JPH11310432A - 基板用ガラス組成物 - Google Patents
基板用ガラス組成物Info
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- JPH11310432A JPH11310432A JP11729198A JP11729198A JPH11310432A JP H11310432 A JPH11310432 A JP H11310432A JP 11729198 A JP11729198 A JP 11729198A JP 11729198 A JP11729198 A JP 11729198A JP H11310432 A JPH11310432 A JP H11310432A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
Abstract
(57)【要約】
【課題】表示装置基板用ガラス組成物を得る。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ2 ：４５〜６５未満、Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：０〜３０、ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ：５８〜７
５未満、Ｂ2 Ｏ3 ：２〜１０、ＭｇＯ：０〜１０、Ｃａ
Ｏ：０〜１５、Ｎａ2 Ｏ：０〜１２、Ｋ2 Ｏ：０〜１
６、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１〜１７．５、ＭｇＯ＋ＣａＯ
＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：１５超〜３２、Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：２５超〜４２からなる。
ｌ2 Ｏ3 ：０〜３０、ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ：５８〜７
５未満、Ｂ2 Ｏ3 ：２〜１０、ＭｇＯ：０〜１０、Ｃａ
Ｏ：０〜１５、Ｎａ2 Ｏ：０〜１２、Ｋ2 Ｏ：０〜１
６、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１〜１７．５、ＭｇＯ＋ＣａＯ
＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：１５超〜３２、Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：２５超〜４２からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットディスプ
レイ、特に透明電極を使用し、パネル周囲をフリットシ
ールすることで製造されるフィールドエミッションディ
スプレイ（ＦＥＤ）やプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）用などの基板用ガラス組成物に関する。
レイ、特に透明電極を使用し、パネル周囲をフリットシ
ールすることで製造されるフィールドエミッションディ
スプレイ（ＦＥＤ）やプラズマディスプレイパネル（Ｐ
ＤＰ）用などの基板用ガラス組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】フラットディスプレイに関して様々な表
示方式が開発されているが、そのなかでも、前面、背面
のガラス基板上に電極を形成し、両基板間で発生させた
電子線や放電を利用し蛍光体を発光させる自発光式のデ
ィスプレイが注目されてきている。その代表例としては
ＦＥＤやＰＤＰなどが挙げられる。
示方式が開発されているが、そのなかでも、前面、背面
のガラス基板上に電極を形成し、両基板間で発生させた
電子線や放電を利用し蛍光体を発光させる自発光式のデ
ィスプレイが注目されてきている。その代表例としては
ＦＥＤやＰＤＰなどが挙げられる。
【０００３】ＦＥＤは現在様々な方式が提案されている
が、いずれも、背面基板上の電極で発生させた電子線を
前面基板上の透明電極に照射し、透明電極上にパターニ
ングした蛍光体を励起・発光させる方式を採用してい
る。このとき、ブラウン管と同様に照射空間は真空状態
が必要となるため、パネルは周囲をフリットシールされ
た後、真空排気されて作製される。
が、いずれも、背面基板上の電極で発生させた電子線を
前面基板上の透明電極に照射し、透明電極上にパターニ
ングした蛍光体を励起・発光させる方式を採用してい
る。このとき、ブラウン管と同様に照射空間は真空状態
が必要となるため、パネルは周囲をフリットシールされ
た後、真空排気されて作製される。
【０００４】また、ＰＤＰは一般的に、前面基板上の透
明電極間でプラズマ放電を起こし紫外線を発生させ、背
面基板上に形成された画素空間中の蛍光体を励起・発光
させている。この放電はＸｅ−Ｎｅ混合ガス中で行う必
要があるため、パネルは周囲をフリットシールし混合ガ
スを封入して作製される。
明電極間でプラズマ放電を起こし紫外線を発生させ、背
面基板上に形成された画素空間中の蛍光体を励起・発光
させている。この放電はＸｅ−Ｎｅ混合ガス中で行う必
要があるため、パネルは周囲をフリットシールし混合ガ
スを封入して作製される。
【０００５】いずれの方式にも共通することとして、前
面基板上に透明電極を形成すること、および前面、背面
の基板をフリットシールしてパネルを作製することが挙
げられる。透明電極としてはＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 ：Ｓ
ｎ）やＳｎＯ2 が一般的に用いられている。
面基板上に透明電極を形成すること、および前面、背面
の基板をフリットシールしてパネルを作製することが挙
げられる。透明電極としてはＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 ：Ｓ
ｎ）やＳｎＯ2 が一般的に用いられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このようなフラットデ
ィスプレイ用基板として、建築用または自動車用として
広く用いられるソーダ石灰ガラスや、特開平３−４０９
３３や特開平７−２５７９３７、特開平８−１６５１３
８、特開平８−２９０９３８、特開平９−２０２６４１
等に開示された、耐熱性を改善した高歪点ガラスが知ら
れている。しかし、透明電極として使用されるＩＴＯや
ＳｎＯ2 の５０〜３５０℃における平均熱膨張係数は約
４０×１０-7／℃であるのに対し、これら基板ガラスの
５０〜３５０℃における平均熱膨張係数は７５×１０-7
〜９５×１０-7／℃と大きいため、温度変化によって生
じる膨脹、収縮のため両者が剥離したり、透明電極膜に
クラックを生じたりするなどの問題があり、歩留を低下
させるという課題があった。
ィスプレイ用基板として、建築用または自動車用として
広く用いられるソーダ石灰ガラスや、特開平３−４０９
３３や特開平７−２５７９３７、特開平８−１６５１３
８、特開平８−２９０９３８、特開平９−２０２６４１
等に開示された、耐熱性を改善した高歪点ガラスが知ら
れている。しかし、透明電極として使用されるＩＴＯや
ＳｎＯ2 の５０〜３５０℃における平均熱膨張係数は約
４０×１０-7／℃であるのに対し、これら基板ガラスの
５０〜３５０℃における平均熱膨張係数は７５×１０-7
〜９５×１０-7／℃と大きいため、温度変化によって生
じる膨脹、収縮のため両者が剥離したり、透明電極膜に
クラックを生じたりするなどの問題があり、歩留を低下
させるという課題があった。
【０００７】また、平均熱膨張係数が５０×１０-7／℃
以下である液晶用の基板ガラスも知られている（特開昭
６３−７４９３５、特開平４−１６００３０、特開平４
−３２５４３４、特開平６−２６３４７３）。これらを
基板ガラスとして用いれば、透明電極との熱膨脹係数が
近いため、上記歩留を向上することが可能となる。しか
し、これら基板ガラスの熱膨張係数は非常に小さく、こ
れに適したシールフリット材料の焼成温度は非常に高い
ため、フリットシール時に画素を構成している他の部材
の化学変化や軟化流動が起こるという問題があった。
以下である液晶用の基板ガラスも知られている（特開昭
６３−７４９３５、特開平４−１６００３０、特開平４
−３２５４３４、特開平６−２６３４７３）。これらを
基板ガラスとして用いれば、透明電極との熱膨脹係数が
近いため、上記歩留を向上することが可能となる。しか
し、これら基板ガラスの熱膨張係数は非常に小さく、こ
れに適したシールフリット材料の焼成温度は非常に高い
ため、フリットシール時に画素を構成している他の部材
の化学変化や軟化流動が起こるという問題があった。
【０００８】ここで、平均熱膨張係数が６０×１０-7〜
７５×１０-7／℃である基板用ガラスが知られている
（特開平３−１７０３４３、特開平９−２４９４３
０）。これらのガラスを基板として用いれば、透明電極
と熱膨脹係数が比較的近いため、上記歩留を向上するこ
とが可能となり、またアルミナセラミックス基板用のシ
ールフリット材料を用いて他の部材の化学変化や軟化流
動を起こすことなくパネルを製造することが可能とな
る。しかし、特開平３−１７０３４３記載のガラス組成
物は比重が大きく、部材の軽量化が困難であり、また傷
が付きやすいという課題があった。また、特開平９−２
４９４３０記載のガラス組成物はＳｉＯ2 およびＡｌ2
Ｏ3 含有量が多いため、高温粘度が高く、フロート成形
が困難であるという課題があった。フロート成形はガラ
スの粘度として１０4 ポアズに相当する温度付近で行わ
れるが、１３００℃を超える温度では成形が困難である
ため、それ以下の温度で成形できるガラスが求められて
いる。
７５×１０-7／℃である基板用ガラスが知られている
（特開平３−１７０３４３、特開平９−２４９４３
０）。これらのガラスを基板として用いれば、透明電極
と熱膨脹係数が比較的近いため、上記歩留を向上するこ
とが可能となり、またアルミナセラミックス基板用のシ
ールフリット材料を用いて他の部材の化学変化や軟化流
動を起こすことなくパネルを製造することが可能とな
る。しかし、特開平３−１７０３４３記載のガラス組成
物は比重が大きく、部材の軽量化が困難であり、また傷
が付きやすいという課題があった。また、特開平９−２
４９４３０記載のガラス組成物はＳｉＯ2 およびＡｌ2
Ｏ3 含有量が多いため、高温粘度が高く、フロート成形
が困難であるという課題があった。フロート成形はガラ
スの粘度として１０4 ポアズに相当する温度付近で行わ
れるが、１３００℃を超える温度では成形が困難である
ため、それ以下の温度で成形できるガラスが求められて
いる。
【０００９】また、平均熱膨張係数が７２×１０-7付近
であるガラスとしてショット社のＤ２６３、コーニング
社の＃０２１１などが知られている。しかし、これらの
ガラスはＺｎＯを多量含有するため、フロート法による
成形時に失透が生じやすいという課題があった。
であるガラスとしてショット社のＤ２６３、コーニング
社の＃０２１１などが知られている。しかし、これらの
ガラスはＺｎＯを多量含有するため、フロート法による
成形時に失透が生じやすいという課題があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、５０〜３５０
℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜７５×１０-7／℃
の範囲にあり、重量％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６５未満、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜３０未満、 ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ５８〜７５未満、 Ｂ2 Ｏ3 ２〜１０、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜１２、 Ｋ2 Ｏ ０〜１６、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １〜１７．５、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １５超〜３２、 Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ２５超〜４２、 からなる基板用ガラス組成物である。
℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜７５×１０-7／℃
の範囲にあり、重量％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６５未満、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜３０未満、 ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ５８〜７５未満、 Ｂ2 Ｏ3 ２〜１０、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜１２、 Ｋ2 Ｏ ０〜１６、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １〜１７．５、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １５超〜３２、 Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ２５超〜４２、 からなる基板用ガラス組成物である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明による組成の成分について
説明する。 ＳｉＯ2 ：ガラスの骨格を形成する成分で、４５重量％
（以下単に％と記載する）未満では、ガラスの耐熱性が
悪くなり、化学的耐久性が低下する。好ましくは４６％
以上である。他方、６５％以上では熱膨張係数が低下す
る。好ましくは６４％以下である。
説明する。 ＳｉＯ2 ：ガラスの骨格を形成する成分で、４５重量％
（以下単に％と記載する）未満では、ガラスの耐熱性が
悪くなり、化学的耐久性が低下する。好ましくは４６％
以上である。他方、６５％以上では熱膨張係数が低下す
る。好ましくは６４％以下である。
【００１２】Ａｌ2 Ｏ3 ：必須成分ではないが、ガラス
転移点を上げ、耐熱性を向上させる効果があるため含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、３０％
以上ではガラスの高温粘度が上昇し、フロート成形が困
難になる。好ましくは２９％以下である。
転移点を上げ、耐熱性を向上させる効果があるため含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、３０％
以上ではガラスの高温粘度が上昇し、フロート成形が困
難になる。好ましくは２９％以下である。
【００１３】ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ：ガラスの耐熱性や
化学的耐久性を向上させるため、合量で５８％以上含有
する。好ましくは５９％以上である。他方、合量で７５
％以上ではガラスの熱膨張係数が低下し、かつフロート
成形が困難になる。好ましくは７４％以下である。
化学的耐久性を向上させるため、合量で５８％以上含有
する。好ましくは５９％以上である。他方、合量で７５
％以上ではガラスの熱膨張係数が低下し、かつフロート
成形が困難になる。好ましくは７４％以下である。
【００１４】Ｂ2 Ｏ3 ：ガラスの溶解時の粘性を下げ、
溶解を促進する効果があるため２％以上含有する。好ま
しくは３％以上である。しかし、１０％超ではガラスの
熱膨脹係数が低下する。好ましくは９％以下である。
溶解を促進する効果があるため２％以上含有する。好ま
しくは３％以上である。しかし、１０％超ではガラスの
熱膨脹係数が低下する。好ましくは９％以下である。
【００１５】ＭｇＯ：必須成分ではないが、ガラスの溶
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１０％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ失透温度
が高くなる。好ましくは９％以下である。
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１０％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ失透温度
が高くなる。好ましくは９％以下である。
【００１６】ＣａＯ：必須成分ではないが、ガラスの溶
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１５％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ失透温度
が高くなる。好ましくは１４％以下である。
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１５％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ失透温度
が高くなる。好ましくは１４％以下である。
【００１７】Ｎａ2 Ｏ：必須成分ではないが、ガラスの
溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含
有させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１２
％超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつガラス
の化学耐久性が低下する傾向がある。好ましくは１１％
以下である。
溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含
有させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１２
％超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつガラス
の化学耐久性が低下する傾向がある。好ましくは１１％
以下である。
【００１８】Ｋ2 Ｏ：必須成分ではないが、ガラスの溶
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１６％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつガラスの
化学耐久性が低下する傾向がある。好ましくは１５％以
下である。
解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があるので含有
させうる。好ましくは１％以上である。しかし、１６％
超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつガラスの
化学耐久性が低下する傾向がある。好ましくは１５％以
下である。
【００１９】Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：ガラスの溶解温度での
粘性を下げ、溶解しやすくするため、合量で１％以上含
有する。好ましくは２％以上である。他方、合量で１
７．５％超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ
化学耐久性が低下する。好ましくは１７％以下である。
粘性を下げ、溶解しやすくするため、合量で１％以上含
有する。好ましくは２％以上である。他方、合量で１
７．５％超ではガラスの熱膨張係数が大きくなり、かつ
化学耐久性が低下する。好ましくは１７％以下である。
【００２０】ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：ガラ
スの溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくするため、
合量で１５％超含有する。好ましくは１６％以上であ
る。他方、合量で３２％超ではガラスの熱膨張係数が大
きくなり、かつ失透温度が高くなり、化学耐久性が低下
する。好ましくは３１％以下である。
スの溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすくするため、
合量で１５％超含有する。好ましくは１６％以上であ
る。他方、合量で３２％超ではガラスの熱膨張係数が大
きくなり、かつ失透温度が高くなり、化学耐久性が低下
する。好ましくは３１％以下である。
【００２１】Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ
2 Ｏ：ガラスの溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすく
するため、合量で２５％超含有する。好ましくは２６％
以上である。他方、合量で４２％超ではガラスの熱膨張
係数が大きくなり、かつ失透温度が高くなり、化学耐久
性が低下する。好ましくは４１％以下である。
2 Ｏ：ガラスの溶解温度での粘性を下げ、溶解しやすく
するため、合量で２５％超含有する。好ましくは２６％
以上である。他方、合量で４２％超ではガラスの熱膨張
係数が大きくなり、かつ失透温度が高くなり、化学耐久
性が低下する。好ましくは４１％以下である。
【００２２】以上の成分の他、ＳＯ3 、Ａｓ2 Ｏ3 、Ｓ
ｂ2 Ｏ3 等の清澄剤、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、ＣｏＯ等の
着色剤を適宜使用できる。また、電子線等によるブラウ
ニングを防止するため、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 をそれぞれ
２％以下、合量で２％以下添加できる。
ｂ2 Ｏ3 等の清澄剤、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、ＣｏＯ等の
着色剤を適宜使用できる。また、電子線等によるブラウ
ニングを防止するため、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 をそれぞれ
２％以下、合量で２％以下添加できる。
【００２３】また、ＣａＯ、ＭｇＯと同様の効果を得る
ために、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを添加できる。ただ
し、ＳｒＯ、ＢａＯの過度の添加は比重を大きくするお
それがあり、またＺｎＯの過度の添加は失透温度の上昇
をまねくおそれがあるため、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを
それぞれ２％以下、合量で２％以下とすることが好まし
い。また、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏと同様の効果を得るため
に、Ｌｉ2 Ｏを添加できる。ただし、過度の添加はガラ
ス転移点の低下をもたらすおそれがあるため、１％以下
とすることが好ましい。
ために、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを添加できる。ただ
し、ＳｒＯ、ＢａＯの過度の添加は比重を大きくするお
それがあり、またＺｎＯの過度の添加は失透温度の上昇
をまねくおそれがあるため、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを
それぞれ２％以下、合量で２％以下とすることが好まし
い。また、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏと同様の効果を得るため
に、Ｌｉ2 Ｏを添加できる。ただし、過度の添加はガラ
ス転移点の低下をもたらすおそれがあるため、１％以下
とすることが好ましい。
【００２４】本発明の基板用ガラス組成物は、典型的に
は、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜
７５×１０-7／℃の範囲にあるので、ガラス基板上に透
明電極を形成しても膜の剥離やクラックが発生しにく
く、高い歩留でＦＥＤやＰＤＰなどのパネルを製造する
ことが可能となる。また、アルミナセラミックス基板用
のシールフリット材料を用いてパネル周囲をシールし、
パネルを製造することが可能である。より好ましくは５
０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６１×１０-7〜７４×
１０-7／℃の範囲である。
は、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜
７５×１０-7／℃の範囲にあるので、ガラス基板上に透
明電極を形成しても膜の剥離やクラックが発生しにく
く、高い歩留でＦＥＤやＰＤＰなどのパネルを製造する
ことが可能となる。また、アルミナセラミックス基板用
のシールフリット材料を用いてパネル周囲をシールし、
パネルを製造することが可能である。より好ましくは５
０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６１×１０-7〜７４×
１０-7／℃の範囲である。
【００２５】また、本発明の基板用ガラス組成物の、ガ
ラスの粘度として１０4 ポアズに相当する温度は１３０
０℃以下であることが好ましい。より好ましくは１２７
０℃以下である。このため、フロート法による成形に適
している。
ラスの粘度として１０4 ポアズに相当する温度は１３０
０℃以下であることが好ましい。より好ましくは１２７
０℃以下である。このため、フロート法による成形に適
している。
【００２６】さらに、本発明の基板用ガラス組成物の比
重は２．６未満であることが好ましい。これによって、
部材の軽量化が達成でき、より軽いパネルの製造が可能
となる。
重は２．６未満であることが好ましい。これによって、
部材の軽量化が達成でき、より軽いパネルの製造が可能
となる。
【００２７】本発明のガラスは、例えば次のような方法
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
となるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し、
１５００〜１７００℃に加熱して溶融する。この溶解ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
となるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し、
１５００〜１７００℃に加熱して溶融する。この溶解ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
【００２８】
【実施例】各成分の原料を目標組成になるように調合
し、白金坩堝を用いて１５５０〜１６５０℃の温度で４
時間加熱し溶融した。溶解にあたっては、白金スターラ
ーを挿入し２時間撹拌しガラスの均質化を行った。次い
で溶解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
し、白金坩堝を用いて１５５０〜１６５０℃の温度で４
時間加熱し溶融した。溶解にあたっては、白金スターラ
ーを挿入し２時間撹拌しガラスの均質化を行った。次い
で溶解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
【００２９】こうして得られたガラスの比重ｄ、平均熱
膨張係数α（単位：×１０-7／℃）、ガラス転移点Ｔg
（単位：℃）、ガラスの粘度として１０4 ポアズに相当
する温度Ｔ4 （単位：℃）を測定し、表１〜２にガラス
組成とともに示した。以下に各物性の測定方法を示す。
膨張係数α（単位：×１０-7／℃）、ガラス転移点Ｔg
（単位：℃）、ガラスの粘度として１０4 ポアズに相当
する温度Ｔ4 （単位：℃）を測定し、表１〜２にガラス
組成とともに示した。以下に各物性の測定方法を示す。
【００３０】比重：泡を含まない約２０ｇのガラス塊を
アルキメデス法によって測定する。
アルキメデス法によって測定する。
【００３１】平均熱膨張係数：示差熱膨張計を用いて、
石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で
昇温した際のガラスの伸び率を測定する。測定はガラス
が軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度（屈伏
点）まで行い、５０〜３５０℃の平均の線熱膨張係数を
算出した。
石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で
昇温した際のガラスの伸び率を測定する。測定はガラス
が軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度（屈伏
点）まで行い、５０〜３５０℃の平均の線熱膨張係数を
算出した。
【００３２】ガラス転移点：熱膨張曲線における屈曲点
をガラス転移点とした。ガラスの粘度として１０4 ポア
ズに相当する温度：ガラスの粘度として１０4ポアズに
相当する温度を回転粘度計にて測定した。このうち、例
１５〜１９は比較例であり、例１５はソーダ石灰ガラス
の例、例１６は特開平３−１７０３４３記載の組成物の
例、例１７〜１９は特開平９−２４９４３０記載の組成
物の例である。
をガラス転移点とした。ガラスの粘度として１０4 ポア
ズに相当する温度：ガラスの粘度として１０4ポアズに
相当する温度を回転粘度計にて測定した。このうち、例
１５〜１９は比較例であり、例１５はソーダ石灰ガラス
の例、例１６は特開平３−１７０３４３記載の組成物の
例、例１７〜１９は特開平９−２４９４３０記載の組成
物の例である。
【００３３】表１より明らかなように、本発明の実施例
におけるガラスの平均熱膨張係数は６０×１０-7〜７５
×１０-7／℃の範囲にあるため、ガラス基板上に透明電
極を形成しても膜の剥離やクラックが発生しにくく、高
い歩留でＦＥＤやＰＤＰなどのパネルを製造することが
可能となる。また、アルミナセラミックス基板用のシー
ルフリット材料を用いてパネル周囲をシールし、パネル
を製造することができる。また、ガラスの粘度として１
０4 ポアズに相当する温度が１３００℃以下であるた
め、フロート法による成形に適している。さらに、比重
が２．６未満であるため、部材の軽量化が達成でき、よ
り軽いパネルの製造が可能となる。
におけるガラスの平均熱膨張係数は６０×１０-7〜７５
×１０-7／℃の範囲にあるため、ガラス基板上に透明電
極を形成しても膜の剥離やクラックが発生しにくく、高
い歩留でＦＥＤやＰＤＰなどのパネルを製造することが
可能となる。また、アルミナセラミックス基板用のシー
ルフリット材料を用いてパネル周囲をシールし、パネル
を製造することができる。また、ガラスの粘度として１
０4 ポアズに相当する温度が１３００℃以下であるた
め、フロート法による成形に適している。さらに、比重
が２．６未満であるため、部材の軽量化が達成でき、よ
り軽いパネルの製造が可能となる。
【００３４】一方、例１５は平均熱膨張係数が８７×１
０-7／℃であるため、ガラス基板上に透明電極を形成し
たときに膜の剥離やクラックが発生しやすく、高い歩留
でパネルを製造することは困難である。また、例１６は
比重が大きいため、部材の軽量化は困難である。また、
例１７〜１９はガラスの粘度として１０4 ポアズに相当
する温度が１３００℃以上になるため、フロート法によ
る成形が困難である。
０-7／℃であるため、ガラス基板上に透明電極を形成し
たときに膜の剥離やクラックが発生しやすく、高い歩留
でパネルを製造することは困難である。また、例１６は
比重が大きいため、部材の軽量化は困難である。また、
例１７〜１９はガラスの粘度として１０4 ポアズに相当
する温度が１３００℃以上になるため、フロート法によ
る成形が困難である。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【表２】
【００３７】
【発明の効果】本発明によるガラスは、平均熱膨張係数
が６０×１０-7〜７５×１０-7／℃の範囲にあるため、
ガラス基板上に透明電極を形成しても膜の剥離やクラッ
クが発生しにくく、またアルミナセラミックス基板用の
シールフリット材料を用いてパネル周囲をシールできる
ため、フラットディスプレイ、特にＦＥＤやＰＤＰ用な
どの基板等、かかる特性を要求する用途に最適である。
また、ガラスの粘度として１０4 ポアズに相当する温度
が１３００℃以下であるため、フロート法による成形に
適している。さらに、比重が２．６未満であるため、部
材の軽量化が達成でき、より軽いパネルの製造が可能と
なる。
が６０×１０-7〜７５×１０-7／℃の範囲にあるため、
ガラス基板上に透明電極を形成しても膜の剥離やクラッ
クが発生しにくく、またアルミナセラミックス基板用の
シールフリット材料を用いてパネル周囲をシールできる
ため、フラットディスプレイ、特にＦＥＤやＰＤＰ用な
どの基板等、かかる特性を要求する用途に最適である。
また、ガラスの粘度として１０4 ポアズに相当する温度
が１３００℃以下であるため、フロート法による成形に
適している。さらに、比重が２．６未満であるため、部
材の軽量化が達成でき、より軽いパネルの製造が可能と
なる。
Claims (3)
- 【請求項１】５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×
１０-7〜７５×１０-7／℃の範囲にあり、重量％表示で
実質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜６５未満、 Ａｌ2 Ｏ3 ０〜３０未満、 ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ５８〜７５未満、 Ｂ2 Ｏ3 ２〜１０、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＣａＯ ０〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜１２、 Ｋ2 Ｏ ０〜１６、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １〜１７．５、 ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ １５超〜３２、 Ｂ2 Ｏ3 ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ２５超〜４２、 からなる基板用ガラス組成物。 - 【請求項２】ガラスの粘度として１０4 ポアズに相当す
る温度が１３００℃以下である請求項１記載の基板用ガ
ラス組成物。 - 【請求項３】比重が２．６未満である請求項１または２
記載の基板用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11729198A JPH11310432A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 基板用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11729198A JPH11310432A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 基板用ガラス組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11310432A true JPH11310432A (ja) | 1999-11-09 |
Family
ID=14708124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11729198A Pending JPH11310432A (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | 基板用ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11310432A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009154064A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 日本板硝子株式会社 | 鱗片状ガラス及び被覆鱗片状ガラス |
| EP2227444A1 (en) * | 2007-11-29 | 2010-09-15 | Corning Incorporated | Glasses having improved toughness and scratch resistance |
| FR2948356A1 (fr) * | 2009-07-22 | 2011-01-28 | Saint Gobain | Dispositif electrochrome |
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| US9512030B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-12-06 | Corning Incorporated | High CTE potassium borosilicate core glasses and glass articles comprising the same |
| US9670088B2 (en) | 2014-05-20 | 2017-06-06 | Corning Incorporated | Scratch resistant glass and method of making |
| US9714188B2 (en) | 2013-09-13 | 2017-07-25 | Corning Incorporated | Ion exchangeable glasses with high crack initiation threshold |
| WO2018110163A1 (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びこれを用いた積層体 |
| JP2018095544A (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 日本電気硝子株式会社 | 支持ガラス基板及びこれを用いた積層体 |
-
1998
- 1998-04-27 JP JP11729198A patent/JPH11310432A/ja active Pending
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