単位−9の(A−7)層面上に
積層体単位−8、ついで同単位−7、同単位−6となる
よう順次、(A)層面と(C−4)層面との間を接着剤
にて接着し、積層体単位−5、9、8、7、6が順次積
層された複層単位構造体を得た。この構造体の(C−
4)層面に厚さ50μmのITOシート(注1)を接着
剤にて接着して積層型電波反射防止体を得た。
【0040】実施例5 実施例1において、電波反射体層であるITO層(E−
1)を有するITOシート(注1)のかわりに300mm
×300mm×100mmの鋼製柱である金属表面を有する
構造体を使用し、さらにITOパターン層(A)上に厚
さ50μm のウレタンクリヤ塗膜層を設ける以外は実施
例1と同様に行ない電波反射防止構造体を作成した。
【0041】比較例1 実施例1の電波反射防止体から電波反射体層であるIT
O層(E−1)を有するITOシート(注1)を除いた
構成の積層体を比較例1とした。
【0042】比較例2 厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、アクリル樹脂80部とメラミン樹脂20部との混合
物100部(固形分量)に対してコロイダルシリカMI
BK−ST333部(固形分量で100部)を含有する
塗料を乾燥膜厚が3mmとなるように塗装乾燥して(B)
層上にシリカ含有樹脂層を形成し、この積層体を比較例
2とした。
【0043】実施例1〜5ならびに比較例1および2で
得た電波反射防止体、電波反射防止構造体および積層体
(比較例)を測定試料とし、これらについて電波反射防
止効果を下記の方法によって測定した。その結果を後記
表2に示す。また実施例1〜4の電波反射防止体、比較
例1および2の積層体の重量を表2に示す。実施例5に
ついては鋼製柱に接着した積層体の重量を表2に示す。
【0044】電波反射防止効果の測定方法 電波反射率が0.01%以下の電波吸収体を部屋の壁面
に貼りつけた電波暗室の中に送信用ホーンアンテナと受
信用ホーンアンテナとを入射電波と反射電波との角度が
5°となるように設置し、それぞれのアンテナから60
cmの距離となるように金属反射板を置き、反射してくる
信号を受信用ホーンアンテナで受信してその電波反射率
を100%とする。次に金属反射板のかわりに測定試料
を置き、種々の周波数について測定試料表面から反射し
てくる信号から最大吸収周波数、最大吸収周波数におけ
る電波反射率、有効吸収帯域(最大吸収周波数の周辺で
3%以下の電波反射率を示す周波数帯域)を測定する。
【0045】
【表2】
【0046】
【発明の効果】本発明に基づく実施例1〜4から明らか
なように本発明の電波反射防止体は、膜厚が薄くて軽量
であっても電波反射率が非常に小さな値を示し、有効吸
収帯域も広い。比較例1の結果から電波反射体層(E)
がない場合には非常に高い電波反射率を示し、実質的に
電波反射防止体としての効果がなく、また比較例2の結
果から誘電材粉末であるシリカ粉末含有樹脂層のみで電
波反射率を低くするためには厚膜が必要であり、誘電材
粉末であるシリカ粉末含有樹脂層のみでは有効吸収帯域
も狭い。以上のことから本発明の電波反射防止体におい
ては、ITOパターン層(A)、樹脂層(C)を必須構
成要素とした積層体単位を複数個積層した積層体を電波
反射体層(E)上に積層してなる構造によって、積層体
および電波反射体層(E)の相互の、予想以上の特殊な
波動干渉または波動エネルギーの打消し合いによって効
果的な電波反射防止をなすことができる。また、本発明
の電波反射防止体から電波反射体層(E)を除いた複数
単位構造体を金属表面を有する電波反射構造体上に形成
した本発明方法である実施例5においても良好な電波反
射防止効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図2】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図3】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図4】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図5】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図6】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図7】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図8】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図9】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図10】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図11】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図12】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)における図形単位の配列パターンの一例である。
【図13】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図14】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図15】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図16】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図17】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の一例である。
【図18】本発明の電波反射防止体のパターン塗膜層
(A)を構成する図形単位の配列パターンの一例であ
る。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 板状または紐帯状のインジウム−錫酸化
    物(ITO)層で形成される幾何学的模様状に形成され
    た厚さ0.01〜50μmのITOパターン層(A)、
    必要ならば介在してもよい透明支持層(B)、さらに透
    明樹脂層(C)、および必要ならば介在してもよい透明
    支持層(D)を順次積層してなる積層体を1単位として
    該積層体単位を層(A)側が層(C)または層(D)側
    に面するように複数個積層してなる透明な複数単位構造
    体を、透明な電波反射体層(E)上に、該構造体の層
    (C)または層(D)側が層(E)に面するように積層
    してなる構造を有する積層型電波反射防止体。
  2. 【請求項2】 透明樹脂層(C)が、透明な誘電材粉末
    を含有するものであることを特徴とする請求項1記載の
    電波反射防止体。
  3. 【請求項3】 透明な誘電材粉末が、粒径100μm以
    下のシリカ粉末である請求項2記載の電波反射防止体。
  4. 【請求項4】 電波反射防止体の最上層のITOパター
    ン層(A)上に、さらにクリヤ樹脂層が設けられてなる
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電波
    反射防止体。
  5. 【請求項5】 構造体上に、請求項1〜4のいずれかに
    記載の電波反射防止体を形成することを特徴とする電波
    反射防止方法。
  6. 【請求項6】 電波反射構造体上に、板状または紐帯状
    のインジウム−錫酸化物(ITO)層で形成される幾何
    学的模様状に形成された厚さ0.01〜50μmのIT
    Oパターン層(A)、必要ならば介在してもよい透明支
    持層(B)、さらに透明樹脂層(C)、および必要なら
    ば介在してもよい透明支持層(D)を順次積層してなる
    積層体を1単位として該積層体単位を層(A)側が層
    (C)または層(D)側に面するように複数個積層して
    なる透明な複数単位構造体を形成することを特徴とする
    電波反射防止方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003069278A (ja) * 2001-08-30 2003-03-07 Toppan Printing Co Ltd 電波吸収体
JP2003078276A (ja) * 2001-08-30 2003-03-14 Toppan Printing Co Ltd 電波吸収体
WO2006027978A1 (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 電波吸収体
US7864095B2 (en) 2004-02-27 2011-01-04 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Wave absorber and manufacturing method of wave absorber

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003069278A (ja) * 2001-08-30 2003-03-07 Toppan Printing Co Ltd 電波吸収体
JP2003078276A (ja) * 2001-08-30 2003-03-14 Toppan Printing Co Ltd 電波吸収体
US7864095B2 (en) 2004-02-27 2011-01-04 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Wave absorber and manufacturing method of wave absorber
WO2006027978A1 (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 電波吸収体
US7777664B2 (en) 2004-09-06 2010-08-17 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Wave absorber
KR101253688B1 (ko) * 2004-09-06 2013-04-11 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 전파 흡수체

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