JPH11297633A - 縦型皮膜処理装置におけるヒータの設備構造、および縦型皮膜処理装置の移設方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 縦型皮膜処理装置の運搬作業が容易に、かつ
迅速に行え、さらにヒータが断線したり、寿命低下を来
す恐れのない縦型皮膜処理装置におけるヒータの設備構
造を得る。 【解決手段】 装置本体１の上部に設けられたヒータ２
を、装置本体内に設けられたボートエレベータ８を用い
て上下に可動させるように構成し、装置本体１の移設時
に、装置本体１の下部にヒータ２を降ろした状態に支持
して、装置本体１を運搬し、装置本体１の移設後に、ヒ
ータ２を上部に上げて固定させるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば縦型拡散
ＣＶＤ装置のように、ヒータの熱を利用して搬入された
基板の皮膜処理を行うようにした縦型皮膜処理装置にお
いて、その移設を容易に行えるようにしたヒータの設備
構造および縦型皮膜処理装置の移設方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】図６は、縦型皮膜処理装置である縦型拡
散ＣＶＤ装置の本体部を示す外観斜視図である。図６に
おいて、１は装置本体、１Ａは筺体、２はヒータであ
り、このヒータ２は装置本体上部のヒータ室１ａ内に設
けられ、その上部がヒータ室上部１ｂで覆われている。
かかる半導体製造装置である縦型拡散ＣＶＤ装置は、運
搬、搬入などのために装置の全高（Ｈ＝２８００ｍｍ）
が規定されている。しかし、ウェーハの処理枚数を多く
するため、その容量を有する反応管を備えた場合は、そ
の反応管を覆うヒータ２上部やヒータ室上部１ｂが上記
規定寸法をオーバーしてしまう（例えば、Ｈ＝３１００
ｍｍ程度となる）。そこで従来、かかる縦型拡散ＣＶＤ
装置の運搬時には、ヒータ２を取外して装置を運搬する
ようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、装置の
運搬時にヒータ２を取外すようにすると、ヒータ２の取
外し及び取付け作業に加え、図７に示すように、ヒータ
２の配線２５及びそのダクト２６の取外し及び取付け作
業、ヒータ２の取外し及び取付け作業によるユーティリ
ティ２７の取付け及び取外し作業、ヒータの梱包及び取
り出し作業、装置本体の運搬の他にヒータの運搬作業等
が必要となり、装置の運搬作業が大掛かりなものとな
り、作業コスト、作業時間がかかる。また、特に拡散ヒ
ータにあっては、図８に示すように、その運搬作業にお
ける素線（ヒータ線）２ａのたれによる断線が発生した
り、もしくは寿命低下の要因となるという問題点があっ
た。

【０００４】この発明は、かかる従来の問題点を解決す
るためになされたもので、縦型皮膜処理装置の運搬作業
が容易に、かつ迅速に行え、さらにヒータが断線した
り、寿命低下を来す恐れのない、縦型皮膜処理装置にお
けるヒータの設備構造、および縦型皮膜処理装置の移設
方法を提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上述した従来の問題点を
解決するため、この発明に係る縦型皮膜処理装置は、装
置本体の上部に設けられたヒータの熱を利用して、搬入
された基板の皮膜処理を行うようにした縦型皮膜処理装
置において、前記ヒータを、前記装置本体内において、
前記装置本体の上部からその下方にかけて上下動させる
ヒータ可動手段を備えたものである。

【０００６】また、この発明において、前記ヒータ可動
手段は、前記基板を搬入するボートエレベータを用いて
構成されるものである。

【０００７】また、この発明に係る縦型皮膜処理装置の
移設方法は、装置本体の上部に設けられたヒータの熱を
利用して、搬入された基板の皮膜処理を行うようにした
縦型皮膜処理装置の移設方法において、前記装置の移設
前に、前記ヒータを前記装置本体の上部から下方に移動
させ、前記ヒータを前記下方に支持して前記装置を移設
し、前記装置の移設後に、前記ヒータを前記装置本体の
上部に移動させるようにしたものである。

【０００８】このような構成によれば、縦型皮膜処理装
置の移設時に、そのヒータ部の組立・解体時間の短縮
化、ヒータ関係の梱包作業の省略、ヒータ寿命の低下防
止、運搬容積の縮小化を図ることができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１は、縦型皮膜処理装置の一例
として、縦型拡散ＣＶＤ装置を示す概略図である。図１
において、１は装置本体、１ａは装置本体上部に設けら
れたヒータ室、２はヒータ室１ａ内に配設されるヒー
タ、３はヒータ２を載置するためのヒータベース、４は
ヒータ内に搬入されるウェーハ、５はウェーハ４を載置
するボート、６はボート５を上部に支持して図示しない
反応管下部を閉蓋するキャップ、７はキャップ下部に設
けられ反応管を大気からシールするためのシールキャッ
プ、８はウェーハ４をヒータ２内に搬入するため、ボー
ト５等を上下移動させるためのエレベータ、９はボート
５等を支持し、エレベータ８により上下動されるアーム
（以下、Ｅ軸アームという）である。なお、図１におい
て、１０はウェーハ４をボート５に移載する移載機、１
１、１２はそれぞれ上棚、下棚、１３はカセットステー
ジ、１４はカセットローダである。

【００１０】以上の構成において、装置本体の運搬時に
は、エレベータ８によりヒータ２を下げて運び、セット
アップ後、再び上昇させ、規定の高さに固定する。ヒー
タ２を下げるための、ヒータベースの上下移動機構に
は、新たな機構を用いることなく、従来、ウェーハ４を
成膜するためにボート５をヒータ２内に挿入しているエ
レベータの駆動機構を用いるようにする。ここに、構造
的には、従来の縦型拡散装置に比べてヒータベース部分
のみが異なり、他の部分については、同じ機構を用いて
いる。

【００１１】以下に、上述した動作手順において、ヒー
タ２を下動させる場合について説明する。 （１）ボート５とキャップ６を固定している位置決めピ
ンを取り外し、ボート５を取り外すとともにキャップ６
を取り外す。次にＥ軸アーム９上の炉口部部品（シール
キャップ７等）を取り外す。 （２）次に、図２に示されるように、Ｅ軸アーム９にア
ーム９とヒータベース３を固定するための治具１５を取
り付ける。 この治具１５は、ヒータベース３の下面の３点を円周上
で支持する３つの位置決めピン１６が設けられた支持板
１７と、この支持板１７の下側に設けられ、Ｅ軸アーム
９の取り付け穴９ａに挿入されて、治具１５をＥ軸アー
ム９に支持するための支持部１８と、支持部１８と支持
板１７の間に介設され、装置本体の運搬時におけるヒー
タ２への振動を防止して脱落を防止するためのスプリン
グ機構（あるいは防振ゴム等の振動吸収機構）１９とか
ら構成されている。

【００１２】（３）次に、図３に示されるように、ヒー
タ２内部に風船状ゴムあるいはビニールを挿入し、エア
を充満させることにより、エアクッション２０を設け
る。このエアクッション２０は装置本体の運搬時の振動
によりヒータ２の素線２ａのずれを防ぐものである。 （４）次に、Ｅ軸アーム９を上昇させ、治具１５とヒー
タベース３を固定する。ここで、治具１５とヒータベー
ス３とを固定させることにより風船状ゴム等の抜けも防
止される。

【００１３】（５）治具１５とヒータベース３が固定さ
れるとＥ軸を下降させ所定の高さまでヒータベース（ヒ
ータ２）を降ろす。ヒータベースの移動量は、略３１０
０ｍｍの高さから２８００ｍｍの高さへの略３００ｍｍ
程度である。したがって、ヒータ配線や、熱電対配線
は、この移動量を許容できる程度に長く余裕をもって配
線されている。これら配線はセットアップ時にはヒータ
室上部１ｂ内の図示しないメクラパネル内に収納され、
不要なたるみがとられている。なお、ヒータ２はヒータ
ベース３上にその適所（例えば３カ所）が固定部ロック
により固定されて取り付けられている。 （６）ヒータ２が降ろされると、図４に示されるように
ヒータ室上部１ｂを取り外し、運搬し易いように装置の
全高さを低くする。 （７）降ろされたヒータ２は、その位置でぐらつき防止
が施され、この状態で装置の搬送を行う。 （８）装置の移設けるセットアップ時には上記の逆の動
作を行う。

【００１４】図５は、ヒータ２をその上部取付け位置
（装置本体上部）から運搬時の位置（装置本体上部より
下方の位置）に移動させる場合の動作を図示したもので
ある。ヒータ２は運搬時に上下方向に距離Ｌだけ下降さ
れ、ヒータ室上部１ｂを取外すことにより、装置の全高
を３１００ｍｍから運搬時の規定高さである２８００ｍ
ｍまで減少させることができる。このように、実施の形
態によれば、エレベータ８でヒータ２を降ろし、その位
置でエレベータ８のアーム９に支持させて装置本体を運
搬することができるので、従来のようにヒータを装置本
体より別個に取り外して運搬する場合に比し、その取り
扱いが極めて簡単となり、装置の移設を容易、迅速に行
うことができる。

【００１５】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、装置の移設前に、ヒータを装置下部に移動させて装
置を運搬し、装置の移設後に、ヒータを装置上部に移動
させるようにしたため、組立・解体時間の短縮、ヒータ
関係の梱包作業の省略、ヒータ寿命の低下防止、運搬容
積の縮小化を図ることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態に係る縦型拡散ＣＶＤ装
置を示す概略斜視図である。

【図２】Ｅ軸アームとヒータベースを固定する治具を示
す側面図である。

【図３】エアクッションを設けたヒータの断面図であ
る。

【図４】ヒータ室上部の取外しを示す概略斜視図であ
る。

【図５】ヒータを降ろす動作を示す概略図である。

【図６】従来技術における縦型拡散ＣＶＤ装置とヒータ
を示す概略図である。

【図７】従来技術におけるユーティリティの取外しを示
す概略図である。

【図８】ヒータ運搬時のヒータ線のたれを示す側面図で
ある。

【符号の説明】

１ 装置本体 １ａ ヒータ室 ２ ヒータ ３ ヒータベース ４ ウェーハ ５ ボート ６ キャップ ７ シールキャップ ８ エレベータ ９ Ｅ軸アーム

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 装置本体の上部に設けられたヒータの熱
   を利用して、搬入された基板の皮膜処理を行うようにし
   た縦型皮膜処理装置において、 前記ヒータを、前記装置本体内において、前記装置本体
   の上部からその下方にかけて上下動させるヒータ可動手
   段を備えたことを特徴とする縦型皮膜処理装置における
   ヒータの設備構造。
2. 【請求項２】 前記ヒータ可動手段は、前記基板を搬入
   するボートエレベータを用いて構成されることを特徴と
   する請求項１記載の縦型皮膜処理装置におけるヒータの
   設備構造。
3. 【請求項３】 装置本体の上部に設けられたヒータの熱
   を利用して、搬入された基板の皮膜処理を行うようにし
   た縦型皮膜処理装置の移設方法において、 前記装置の移設前に、前記ヒータを前記装置本体の上部
   から下方に移動させ、前記ヒータを前記下方に支持して
   前記装置を移設し、前記装置の移設後に、前記ヒータを
   前記装置本体の上部に移動させるようにしたことを特徴
   とする縦型皮膜処理装置の移設方法。