JPH11283900A

JPH11283900A - 露光装置

Info

Publication number: JPH11283900A
Application number: JP10082233A
Authority: JP
Inventors: Mitsuo Ishikawa; 光男石川
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-03-27
Filing date: 1998-03-27
Publication date: 1999-10-15

Abstract

(57)【要約】【課題】近年、露光装置は、ウェハの大型化や処理速
度の高速化、処理技術の高精度化が図られており、これ
に対応して露光装置自体が大型化、大重量化されるとと
もに配管や配線コードが装置周辺に複雑に取り回される
傾向が強い。【解決手段】光源や照明光学系等を、中空部が形成さ
れた第１架台３、第２保持部材８、第１ベース９、第２
ベース５、第２架台１１等の構成材で保持し、構造体に
接続される配管１８、１９や配線コード２２等を各中空
部に配置することで、露光装置の小型化、軽量化を図る
とともに装置周辺の煩雑さを解消する。さらに各中空部
に冷却作用を有する流体を流すことで、露光装置周辺の
温度上昇に伴う気圧の変動や空気の揺らぎを防止して精
度の高い露光を実現する。また、各中空部に制振材１３
を充填することで、露光装置に生じる振動を抑制し、露
光の精度と安定性の向上を図る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばマスクのパ
ターンをウェハ等の感光基板上に転写するための露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子、または液晶表示素子等を製
造するためのリソグラフィ工程において、マスクとして
のレチクルのパターンをフォトレジストが塗布されたウ
ェハ（またはガラスプレート等）の各ショット領域に転
写露光する露光装置（ステッパ等）が使用されている。
現在は、レチクルとウエハとを静止させたままレチクル
のパターンの全面を照明光で照射し、そのパターン像を
ウエハ上のショット領域毎に転写するステップ・アンド
・リピート方式の一括露光装置が主流である。

【０００３】また、最近では、投影光学系を大型化する
ことなくより広いレチクルのパターンをウェハ上に転写
するために、レチクルを投影光学系の光軸に垂直な方向
に走査するのと同期してウエハもそれに対応した速度で
走査することにより、レチクルのパターンをウェハ上に
逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式等の走査
露光型の露光装置も注目されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近年、上記のような一
括露光装置、走査露光装置等においては、ウェハの大型
化や処理速度の高速化、処理技術の高精度化が図られて
おり、これに伴って露光装置自体が大型化、大重量化さ
れるとともに各種配管や配線コードが装置周辺に複雑に
取り回される傾向が強まっている。

【０００５】しかしながら、露光装置自体が大型化、大
重量化されると、広い設置スペースを確保する必要が生
じるばかりでなく、露光装置を設置するクリーンルーム
が大きくなって設備投資が巨額となり、さらにその床面
が装置の重量によって沈み込んで水平度を保ち難くな
り、正確な露光が行い難くなるといった問題があった。
また、配管や配線コードの取り回しが複雑になると、露
光装置内部の機能的なスペースが減少し装置の作動が制
限を受けてしまったり、配管を人為的な要因から圧迫し
て冷媒のつまりを生じてしまったり、さらには煩雑化し
た配線や配管が人為的な要因で接続不良を起こすといっ
た問題があった。

【０００６】また、従来の露光装置においては、露光装
置本体をチャンバと呼ばれる筐体に収容し、このチャン
バ内の環境を一定に保つことで正確な露光を行えるよう
にしている。しかしながら、光源や除振装置のアクチュ
エータ、駆動用のリニアモータ等を熱源とする露光装置
周辺の温度上昇に伴って生じる微妙な気圧の変動や空気
の揺らぎが、より精度の高い露光の実現を阻む原因とな
っている。

【０００７】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、露光装置の小型化、軽量化、ならびにより精度
の高い露光の実現を目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの手段として、次のような構成を有する露光装置を採
用する。 (１)光源と、該光源とマスクとの間に配置される照明光
学系とを含む複数の構造体からなり、マスクのパターン
を基板上に転写する上記のような一括露光装置、走査露
光装置、さらには液晶表示基板製造用の露光装置等にお
いて、複数の構造体の少なくとも一部を、中空部が形成
された構成材で保持する。

【０００９】ここで、同一質量、同一長さの棒状部材で
あれば、中空断面部材の方が中実断面部材よりも生じる
曲げ応力およびせん断応力は小さくなるため、強度的に
見て有利になる。したがって、上記の露光装置において
は、中空部が形成された構成材で各構造体を保持するこ
とにより、露光装置自体の軽量化、小型化が図れる。

【００１０】(２)前記マスクと前記基板との間に配置さ
れる投影光学系と、該投影光学系を保持する保持機構と
を備える露光装置において、該保持機構の少なくとも一
部に前記構成材を用いる。この露光装置においては、第
１架台の少なくとも一部に前記構成材を用いることによ
り、保持機構の軽量化が図れることに加え、投影光学系
に接続される配管を中空部に配置する等してスペースの
有効な利用が可能となる。

【００１１】(３)前記保持機構は、前記投影光学系を保
持する第１保持部材と、前記第１保持部材が固定される
第１架台とを含み、前記第１架台を載置する防振装置を
更に備えることとする。この露光装置においては、保持
機構を構成する第１保持部材または第１架台に前記構成
材が用いられていることから保持機構自体が軽量化され
るので、防振装置の出力が従来に比べて小さくても済む
ようになり、防振装置の小型化、小出力化が可能とな
る。さらに、このことから防振装置に関するコストの削
減が可能となる。

【００１２】(４)前記マスクが載置されて第１ベース上
で移動するマスクステージと、前記第１ベースを保持す
る第２保持部材とを備える露光装置において、該第２保
持部材の少なくとも一部に前記構成材を用いる。この露
光装置においては、第２保持部材の少なくとも一部に前
記構成材を採用することにより、第２保持部材の軽量化
が図れることに加え、マスクステージに接続される配線
コードを中空部に配置する等してスペースの有効な利用
が可能となる。

【００１３】(５)前記照明光学系の少なくとも一部を保
持する第２架台を備える露光装置において、該第２架台
の少なくとも一部に前記構成材を用いる。この露光装置
においては、第２架台に前記構成材を採用することによ
り、第２架台の軽量化が図れることに加え、照明光学系
に接続される配管や配線コードを中空部に配置する等し
てスペースの有効な利用が可能となる。

【００１４】(６)前記基板が載置されて第２ベース上で
移動する基板ステージと、第２ベースを保持する第３架
台とを備える露光装置において、該第３架台の少なくと
も一部に前記構成材を用いる。この露光装置において
は、第３架台に前記構成材を採用することにより、基板
ステージに接続される配線コードを中空部に配置する等
してスペースの有効な利用が可能となる。

【００１５】(７)前記マスクと前記基板との間に配置さ
れる投影光学系と、前記投影光学系が載置される第１架
台と、前記基板を保持して第２ベース上で移動する基板
ステージとを備える露光装置において、前記第１架台は
前記第２ベースを懸架するとともに、少なくとも一部に
前記構成材を用いる。この露光装置においては、第１架
台に前記構成材を採用することにより、第１架台の軽量
化が図れることに加え、投影光学系や基板ステージに接
続される配線コードを中空部に配置する等してスペース
の有効な利用が可能となる。

【００１６】(８)前記構成材の中空部に、前記複数の構
造体の少なくとも１つに接続される配線コードや配管等
の接続部材を配置する。この露光装置においては、前記
構成材の中空部に配線コードや配管等の接続部材を配置
することにより、配線コードや配管の取り回しの煩雑さ
が解消される。

【００１７】(９)前記接続部材は、前記照明光学系、及
び前記マスクと前記基板との間に配置される投影光学系
の少なくとも一部に不活性ガスを供給する配管と、前記
少なくとも１つの構造体内の電気回路に接続される配線
コードとの少なくとも一方を含むこととする。この露光
装置においては、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシ
マレーザ等、不活性ガスのパージを必要とする照明光学
系について、それらに接続される不活性ガス供給用の配
管を中空部に配置することにより、配管の取り回しの煩
雑さが解消される。また、光源や照明光学系を含む複数
の構造体から延びる配線コードを中空部に配置すること
により、当該露光装置まわりの配線コードの取り回しの
煩雑さが解消される。

【００１８】(１０)前記構成材の中空部を通して前記複
数の構造体の少なくとも１つに温度が調整された流体を
供給する流体供給装置を設ける。この露光装置において
は、温度が調整された流体を中空部に供給することによ
り、温度変化を嫌う構造体を支持する構成材の温度を一
定に保つことが可能となる。

【００１９】(１１)前記構成材の中空部に、前記複数の
構造体の少なくとも１つに生じる振動を抑制する制振材
を充填する。この露光装置においては、前記構成材の中
空部に制振材を充填することにより、前記複数の構造体
の少なくとも１つに生じる振動を抑制することが可能と
なることに加え、装置を設置する設置面から伝わる振動
を抑制することが可能となる。

【００２０】(１２)前記構成材を、棒状の中空部材を複
数組み合わせて構成する。この露光装置においては、棒
状の中空部材を複数組み合わせることにより、簡単かつ
低コストに構成材を設けることが可能となる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明に係る露光装置の一実施形
態を図１および図２に示して説明する。図１は本例の露
光装置の正面図である。図に示された露光装置は、レチ
クル（マスク）Ｒを走査するのと同期してウェハ（基
板）Ｗを走査することによりレチクルＲのパターンをウ
ェハＷ上に逐次露光するステップ・アンド・スキャン方
式が採用された走査露光型の露光装置の全体構成の一例
である。

【００２２】設置面としての床（またはキャッチパレッ
ト）Ｆ上にはチャンバＣが設置されており、このチャン
バＣに露光装置の本体が収容されている。チャンバＣ内
に設置された平面視矩形状の防振台（ベースプレート）
１の各頂点の位置には、それぞれ防振パッド（２Ａ、２
Ｂのみ図示）が配置され、その各防振パッド２Ａ、２Ｂ
上には後述する投影光学系６を支持する第１架台３が設
置されている。４個の防振パッドにはそれぞれ防振用の
アクチュエータが内蔵されている。このアクチュエータ
としては、ボイスコイルモータ、ピエゾ素子等の電歪素
子、または磁歪素子等が使用されている。本実施形態で
は、各防振パッド内でアクチュエータが第１架台３に対
して鉛直方向（図では紙面内上下方向）に力を与えるも
のであるが、さらに水平面内で直交する２軸（Ｘ、Ｙ方
向）にそれぞれ力を発生するアクチュエータを付加して
もよい。また、防振パッドにアクチュエータを内蔵させ
る代わりに、防振台１と第１架台３との間に少なくとも
３個のアクチュエータを設けてもよい。

【００２３】第１架台３は、防振台１と同じく平面視矩
形状で、その各頂点の位置を防振パッド（アクチュエー
タ）２Ａ、２Ｂに支持されて防振台１上に設置されてお
り、その中央には投影光学系が設置されるとともに下面
には第２ベース５が吊り下げ支持されている。第２ベー
ス５は、第１架台３の４本の脚部によって支持されてい
る。なお、第２ベース５を三角形状とし、各頂点付近で
防振パッド（アクチュエータ）により３点で支持するよ
うに構成してもよい。

【００２４】第１架台３の中央に設けられた貫通孔に
は、投影光学系６の鏡筒部分が下端を挿入した状態に配
置され、第１保持部材７を介して第１架台３に固定され
ている。投影光学系６は、例えば１／４〜１／５の投影
倍率を備え、その光軸はそれぞれレチクルＲ、およびウ
ェハＷとほぼ直交する。

【００２５】第１架台３上には、第１保持部材７を介し
て第２保持部材８が立設され、この第２保持部材８に第
１ベース９が固定され、この第１ベース９上にレチクル
ステージ（マスクステージ）１０が載置されている。レ
チクルステージ１０にはレチクルＲが載置されており、
ウェハＷの走査露光に際してレチクルＲを所定の範囲内
で移動させるようになっている。

【００２６】図１では第２保持部材８を第１架台３上に
配置したが、第１架台３を載置する防振パッド（アクチ
ュエータ）２Ａ、２Ｂとは別に、第２保持部材８を載置
する防振パッド（アクチュエータ）を、防振台１、また
は床Ｆ上に設けられる架台（保持部材）で支持するよう
に構成してもよい。

【００２７】また、第１架台３上には、レチクルステー
ジ１０を覆うように第２架台１１が立設され、この第２
架台１１に照明光学系１２が載置されている。照明光学
系１２は、フライアイレンズ、またはロッドインテグレ
ータなどのオプチカル・インテグレータ（ホモジナイザ
ー）、レチクルブラインド（可変視野絞り）、および変
形照明などを行うために、レチクルＲのパターン面とフ
ーリェ変換の関係となる面上での露光用照明光の強度分
布（換言すれば２次光源の形状や大きさ）を規定する開
口絞りなどを有する。なお、照明光学系１２はその全て
の光学要素が第２架台１１上に配置されている必要はな
く、例えば防振台１とは分離して床（またはキャッチパ
レット）Ｆ上に設けられる架台（保持部材）にその一部
の光学要素を配置するようにしてもよい。

【００２８】図１には、照明光学系１２を介してレチク
ルＲに照射される露光用照明光を射出する光源を示して
いないが、水銀ランプ、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦ
エキシマレーザ、あるいはＦ2レーザ（波長１５７ｎ
ｍ）などが用いられる。また、露光用照明光としてＹＡ
Ｇレーザの高調波などを用いてもよいし、あるいはＳＯ
Ｒ、またはレーザプラズマ光源から射出されるＸ線を用
いてもよい。なお、例えば波長５〜１５ｎｍ（軟Ｘ線領
域）に発振スペクトルを有するＥＵＶ（ExtremeUltra V
iolet）光を用いる場合、投影光学系６は複数（３〜６
枚程度）の反射光学素子のみから構成される。また、エ
キシマレーザやＸ線などを光源として用いる場合、例え
ば露光装置が設置されるクリーンルームの床下にその光
源（レーザ本体）が配置される。

【００２９】さて、図１に示すように第１架台３は鉛直
方向に延びる４本（図１では２本のみ図示）の脚部を有
し、第２ベース５はその４本の脚部に固定され、第１架
台３に吊り下げ支持されている。なお、第２ベースは矩
形状（長方形状）であり、その頂点付近で第１架台３の
脚部と結合されている。また、図１では第２ベース５を
第１架台３で吊り下げ支持する構成としたが、第１架台
３（即ち投影光学系６）を載置する防振パッド（アクチ
ュエータ）２Ａ、２Ｂとは別に、第２ベース５を載置す
る防振パッド（アクチュエータ）を、防振台１、または
床（キャッチパレット）Ｆ上に配置される第３架台で支
持するように構成してもよい。

【００３０】第２ベース５上にはウエハステージ（基板
ステージ）１５が載置され、このウエハステージ１５上
にはウエハテーブル１６が設けられている。ウエハステ
ージ１５は、リニアモータ（図示略）によって２次元移
動されるとともに、投影光学系６の光軸と直交する面内
で微小回転可能となっている。ウエハテーブル１６は、
ウエハホルダ（図示略）によってウエハＷを吸着保持す
るとともに、投影光学系６の光軸方向に微動可能で、か
つ投影光学系６の像面に対して傾斜可能となっている。

【００３１】上記露光装置の各部に配設されている第１
架台３、第２保持部材８、第１ベース９、第２ベース
５、第２保持部材７、第２架台１１等はいずれも、露光
装置を構成する照明光学系１２、投影光学系６、レチク
ルステージ１０、ウェハステージ１５等、複数の構造体
を保持する構成材をなしており、少なくともその一部に
は中空部が設けられている。

【００３２】図２に示すように、防振台１の内部にはほ
ぼ全体に中空部１ａが設けられ、この中空部１ａには、
ダンピング効果の高いシリコンゲル、またはタングステ
ン粒子等の制振材１３が充填されており、レチクルステ
ージ１０やウェハステージ１５の作動により露光装置に
生じる振動、および床Ｆから露光装置に伝わる振動を抑
制するようになっている。

【００３３】第１架台３の内部には中空部３ａが設けら
れており、この中空部３ａには、複数の構造体の少なく
とも１つに接続される配線コードや配管等の接続部材と
して、窒素、水素、あるいはヘリウムといった不活性ガ
スのパージを必要とする投影光学系６、および／または
照明光学系１２に接続される配管１８が配置されるとと
もに、フロリナート（商品名）等の冷媒（流体）を第１
架台３内に供給する配管１９が配設されている。

【００３４】なお、第２架台１１に中空部を形成する、
あるいは第２架台１１を複数のパイプで構成し、その中
空部またはパイプを通して不活性ガスを照明光学系１２
に供給するようにしてもよい。同様に、第１保持部材７
を通して冷媒や不活性ガスを投影光学系６に供給した
り、投影光学系６の一部のレンズエレメントを駆動する
圧電素子に接続される配線などを、第１保持部材７、ま
たは第２保持部材８を介してコントローラ（または電気
基板）に接続するようにしてもよい。さらに、レチクル
ステージ１０を駆動するリニアモータに、第２保持部材
８を通して冷媒を供給するようにしてもよい。

【００３５】配管１８は、露光装置とは別に設置された
ガス供給装置２０に接続されており、このガス供給装置
２０から不活性ガスを供給して投影光学系６にパージを
行うようになっている。また、配管１９も、露光装置と
は別に設置された流体供給装置２１に接続されており、
この流体供給装置２１から配管１９に温度が調整された
冷媒を供給して第１架台３を所定の温度に保つようにな
っている。

【００３６】さらに、第２ベース５が結合される第１架
台３の脚部に設けられた中空部３ａ、さらには脚部の中
空部３ａに連通して第２ベース５に設けられた中空部５
ａには、ウェハステージ１５の電気回路に接続される配
線コード２２、およびウエハステージ１５を駆動するリ
ニアモータに冷却用の媒体を供給する（循環させる）配
管（図示略）が通されている。配線コード２２は、露光
装置とは別に設置された制御部（図示略）に接続されて
いる。

【００３７】また、防振パッド（２Ａ、２Ｂ）に内蔵さ
れるアクチュエータを冷却する媒体（流体）を、その防
振パッドが載置される防振台１の支持部、または第１架
台３を通して供給するようにしてもよい。同様に、防振
パッドやアクチュエータに接続される配線なども防振台
１、または第１架台３を通すようにしてもよい。

【００３８】さらに、レチクルステージ１０やウエハス
テージ１５の加減速時に発生する振動を低減するため
に、防振台１とは別に床（キャッチパレット）Ｆ上に設
けられる架台（保持部材）にアクチュエータ（ボイスコ
イルモータなど）を配置し、アクチュエータによってそ
の振動を相殺する力を第１架台３、第１ベース９、第２
ベース９、レチクルステージ１０、およびウエハステー
ジ１５の少なくとも１つに与えるように構成し、アクチ
ュエータに接続される配線や冷却用の媒体を供給する配
管などを、そのアクチュエータが設けられる架台の中空
部に配置してもよい。

【００３９】また、照明光学系１２を保持する第２架台
１１、第１ベース９を保持する第２保持部材８、または
第２ベース５を支持する第１架台３の脚部を、防振台１
から分離して床Ｆ上に直接、または防振パッドを介して
配置する、換言すれば第１架台３と機械的な接続がなさ
れないときにも、前述した通りその架台や保持部材の中
空部に配線や配管などを配設してもよい。

【００４０】上記のように構成された露光装置において
は、照明光学系１２、投影光学系６、レチクルステージ
１０、ウェハステージ１５等の複数の構造体を、中空部
３ａが形成された第１架台３、中空部５ａが形成された
第２ベース５等の構成材で保持することにより、露光装
置自体の軽量化、小型化が図られる。これにより、露光
装置が設置される床Ｆが装置の重量によって沈み込むよ
うなことが防止され、床Ｆの水平度が保たれて正確な露
光を行うことができる。また、露光装置の設置場所とし
て広い設置スペースを確保する必要もなくなる。

【００４１】各中空部３ａ、５ａに、配管１８、１９や
配線コード２２を配置することにより、配線コードや配
管の取り回しの煩雑さが解消されるので、露光装置内部
の機能的なスペースを十分な広さに確保することができ
る。また、人為的な要因から露光装置の作動が阻害され
ることもなく、安全な作動状況を確保することができ
る。また、第１架台３の中空部３ａに配置された配管１
９を通して冷媒を供給することにより、温度変化を嫌う
構造体を支持する構成材の温度を一定に保つことが可能
となり、アクチュエータ、リニアモータ等を熱源とする
露光装置周辺の温度上昇に伴う気圧の変動や空気の揺ら
ぎが防止されて精度の高い露光を行うことができる。

【００４２】防振台１の中空部１ａに制振材１３を充填
することにより、レチクルステージ１０やウェハステー
ジ１５の作動により露光装置に生じる振動、および床Ｆ
から伝わる振動を抑制することができ、露光装置に求め
られる制振性能の向上を図って露光精度を高めることが
できる。

【００４３】また、第１架台３、第２保持部材８、第１
ベース９、第２ベース５、第１保持部材７、第２架台１
１等の構成材は、棒状の中空部材（パイプ等）とそれら
を連結する継ぎ手部材とを複数組み合わせて構成される
ことが好ましい。これにより、簡単かつ低コストに構成
材を製作することが可能となり、その結果として露光装
置の製造コストを削減することができる。この場合に
は、露光装置のモデルチェンジに際して構成材を全面的
に生産し直す必要がなく、中空部材の組み立て構造の変
更のみで対応することが可能である。また、構成材をパ
ーツ化することで組み立て作業やメインテナンスにおけ
る作業性を向上させることができる。

【００４４】なお、上記の実施形態においては、第１架
台３内部のほぼ全体に中空部３ａを形成したが、これに
限らず第１架台３の必要な一部にのみ中空部３ａを形成
するのでも構わない。これは、第２保持部材８、第２架
台１１についても同様である。また、中空部をハニカム
構造としても構わない。

【００４５】上記の実施形態においては、第２保持部材
８および第２架台１１がともに第１架台３に設けられて
いるが、これに限らず例えば床置きにしてもよい。さら
に、第２ベース５は第１架台３に懸架されるだけでな
く、第１架台３とは別に床置きにしてもよい。

【００４６】投影光学系６に供給する不活性ガスについ
て、波長が１９０ｎｍ程度以上の紫外線を露光光として
用いるＡｒＦエキシマレーザ等の場合には、コスト的に
は窒素を使用することが好ましいが、投影光学系６が反
射屈折系であるときはヘリウムを供給することが望まし
い。波長が１９０ｎｍ程度以下の紫外線を露光光として
用いるＦ₂レーザ等の場合には、ヘリウムを使用するこ
とが望ましい。

【００４７】本発明に係る露光装置は、複数の鏡筒を有
する投影光学系を備える露光装置についても適用可能で
ある。

【００４８】また、水銀ランプ、エキシマレーザ、ＥＵ
Ｖ光を射出するレーザプラズマ光源などを支持する部材
（架台）に中空部を形成してもよいし、あるいは複数の
棒状中空部材（パイプなど）でその支持部材（架台）を
構成してもよい。

【００４９】さらに本発明は、ステップ・アンド・リピ
ート方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）やステッ
プ・アンド・スキャン方式の縮小投影型走査露光装置
（スキャニング・ステッパー）だけでなく、プロキシミ
ティ方式やミラープロジェクション方式などを含む全て
の露光装置に適用することができる。また、ＥＵＶ光だ
けでなく硬Ｘ線（例えば波長１ｎｍ）を用いるＸ線露光
装置、あるいは荷電粒子線（電子線やイオンビームな
ど）を使用する露光装置などにも本発明を適用すること
ができる。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る露光
装置によれば、光源や照明光学系、投影光学系、マスク
ステージ、基板ステージ等の複数の構造体を、中空部が
形成された第１架台、第２ベース等の構成材で保持する
ことにより、露光装置自体の軽量化、小型化を図ること
ができ、これによって露光装置を設置する床面が装置の
重量によって沈み込むようなことが防止され、設置面の
水平度が保たれて正確な露光を行うことができる。ま
た、露光装置の設置場所として広い設置スペースを確保
する必要もなくなる。

【００５１】構成材に形成された中空部に、複数の構造
体の少なくとも１つに接続される配線コードや配管等の
接続部材を配置することにより、配線コードや配管の取
り回しの煩雑さが解消されるので、露光装置内部の機能
的なスペースを十分な広さに確保することができる。ま
た、人為的な要因から露光装置の作動を阻害するような
こともなくなり、安全な作動状況を確保することができ
る。

【００５２】ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレ
ーザ等、不活性ガスのパージを必要とする照明光学系に
ついて、それらに接続される不活性ガス供給用の配管、
光源や照明光学系を含む複数の構造体から延びる配線コ
ードを、構成材の中空部に配置することにより、当該露
光装置まわりの配線コードの取り回しの煩雑さが解消さ
れるので、露光装置内部の機能的なスペースを十分な広
さに確保することができる。

【００５３】前記中空部を通して複数の構造体の少なく
とも１つに温度が調整された流体を供給する流体供給装
置を設けることにより、温度変化を嫌う構造体を支持す
る構成材の温度を一定に保つことが可能となり、光源等
を熱源とする露光装置周辺の温度上昇に伴う気圧の変動
や空気の揺らぎが防止されてより精度の高い露光を行う
ことができる。

【００５４】前記中空部に、複数の構造体の少なくとも
１つに生じる振動を抑制する制振材を充填することによ
り、複数の構造体の少なくとも１つに生じる振動、さら
には露光装置が設置される床から伝わる振動を抑制する
ことが可能となり、露光装置に求められる制振性能の向
上を図ることができる。

【００５５】前記構成材を棒状の中空部材を複数組み合
わせて構成することにより、簡単かつ低コストに構成材
を製作することが可能となり、その結果として露光装置
の製造コストを削減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る露光装置の一実施形態を示す正
面図である。

【図２】図１に示した露光装置の一部を示す要部断面
図である。

【符号の説明】

１防振台２Ａ、２Ｂ防振パッド（アクチュエータ）３第１架台５第２ベース６投影光学系７第１保持部材８第２保持部材９第１ベース１０マスクステージ１１第２架台１２照明光学系１３制振材１５ウエハステージ１６ウエハテーブル１８、１９配管２０ガス供給装置２１流体供給装置２２配線コードＲレチクルＷウェハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と、前記光源とマスクとの間に配置
される照明光学系とを含む複数の構造体からなり、前記
マスクのパターンを基板上に転写する露光装置におい
て、前記複数の構造体の少なくとも一部を、中空部が形成さ
れた構成材で保持することを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記マスクと前記基板との間に配置され
る投影光学系と、前記投影光学系を保持する保持機構と
を更に備え、前記保持機構の少なくとも一部に前記構成
材を用いることを特徴とする請求項１に記載の露光装
置。
【請求項３】前記保持機構は、前記投影光学系を保持
する第１保持部材と、前記第１保持部材が固定される第
１架台とを含み、前記第１架台を載置する防振装置を更
に備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】前記マスクが載置され、第１ベース上で
移動するマスクステージと、前記第１ベースを保持する
第２保持部材とを更に備え、前記第２保持部材の少なく
とも一部に前記構成材を用いることを特徴とする請求項
１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】前記照明光学系の少なくとも一部を保持
する第２架台を更に備え、前記第２架台の少なくとも一
部に前記構成材を用いることを特徴とする請求項１〜４
のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】前記基板が載置されて第２ベース上で移
動する基板ステージと、前記第２ベースを保持する第３
架台とを更に備え、前記第３架台の少なくとも一部に前
記構成材を用いることを特徴とする請求項１〜５のいず
れか一項に記載の露光装置。
【請求項７】前記マスクと前記基板との間に配置され
る投影光学系と、前記投影光学系が載置される第１架台
と、前記基板を保持して第２ベース上で移動する基板ス
テージとを更に備え、前記第１架台は前記第２ベースを
懸架するとともに、少なくとも一部に前記構成材が用い
られることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項８】前記構成材の中空部に、前記複数の構造
体の少なくとも１つに接続される配線コードや配管等の
接続部材が配置されることを特徴とする請求項１〜７の
いずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】前記接続部材は、前記照明光学系、及び
前記マスクと前記基板との間に配置される投影光学系の
少なくとも一部に不活性ガスを供給する配管と、前記少
なくとも１つの構造体内の電気回路に接続される配線コ
ードとの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項
８記載の露光装置。
【請求項１０】前記構成材の中空部を通して前記複数
の構造体の少なくとも１つに温度が調整された流体を供
給する流体供給装置を更に備えることを特徴とする請求
項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】前記構成材の中空部に、前記複数の構
造体の少なくとも１つに生じる振動を抑制する制振材が
充填されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか
一項に記載の露光装置。
【請求項１２】前記構成材は、棒状の中空部材を複数
組み合わせたものであることを特徴とする請求項１〜１
１のいずれか一項に記載の露光装置。