JPH11297794A - ウエハアライメント方法 - Google Patents
ウエハアライメント方法Info
- Publication number
- JPH11297794A JPH11297794A JP10097234A JP9723498A JPH11297794A JP H11297794 A JPH11297794 A JP H11297794A JP 10097234 A JP10097234 A JP 10097234A JP 9723498 A JP9723498 A JP 9723498A JP H11297794 A JPH11297794 A JP H11297794A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- point
- points
- coordinates
- outer periphery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はウエハアライメント方法に関し、操
作性が向上し、かつウエハアライメントの時間が短縮で
きるウエハアライメント方法を提供することを目的とし
ている。 【解決手段】 ウエハの円状の外周上の１点を固定点と
して予めその座標を登録しておき、ウエハの円状の外周
上の他の２点の座標を決定して、前記固定点と２点とが
なす辺の垂直２等分線の交わる点を中心点とするように
構成する。
作性が向上し、かつウエハアライメントの時間が短縮で
きるウエハアライメント方法を提供することを目的とし
ている。 【解決手段】 ウエハの円状の外周上の１点を固定点と
して予めその座標を登録しておき、ウエハの円状の外周
上の他の２点の座標を決定して、前記固定点と２点とが
なす辺の垂直２等分線の交わる点を中心点とするように
構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハアライメント
方法に関し、更に詳しくはブランクウエハ（欠陥座標デ
ータリンク）時のウエハアライメント方法に関する。
方法に関し、更に詳しくはブランクウエハ（欠陥座標デ
ータリンク）時のウエハアライメント方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビーム描画装置では、試料台上にウエハ
を乗せて、その上にビームで所定の描画を行う。図５は
ビーム描画装置の概念図である。電子銃１から出射され
た電子ビーム２は電子レンズ３，４を介して集束され、
偏向電極５によりビームを偏向され、ステージ６上に載
置されたウエハ７上に所定の描画を行なう。８は電子ビ
ームをブランキングさせるブランキング電極である。１
０は試料（ウエハ）を交換する試料交換室、９はステー
ジ系を含む真空室である。
を乗せて、その上にビームで所定の描画を行う。図５は
ビーム描画装置の概念図である。電子銃１から出射され
た電子ビーム２は電子レンズ３，４を介して集束され、
偏向電極５によりビームを偏向され、ステージ６上に載
置されたウエハ７上に所定の描画を行なう。８は電子ビ
ームをブランキングさせるブランキング電極である。１
０は試料（ウエハ）を交換する試料交換室、９はステー
ジ系を含む真空室である。
【０００３】１１は該ブランキング電極８にブランキン
グ制御信号を与えるブランキング制御部、１２は偏向電
極５に偏向電圧を与えるビーム偏向制御部、１３はステ
ージ６を移動させて移動位置を計測するステージ移動位
置計測制御部である。これらブランキング制御部１１、
ビーム偏向制御部１２及びステージ移動位置計測制御部
１３は、コンピュータ２０から所定の指示を受ける。
グ制御信号を与えるブランキング制御部、１２は偏向電
極５に偏向電圧を与えるビーム偏向制御部、１３はステ
ージ６を移動させて移動位置を計測するステージ移動位
置計測制御部である。これらブランキング制御部１１、
ビーム偏向制御部１２及びステージ移動位置計測制御部
１３は、コンピュータ２０から所定の指示を受ける。
【０００４】このように構成されたシステムは、ウエハ
７上に偏向電極５から与えられる偏向信号により、所定
の描画を行なっていく。この場合において、ウエハ７が
交換された場合にも同じパターンの描画を繰り返すた
め、ウエハ７の位置決めが必要となる。
７上に偏向電極５から与えられる偏向信号により、所定
の描画を行なっていく。この場合において、ウエハ７が
交換された場合にも同じパターンの描画を繰り返すた
め、ウエハ７の位置決めが必要となる。
【０００５】図６は従来のウエハアライメントの説明図
である。従来のブランクウエハ（パターン無しウエハ）
のウエハアライメントは、ウエハの円状の外周上の４点
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）のエッジを用いて行なっている。ウ
エハ等の円形状のものの中心を決定するには、原理的に
は３点の測定で可能である。しかしながら、実際の測定
においては、操作のしやすさから４点測定法が用いられ
ている。
である。従来のブランクウエハ（パターン無しウエハ）
のウエハアライメントは、ウエハの円状の外周上の４点
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）のエッジを用いて行なっている。ウ
エハ等の円形状のものの中心を決定するには、原理的に
は３点の測定で可能である。しかしながら、実際の測定
においては、操作のしやすさから４点測定法が用いられ
ている。
【０００６】４点測定法においては、ウエハによってサ
イズ（直径）がわずかではあるが異なるため、その変化
分をウエハ外周の４点によって吸収し、欠陥座標データ
の原点（ウエハ中心Ｏ）を求めている。ステージはＡ→
Ｂ→Ｃ→Ｄの順に移動し、４点の座標を求める。
イズ（直径）がわずかではあるが異なるため、その変化
分をウエハ外周の４点によって吸収し、欠陥座標データ
の原点（ウエハ中心Ｏ）を求めている。ステージはＡ→
Ｂ→Ｃ→Ｄの順に移動し、４点の座標を求める。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記した従来の方法で
は、座標データの原点を４点のデータによって求めてい
るため、位置決めに時間がかかってしまうということが
あった。
は、座標データの原点を４点のデータによって求めてい
るため、位置決めに時間がかかってしまうということが
あった。
【０００８】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、操作性が向上し、かつウエハアライメン
トの時間が短縮できるウエハアライメント方法を提供す
ることを目的としている。
ものであって、操作性が向上し、かつウエハアライメン
トの時間が短縮できるウエハアライメント方法を提供す
ることを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】（１）前記した課題を解
決する本発明は、ウエハの円状の外周上の１点を固定点
として予めその座標を登録しておき、ウエハの円状の外
周上の他の２点の座標を決定して、前記固定点と２点と
がなす辺の垂直２等分線の交わる点を中心点とすること
を特徴としている。
決する本発明は、ウエハの円状の外周上の１点を固定点
として予めその座標を登録しておき、ウエハの円状の外
周上の他の２点の座標を決定して、前記固定点と２点と
がなす辺の垂直２等分線の交わる点を中心点とすること
を特徴としている。
【００１０】本発明によれば、円状のウエハの円状の外
周上に３点を結ぶ三角形を設定し、一点を予め座標が分
かった固定点とし、残りの２点の座標を求めることによ
り、従来の４点測定法から２点測定法へとウエハアライ
メントの処理時間が短縮され、操作性が向上する。
周上に３点を結ぶ三角形を設定し、一点を予め座標が分
かった固定点とし、残りの２点の座標を求めることによ
り、従来の４点測定法から２点測定法へとウエハアライ
メントの処理時間が短縮され、操作性が向上する。
【００１１】（２）この場合において、前記固定点とし
てウエハのＶノッチ部又はオリフラ部を用いることを特
徴としている。この発明の構成によれば、ウエハ外周上
の固定点を確実に決めることができる。
てウエハのＶノッチ部又はオリフラ部を用いることを特
徴としている。この発明の構成によれば、ウエハ外周上
の固定点を確実に決めることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態例を詳細に説明する。図１は本発明のウエハア
ライメントの説明図である。図において、７はウエハで
ある。ウエハの円状の外周上に点Ａ、Ｂ、Ｃを設定す
る。この円に内接する三角形ＡＢＣの任意の２つの辺の
垂直２等分線を描くと、これらの垂直２等分線は必ず１
点で交わる（外心）。この交わる点Ｏを、このウエハの
中心座標としてステージ移動することにより、正確な描
画データを描くことができる。ただし、上記の点Ａ、Ｂ
の座標の値は、このウエハの実測した値を用いるのに対
して、点Ｃの座標の値は予め登録しておいた値を用いる
のである。すなわち、各ウエハにおいて、ステージ６を
移動し、Ａ点を表示画面の中心に移動させると、その点
の座標が求まり、同様にステージ６を移動しＢ点を表示
画面の中心に（例えば、カーソルの位置）移動させる
と、その点の座標が求まる。
施の形態例を詳細に説明する。図１は本発明のウエハア
ライメントの説明図である。図において、７はウエハで
ある。ウエハの円状の外周上に点Ａ、Ｂ、Ｃを設定す
る。この円に内接する三角形ＡＢＣの任意の２つの辺の
垂直２等分線を描くと、これらの垂直２等分線は必ず１
点で交わる（外心）。この交わる点Ｏを、このウエハの
中心座標としてステージ移動することにより、正確な描
画データを描くことができる。ただし、上記の点Ａ、Ｂ
の座標の値は、このウエハの実測した値を用いるのに対
して、点Ｃの座標の値は予め登録しておいた値を用いる
のである。すなわち、各ウエハにおいて、ステージ６を
移動し、Ａ点を表示画面の中心に移動させると、その点
の座標が求まり、同様にステージ６を移動しＢ点を表示
画面の中心に（例えば、カーソルの位置）移動させる
と、その点の座標が求まる。
【００１３】一方、点Ｃの座標の値は、ウエハの円状の
外周上にありかつ装置の構造上固定された不動であるよ
うな点を想定し、この点の座標の値を事前に装置定数と
して登録しておいた値を用いるのである。これにより、
３点の座標が求まり、円の中心Ｏの座標が求まることに
なる。
外周上にありかつ装置の構造上固定された不動であるよ
うな点を想定し、この点の座標の値を事前に装置定数と
して登録しておいた値を用いるのである。これにより、
３点の座標が求まり、円の中心Ｏの座標が求まることに
なる。
【００１４】本発明と従来方法との違いは、現状のウエ
ハアライメント時の回数が４回から２回に半減させたも
のである。ウエハサイズ（直径）の誤差によるステージ
トップ（ウエハの指示テーブル）上のウエハの位置が変
化しない点（Ｃ点）があることに着目してウエハ上に仮
想の三角形を構成したものである。
ハアライメント時の回数が４回から２回に半減させたも
のである。ウエハサイズ（直径）の誤差によるステージ
トップ（ウエハの指示テーブル）上のウエハの位置が変
化しない点（Ｃ点）があることに着目してウエハ上に仮
想の三角形を構成したものである。
【００１５】図２は本発明のウエハアライメントの他の
説明図である。Ｃ点固定で２種類の三角形を円周上に描
く。三角形ＡＢＣと三角形Ａ’Ｂ’Ｃである。Ｃ点以外
の２点はウエハの円状の外周上の点であればどこであっ
ても円の中心は一義的に求まることが分かる。つまり、
三角形ＡＢＣの辺ＡＣの垂直２等分線と辺ＡＢの垂直２
等分線はＯ点で交わり、三角形Ａ，Ｂ，Ｃの辺Ａ’Ｃの
垂直２等分線と辺Ａ’Ｂ’の垂直２等分線は同じくＯ点
で交わる。
説明図である。Ｃ点固定で２種類の三角形を円周上に描
く。三角形ＡＢＣと三角形Ａ’Ｂ’Ｃである。Ｃ点以外
の２点はウエハの円状の外周上の点であればどこであっ
ても円の中心は一義的に求まることが分かる。つまり、
三角形ＡＢＣの辺ＡＣの垂直２等分線と辺ＡＢの垂直２
等分線はＯ点で交わり、三角形Ａ，Ｂ，Ｃの辺Ａ’Ｃの
垂直２等分線と辺Ａ’Ｂ’の垂直２等分線は同じくＯ点
で交わる。
【００１６】この実施の形態例によれば、使用する倍率
も低倍率（３００〜１０００倍の任意の１つを設定）の
みとするため、円状のウエハの外周上に３点を結ぶ三角
形を設定し、一点を予め座標が分かった固定点とし、残
りの２点の座標を求め、従来の４点測定法から２点測定
法へとウエハアライメントの処理時間が短縮され、操作
性が向上する。
も低倍率（３００〜１０００倍の任意の１つを設定）の
みとするため、円状のウエハの外周上に３点を結ぶ三角
形を設定し、一点を予め座標が分かった固定点とし、残
りの２点の座標を求め、従来の４点測定法から２点測定
法へとウエハアライメントの処理時間が短縮され、操作
性が向上する。
【００１７】図３は本発明のウエハアライメントの他の
説明図である。（ａ）はウエハにＶノッチ３３がついて
いる場合、そのＶノッチの点Ｃを固定点としている。３
１は可動式ウエハ押え、３２は固定式ウエハ押えであ
る。Ｃ点を固定点として他の２点を求めることにより、
ウエハの中心位置の座標を求めることができる。
説明図である。（ａ）はウエハにＶノッチ３３がついて
いる場合、そのＶノッチの点Ｃを固定点としている。３
１は可動式ウエハ押え、３２は固定式ウエハ押えであ
る。Ｃ点を固定点として他の２点を求めることにより、
ウエハの中心位置の座標を求めることができる。
【００１８】これに対してウエハがオリフラ３４を持っ
ている場合には、オリフラ３４の端のエッジがある部分
を固定点Ｃとすることにより、ウエハの中心位置の座標
を求めることができる。この実施の形態例によれば、ウ
エハ外周上の固定点を確実に求めることができる。
ている場合には、オリフラ３４の端のエッジがある部分
を固定点Ｃとすることにより、ウエハの中心位置の座標
を求めることができる。この実施の形態例によれば、ウ
エハ外周上の固定点を確実に求めることができる。
【００１９】本発明の要点は、ウエハのオリフラ面の押
さえ、或いはＶノッチ押さえの位置が、装置の座標上機
械的に固定されていることに着目して、この点以外のウ
エハの２箇所の周縁部の測定だけでウエハの中心を求め
るものである。即ち、円とノッチ部或いはオリフラ部の
左右何れかの交点の位置（以下擬似固定点いう）を代表
ウエハで測定して記憶しておき、以後は代表ウエハと同
種の実装されるウエハの周縁部の２箇所の測定と、先に
記憶しておいた擬似固定点のデータを基に、ウエハの中
心を求める。
さえ、或いはＶノッチ押さえの位置が、装置の座標上機
械的に固定されていることに着目して、この点以外のウ
エハの２箇所の周縁部の測定だけでウエハの中心を求め
るものである。即ち、円とノッチ部或いはオリフラ部の
左右何れかの交点の位置（以下擬似固定点いう）を代表
ウエハで測定して記憶しておき、以後は代表ウエハと同
種の実装されるウエハの周縁部の２箇所の測定と、先に
記憶しておいた擬似固定点のデータを基に、ウエハの中
心を求める。
【００２０】ここでいう代表ウエハとは、同種の一連の
ウエハの内の１枚であって、擬似固定点を装置に認識さ
せるために測定に用いるウエハをいう。そして、これら
一連のウエハの直径には１枚毎に若干の誤差があること
を前提としている。本発明は、上述したような方法によ
って、１枚毎の誤差を吸収した上でウエハの中心を決定
しようとするものである。
ウエハの内の１枚であって、擬似固定点を装置に認識さ
せるために測定に用いるウエハをいう。そして、これら
一連のウエハの直径には１枚毎に若干の誤差があること
を前提としている。本発明は、上述したような方法によ
って、１枚毎の誤差を吸収した上でウエハの中心を決定
しようとするものである。
【００２１】次に、本発明方法が実用的に成立すること
を説明する。今、図４に示すように、ｘｙ平面上に半径
１の円を考える。この円の中心は、座標の原点にあるも
のとする。この円の円周上の互いにほぼ等距離にある点
Ａ、Ｂ、Ｃを考える。そして、Ａ及びＢのｙ座標はほぼ
同一の値であるように、即ち線分ＡＢはｘ軸にほぼ平行
になるように選び、Ｃ点は前述した擬似固定点とする。
を説明する。今、図４に示すように、ｘｙ平面上に半径
１の円を考える。この円の中心は、座標の原点にあるも
のとする。この円の円周上の互いにほぼ等距離にある点
Ａ、Ｂ、Ｃを考える。そして、Ａ及びＢのｙ座標はほぼ
同一の値であるように、即ち線分ＡＢはｘ軸にほぼ平行
になるように選び、Ｃ点は前述した擬似固定点とする。
【００２２】各ウエハでは、擬似固定点Ｃの座標は測定
されず、代表ウエハの測定値で代用されるが、この代表
ウエハでの測定値が、実際の各ウエハの真の位置ｘ、ｙ
からｘ方向にΔｘ、ｙ方向にΔｙだけずれていたものと
する。すると、求まる円の中心位置は近似的に−ｙ方向
に （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ） だけずれることになる。このずれは無視できる程度であ
ることを以下に説明する。
されず、代表ウエハの測定値で代用されるが、この代表
ウエハでの測定値が、実際の各ウエハの真の位置ｘ、ｙ
からｘ方向にΔｘ、ｙ方向にΔｙだけずれていたものと
する。すると、求まる円の中心位置は近似的に−ｙ方向
に （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ） だけずれることになる。このずれは無視できる程度であ
ることを以下に説明する。
【００２３】Ｖノッチの場合 ウエハの径の誤差に比べ、Ｖノッチ部の形状の誤差は十
分小さいと考えてよい。仮に半径の誤差を１ｍｍとする
と、Ｖノッチ部の形状の誤差は半径の誤差の１／１０の
０．１ｍｍ程度であるものとする。また、擬似固定点の
Ｃ点の座標は、ｙは−１と大きいがｘはほぼ０である。
従って、中心位置のずれは （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ）＝（２／３）（−１×
０．１）＝−０．０７（ｍｍ） となり、ウエハの径の誤差に比べ１／１０以下と十分に
小さい。ウエハの中心がこの程度に決定できれば満足で
きる。
分小さいと考えてよい。仮に半径の誤差を１ｍｍとする
と、Ｖノッチ部の形状の誤差は半径の誤差の１／１０の
０．１ｍｍ程度であるものとする。また、擬似固定点の
Ｃ点の座標は、ｙは−１と大きいがｘはほぼ０である。
従って、中心位置のずれは （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ）＝（２／３）（−１×
０．１）＝−０．０７（ｍｍ） となり、ウエハの径の誤差に比べ１／１０以下と十分に
小さい。ウエハの中心がこの程度に決定できれば満足で
きる。
【００２４】オリフラの場合（その１） ウエハの径の誤差に伴って、擬似固定点がオリフラ面に
平行な方向に変化する。この変化量は、オリフラの開き
角を４５゜とすると、おおよそ０．３８Δｒ（Δｒはウ
エハの誤差分）であり、ウエハの径の誤差に比べオリフ
ラ面の平行な方向への変化は必ずしも小さくはない。し
かしながら、これにより求める中心位置に与える誤差
は、 （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ）＝（２／３）（０．３８
×０．３８Δｒ＋０．９２×０）＝０．０９６Δｒ となり、径の誤差Δｒの約１／１０の０．０９６Δｒと
なり、実用的に満足できることが分かる。
平行な方向に変化する。この変化量は、オリフラの開き
角を４５゜とすると、おおよそ０．３８Δｒ（Δｒはウ
エハの誤差分）であり、ウエハの径の誤差に比べオリフ
ラ面の平行な方向への変化は必ずしも小さくはない。し
かしながら、これにより求める中心位置に与える誤差
は、 （２／３）（ｘΔｘ＋ｙΔｙ）＝（２／３）（０．３８
×０．３８Δｒ＋０．９２×０）＝０．０９６Δｒ となり、径の誤差Δｒの約１／１０の０．０９６Δｒと
なり、実用的に満足できることが分かる。
【００２５】オリフラの場合（その２） ウエハは、オリフラ面の押さえによってオリフラ面に垂
直な方向には固定されるが、オリフラ面に平行な方向に
は固定法の如何によっては動いてしまう可能性がある。
このような固定法を採用している装置の場合は以下のよ
うにして補正すればよい。
直な方向には固定されるが、オリフラ面に平行な方向に
は固定法の如何によっては動いてしまう可能性がある。
このような固定法を採用している装置の場合は以下のよ
うにして補正すればよい。
【００２６】（ａ）ウエハ上の点Ａ、Ｂ、Ｃを考える。
Ｃは擬似固定点、Ａ、Ｂは線分ＡＢがオリフラ面に平行
な２つの周縁部の点とする。なお、ここでは、線分ＡＢ
はオリフラ面に正確に平行であることが条件となる。従
って、Ａ点、Ｂ点を測定する際は、所定のｙ座標の値に
おいて、ｘ座標の値が幾つになるかを測定するようにす
る。
Ｃは擬似固定点、Ａ、Ｂは線分ＡＢがオリフラ面に平行
な２つの周縁部の点とする。なお、ここでは、線分ＡＢ
はオリフラ面に正確に平行であることが条件となる。従
って、Ａ点、Ｂ点を測定する際は、所定のｙ座標の値に
おいて、ｘ座標の値が幾つになるかを測定するようにす
る。
【００２７】（ｂ）代表ウエハにおいて、Ａ、Ｂ、Ｃの
３点を測定する。その結果のｘ座標の値をＡｓ、Ｂｓ、
Ｃｓとする。 （ｃ）各ウエハｉにおいて、Ａ、Ｂの２点を測定する。
その結果のｘ座標の値をＡｉ、Ｂｉとする。ここで、中
心を計算する際に用いる擬似固定点Ｃのｘ座標の値Ｃｉ
を以下のようにする。
３点を測定する。その結果のｘ座標の値をＡｓ、Ｂｓ、
Ｃｓとする。 （ｃ）各ウエハｉにおいて、Ａ、Ｂの２点を測定する。
その結果のｘ座標の値をＡｉ、Ｂｉとする。ここで、中
心を計算する際に用いる擬似固定点Ｃのｘ座標の値Ｃｉ
を以下のようにする。
【００２８】Ｃｉ＝Ｃｓ＋｛（Ａｉ＋Ｂｉ）／２−（Ａ
ｓ＋Ｂｓ）／２｝ これにより、各ウエハｉにおいてウエハの固定がｘ軸方
向に移動があっても補正され、問題は解消される。
ｓ＋Ｂｓ）／２｝ これにより、各ウエハｉにおいてウエハの固定がｘ軸方
向に移動があっても補正され、問題は解消される。
【００２９】本発明の説明は、ウエハの欠陥を検査する
ための専用のＳＥＭに主として用いられるとして行った
が、描画装置或いは他のウエハ検査装置やイオンビーム
を利用した加工や観察のためのＦＩＢ等にも利用するこ
とができる。
ための専用のＳＥＭに主として用いられるとして行った
が、描画装置或いは他のウエハ検査装置やイオンビーム
を利用した加工や観察のためのＦＩＢ等にも利用するこ
とができる。
【００３０】また、上述の実施の形態例においては、ブ
ランクウエハの場合を例にとったが、本発明はこれに限
るものではなく、パターンのあるウエハについても同様
に適用することができる。
ランクウエハの場合を例にとったが、本発明はこれに限
るものではなく、パターンのあるウエハについても同様
に適用することができる。
【００３１】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、 （１）ウエハの円状の外周上の１点を固定点として予め
その座標を登録しておき、ウエハの円状の外周上の他の
２点の座標を決定して、前記固定点と２点とがなす辺の
垂直２等分線の交わる点を中心点とすることにより、円
状のウエハの円上に３点を結ぶ三角形を設定し、一点を
予め座標が分かった固定点とし、残りの２点の座標を求
め、従来の４点測定法から２点測定法へとウエハアライ
メントの処理時間が短縮され、操作性が向上する。
よれば、 （１）ウエハの円状の外周上の１点を固定点として予め
その座標を登録しておき、ウエハの円状の外周上の他の
２点の座標を決定して、前記固定点と２点とがなす辺の
垂直２等分線の交わる点を中心点とすることにより、円
状のウエハの円上に３点を結ぶ三角形を設定し、一点を
予め座標が分かった固定点とし、残りの２点の座標を求
め、従来の４点測定法から２点測定法へとウエハアライ
メントの処理時間が短縮され、操作性が向上する。
【００３２】（２）この場合において、前記固定点とし
てウエハのＶノッチ部又はオリフラ部を用いることによ
り、ウエハ外周上の固定点を確実に決めることができ
る。
てウエハのＶノッチ部又はオリフラ部を用いることによ
り、ウエハ外周上の固定点を確実に決めることができ
る。
【図１】本発明のウエハアライメントの説明図である。
【図２】本発明のウエハアライメントの他の説明図であ
る。
る。
【図３】本発明のウエハアライメントの他の説明図であ
る。
る。
【図４】本発明が実用的に成立することを説明するため
の図である。
の図である。
【図５】ビーム描画装置の概念図である。
【図６】従来のウエハアライメントの説明図である。
７ ウエハ
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｌ
Claims (2)
- 【請求項１】 ウエハの円状の外周上の１点を固定点と
して予めその座標を登録しておき、ウエハの円状の外周
上の他の２点の座標を決定して、前記固定点と２点とが
なす辺の垂直２等分線の交わる点を中心点とすることを
特徴とするウエハアライメント方法。 - 【請求項２】前記固定点としてウエハのＶノッチ部又は
オリフラ部をを用いることを特徴とする請求項１記載の
ウエハアライメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097234A JPH11297794A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | ウエハアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097234A JPH11297794A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | ウエハアライメント方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11297794A true JPH11297794A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14186941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10097234A Withdrawn JPH11297794A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | ウエハアライメント方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11297794A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100724570B1 (ko) | 2006-02-06 | 2007-06-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼의 노광 방법 |
| CN104875226A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-09-02 | 池州睿成微电子有限公司 | 一种切片方法 |
| WO2016157403A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置のアライメント方法、アライメントプログラム、及び記憶媒体 |
| CN106340479A (zh) * | 2015-07-07 | 2017-01-18 | 东京毅力科创株式会社 | 基板输送方法和基板处理装置 |
-
1998
- 1998-04-09 JP JP10097234A patent/JPH11297794A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPWO2016157403A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2017-12-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置のアライメント方法、アライメントプログラム、及び記憶媒体 |
| US10312053B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-06-04 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus, alignment method of charged particle beam apparatus, alignment program, and storage medium |
| CN106340479A (zh) * | 2015-07-07 | 2017-01-18 | 东京毅力科创株式会社 | 基板输送方法和基板处理装置 |
| CN106340479B (zh) * | 2015-07-07 | 2020-08-28 | 东京毅力科创株式会社 | 基板输送方法和基板处理装置 |
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