JPH1129512A - ４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法 - Google Patents
４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法Info
- Publication number
- JPH1129512A JPH1129512A JP18806897A JP18806897A JPH1129512A JP H1129512 A JPH1129512 A JP H1129512A JP 18806897 A JP18806897 A JP 18806897A JP 18806897 A JP18806897 A JP 18806897A JP H1129512 A JPH1129512 A JP H1129512A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- dimethylolcyclohexane
- compound
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Fats And Perfumes (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 花様の香気を有する香料物質として有用な新
規化合物の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される新規４−アルコ
キシメチルシクロヘキシルメタノール類。 【化１】 （式中、R は炭素数２〜10のアルキル基、炭素数３〜10
のシクロアルキル基または炭素数４〜10のアルケニル基
を示す。）
規化合物の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される新規４−アルコ
キシメチルシクロヘキシルメタノール類。 【化１】 （式中、R は炭素数２〜10のアルキル基、炭素数３〜10
のシクロアルキル基または炭素数４〜10のアルケニル基
を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は優れた花様の香気を
有する香料物質として有用な新規４−アルコキシメチル
シクロヘキシルメタノール類に関するものである。
有する香料物質として有用な新規４−アルコキシメチル
シクロヘキシルメタノール類に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
シクロヘキシルアルカノール類は有用な香料化合物とし
て知られている。例えば、特公昭55−23242 号公報には
４−イソプロペニルシクロヘキシルメタノールや４−イ
ソプロピルシクロヘキシルメタノールが鈴蘭の花を想起
させる花様の匂いを有すること、また特公昭62−7176号
公報にはα−ヒドロキシアルキル−４−ｔ−アルキルシ
クロヘキサンが白檀様の芳香を有することが記載されて
いる。また、特公昭60−7495号公報には、種々のシクロ
ヘキシルアルカノール類が悪臭除去作用を持つことが記
載されている。
シクロヘキシルアルカノール類は有用な香料化合物とし
て知られている。例えば、特公昭55−23242 号公報には
４−イソプロペニルシクロヘキシルメタノールや４−イ
ソプロピルシクロヘキシルメタノールが鈴蘭の花を想起
させる花様の匂いを有すること、また特公昭62−7176号
公報にはα−ヒドロキシアルキル−４−ｔ−アルキルシ
クロヘキサンが白檀様の芳香を有することが記載されて
いる。また、特公昭60−7495号公報には、種々のシクロ
ヘキシルアルカノール類が悪臭除去作用を持つことが記
載されている。
【０００３】しかしながら、化合物の香気はわずかな構
造の違いにより全く異なるのが一般的であり、そのため
種々の化合物を合成しその香気を検討することは新しい
香料を得るためには極めて重要である。
造の違いにより全く異なるのが一般的であり、そのため
種々の化合物を合成しその香気を検討することは新しい
香料を得るためには極めて重要である。
【０００４】また香料の調合素材に関しては低価格であ
ること、化学的に安定であること、新しい香りであるこ
と等の様々な要望が存在する。従来、花様香気を有する
香料素材は数多く知られているが、香りの流行は時代と
ともに絶えず変化しており新しい香料素材を見いだすこ
とは調合上極めて重要である。
ること、化学的に安定であること、新しい香りであるこ
と等の様々な要望が存在する。従来、花様香気を有する
香料素材は数多く知られているが、香りの流行は時代と
ともに絶えず変化しており新しい香料素材を見いだすこ
とは調合上極めて重要である。
【０００５】従って、本発明の課題は、花様の香気を有
する香料物質として有用な新規化合物を提供することに
ある。
する香料物質として有用な新規化合物を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは様々な４−アルコキシメチルシクロヘキシル
メタノール類を合成しその香気及び配合系について検討
した結果、花様でわずかに木様のニュアンスを持ちミュ
ーゲを想起させる残香性のある香気を有する新規化合物
を見出し本発明を完成するに到った。即ち、本発明は、
一般式（Ｉ）で表される新規４−アルコキシメチルシク
ロヘキシルメタノール類及びその製造法を提供するもの
である。
発明者らは様々な４−アルコキシメチルシクロヘキシル
メタノール類を合成しその香気及び配合系について検討
した結果、花様でわずかに木様のニュアンスを持ちミュ
ーゲを想起させる残香性のある香気を有する新規化合物
を見出し本発明を完成するに到った。即ち、本発明は、
一般式（Ｉ）で表される新規４−アルコキシメチルシク
ロヘキシルメタノール類及びその製造法を提供するもの
である。
【０００７】
【化３】
【０００８】（式中、R は炭素数２〜10のアルキル基、
炭素数３〜10のシクロアルキル基または炭素数４〜10の
アルケニル基を示す。）
炭素数３〜10のシクロアルキル基または炭素数４〜10の
アルケニル基を示す。）
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１０】本発明の新規物質である前記一般式（Ｉ）
で表される４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノ
ール類において、R で示される炭素数２〜10のアルキル
基としては、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−
メチルプロピル基、ペンチル基、１, ２−ジメチルプロ
ピル基、１, １−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げら
れ、炭素数２〜５のアルキル基が好ましい。また炭素数
３〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基等が挙げられ、炭素数５〜６の
シクロアルキル基が好ましい。また炭素数４〜10のアル
ケニル基としては、ブテニル基、２−メチル−２−プロ
ペニル基、ヘキセニル基、オクテニル基等が挙げられ、
炭素数４〜５のアルケニル基が好ましい。これらのR と
して特に好ましいものは、エチル基、イソプロピル基で
ある。
で表される４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノ
ール類において、R で示される炭素数２〜10のアルキル
基としては、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−
メチルプロピル基、ペンチル基、１, ２−ジメチルプロ
ピル基、１, １−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げら
れ、炭素数２〜５のアルキル基が好ましい。また炭素数
３〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基等が挙げられ、炭素数５〜６の
シクロアルキル基が好ましい。また炭素数４〜10のアル
ケニル基としては、ブテニル基、２−メチル−２−プロ
ペニル基、ヘキセニル基、オクテニル基等が挙げられ、
炭素数４〜５のアルケニル基が好ましい。これらのR と
して特に好ましいものは、エチル基、イソプロピル基で
ある。
【００１１】本発明の新規物質である前記一般式（Ｉ）
で表される４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノ
ール類は、式（II）
で表される４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノ
ール類は、式（II）
【００１２】
【化４】
【００１３】（式中のシクロヘキサン環の２つのメチロ
ール基の立体配置はシス型、トランス型又はシス型とト
ランス型の混合物のいずれでも良い。）で表される 1,4
−ジメチロールシクロヘキサン（以下 1,4−ジメチロー
ルシクロヘキサン（II）と略記する）の一つの水酸基だ
けをエーテル化することにより得られる。
ール基の立体配置はシス型、トランス型又はシス型とト
ランス型の混合物のいずれでも良い。）で表される 1,4
−ジメチロールシクロヘキサン（以下 1,4−ジメチロー
ルシクロヘキサン（II）と略記する）の一つの水酸基だ
けをエーテル化することにより得られる。
【００１４】エーテル化反応は次の３種の方法のいずれ
かを用いることができる。 ＜方法１＞下記の反応式１に従って合成する方法であ
る。
かを用いることができる。 ＜方法１＞下記の反応式１に従って合成する方法であ
る。
【００１５】
【化５】
【００１６】（式中、R1は炭素数２〜10のアルキル基、
炭素数３〜10のシクロアルキル基または炭素数３〜10の
アルケニル基を示し、X はハロゲン原子を示す。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式(III) で表されるアルキル、シクロアルキル又
はアルケニルハライドとを、実験化学講座（丸善）, Vo
l.20, p.187〜200 に記載の一般的エーテル化反応に準
じて反応させる方法である。
炭素数３〜10のシクロアルキル基または炭素数３〜10の
アルケニル基を示し、X はハロゲン原子を示す。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式(III) で表されるアルキル、シクロアルキル又
はアルケニルハライドとを、実験化学講座（丸善）, Vo
l.20, p.187〜200 に記載の一般的エーテル化反応に準
じて反応させる方法である。
【００１７】例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）や
トルエン溶媒中、 1,4−ジメチロールシクロヘキサン
（II）に対して 0.8〜1.2 モル倍の水素化ナトリウムの
存在下、10〜80℃の反応温度で、1,4−ジメチロールシ
クロヘキサン（II）に対して0.8〜2.4 モル倍の一般式
(III) で表されるアルキル、シクロアルキル又はアルケ
ニルハライドを30分〜12時間反応させ、必要によりPd/C
等の水素化触媒存在下で水素化して反応混合物を得、更
に精密蒸留又はカラムクロマトグラフィーで精製して目
的の一般式（Ｉ）で表されるモノエーテル体を得ること
ができる。
トルエン溶媒中、 1,4−ジメチロールシクロヘキサン
（II）に対して 0.8〜1.2 モル倍の水素化ナトリウムの
存在下、10〜80℃の反応温度で、1,4−ジメチロールシ
クロヘキサン（II）に対して0.8〜2.4 モル倍の一般式
(III) で表されるアルキル、シクロアルキル又はアルケ
ニルハライドを30分〜12時間反応させ、必要によりPd/C
等の水素化触媒存在下で水素化して反応混合物を得、更
に精密蒸留又はカラムクロマトグラフィーで精製して目
的の一般式（Ｉ）で表されるモノエーテル体を得ること
ができる。
【００１８】一般式(III) で表されるアルキル、シクロ
アルキル又はアルケニルハライドとしては、塩化エチ
ル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭化プ
ロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化イソ
プロピル、ヨウ化イソプロピル、臭化シクロペンチル、
塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリル、塩化メタリ
ル、臭化メタリル、ヨウ化メタリル等が挙げられる。
アルキル又はアルケニルハライドとしては、塩化エチ
ル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭化プ
ロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化イソ
プロピル、ヨウ化イソプロピル、臭化シクロペンチル、
塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリル、塩化メタリ
ル、臭化メタリル、ヨウ化メタリル等が挙げられる。
【００１９】＜方法２＞下記の反応式２に従って合成す
る方法である。
る方法である。
【００２０】
【化６】
【００２１】（式中、R2，R3，R4及びR5は同一又は異な
って、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基又はシク
ロアルキル基を示し、R2，R3，R4及びR5のうちの２個が
一緒になって環を形成していてもよい。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式 (IV) で表されるオレフィンとを、新実験化学
講座（丸善），Vol.14, p.585 〜587 に記載の酸触媒に
よるアルコールへのオレフィンの付加反応に準じて反応
させる方法である。
って、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基又はシク
ロアルキル基を示し、R2，R3，R4及びR5のうちの２個が
一緒になって環を形成していてもよい。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式 (IV) で表されるオレフィンとを、新実験化学
講座（丸善），Vol.14, p.585 〜587 に記載の酸触媒に
よるアルコールへのオレフィンの付加反応に準じて反応
させる方法である。
【００２２】例えば、ジクロロメタン溶媒や無溶媒中、
1,4−ジメチロールシクロヘキサン（II）に対して0.01
〜0.5 モル倍の硫酸や三フッ化ホウ素などの酸性触媒の
存在下、10〜80℃の反応温度で、 1,4−ジメチロールシ
クロヘキサン（II）に対して0.8〜5.0 モル倍の一般式
(IV) で表されるオレフィンを１時間〜３日間反応させ
て反応混合物を得、更に精密蒸留又はカラムクロマトグ
ラフィーで精製して目的のモノエーテル体の一つである
一般式（Ｖ）で表される化合物を得ることができる。
1,4−ジメチロールシクロヘキサン（II）に対して0.01
〜0.5 モル倍の硫酸や三フッ化ホウ素などの酸性触媒の
存在下、10〜80℃の反応温度で、 1,4−ジメチロールシ
クロヘキサン（II）に対して0.8〜5.0 モル倍の一般式
(IV) で表されるオレフィンを１時間〜３日間反応させ
て反応混合物を得、更に精密蒸留又はカラムクロマトグ
ラフィーで精製して目的のモノエーテル体の一つである
一般式（Ｖ）で表される化合物を得ることができる。
【００２３】一般式 (IV) で表されるオレフィンとして
は、エチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、イ
ソプレン、２−メチル−２−ブテン等が挙げられ、特に
イソブチレン、イソプレン、２−メチル−２−ブテンが
好ましい。
は、エチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、イ
ソプレン、２−メチル−２−ブテン等が挙げられ、特に
イソブチレン、イソプレン、２−メチル−２−ブテンが
好ましい。
【００２４】＜方法３＞下記の反応式３に従って合成す
る方法である。
る方法である。
【００２５】
【化７】
【００２６】（式中、R6及びR7は同一又は異なって、水
素原子、炭素数１〜８のアルキル基、シクロアルキル基
又はアルケニル基を示す。またR6とR7が一緒になって環
を形成していてもよい。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式 (VI) で表されるアルデヒド又はケトンとを、
Tetrahedron Letters, Vol.36, No.24, p.4235〜4236,
1995に記載のPd/C触媒によるアルコールへのアルデヒド
又はケトンの付加、それに続く水素化分解反応に準じて
反応させる方法である。
素原子、炭素数１〜８のアルキル基、シクロアルキル基
又はアルケニル基を示す。またR6とR7が一緒になって環
を形成していてもよい。） この方法は、1,4 −ジメチロールシクロヘキサン（II）
と一般式 (VI) で表されるアルデヒド又はケトンとを、
Tetrahedron Letters, Vol.36, No.24, p.4235〜4236,
1995に記載のPd/C触媒によるアルコールへのアルデヒド
又はケトンの付加、それに続く水素化分解反応に準じて
反応させる方法である。
【００２７】例えば、一般式 (VI) で表されるアルデヒ
ド又はケトンを溶媒と兼用して用い、1,4 −ジメチロー
ルシクロヘキサン（II）と、 1,4−ジメチロールシクロ
ヘキサン（II）に対して 0.001〜0.25重量倍のPd/Cを溶
解させ、 0.1〜５MPa の水素圧下、50〜150 ℃の反応温
度で30分〜24時間攪拌させて反応混合物を得、更に精密
蒸留又はカラムクロマトグラフィーで精製して目的のモ
ノエーテル体の一つである一般式(VII) で表される化合
物を得ることができる。
ド又はケトンを溶媒と兼用して用い、1,4 −ジメチロー
ルシクロヘキサン（II）と、 1,4−ジメチロールシクロ
ヘキサン（II）に対して 0.001〜0.25重量倍のPd/Cを溶
解させ、 0.1〜５MPa の水素圧下、50〜150 ℃の反応温
度で30分〜24時間攪拌させて反応混合物を得、更に精密
蒸留又はカラムクロマトグラフィーで精製して目的のモ
ノエーテル体の一つである一般式(VII) で表される化合
物を得ることができる。
【００２８】一般式 (VI) で表されるアルデヒド又はケ
トンとしては、アセトアルデヒド、プロパナール、ブタ
ナール、イソブタナール、メチルエチルケトン、３−メ
チル−２−ブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン等が挙げられる。
トンとしては、アセトアルデヒド、プロパナール、ブタ
ナール、イソブタナール、メチルエチルケトン、３−メ
チル−２−ブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサ
ノン等が挙げられる。
【００２９】このようにして得られた本発明の一般式
（Ｉ）で表される新規４−アルコキシメチルシクロヘキ
シルメタノール類は単独で、または他の成分と組み合わ
せて石鹸、シャンプー、リンス、洗剤、化粧品、スプレ
ー製品、芳香剤等の賦香成分として使用できる。
（Ｉ）で表される新規４−アルコキシメチルシクロヘキ
シルメタノール類は単独で、または他の成分と組み合わ
せて石鹸、シャンプー、リンス、洗剤、化粧品、スプレ
ー製品、芳香剤等の賦香成分として使用できる。
【００３０】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例により制限されるもの
ではない。なお、例中の％は特記しない限り重量基準で
ある。
するが、本発明はこれらの実施例により制限されるもの
ではない。なお、例中の％は特記しない限り重量基準で
ある。
【００３１】実施例１ ４−エトキシメチルシクロヘキシルメタノールの製造
【００３２】
【化８】
【００３３】ジムロート冷却器、温度計のついた 200ml
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いで臭化エチル 7.6ｇ(6.9×10-2モル）を加え、60℃で
１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエーテ
ルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留
去後蒸留して反応混合物14ｇを得た。反応混合物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２
／８（容量比))で精製することにより標記化合物３ｇを
得た（収率27％）。
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いで臭化エチル 7.6ｇ(6.9×10-2モル）を加え、60℃で
１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエーテ
ルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留
去後蒸留して反応混合物14ｇを得た。反応混合物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２
／８（容量比))で精製することにより標記化合物３ｇを
得た（収率27％）。
【００３４】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz), δ；0.80
〜1.10(3H,m), 1.19(3H,t,J=7.1Hz,Me), 1.30 〜1.95(7
H,m), 1.85〜2.00(1H,m,OH), 3.22(2H,d,J=6.7Hz,CH2),
3.46(2H,q,J=7.1Hz,CH2), 3.35〜3.60(2H,m,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3428, 2980, 2920, 2852, 14
50, 1380, 1356, 1214, 1110, 1064, 1036 得られた化合物は花様でわずかに木様のニュアンスを持
ちミューゲを想起させる香気を有していた。
〜1.10(3H,m), 1.19(3H,t,J=7.1Hz,Me), 1.30 〜1.95(7
H,m), 1.85〜2.00(1H,m,OH), 3.22(2H,d,J=6.7Hz,CH2),
3.46(2H,q,J=7.1Hz,CH2), 3.35〜3.60(2H,m,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3428, 2980, 2920, 2852, 14
50, 1380, 1356, 1214, 1110, 1064, 1036 得られた化合物は花様でわずかに木様のニュアンスを持
ちミューゲを想起させる香気を有していた。
【００３５】実施例２ ４−イソプロポキシメチルシクロヘキシルメタノールの
製造
製造
【００３６】
【化９】
【００３７】ジムロート冷却器、温度計のついた 200ml
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いでヨウ化イソプロピル12ｇ(6.9×10-2モル）を加え、
60℃で１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加え
エーテルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶
媒を留去後蒸留して反応混合物14ｇを得た。反応混合物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／
ヘキサン＝２／８（容量比))で精製し、標記化合物 3.1
ｇを得た（収率42％）。
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いでヨウ化イソプロピル12ｇ(6.9×10-2モル）を加え、
60℃で１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加え
エーテルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶
媒を留去後蒸留して反応混合物14ｇを得た。反応混合物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／
ヘキサン＝２／８（容量比))で精製し、標記化合物 3.1
ｇを得た（収率42％）。
【００３８】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.10(3H,m), 1.17(6H,d,J=6.2Hz,2Me), 1.30〜1.95(8
H,m), 3.21(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.35〜3.60(3H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3370, 2968, 2920, 2854, 23
26, 1452, 1371, 1338, 1197, 1155, 1125, 1080, 105
9, 1035 得られた化合物はわずかにオリス様のニュアンスを持ち
ミューゲを想起させる香気を有していた。
〜1.10(3H,m), 1.17(6H,d,J=6.2Hz,2Me), 1.30〜1.95(8
H,m), 3.21(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.35〜3.60(3H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3370, 2968, 2920, 2854, 23
26, 1452, 1371, 1338, 1197, 1155, 1125, 1080, 105
9, 1035 得られた化合物はわずかにオリス様のニュアンスを持ち
ミューゲを想起させる香気を有していた。
【００３９】実施例３ ４−プロポキシメチルシクロヘキシルメタノールの製造
【００４０】
【化１０】
【００４１】ジムロート冷却器、温度計のついた 200ml
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いでヨウ化アリル11.7ｇ(6.9×10-2モル）を加え、60℃
で１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエー
テルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を
留去後蒸留して反応混合物 9.0ｇを得た。反応混合物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘ
キサン＝２／８（容量比))で精製することにより４−ア
リロキシメチルシクロヘキシルメタノール 3.8ｇを得た
（収率45％）。
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いでヨウ化アリル11.7ｇ(6.9×10-2モル）を加え、60℃
で１晩攪拌した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエー
テルで抽出した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を
留去後蒸留して反応混合物 9.0ｇを得た。反応混合物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘ
キサン＝２／８（容量比))で精製することにより４−ア
リロキシメチルシクロヘキシルメタノール 3.8ｇを得た
（収率45％）。
【００４２】100ml の耐圧反応器に上記４−アリロキシ
メチルシクロヘキシルメタノール３ｇ（1.63×10-2モ
ル）と含水Pd/C 0.2ｇをイソプロピルアルコール(ＩＰ
Ａ）100mlに溶解させ、0.5MPaの水素圧下室温で１時間
攪拌した。溶媒を留去後、反応混合物 2.6ｇを得た。反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))で精製することに
より標記化合物 2.0ｇを得た（収率86％）。
メチルシクロヘキシルメタノール３ｇ（1.63×10-2モ
ル）と含水Pd/C 0.2ｇをイソプロピルアルコール(ＩＰ
Ａ）100mlに溶解させ、0.5MPaの水素圧下室温で１時間
攪拌した。溶媒を留去後、反応混合物 2.6ｇを得た。反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))で精製することに
より標記化合物 2.0ｇを得た（収率86％）。
【００４３】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.10(6H,m), 1.30〜2.00(10H,m), 3.22(2H,d,J=6.6H
z,CH2), 3.35(2H,t,J=6.9Hz,CH2), 3.44(2H,d,J=6.2Hz,
CH2) IR(KBr,neat, cm-1) ；3396, 2924, 1714, 1638, 1452,
1380, 1282, 1250, 1216, 1120, 1070, 1038 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.10(6H,m), 1.30〜2.00(10H,m), 3.22(2H,d,J=6.6H
z,CH2), 3.35(2H,t,J=6.9Hz,CH2), 3.44(2H,d,J=6.2Hz,
CH2) IR(KBr,neat, cm-1) ；3396, 2924, 1714, 1638, 1452,
1380, 1282, 1250, 1216, 1120, 1070, 1038 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００４４】実施例４ ４−（２−メチル−２−プロペノキシ）メチルシクロヘ
キシルメタノールの製造
キシルメタノールの製造
【００４５】
【化１１】
【００４６】ジムロート冷却器、温度計のついた 200ml
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いで塩化メタリル 6.3ｇ(6.9×10-2モル）とヨウ化カリ
ウム 1.5ｇ（6.9 ×10-3モル）を加え、60℃で１晩攪拌
した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエーテルで抽出
した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留
して反応混合物 9.5ｇを得た。反応混合物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２
／８（容量比))で精製することにより標記化合物 3.1ｇ
を得た（収率44％）。
の４つ口フラスコに、63％水素化ナトリウム 1.7ｇ(6.9
×10-2モル）を無水ＴＨＦ50mlに懸濁させ、60℃に昇温
した。1,4 −ジメチロールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10
-2モル）を20mlの無水ＴＨＦに溶かした溶液を加え、つ
いで塩化メタリル 6.3ｇ(6.9×10-2モル）とヨウ化カリ
ウム 1.5ｇ（6.9 ×10-3モル）を加え、60℃で１晩攪拌
した。ＴＨＦを留去後、氷水を25ml加えエーテルで抽出
した。有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留
して反応混合物 9.5ｇを得た。反応混合物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２
／８（容量比))で精製することにより標記化合物 3.1ｇ
を得た（収率44％）。
【００４７】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.20(3H,m), 1.30〜2.00(8H,m), 1.73(3H,s,Me), 3.2
1(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.44(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.86
(2H,s,CH2), 4.88(1H,s,CH2), 4.94(1H,s,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；３４２６， ３０８４， ２
９２０， ２８５６， ２０２０， １６６０， １４
５０， １３７４， １３５４， １２５４， １２０
６， １０９２， １０３４ 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.20(3H,m), 1.30〜2.00(8H,m), 1.73(3H,s,Me), 3.2
1(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.44(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.86
(2H,s,CH2), 4.88(1H,s,CH2), 4.94(1H,s,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；３４２６， ３０８４， ２
９２０， ２８５６， ２０２０， １６６０， １４
５０， １３７４， １３５４， １２５４， １２０
６， １０９２， １０３４ 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００４８】実施例５ ４−（２−メチルプロポキシ）メチルシクロヘキシルメ
タノールの製造
タノールの製造
【００４９】
【化１２】
【００５０】１００ｍｌ の耐圧反応器に実施例４で合
成した４−（２−メチル−２−プロペノキシ）メチルシ
クロヘキシルメタノール 2.7ｇ（1.38×10-2モル）と含
水Pd/C 0.1ｇをＩＰＡ 100mlに溶解させ、0.5MPaの水素
圧下室温で１時間攪拌した。溶媒を留去後反応混合物
2.5ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))
で精製することにより標記化合物 1.8ｇを得た（収率84
％）。
成した４−（２−メチル−２−プロペノキシ）メチルシ
クロヘキシルメタノール 2.7ｇ（1.38×10-2モル）と含
水Pd/C 0.1ｇをＩＰＡ 100mlに溶解させ、0.5MPaの水素
圧下室温で１時間攪拌した。溶媒を留去後反応混合物
2.5ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))
で精製することにより標記化合物 1.8ｇを得た（収率84
％）。
【００５１】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.10(3H,m), 0.89(6H,d,J=6.7Hz,Me), 1.30 〜2.00(9
H,m), 3.15(2H,d,J=6.9Hz,CH2), 3.21(2H,d,J=6.4Hz,CH
2), 3.44(2H,d,J=6.2Hz,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3476, 2924, 1452, 1384, 12
14, 1098, 1034 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.10(3H,m), 0.89(6H,d,J=6.7Hz,Me), 1.30 〜2.00(9
H,m), 3.15(2H,d,J=6.9Hz,CH2), 3.21(2H,d,J=6.4Hz,CH
2), 3.44(2H,d,J=6.2Hz,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3476, 2924, 1452, 1384, 12
14, 1098, 1034 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００５２】実施例６ ４−ｔ−ブトキシメチルシクロヘキシルメタノールの製
造
造
【００５３】
【化１３】
【００５４】200mlの４つ口フラスコに、1,4−ジメチロ
ールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10-2モル）を塩化メチレ
ン100mlに溶かした溶液を加え、ついで硫酸0.7ｇ(6.9×
10-3モル）と三フッ化ホウ素エーテル錯体 0.7ｇを加え
た。このフラスコにイソブチレンガスを充填したゴム風
船を取り付け、イソブチレンの微加圧状態下、室温で３
日攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム 100ml
を加え酸を中和し、有機層をエーテルで抽出した。有機
層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留して反応混
合物15ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 4.0ｇを得た（収
率28％）。
ールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10-2モル）を塩化メチレ
ン100mlに溶かした溶液を加え、ついで硫酸0.7ｇ(6.9×
10-3モル）と三フッ化ホウ素エーテル錯体 0.7ｇを加え
た。このフラスコにイソブチレンガスを充填したゴム風
船を取り付け、イソブチレンの微加圧状態下、室温で３
日攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム 100ml
を加え酸を中和し、有機層をエーテルで抽出した。有機
層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留して反応混
合物15ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 4.0ｇを得た（収
率28％）。
【００５５】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.20(3H,m), 1.17(9H,s,3Me), 1.30〜2.00(8H,m), 3.
13(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.44(2H,m,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3364, 2974, 2920, 2860, 27
40, 2260, 1644, 1476, 1455, 1395, 1365, 1257, 123
3, 1197, 1140, 1110, 1080, 1035 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.20(3H,m), 1.17(9H,s,3Me), 1.30〜2.00(8H,m), 3.
13(2H,d,J=6.4Hz,CH2), 3.44(2H,m,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3364, 2974, 2920, 2860, 27
40, 2260, 1644, 1476, 1455, 1395, 1365, 1257, 123
3, 1197, 1140, 1110, 1080, 1035 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００５６】実施例７ ４−（１−メチルプロポキシ）メチルシクロヘキシルメ
タノールの製造
タノールの製造
【００５７】
【化１４】
【００５８】100ml の耐圧反応器に 1,4−ジメチロール
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.1
ｇをメチルエチルケトン 100mlに溶解させ、0.5MPaの水
素圧下、90℃で５時間攪拌した。溶媒を留去後、反応混
合物13ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 5.8ｇを得た（収
率53％）。
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.1
ｇをメチルエチルケトン 100mlに溶解させ、0.5MPaの水
素圧下、90℃で５時間攪拌した。溶媒を留去後、反応混
合物13ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 5.8ｇを得た（収
率53％）。
【００５９】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.20(3H,m), 0.90(3H,t,J=6.9Hz,Me), 1.10(3H,d,J=
6.7Hz,Me), 1.30〜2.10(10H,m), 3.00 〜3.60(5H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3400, 2920, 2308, 1992, 16
32, 1452, 1377, 1341, 1209, 1173, 1113, 1083, 1035 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.20(3H,m), 0.90(3H,t,J=6.9Hz,Me), 1.10(3H,d,J=
6.7Hz,Me), 1.30〜2.10(10H,m), 3.00 〜3.60(5H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3400, 2920, 2308, 1992, 16
32, 1452, 1377, 1341, 1209, 1173, 1113, 1083, 1035 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００６０】実施例８ ４−（1,2 −ジメチルプロポキシ）メチルシクロヘキシ
ルメタノールの製造
ルメタノールの製造
【００６１】
【化１５】
【００６２】100ml の耐圧反応器に 1,4−ジメチロール
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.1
ｇを３−メチル−２−ブタノン 100mlに溶解させ、0.5M
Paの水素圧下90℃で７時間攪拌した。溶媒を留去後反応
混合物18ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 4.5ｇを得た（収
率59％）。
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.1
ｇを３−メチル−２−ブタノン 100mlに溶解させ、0.5M
Paの水素圧下90℃で７時間攪拌した。溶媒を留去後反応
混合物18ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量
比))で精製することにより標記化合物 4.5ｇを得た（収
率59％）。
【００６３】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.20(3H,m), 0.85(3H,d,J=6.7Hz,Me), 0.90(3H,d,J=
6.7Hz,Me), 1.10(3H,d,J=6.7Hz,Me), 1.30 〜2.10(9H,
m), 2.90〜3.60(5H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3364, 2920, 1455, 1386, 13
44, 1191, 1113, 1038. 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.20(3H,m), 0.85(3H,d,J=6.7Hz,Me), 0.90(3H,d,J=
6.7Hz,Me), 1.10(3H,d,J=6.7Hz,Me), 1.30 〜2.10(9H,
m), 2.90〜3.60(5H,m) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3364, 2920, 1455, 1386, 13
44, 1191, 1113, 1038. 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００６４】実施例９ ４−（1,1 −ジメチルプロポキシ）メチルシクロヘキシ
ルメタノールの製造
ルメタノールの製造
【００６５】
【化１６】
【００６６】200mlの４つ口フラスコに、1,4−ジメチロ
ールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10-2モル）と２−メチル
−２−ブテン15ｇ（0.2 モル）を塩化メチレン 100mlに
溶かした溶液を加え、ついで硫酸 0.7ｇ(6.9×10-3モ
ル）と三フッ化ホウ素エーテル錯体0.7ｇを加え室温で
３日攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水10
0mlを加え酸を中和し、有機層をエーテルで抽出した。
有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留して反
応混合物７ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容
量比))で精製することにより標記化合物 4.9ｇを得た
（収率38％）。
ールシクロヘキサン10ｇ(6.9×10-2モル）と２−メチル
−２−ブテン15ｇ（0.2 モル）を塩化メチレン 100mlに
溶かした溶液を加え、ついで硫酸 0.7ｇ(6.9×10-3モ
ル）と三フッ化ホウ素エーテル錯体0.7ｇを加え室温で
３日攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水10
0mlを加え酸を中和し、有機層をエーテルで抽出した。
有機層が中性になるまで水洗し溶媒を留去後蒸留して反
応混合物７ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容
量比))で精製することにより標記化合物 4.9ｇを得た
（収率38％）。
【００６７】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.10(3H,m), 0.85(3H,t,J=6.9Hz,Me), 1.10(6H,s,2M
e), 1.30〜2.00(10H,m), 3.10(2H,d,J=6.7Hz,CH2), 3.4
5(2H,d,J= 6.2Hz,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3370, 2926, 1455, 1383, 13
65, 1293, 1239, 1182, 1086 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.10(3H,m), 0.85(3H,t,J=6.9Hz,Me), 1.10(6H,s,2M
e), 1.30〜2.00(10H,m), 3.10(2H,d,J=6.7Hz,CH2), 3.4
5(2H,d,J= 6.2Hz,CH2) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3370, 2926, 1455, 1383, 13
65, 1293, 1239, 1182, 1086 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
【００６８】実施例１０ ４−シクロペンチルオキシメチルシクロヘキシルメタノ
ールの製造
ールの製造
【００６９】
【化１７】
【００７０】100ml の耐圧反応器に 1,4−ジメチロール
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.5
ｇをシクロペンタノン 100mlに溶解させ、0.5MPaの水素
圧下90℃で１時間攪拌した。溶媒を留去後反応混合物14
ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))で精
製することにより標記化合物 1.0ｇを得た（収率93
％）。
シクロヘキサン10ｇ（6.93×10-2モル）と含水Pd/C 0.5
ｇをシクロペンタノン 100mlに溶解させ、0.5MPaの水素
圧下90℃で１時間攪拌した。溶媒を留去後反応混合物14
ｇを得た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８（容量比))で精
製することにより標記化合物 1.0ｇを得た（収率93
％）。
【００７１】1Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3, 200MHz)，δ；0.80
〜1.10(3H,m), 1.20〜2.10(16H,m), 3.20(2H,d,J=6.7H
z,CH2), 3.45(2H,d,J=6.2Hz,CH2), 3.70 〜4.00(1H,m,C
H) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3406, 2920, 2332, 1452, 13
53, 1182, 1092, 1062, 1038 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
〜1.10(3H,m), 1.20〜2.10(16H,m), 3.20(2H,d,J=6.7H
z,CH2), 3.45(2H,d,J=6.2Hz,CH2), 3.70 〜4.00(1H,m,C
H) ＩＲ（KBr,neat, cm-1) ；3406, 2920, 2332, 1452, 13
53, 1182, 1092, 1062, 1038 得られた化合物は花様、かつ木様香気を有していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ａ６１Ｋ 7/46 ３３１ Ａ６１Ｋ 7/46 ３３１
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表される新規４−アルコ
キシメチルシクロヘキシルメタノール類。 【化１】 （式中、R は炭素数２〜10のアルキル基、炭素数３〜10
のシクロアルキル基または炭素数４〜10のアルケニル基
を示す。） - 【請求項２】 Rが炭素数２〜５のアルキル基、炭素数５
〜６のシクロアルキル基または炭素数４〜５のアルケニ
ル基である請求項１記載の新規４−アルコキシメチルシ
クロヘキシルメタノール類。 - 【請求項３】 Rがエチル基又はイソプロピル基である請
求項１記載の新規４−アルコキシメチルシクロヘキシル
メタノール類。 - 【請求項４】 一般式（II） 【化２】 （式中のシクロヘキサン環の２つのメチロール基の立体
配置はシス型、トランス型又はシス型とトランス型の混
合物のいずれでも良い。）で表される 1,4−ジメチロー
ルシクロヘキサンの一つの水酸基だけをエーテル化する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の
４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18806897A JP4030623B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | ４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18806897A JP4030623B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | ４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129512A true JPH1129512A (ja) | 1999-02-02 |
| JP4030623B2 JP4030623B2 (ja) | 2008-01-09 |
Family
ID=16217155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18806897A Expired - Fee Related JP4030623B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | ４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4030623B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013004579A2 (en) | 2011-07-01 | 2013-01-10 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| US10106477B2 (en) | 2015-08-18 | 2018-10-23 | Basf Se | Process for preparing 1,4-bis(ethoxymethyl)cyclohexane |
-
1997
- 1997-07-14 JP JP18806897A patent/JP4030623B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013004579A2 (en) | 2011-07-01 | 2013-01-10 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| WO2013004579A3 (en) * | 2011-07-01 | 2013-03-07 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| CN103764606A (zh) * | 2011-07-01 | 2014-04-30 | 巴斯夫欧洲公司 | 二羟甲基环己烷的醚 |
| JP2014522824A (ja) * | 2011-07-01 | 2014-09-08 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ビス（ヒドロキシメチル）シクロヘキサンのエーテル |
| US9452962B2 (en) | 2011-07-01 | 2016-09-27 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| EP3296283A1 (en) | 2011-07-01 | 2018-03-21 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| US9981897B2 (en) | 2011-07-01 | 2018-05-29 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| US10106477B2 (en) | 2015-08-18 | 2018-10-23 | Basf Se | Process for preparing 1,4-bis(ethoxymethyl)cyclohexane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4030623B2 (ja) | 2008-01-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010506861A (ja) | 匂い物質として有用な２，２，３−トリメチルシクロペンタ−３−エンカルバルデヒド誘導体 | |
| JP3833347B2 (ja) | 香料組成物 | |
| WO1994012457A1 (en) | Process for preparing tertiary alkynols | |
| EP0411460B1 (en) | Perfumery composition comprising 2-cyclohexylpropionic acid or its derivative | |
| JP4030623B2 (ja) | ４−アルコキシメチルシクロヘキシルメタノール類及びその製造法 | |
| JP4027471B2 (ja) | 新規シクロヘキシルアルカノール類及びそれを含有する香料組成物 | |
| US4347388A (en) | 3,6-Dimethyl-3-hydroxy-oct-1-ynes and -oct-1-enes, derivatives of these, and their use as scents, and in the preparation of 3,6-dimethyl-3-hydroxy-octane | |
| US9845443B2 (en) | Synthesis of a novel odorant | |
| EP0373556B1 (en) | Sandalwood odorants | |
| JP2632474B2 (ja) | ２−（２−ｔ−ブチルシクロヘキシルオキシ）−１−ブタノール及びこれを含有する香料組成物 | |
| JP2854932B2 (ja) | α―アンブリノールの新規な製造方法 | |
| EP2373606B1 (en) | Processes for epimerizing cyclohexenyl ketones with subsequent aldol condensation to produce fragrance compounds | |
| JP4473673B2 (ja) | 新規ピラン誘導体及び香料組成物 | |
| JPH0725804A (ja) | グリセリルエーテル類及びその製造法 | |
| JP7331122B2 (ja) | （３ａＳ，４ａＲ，５Ｓ，７ａＳ，９Ｒ，９ａＲ）－２，２，５，８，８，９ａ－ヘキサメチルオクタヒドロ－４Ｈ－４ａ，９－メタノアズレノ［５，６－ｄ］［１，３］ジオキソール | |
| US8093432B2 (en) | Processes for epimerizing cyclohexenyl ketones with subsequent aldol condensation to produce fragrance compounds | |
| JP3227020B2 (ja) | ケタール類及びその製造法 | |
| JPH0212935B2 (ja) | ||
| JPH0378377B2 (ja) | ||
| JPH0597749A (ja) | α−（２，４，４−トリメチルヘプチル又はヘプテニル−３−オキシ）−β−アルカノール及び該化合物を含有する香料組成物 | |
| JPH0443892B2 (ja) | ||
| JPS625123B2 (ja) | ||
| JP2001261609A (ja) | 高純度の酸素含有基を有するシクロペンタン誘導体、その製法およびそれを含む香料組成物 | |
| JPH09111281A (ja) | 香料組成物 | |
| EP0162672A1 (en) | Tricyclo (2.2.1.0 2,6)heptane derivatives, process for preparing them, and perfume compositions containing them |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040405 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040405 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070130 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070605 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070801 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070820 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071016 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071017 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101026 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111026 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121026 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131026 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |