JPH11320963A - 光像形成方法及びその装置、光加工装置並びに露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ダメージ防止マクス６を設けることにより、
ＤＭＤの各ミラー間の間隙を通過した光によってＤＭＤ
２が損傷されることがない光像形成方法及びその装置、
光加工装置並びに露光装置を提供する。 【解決手段】 光源１、ＤＭＤ２、ＤＭＤ２からの反射
光を加工対象物５上に結像するマイクロレンズ３を有す
る光像形成装置と、加工パターンのデータに基づいてＤ
ＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを制御する制御装置４
とを設ける。上記光像形成装置は、光源１からＤＭＤ２
に照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行
しようとする光を遮る遮光部を有するダメージ防止マク
ス６を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に対して光
像を形成する光像形成方法及びその装置に係り、詳しく
は、反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからな
る空間光変調器の反射光を対象物に対して照射すること
により、該対象物上に光像を形成する光像形成方法及び
その装置、並びに該装置を用いた光加工装置及び露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の光像形成方法に用いるこ
とができる空間光変調器として、固定軸周りに回転する
マイクロミラーと呼ばれる多数の小型ミラーがＳｉ等の
半導体基板上に形成されたデバイス（以下、「ＤＭＤ
（デジタル・マイクロミラー・デバイス）」という）が
知られている。このＤＭＤは光源からの光が照射され、
静電界作用などによって回転制御された各マイクロミラ
ーで偏向される。ここで、各マイクロミラーを選択的に
回転させて反射面の傾きを変化させることにより、各マ
イクロミラーからの反射光で対象物が選択的に照射さ
れ、該対象物上に光像を形成することができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
複数のミラーを用いた空間変調器に強力な光を照射する
場合、各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外の
部分にあたった光によって、空間変調器の一部が損傷を
受けるおそれがあった。

【０００４】一方、従来、対象物に光を照射して該対象
物を加工する光加工装置として、加工パターンの貫通孔
が形成されたアパチャーマスクを通過した光を対象物上
に結像するものが知られているが、本発明者は、上記空
間光変調器を応用することにより、加工パターンに対応
したアパチャーマスクを用意しなくても任意の加工パタ
ーンの貫通孔や凹部を対象物に形成することができるこ
とを見いだした。

【０００５】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その第１の目的は、空間光変調器の各ミラー間
の間隙を通過した光によって該空間光変調器が損傷され
ることがない光像形成方法及びその装置を提供すること
である。また、その第２の目的は、加工パターンに対応
したアパチャーマスクを用意しなくても任意の加工パタ
ーンの貫通孔や凹部を対象物に形成することができる光
加工装置を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、請求項１の発明は、反射面の傾きを独立制御
可能な複数のミラーからなる空間光変調器に光源の光を
照射し、該空間光変調器からの反射光を対象物上に結像
することにより、該対象物上に光像を形成する光像形成
方法であって、該光源から該空間光変調器に照射される
光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする
光を遮ることを特徴とするものである。

【０００７】この請求項１の光像形成方法では、光源か
ら空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙
に向かって進行しようとする光を遮ることにより、光源
からの光が各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以
外の部分にあたらないようにする。

【０００８】請求項２の発明は、光源と、該光源からの
光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラ
ーからなる空間光変調器と、該空間光変調器からの反射
光を対象物上に結像する光学系とを備えた、該対象物上
に光像を形成する光像形成装置であって、該光源から該
空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に
向かって進行しようとする光を遮る遮光部を有する部分
遮光部材を設けたことを特徴とするものである。

【０００９】この請求項２の光像形成装置では、光源か
ら空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙
に向かって進行しようとする光を、部分遮光部材の遮光
部で遮ることにより、光源からの光が各ミラー間の間隙
を通過してミラー反射面以外の部分にあたらないように
する。

【００１０】請求項３の発明は、請求項２の光像形成装
置において、上記部分遮光部材として、透明基板上に光
反射面からなる遮光部を形成したものを用いたことを特
徴とするものである。

【００１１】この請求項３の光像形成装置では、透明基
板上に光反射面からなる遮光部を形成した簡易構成の部
分遮光部材により、光源から空間光変調器に照射される
光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようとする
光を遮る。

【００１２】なお、上記部分遮光部材の光反射面は、光
源からの光が入射する側の面に形成することが望まし
い。この場合には、該部分遮光部材の内部での光の吸収
が少なくなり、該部分遮光部材の損傷が発生しにくくな
る。

【００１３】また、上記部分遮光部材の光反射面は、高
反射率で且つ光散乱面にしてもよい。このように光反射
面を光散乱面にした場合は、光反射面から反射されて周
囲の部材に照射される光のエネルギー密度が小さくなる
ため、該周囲の部材の損傷が発生しにくくなる。また、
上記部分遮光部材の光反射面を、光源からの光の光軸に
対して垂直にならないようにわずかに傾けるとともに、
周囲の部材の該光反射面で反射された光が当たる部分
を、該光による損傷を受けにくいファインセラミックス
等の材質で形成しておいてもよい。

【００１４】請求項４の発明は、請求項２の光像形成装
置において、上記部分遮光部材の位置を調整する位置調
整機構と、上記空間光変調器からの反射光の強度を検出
する光検出手段と、該光検出手段の検出結果に基づいて
該位置調整機構を制御する制御手段とを設けたことを特
徴とするものである。

【００１５】この請求項４の光像形成装置では、位置調
整機構で部分遮光部材の位置を変化させながら光検出手
段で空間光変調器からの反射光の強度を検出する。この
光検出手段の検出結果に基づいて位置調整機構を制御
し、該反射光の強度が最大になるように部分遮光部材の
位置を調整する。この調整により、部分遮光部材の遮光
部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実
に照射されるようにする。

【００１６】なお、上記位置調整をより精度の高いもの
にするために、該位置調整時に、各ミラーの反射面の中
心部に進行しようとする光を遮る第２の部分遮光部材
を、上記部分遮光部材の表面側又は裏面側に挿入し、上
記光検出手段で検知される光の強度変化率を大きくする
のが好ましい。

【００１７】請求項５の発明は、請求項２の光像形成装
置において、上記空間光変調器及び上記部分遮光部材を
微振動させる振動手段を設けたことを特徴とするもので
ある。

【００１８】この請求項５の光像形成装置では、振動手
段で空間光変調器及び部分遮光部材を微振動させること
により、該空間光変調器の各ミラー間の間隙が投影され
た未照射部が対象物上に発生しないようにする。

【００１９】請求項６の発明は、請求項２の光像形成装
置において、上記空間光変調器及び上記部分遮光部材の
温度を一定に保持する温度保持手段を設けたことを特徴
とするものである。

【００２０】この請求項６の光像形成装置では、温度保
持手段で空間光変調器及び部分遮光部材の温度を一定に
保持することにより、装置周囲の環境温度の変動や光に
よる加熱によって該空間光変調器及び該部分遮光部材が
膨張・収縮しないようにし、該部分遮光部材の遮光部以
外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照
射されるようにする。

【００２１】また、上記第２の目的を達成するために、
請求項７の発明は、光源、該光源からの光を反射する反
射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間
光変調器、および該空間光変調器からの反射光を対象物
上に結像する光学系を有する光像形成装置と、加工パタ
ーンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミラーの反
射面の傾きを制御する制御手段とを設けたことを特徴と
するものである。

【００２２】この請求項７の光加工装置では、制御手段
により加工パターンのデータに基づいて空間光変調器の
各ミラーの反射面の傾きを制御し、該加工パターンに対
応する光像を加工対象物上に形成する。この光像により
加工対象物の一部を除去し、該加工対象物上に該加工パ
ターンに対応した貫通孔または凹部を形成する。

【００２３】請求項８の発明は、光源、該光源からの光
を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラー
からなる空間光変調器、および該空間光変調器からの反
射光を感光材料からなる露光対象物上に結像する光学系
を有する光像形成装置と、露光パターンのデータに基づ
いて該空間光変調器の各ミラーの反射面の傾きを制御す
る制御手段とを設けたことを特徴とするものである。

【００２４】この請求項８の露光装置では、制御手段に
より露光パターンのデータに基づいて空間光変調器の各
ミラーの反射面の傾きを制御し、該露光パターンに対応
する光像を感光材料からなる露光対象物上に形成する。
この光像により該露光対象物の一部を感光し、該露光対
象物を溶剤で部分的に溶かしてフォトレジストパターン
を形成したり、該露光対象物の電位を部分的に低下させ
て帯電パターンを形成したりすることができるようにす
る。

【００２５】なお、上記請求項７の光加工装置及び請求
項８の露光装置における上記光像形成装置として、請求
項２、３、４、５または６の光像形成装置を用いたこと
が好ましい。請求項２の光像形成装置を用いた場合は、
光源から空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間
の間隙に向かって進行しようとする光を、部分遮光部材
の遮光部で遮ることにより、光源からの光が各ミラー間
の間隙を通過してミラー反射面以外の部分にあたらない
ようにすることができる。また、請求項３の光像形成装
置を用いた場合は、透明基板上に光反射面からなる遮光
部を形成した簡易構成の部分遮光部材により、光源から
空間光変調器に照射される光のうち各ミラー間の間隙に
向かって進行しようとする光を遮ることができる。ま
た、請求項４の光像形成装置を用いた場合は、空間光変
調器からの反射光の強度を検出する光検出手段の検出結
果に基づいて位置調整機構を制御し、該反射光の強度が
最大になるように部分遮光部材の位置を調整することが
できる。この調整により、部分遮光部材の遮光部以外の
部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照射さ
れる。また、請求項５の光像形成装置を用いた場合は、
空間光変調器及び部分遮光部材を微振動させることによ
り、該空間光変調器の各ミラー間の間隙が投影された未
照射部が加工対象物上又は露光対象物上に発生しないよ
うにすることができる。また、請求項６の光像形成装置
を用いた場合は、温度調整手段で空間光変調器及び遮光
部材の温度を一定に保持し、装置周囲の環境温度の変動
や光による加熱によって該空間光変調器及び該遮光部材
が膨張・収縮しないようにし、部分遮光部材の遮光部以
外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に照
射されるようにすることができる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。図１は本発明に係る光
像形成装置を備えた印刷マスク製造用の光加工装置の概
略構成図である。この装置は、光源１と、反射面の傾き
を独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器と
してのＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）
２と、ＤＭＤ２からの反射光を加工対象物５上に結像す
る光学系としてのマイクロレンズ３と、加工パターンに
基づいてＤＭＤ２の各ミラーの反射面の傾きを制御する
制御手段としての制御装置４と、光源１からＤＭＤ２に
照射される光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行し
ようとする光を遮る部分遮光部材としてのダメージ防止
マスク６とを用いて構成されている。

【００２７】上記光源１としては、加工対象物５として
のプラスチックシート（例えばＰＥＴシート）をアブレ
ーション加工可能な紫外レーザ光を出射するエキシマレ
ーザを用いている。光源１とＤＭＤ２との間には、必要
に応じてスリットを挿入してもよい。また、加工対象物
５は、図示しないＸ−Ｙステージ上にセットされてい
る。

【００２８】図２（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、光照
射面に垂直な方向から見たＤＭＤ２及びダメージ防止マ
スク６の説明図である。なお、図１及び図２（ａ），
（ｂ）には、説明の都合上、座標Ｘ’、Ｘ”及びＹも併
せて示している。ＤＭＤ２は、図２（ａ）に例示するよ
うに、Ｌｘ’×Ｌｙの四角形の形状をした多数のミラー
Ｍで構成されている。このミラーＭが、間隙（ギャッ
プ）ｇｘ’及びｇｙで配列されている。

【００２９】ここで、図１に示すようにＤＭＤ２が水平
面に対して角度θだけ傾けて配設されているので、加工
対象物５上の各ミラーの像を正方形（Ｌｘ＝Ｌｙ）とす
るために、各ミラーＭの寸法及びギャップは、Ｌｙ＝Ｌ
ｘ’・ｃｏｓθ及びｇｙ＝ｇｘ’・ｃｏｓθの関係を満
足するように設定されている（図２（ａ）参照）。例え
ば、θ＝４５度、Ｌｙ＝１６μm及びｇｙ＝１μmの場
合、Ｌｘ’≒２２．６μm及びｇｘ’≒１．４μmとな
る。

【００３０】また、各ミラーＭは２つの固定端Ｍａを結
ぶ対角線を中心にして可動端Ｍｂ側が揺動し、反射面が
傾くようになっている。図２（ａ）の例では、可動端Ｍ
ｂは図示しない基板側の電極で生じた電界により静電気
力を受けて揺動する。

【００３１】上記ダメージ防止マスク６は、上記レーザ
光に対して透明な透明基板（石英板、ガラス板など）の
上記各ミラーＭ間の間隙に対応する部分６ａ及び外周部
６ｂに、遮光部としての光反射面（図２（ｂ）のハッチ
ングを付した部分）が形成されている。この光反射面
は、真空蒸着法等を用いてＡｌ等の金属薄膜を形成する
ことにより形成することができる。より大きな反射率を
得るために誘電体多層コーティング層にしてもよい。ま
た、上記光反射面は、その投影がＤＭＤ２の各ミラー間
の間隙を確実に覆うように設定される。

【００３２】ここで、図１に示すようにＤＭＤ２が水平
面に対して角度θだけ傾けて配設されているので、光源
１からＤＭＤ２に照射されるレーザ光Ｌが平行ビームで
ある条件下で加工対象物５上の各ミラーの像を正方形
（Ｌｘ＝Ｌｙ）とするために、ダメージ防止マスク６の
光反射面で囲まれた光通過部６ｃの寸法及びギャップ
は、Ｌｙ＝（Ｌｘ”／ｓｉｎθ）・ｃｏｓθ及びｇｙ＝
（ｇｘ”／ｓｉｎθ）・ｃｏｓθの関係を満足するよう
に設定されている。例えば、θ＝４５度、Ｌｙ＝１６μ
m及びｇｙ＝１μmの場合、Ｌｘ”＝１６μm及びｇｘ”
＝１μmとなる。

【００３３】また、本実施形態では、ＤＭＤ２及びダメ
ージ防止マスク６の温度を一定に保持する温度保持手段
を設けている。この温度保持手段は、レーザ光Ｌの光路
に光通過窓を形成したカバー部材７と、カバー部材７内
の温度を調整する図示しない温度調整装置とにより構成
されている。温度調整装置は、例えばカバー部材７内の
温度を検知する温度センサ、カバー部材内に冷却ガスを
送り込む冷却ファン、それらの制御装置等で構成するこ
とができる。この温度保持手段でＤＭＤ２及びダメージ
防止マスク６の温度を一定に保持することにより、装置
周囲の環境温度の変動又は光による加熱がある場合で
も、ＤＭＤ２及びダメージ防止マスク６が膨張・収縮し
ないようになるので、ダメージ防止マスク６の光通過部
６ｃを通過した光が、各ミラーＭの反射面に確実に照射
される。

【００３４】上記マイクロレンズ３は複数のレンズから
なり、各ミラーＭの反射面Ｒからの反射光を収束して加
工対象物５上に照射するものである。このマイクロレン
ズ３としては、例えば撮像素子であるＣＣＤ等の検知面
の各受光要素に光を集光するためのマイクロレンズと同
様なものを用いることできる。

【００３５】上記制御装置４は、画像データ処理部とミ
ラー駆動制御部とを備えている。画像データ処理部で
は、外部のコンピュータ等から送られてきた加工パター
ンの画像データに基づいて、ＤＭＤ２の各ミラーを駆動
制御を制御するための駆動制御データを生成する。上記
ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した駆
動制御データに基づいて、ＤＭＤ２の各ミラーの反射面
の傾きを独立制御する。この制御により、光源１からの
紫外レーザ光がＤＭＤ２で選択的に反射され、この反射
光（光像）がレンズ３で加工対象物５上に結像される。
この加工対象物５上に到達した紫外レーザ光で引き起こ
されるアブレーションにより、加工対象物５の一部が除
去され、加工対象物５に上記加工パターンに対応した貫
通孔又は凹部からなるパターンが形成される。

【００３６】以上、本実施形態によれば、加工パターン
に対応したアパチャーマスクを用意しなくても、任意の
加工パターンに対応する光像を加工対象物５上に形成す
ることにより、該加工対象物５上に該加工パターンに対
応した貫通孔または凹部を形成することができる。特
に、アパチャーマスクを用いた光加工装置の場合に該ア
パチャーマスクの加工対象物５上に投影されるパターン
を傾けようとすると、該アパチャーマスク自体を回転さ
せる必要があるが、本実施形態の加工装置によれば制御
装置４内のデータを修正するだけで任意の角度に傾けた
パターンを形成することができる。

【００３７】また、本実施形態によれば、光源１からの
光がＤＭＤ２の各ミラーＭ間の間隙を通過してミラー反
射面以外の部分にあたらないので、該間隙を通過した光
によるＤＭＤ２の損傷を防止することができる。

【００３８】なお、上記実施形態において、ダメージ防
止マスク６の位置を調整する位置調整機構と、ＤＭＤ２
からの反射光の強度を検出する光検出手段と、該光検出
手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制御する制
御手段とを設け、該光検出手段の検出結果に基づいて該
位置調整機構を制御し、該反射光の強度が最大になるよ
うに部分遮光部材の位置を調整するるように構成しても
よい。この構成により、ダメージ防止マスク６の遮光部
（光反射面６ａ、６ｂ）以外の部分（光通過部６ｃ）を
通過した光が、各ミラーＭの反射面に確実に照射される
ようにすることができる。上記制御手段としては前述の
制御装置４を用い、上記位置調整機構としてはサブミク
ロンオーダーの微小移動が可能な圧電素子等を用いたア
クチュエータを用いることができる。また、上記光検出
手段としては、図３に例示するように、ＤＭＤ２とレン
ズ３との間に挿入された光検出位置とＤＭＤ２からの反
射光を遮らない退避位置とを取り得るように取付けられ
た光センサ８を用いることができる。この構成の場合
は、上記ダメージ防止マスク６の位置調整を行うときだ
け、上記光センサ８を上記光検知位置に移動させる。

【００３９】また、図４に示すように、ＤＭＤ２とレン
ズ３との間に挿入したハーフミラー９と、ハーフミラー
９から反射された反射光を集光するレンズ１０と、レン
ズ１０で集光された光を検出する光センサ８とを組み合
わせたものを用いることもできる。この構成の場合は、
加工対象物５の加工中にダメージ防止マスク６の位置が
ずれているか否かをモニターすることができる。

【００４０】また、上記図３及び図４に示すようにＤＭ
Ｄ２から反射した光を光センサ８で検知してダメージ防
止マスク６の位置調整を行う場合、該位置調整時に、各
ミラーの反射面の中心部に進行しようとする光を遮る第
２の部分遮光部材を、上記部分遮光部材の表面側又は裏
面側に挿入し、光センサ８で検知される光の強度変化率
を大きくするように構成してもよい。この構成の場合
は、上記ダメージ防止マスク６の位置調整をより精度の
高いものにすることができる。

【００４１】また、上記実施形態において、上記ＤＭＤ
２及び上記ダメージ防止マスク６を微振動させる振動手
段を設けてもよい。このようにダメージ防止マスク６を
微振動させることにより、加工対象物５上に、ＤＭＤ２
の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が対象物上に
発生しないようにすることができる。上記振動手段とし
ては、圧電素子等を用いることができる。

【００４２】また、上記実施形態においては、光源１と
して平行ビームからなるレーザ光Ｌを出射するレーザを
用い、該レーザ光ＬをＤＭＤ２に照射するように光学系
を構成しているが、図５に示すように、光源１として発
散光を出射するものを用い、該光源１からの光を集光光
学系１１でダメージ防止マスク６上に集光し、該マスク
６を通過した光を結像光学系１２でＤＭＤ２上に結像す
るように構成してもよい。図５において、ダメージ防止
マスク６の遮光パターンは、結像光学系１２でＤＭＤ２
上に拡大又は縮小されて投影されるので、該遮光パター
ンは拡大率又は縮小率を考慮して設定される。また、高
解像度の光像を加工対象物５上に形成する場合には、必
要に応じて、ダメージ防止マスク６をＤＭＤ２の反射面
と平行になるように配置し、上記集光光学系１１及び結
像光学系１２としてあおり光学系を用いてもよい。上記
ＤＭＤ２で反射された光像は結像光学系としてのレンズ
３’で加工対象物５上に照射される。

【００４３】なお、上記実施形態では印刷マスク製造用
の光加工装置について説明したが、本発明は、露光パタ
ーンのデータに基づいてＤＭＤ２の各ミラーの反射面の
傾きを制御し、該露光パターンに対応する光像を感光材
料からなる露光対象物上に形成する露光装置にも適用で
きるものであり、同様な効果が得られるものである。。
この露光装置では、上記光像で露光対象物（例えば、フ
ォトレジスト法に用いるレジスト膜や、電子写真方式の
複写機等において静電潜像が形成される感光体）の一部
を感光し、該露光対象物を溶剤で部分的に溶かしてレジ
ストパターンを形成したり、該感光体の電位を部分的に
低下させて帯電パターンを形成したりする。

【００４４】

【発明の効果】請求項１乃至６の発明によれば、光源か
らの光が各ミラー間の間隙を通過してミラー反射面以外
の部分にあたらないので、該間隙を通過した光による空
間光変調器の損傷を防止することができるという効果が
ある。

【００４５】特に、請求項３の発明によれば、透明基板
上に光反射面からなる遮光部を形成するという簡易構成
の部分遮光部材により、光源から空間光変調器に照射さ
れる光のうち各ミラー間の間隙に向かって進行しようと
する光を遮ることができる。しかも、金属材料で作成し
た場合に機械的に支えることができないという理由で作
成が困難であった遮光パターンも容易に作成することが
できるという効果がある。

【００４６】また特に、請求項４の発明によれば、光検
出手段の検出結果に基づいて位置調整機構を制御して部
分遮光部材の位置を調整することにより、部分遮光部材
の遮光部以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面
に確実に照射されるようにすることができるという効果
がある。

【００４７】また特に、請求項５の発明によれば、空間
光変調器の各ミラー間の間隙が投影された未照射部が対
象物上に発生しないようにすることができるという効果
がある。

【００４８】また特に、請求項６の発明によれば、装置
周囲の環境温度の変動や光による加熱がある場合でも、
空間光変調器及び遮光部材の温度を一定にして膨張・収
縮しないようにすることにより、部分遮光部材の遮光部
以外の部分を通過した光が、各ミラーの反射面に確実に
照射されるようにするができるという効果がある。

【００４９】請求項７の発明によれば、加工パターンに
対応したアパチャーマスクを用意しなくても、加工対象
物上に任意形状の加工パターンに対応した貫通孔または
凹部を形成することができるという効果がある。

【００５０】請求項８の発明によれば、感光材料からな
る露光対象物上に任意形状のフォトレジストパターンや
帯電パターンを形成することができるという効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る光像形成装置を備えた
光加工装置の概略構成図。

【図２】（ａ）は、同光像形成装置に用いたＤＭＤの説
明図。（ｂ）は、同光像形成装置に用いたダメージ防止
マスクの説明図。

【図３】他の実施形態に係る光加工装置の概略構成図。

【図４】更に他の実施形態に係る光加工装置の概略構成
図。

【図５】更に他の実施形態に係る光加工装置の概略構成
図。

【符号の説明】

１ 光源 ２ ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイ
ス） ３ マイクロレンズ ３’ 結像用レンズ ４ 制御装置 ５ 加工対象物 ６ ダメージ防止用マスク ６ａ 光反射面（遮光部） ６ｂ 外周部の光反射面 ６ｃ 光通過部 ７ カバー部材 ８ 光センサ ９ ハーフミラー １０ 集光レンズ １１ 集光光学系 １２ 結像光学系 Ｍ ミラー

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラ
   ーからなる空間光変調器に光源の光を照射し、該空間光
   変調器からの反射光を対象物上に結像することにより、
   該対象物上に光像を形成する光像形成方法であって、 該光源から該空間光変調器に照射される光のうち各ミラ
   ー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮ることを
   特徴とする光像形成方法。
2. 【請求項２】光源と、該光源からの光を反射する反射面
   の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変
   調器と、該空間光変調器からの反射光を対象物上に結像
   する光学系とを備えた、該対象物上に光像を形成する光
   像形成装置であって、 該光源から該空間光変調器に照射される光のうち各ミラ
   ー間の間隙に向かって進行しようとする光を遮る遮光部
   を有する部分遮光部材を設けたことを特徴とする光像形
   成装置。
3. 【請求項３】請求項２の光像形成装置において、 上記部分遮光部材として、透明基板上に光反射面からな
   る遮光部を形成したものを用いたことを特徴とする光像
   形成装置。
4. 【請求項４】請求項２の光像形成装置において、 上記部分遮光部材の位置を調整する位置調整機構と、 上記空間光変調器からの反射光の強度を検出する光検出
   手段と、 該光検出手段の検出結果に基づいて該位置調整機構を制
   御する制御手段とを設けたことを特徴とする光像形成装
   置。
5. 【請求項５】請求項２の光像形成装置において、 上記空間光変調器及び上記部分遮光部材を微振動させる
   振動手段を設けたことを特徴とする光像形成装置。
6. 【請求項６】請求項２の光像形成装置において、 上記空間光変調器及び上記部分遮光部材の温度を一定に
   保持する温度保持手段を設けたことを特徴とする光像形
   成装置。
7. 【請求項７】光源、該光源からの光を反射する反射面の
   傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調
   器、および該空間光変調器からの反射光を加工対象物上
   に結像する光学系を有する光像形成装置と、 加工パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミ
   ラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設けたこと
   を特徴とする光加工装置。
8. 【請求項８】光源、該光源からの光を反射する反射面の
   傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調
   器、および該空間光変調器からの反射光を感光材料から
   なる露光対象物上に結像する光学系を有する光像形成装
   置と、 露光パターンのデータに基づいて該空間光変調器の各ミ
   ラーの反射面の傾きを制御する制御手段とを設けたこと
   を特徴とする露光装置。