JPH11281620A - 放出ガス測定方法 - Google Patents
放出ガス測定方法Info
- Publication number
- JPH11281620A JPH11281620A JP10086836A JP8683698A JPH11281620A JP H11281620 A JPH11281620 A JP H11281620A JP 10086836 A JP10086836 A JP 10086836A JP 8683698 A JP8683698 A JP 8683698A JP H11281620 A JPH11281620 A JP H11281620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- quartz tube
- measurement
- measured
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】試料から放出されるガスを精度良く簡単に測定
する方法を提案すること 【解決手段】真空ポンプ７により真空排気した石英管１
内に設置される試料９の温度を熱電対８で計測しながら
該石英管の外周の光熱源１０の出力を制御して所定の速
度で昇温させ、該石英管内に発生するガスを該質量分析
計５で全体測定すると共に該光熱源の出力制御データを
記録媒体１３に記憶させ、このあと該石英管から該試料
を取り出し、該石英管内を再び前記所定の真空度に排気
したのち該光熱源の出力を該記録媒体に記憶させた出力
制御データに従って制御し、このとき該石英管内に発生
するガスを該質量分析計でバックグラウンド測定する。
試料の放出ガス測定値は全体測定の値からバックグラン
ド測定の値を差し引いて決定する。
する方法を提案すること 【解決手段】真空ポンプ７により真空排気した石英管１
内に設置される試料９の温度を熱電対８で計測しながら
該石英管の外周の光熱源１０の出力を制御して所定の速
度で昇温させ、該石英管内に発生するガスを該質量分析
計５で全体測定すると共に該光熱源の出力制御データを
記録媒体１３に記憶させ、このあと該石英管から該試料
を取り出し、該石英管内を再び前記所定の真空度に排気
したのち該光熱源の出力を該記録媒体に記憶させた出力
制御データに従って制御し、このとき該石英管内に発生
するガスを該質量分析計でバックグラウンド測定する。
試料の放出ガス測定値は全体測定の値からバックグラン
ド測定の値を差し引いて決定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面反応や触媒反
応を解析するための昇温脱離の測定や、試料から放出さ
れるガス種の測定などに適用される放出ガス測定方法に
関する。
応を解析するための昇温脱離の測定や、試料から放出さ
れるガス種の測定などに適用される放出ガス測定方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、真空中で試料の温度を上
昇させ、その表面から順次脱離してくる各種のガス分子
を質量分析計で測定する昇温脱離測定では、試料のみか
らでなく測定装置を構成する真空容器の壁面などからも
ガス分子が脱離してこれが誤差として測定値に含まれて
しまい、正確な測定を行えないという問題があった。
昇させ、その表面から順次脱離してくる各種のガス分子
を質量分析計で測定する昇温脱離測定では、試料のみか
らでなく測定装置を構成する真空容器の壁面などからも
ガス分子が脱離してこれが誤差として測定値に含まれて
しまい、正確な測定を行えないという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この問題を解決する方
法として、一般に、試料なしで測定装置を作動させ、真
空容器などから発生するガスの測定すなわちバックグラ
ンド測定を行い、この測定値を試料を設けて測定装置を
作動させたときの全体測定の値から差し引く方法が用い
られている。従来の昇温脱離の測定方法を更に説明する
と、石英管で構成され真空ポンプ、質量分析計、全圧計
が接続された真空容器の内部を所定の真空度に真空排気
したのち、石英管の外部からハロゲンランプなどの光熱
源により該石英管の内部に設けた熱電対で測温しながら
所定の速度で昇温させ、その昇温過程に於いて該試料か
ら順次脱離してくるガス分子を質量分析計に於いてバッ
クグランド測定する。このあと該石英管内に試料をい
れ、所定の真空度に排気したのち熱電対で試料温度を測
定しながら電気熱源により昇温させ、該石英管内に発生
するガス分子を質量分析計で測定（全体測定）し、この
測定値から前記バックグランド測定で得た値を差し引い
た値を該試料の昇温脱離の測定値としている。
法として、一般に、試料なしで測定装置を作動させ、真
空容器などから発生するガスの測定すなわちバックグラ
ンド測定を行い、この測定値を試料を設けて測定装置を
作動させたときの全体測定の値から差し引く方法が用い
られている。従来の昇温脱離の測定方法を更に説明する
と、石英管で構成され真空ポンプ、質量分析計、全圧計
が接続された真空容器の内部を所定の真空度に真空排気
したのち、石英管の外部からハロゲンランプなどの光熱
源により該石英管の内部に設けた熱電対で測温しながら
所定の速度で昇温させ、その昇温過程に於いて該試料か
ら順次脱離してくるガス分子を質量分析計に於いてバッ
クグランド測定する。このあと該石英管内に試料をい
れ、所定の真空度に排気したのち熱電対で試料温度を測
定しながら電気熱源により昇温させ、該石英管内に発生
するガス分子を質量分析計で測定（全体測定）し、この
測定値から前記バックグランド測定で得た値を差し引い
た値を該試料の昇温脱離の測定値としている。
【０００４】このバックグランド測定のとき、石英管内
の温度は熱電対により測定されており、この熱電対の温
度が例えば図１の曲線Ａで示したような所定の速度で昇
温するように光熱源の出力を制御している。しかし、熱
電対はその先端の感熱部で測温するもので、該感熱部に
試料が接触している状態では該感熱部の熱容量が大き
く、試料が存在しない状態では該感熱部の熱容量は非常
に小さい。そのため、試料が存在しないときは光熱源の
出力を図１の曲線Ｂに示すように試料が熱電対に取り付
けられている場合（曲線Ｃ）よりも大きくしなければ同
じ昇温速度が得られず、バックグランド測定時には、全
体測定時よりも大きな熱量が石英管内に作用することに
なり、バックグランド測定時と全体測定時とでは石英管
の内壁などから発生するガス放出量が相違し、これは昇
温脱離の測定に誤差を与えて好ましくないということが
分かった。
の温度は熱電対により測定されており、この熱電対の温
度が例えば図１の曲線Ａで示したような所定の速度で昇
温するように光熱源の出力を制御している。しかし、熱
電対はその先端の感熱部で測温するもので、該感熱部に
試料が接触している状態では該感熱部の熱容量が大き
く、試料が存在しない状態では該感熱部の熱容量は非常
に小さい。そのため、試料が存在しないときは光熱源の
出力を図１の曲線Ｂに示すように試料が熱電対に取り付
けられている場合（曲線Ｃ）よりも大きくしなければ同
じ昇温速度が得られず、バックグランド測定時には、全
体測定時よりも大きな熱量が石英管内に作用することに
なり、バックグランド測定時と全体測定時とでは石英管
の内壁などから発生するガス放出量が相違し、これは昇
温脱離の測定に誤差を与えて好ましくないということが
分かった。
【０００５】本発明は、試料から放出されるガスを精度
良く簡単に測定する方法を提案することを目的とするも
のである。
良く簡単に測定する方法を提案することを目的とするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明では、真空ポンプ
により真空排気した石英管内に試料を設置し、熱電対に
より該試料の温度を計測しながら該石英管の外周のハロ
ゲンランプ等の光熱源により所定の昇温速度で昇温さ
せ、該試料から放出されるガス分子を該質量分析計で分
析測定する方法に於いて、まず所定の真空度に石英管内
を排気したのち該石英管内の該試料の温度を該熱電対で
計測しながら該光熱源の出力を制御して所定の速度で昇
温させ、該石英管内に発生するガスを該質量分析計で全
体測定すると共に該光熱源の出力制御データを記録媒体
に記憶させ、このあと該石英管から該試料を取り出し、
該石英管内を再び前記所定の真空度に排気したのち該光
熱源の出力を該記録媒体に記憶させた出力制御データに
従って制御し、このとき該石英管内に発生するガスを該
質量分析計でバックグラウンド測定することにより、上
記目的を達成するようにした。該試料の放出ガス測定値
は該全体測定の値からバックグランド測定の値を差し引
いて決定される。
により真空排気した石英管内に試料を設置し、熱電対に
より該試料の温度を計測しながら該石英管の外周のハロ
ゲンランプ等の光熱源により所定の昇温速度で昇温さ
せ、該試料から放出されるガス分子を該質量分析計で分
析測定する方法に於いて、まず所定の真空度に石英管内
を排気したのち該石英管内の該試料の温度を該熱電対で
計測しながら該光熱源の出力を制御して所定の速度で昇
温させ、該石英管内に発生するガスを該質量分析計で全
体測定すると共に該光熱源の出力制御データを記録媒体
に記憶させ、このあと該石英管から該試料を取り出し、
該石英管内を再び前記所定の真空度に排気したのち該光
熱源の出力を該記録媒体に記憶させた出力制御データに
従って制御し、このとき該石英管内に発生するガスを該
質量分析計でバックグラウンド測定することにより、上
記目的を達成するようにした。該試料の放出ガス測定値
は該全体測定の値からバックグランド測定の値を差し引
いて決定される。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施に使用した放出ガス
測定装置の構成は図２に示す如くであり、同図に於い
て、符号１はチャンバー２と共に真空容器３を構成する
石英管を示し、該チャンバー２には該真空容器内の圧力
を計測する全圧計４及び該容器内のガス分子を検出する
ための質量分析計５が接続され、更に排気口６を介して
真空ポンプ７が接続される。該石英管１とチャンバー２
は分離可能であり、該石英管１内へ熱電対８を取り付け
た試料９を収容して密閉し、該石英管１の外周に設けた
環状のハロゲンランプからなる光熱源１０により該試料
９を加熱するようにした。該熱電対８は該光熱源１０の
出力を制御する制御器１１に接続され、該制御器１１を
制御することにより任意の速度で昇温で該試料９の温度
が制御される。１２は電源である。
測定装置の構成は図２に示す如くであり、同図に於い
て、符号１はチャンバー２と共に真空容器３を構成する
石英管を示し、該チャンバー２には該真空容器内の圧力
を計測する全圧計４及び該容器内のガス分子を検出する
ための質量分析計５が接続され、更に排気口６を介して
真空ポンプ７が接続される。該石英管１とチャンバー２
は分離可能であり、該石英管１内へ熱電対８を取り付け
た試料９を収容して密閉し、該石英管１の外周に設けた
環状のハロゲンランプからなる光熱源１０により該試料
９を加熱するようにした。該熱電対８は該光熱源１０の
出力を制御する制御器１１に接続され、該制御器１１を
制御することにより任意の速度で昇温で該試料９の温度
が制御される。１２は電源である。
【０００８】そして試料９の昇温脱離を測定する場合、
該真空容器３内を真空排気したのち、該試料９の温度を
熱電対８で計測しながら光熱源１０の出力を制御器１１
で制御しながら所定の昇温速度で昇温させ、その間に該
真空容器３内に温度の変化で順次に発生する各種の分
子、原子を質量分析計５で計測し、発生するガス分子等
の量や脱離温度を測定（全体測定）する。しかし、質量
分析計５には試料９から発生するガス分子等だけでな
く、該真空容器３の内壁や構成部材から発生したガス分
子等も捕捉されるので、この全体測定の測定値は誤差を
含んでいる。従来は、真空容器３の内部に試料９を置か
ず熱電対８のみを設置し、熱電対８で検出される内部の
温度が前記全体測定のときと同じ昇温速度になるように
昇温させ、その間に真空容器の内壁等から発生するガス
分子等を質量分析計５で捕捉してバックグランド測定
し、その値を全体測定値から差し引いていたが、前記し
たように試料９の有無により熱電対８の計測状態が変わ
ってしまい、同じ昇温速度を得るのに光熱源１０は試料
のないときの方が試料のあるときよりも大きく出力して
おり、バックグランド測定時と全体測定時は真空容器内
の熱環境が相違しているため、ガス分析測定の精度が良
くない。
該真空容器３内を真空排気したのち、該試料９の温度を
熱電対８で計測しながら光熱源１０の出力を制御器１１
で制御しながら所定の昇温速度で昇温させ、その間に該
真空容器３内に温度の変化で順次に発生する各種の分
子、原子を質量分析計５で計測し、発生するガス分子等
の量や脱離温度を測定（全体測定）する。しかし、質量
分析計５には試料９から発生するガス分子等だけでな
く、該真空容器３の内壁や構成部材から発生したガス分
子等も捕捉されるので、この全体測定の測定値は誤差を
含んでいる。従来は、真空容器３の内部に試料９を置か
ず熱電対８のみを設置し、熱電対８で検出される内部の
温度が前記全体測定のときと同じ昇温速度になるように
昇温させ、その間に真空容器の内壁等から発生するガス
分子等を質量分析計５で捕捉してバックグランド測定
し、その値を全体測定値から差し引いていたが、前記し
たように試料９の有無により熱電対８の計測状態が変わ
ってしまい、同じ昇温速度を得るのに光熱源１０は試料
のないときの方が試料のあるときよりも大きく出力して
おり、バックグランド測定時と全体測定時は真空容器内
の熱環境が相違しているため、ガス分析測定の精度が良
くない。
【０００９】本発明では、上記全体測定時の光熱源１０
の出力の制御データを記録媒体１３に記録しておき、そ
の全体測定が完了したのち真空容器３内から試料９を取
り除き、記録媒体１３の出力制御データによって光熱源
１０を作動させ、該真空容器３内に発生するガス分子等
を質量分析計５で計測するバックグランド測定を行な
い、全体測定時の質量分析計５の測定値からこのバック
グランド測定時の測定値を差し引き試料の昇温脱離測定
値を得るようにした。こうすることによって熱電対８に
頼らずに光熱源１０の出力を制御でき、真空容器３内へ
の照射熱量を全体測定時もバックグランド測定時も同一
となし得られ、精度の高いバックグランド測定を行え、
ガス分析測定の精度が向上する。
の出力の制御データを記録媒体１３に記録しておき、そ
の全体測定が完了したのち真空容器３内から試料９を取
り除き、記録媒体１３の出力制御データによって光熱源
１０を作動させ、該真空容器３内に発生するガス分子等
を質量分析計５で計測するバックグランド測定を行な
い、全体測定時の質量分析計５の測定値からこのバック
グランド測定時の測定値を差し引き試料の昇温脱離測定
値を得るようにした。こうすることによって熱電対８に
頼らずに光熱源１０の出力を制御でき、真空容器３内へ
の照射熱量を全体測定時もバックグランド測定時も同一
となし得られ、精度の高いバックグランド測定を行え、
ガス分析測定の精度が向上する。
【００１０】該記録媒体１３に記録される出力制御デー
タは、所定の昇温速度を得たときに光熱源１０に投入さ
れた電力もしくは電流、電圧のデータであり、バックグ
ランド測定時はこの出力制御データに基づいて制御器１
１が電源１２から光熱源１０への電気量を制御する。
タは、所定の昇温速度を得たときに光熱源１０に投入さ
れた電力もしくは電流、電圧のデータであり、バックグ
ランド測定時はこの出力制御データに基づいて制御器１
１が電源１２から光熱源１０への電気量を制御する。
【００１１】本発明の実施の形態を、図２の装置を使用
して例えばアルミニウム合金の試料９の昇温脱離を測定
する場合につき説明すると、該真空容器３内を所定の１
０-6Pa以下に真空排気したのち、該試料９の温度を熱電
対８で測温しながら光熱源１０の出力を制御器１１で制
御すると共に該光熱源１０に投入された電力をその出力
制御データとして記録媒体１３に記録しながら図３の曲
線Ａで示したように４５分間で室温２５℃から３００℃
まで昇温させ、その昇温過程で順次に脱離する該試料９
に吸着されていた各種分子、原子を該質量分析計５で計
測し、全体測定を行った。その全体測定の結果を図３に
曲線Ｄで示した。このあと試料９を該真空容器内から取
り出したのち該真空容器３内を前記圧力に真空排気し、
該記録媒体１３に記録した出力制御データに基づき該制
御器１１を制御することにより光熱源１０からの光を該
真空容器内へ照射する。このとき該真空容器内に与えら
れる熱量は全体測定のときと同量になり、その間に該真
空容器内で発生したガス分子等を質量分析計５でバック
グランド測定した結果、図３の曲線Ｅのようになった。
比較のために従来の熱電対８により測定しながら曲線Ａ
で示す昇温速度でバックグランド測定を行ったところ、
質量分析計５の測定値には曲線Ｆで示したような極端に
大きなピークが発生した。このピークは、光熱源１０に
過剰な電力が投入され真空容器等の内部の温度が全体測
定時よりも高くなって脱離が激しくなっているためであ
ると推定される。全体測定で得た曲線Ｄの測定値から曲
線Ｅのバックグランド測定値を差し引いたガス分析測定
値の方が、曲線Ｆの測定値を差し引くよりも理論値に近
く、精度の高い測定であることが分かった。
して例えばアルミニウム合金の試料９の昇温脱離を測定
する場合につき説明すると、該真空容器３内を所定の１
０-6Pa以下に真空排気したのち、該試料９の温度を熱電
対８で測温しながら光熱源１０の出力を制御器１１で制
御すると共に該光熱源１０に投入された電力をその出力
制御データとして記録媒体１３に記録しながら図３の曲
線Ａで示したように４５分間で室温２５℃から３００℃
まで昇温させ、その昇温過程で順次に脱離する該試料９
に吸着されていた各種分子、原子を該質量分析計５で計
測し、全体測定を行った。その全体測定の結果を図３に
曲線Ｄで示した。このあと試料９を該真空容器内から取
り出したのち該真空容器３内を前記圧力に真空排気し、
該記録媒体１３に記録した出力制御データに基づき該制
御器１１を制御することにより光熱源１０からの光を該
真空容器内へ照射する。このとき該真空容器内に与えら
れる熱量は全体測定のときと同量になり、その間に該真
空容器内で発生したガス分子等を質量分析計５でバック
グランド測定した結果、図３の曲線Ｅのようになった。
比較のために従来の熱電対８により測定しながら曲線Ａ
で示す昇温速度でバックグランド測定を行ったところ、
質量分析計５の測定値には曲線Ｆで示したような極端に
大きなピークが発生した。このピークは、光熱源１０に
過剰な電力が投入され真空容器等の内部の温度が全体測
定時よりも高くなって脱離が激しくなっているためであ
ると推定される。全体測定で得た曲線Ｄの測定値から曲
線Ｅのバックグランド測定値を差し引いたガス分析測定
値の方が、曲線Ｆの測定値を差し引くよりも理論値に近
く、精度の高い測定であることが分かった。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、まず
所定の真空度に石英管内を排気したのち該試料の温度を
熱電対で計測しながら該石英管の外周の光熱源の出力を
制御して該試料を所定の速度で昇温させ、該石英管内に
発生するガスを質量分析計で全体測定すると共に該光熱
源の出力制御データを記録媒体に記憶させ、このあと該
石英管から該試料を取り出し、該石英管内を再び前記所
定の真空度に排気したのち該光熱源の出力を該記録媒体
に記憶させた出力制御データに従って制御し、このとき
該石英管内に発生するガスを該質量分析計でバックグラ
ウンド測定するようにしたので、バックグランド測定時
の光熱源の出力を全体測定時の光熱源の出力と同等に制
御することができ、同一雰囲気で精度の高いガス分析測
定を行え、記録媒体を設けるだけで行えるから装置も簡
単安価で済む等の効果がある。
所定の真空度に石英管内を排気したのち該試料の温度を
熱電対で計測しながら該石英管の外周の光熱源の出力を
制御して該試料を所定の速度で昇温させ、該石英管内に
発生するガスを質量分析計で全体測定すると共に該光熱
源の出力制御データを記録媒体に記憶させ、このあと該
石英管から該試料を取り出し、該石英管内を再び前記所
定の真空度に排気したのち該光熱源の出力を該記録媒体
に記憶させた出力制御データに従って制御し、このとき
該石英管内に発生するガスを該質量分析計でバックグラ
ウンド測定するようにしたので、バックグランド測定時
の光熱源の出力を全体測定時の光熱源の出力と同等に制
御することができ、同一雰囲気で精度の高いガス分析測
定を行え、記録媒体を設けるだけで行えるから装置も簡
単安価で済む等の効果がある。
【図１】従来のガス分析に於ける試料の昇温速度と光熱
源の出力の関係を示す線図
源の出力の関係を示す線図
【図２】本発明の方法の実施に使用した装置の説明図
【図３】図２の装置で本発明の方法によりガス分析測定
した実施例の線図
した実施例の線図
１ 石英管、３ 真空容器、５ 質量分析計、６ 排気
口、７ 真空ポンプ、８熱電対、９ 試料、１０ 光熱
源、１３ 記録媒体、
口、７ 真空ポンプ、８熱電対、９ 試料、１０ 光熱
源、１３ 記録媒体、
Claims (2)
- 【請求項１】真空ポンプにより真空排気した石英管内に
試料を設置し、熱電対により該試料の温度を計測しなが
ら該石英管の外周のハロゲンランプ等の光熱源により所
定の昇温速度で昇温させ、該試料から放出されるガス分
子を該質量分析計で分析測定する方法に於いて、まず所
定の真空度に石英管内を排気したのち該石英管内の該試
料の温度を該熱電対により計測しながら該光熱源の出力
を制御して所定の速度で昇温させ、該石英管内に発生す
るガスを該質量分析計で全体測定すると共に該光熱源の
出力制御データを記録媒体に記憶させ、このあと該石英
管から該試料を取り出し、該石英管内を再び前記所定の
真空度に排気したのち該光熱源の出力を該記録媒体に記
憶させた出力制御データに従って制御し、このとき該石
英管内に発生するガスを該質量分析計でバックグラウン
ド測定することを特徴とする放出ガス測定方法。 - 【請求項２】上記試料の放出ガス測定値を上記全体測定
の値からバックグランド測定の値を差し引いて決定する
ことを特徴とする請求項１に記載の放出ガス測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086836A JPH11281620A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 放出ガス測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086836A JPH11281620A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 放出ガス測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11281620A true JPH11281620A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13897907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10086836A Pending JPH11281620A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 放出ガス測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11281620A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7140231B2 (en) | 2003-08-18 | 2006-11-28 | Rigaku Corporation | Evolved gas analyzing method and apparatus |
| CN102110582A (zh) * | 2010-12-24 | 2011-06-29 | 德清新明辉电光源有限公司 | 真空泵掺气装置 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10086836A patent/JPH11281620A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7140231B2 (en) | 2003-08-18 | 2006-11-28 | Rigaku Corporation | Evolved gas analyzing method and apparatus |
| CN102110582A (zh) * | 2010-12-24 | 2011-06-29 | 德清新明辉电光源有限公司 | 真空泵掺气装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5491311B2 (ja) | 昇温脱離ガス分析装置およびその方法 | |
| JP5054226B2 (ja) | 酸素の検出方法，空気リークの判別方法，ガス成分検出装置，及び真空処理装置 | |
| KR20120111080A (ko) | 셀의 가스 분석 장치 및 이를 이용한 가스 분석 방법 | |
| JPH0750022B2 (ja) | 可搬構造を用いた有機物分析方法及び装置 | |
| JPS61213742A (ja) | 小さな部品用のヘリウムガス漏れ検知器 | |
| JP3846800B2 (ja) | 発生ガス分析方法とその装置 | |
| JP2009002878A (ja) | ガス吸着材料評価装置及びガス吸着材料評価方法 | |
| JPH11281620A (ja) | 放出ガス測定方法 | |
| US3068402A (en) | Desorption spectrometers | |
| TW200839869A (en) | Substrate processing apparatus and analysis method therefor | |
| CN218629606U (zh) | 一种气体脱附特性测试设备 | |
| JP4391682B2 (ja) | 漏洩ガス測定装置、及び漏洩ガス測定装置の評価装置 | |
| JP4247093B2 (ja) | 水分測定方法及び水分測定装置 | |
| CN113970591A (zh) | 一种基于超高真空设备的可联用tpd系统及使用方法 | |
| JP7025232B2 (ja) | ガス濃度検出方法及びガス濃度検出装置 | |
| JP3436328B2 (ja) | シリコンウエハの加熱装置 | |
| JPH1183802A (ja) | 昇温脱離ガス分析方法および装置 | |
| Duisterwinkel et al. | Water sorption measured by sorption calorimetry | |
| JPH08189887A (ja) | ガス検出方法及びガス検出装置 | |
| JPH07226159A (ja) | 陰極線管寿命試験方法 | |
| JP3378494B2 (ja) | 分析装置 | |
| JP2009103584A (ja) | 蒸気圧測定装置 | |
| JP2001221723A (ja) | 昇温脱離法測定装置及び測定方法 | |
| DAYTON | Vacuum Techniques and Analysis | |
| CN117347149A (zh) | 一种镀层材料的氢含量检测装置和方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041119 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060718 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060919 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070227 |