JPH11279790A - リフロー装置 - Google Patents

リフロー装置

Info

Publication number
JPH11279790A
JPH11279790A JP8623098A JP8623098A JPH11279790A JP H11279790 A JPH11279790 A JP H11279790A JP 8623098 A JP8623098 A JP 8623098A JP 8623098 A JP8623098 A JP 8623098A JP H11279790 A JPH11279790 A JP H11279790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hot air
heating means
reflow
hot blast
printed circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8623098A
Other languages
English (en)
Inventor
Arata Tsurusaki
新 鶴崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP8623098A priority Critical patent/JPH11279790A/ja
Publication of JPH11279790A publication Critical patent/JPH11279790A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 循環手段によって循環される第2の熱風に残
存する熱エネルギーを加熱手段が加熱する際に再利用す
ることで、加熱手段の第1の熱風の温度が安定化するま
での立ち上げ時間が速く、使用済みの第2の熱風を外部
へ排気する必要がないことから排気能力を考慮すること
なく、加熱手段による第1の熱風の供給力を大幅に強化
することができるリフロー装置を提供すること。 【解決手段】 熱風を利用して部品を加工するためのリ
フロー装置12であって、空気を加熱して所定温度の第
1の熱風HWを生成して部品Pに供給するための加熱手
段20と、加熱手段20が第1の熱風HWを部品Pに供
給した後の第2の熱風Vを加熱手段20に戻すための循
環手段32とを有し、加熱手段20が、第2の熱風Vを
所定温度に加熱して第1の熱風HWとして利用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、熱風を利用して
部品に対して加工するためのリフロー装置の改良に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】図8は、従来のリフロー装置(片面リフ
ロー炉)を備える加工装置を示す断面図である。加工装
置は、例えばはんだ付け装置200である。はんだ付け
装置200は、概略的には、部品としてのプリント基板
Pを加工する際に予熱を与えるためのプリヒート部10
10、所定の部分にクリームはんだが塗布されたプリン
ト基板Pのクリームはんだが塗布された部分に対して熱
風を当てることで加熱して溶解させるためのリフロー部
1012、プリント基板Pの溶解したクリームはんだを
冷却するための冷却部14及び排気ダクト19を経由し
て使用済みの熱風の排気をはんだ付け装置200の外部
へ排気するための排気ブロアー32等を有する。
【0003】はんだ付け装置200は、導入部11から
所定のクリームはんだが塗布されたプリント基板Pが導
入される。プリント基板Pは、抵抗、コンデンサ及び/
又はIC(Integrated Circuit)等
の取り付け部品としてのディスクリート部品を取り付け
ることで所定の電気的な機能を発揮するプリント基板で
ある。プリント基板Pは、はんだ付け装置200の中を
コンベア16によりT方向に運ばれる。
【0004】プリント基板Pは、コンベア16により搬
送される際に、その途中でプリヒート部1010のヒー
タH1〜H5によってプリント基板Pに予熱が与えられ
る。プリヒート部1010によって予熱が与えられたプ
リント基板Pは、さらにコンベア16により搬送され、
リフロー部1012によってリフローパネル1072を
経由して熱風が当てられてクリームはんだが溶解する。
プリント基板Pは、さらにコンベア16によって運ばれ
て冷却部14によって冷却されて、溶解していたクリー
ムはんだが固化してディスクリート部品がプリント基板
Pに取り付けられる。
【0005】一方、リフロー部1012の熱風は、排気
ダクト19によって排気として回収されて図9のように
排気ブロアー32によってはんだ付け装置200の外
部、例えば工場であれば工場外に強制的に排出される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このはんだ付け装置2
00においては、リフロー部1012の熱風は、使用後
に排気ブロアー32によってはんだ付け装置200の外
部に排出されることで、リフロー温度条件の安定化を図
っていた。ところが、このはんだ付け装置200には、
以下のような問題点がある。 使用済みの熱風を排気するための排気ブロアー32の
能力が、不足する場合がある。 の問題点を解決するために、排気ブロアー32によ
って排気される熱風の量を減らすことを目的として、図
10のように未使用のリフローパネル1072に密着し
て熱風が供給されないようにするためのカバーを設ける
方法があるが、対象のプリント基板Pが変更される度に
変更しなければならない。 使用済みの熱風として排気ブロアー32によって排出
される排気には熱エネルギーが残っており、はんだ付け
装置200は排気に残存する熱エネルギーを有効に活用
していない。従って、はんだ付け装置200は、リフロ
ー部1012にて余分な電気エネルギーを必要とする。 はんだ付け装置200は、主電源スイッチON後にリ
フロー部1012が供給する熱風の温度(パネル吹き出
し温度)が安定化するまでの立ち上げ時間が長くかかっ
ている(例えば、図11のように45分)。 そこでこの発明は上記課題を解消し、循環手段によって
循環される第2の熱風に残存する熱エネルギーを加熱手
段が加熱する際に再利用することで、加熱手段の第1の
熱風の温度が安定化するまでの立ち上げ時間が速く、使
用済みの第2の熱風を外部へ排気する必要がないことか
ら排気能力を考慮することなく、加熱手段による第1の
熱風の供給力を大幅に強化することができるリフロー装
置を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的は、この発明に
あっては、熱風を利用して部品を加工するためのリフロ
ー装置であって、空気を加熱して所定温度の第1の熱風
を生成して部品に供給するための加熱手段と、加熱手段
が第1の熱風を部品に供給した後の第2の熱風を加熱手
段に戻すための循環手段とを有し、加熱手段が、第2の
熱風を所定温度に加熱して第1の熱風として利用するこ
とを特徴とするリフロー装置により達成される。
【0008】この発明では、加熱手段によって所定温度
の第1の熱風を生成し、部品に対して第1の熱風を供給
することで加熱する。加熱手段により供給された熱風
は、循環手段によって回収されて加熱手段に戻される。
従って、加熱手段は、第2の熱風に残存する熱エネルギ
ーを再利用して効率よく第1の熱風を生成して供給する
ことができる。また、リフロー装置がこのような構成を
取ることで、主電源がONされた後に加熱手段によって
供給される第1の熱風の温度が安定化するまでの立ち上
げ時間を短くすることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施の形
態を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に
述べる実施の形態は、この発明の好適な具体例であるか
ら、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、こ
の発明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限
定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるも
のではない。
【0010】図1は、この発明の好ましい実施形態とし
てのリフロー装置を備える加工装置の一例としてのはん
だ付け装置2を示す断面図である。このはんだ付け装置
2は、好ましくはリフロー炉として用いることができ
る。はんだ付け装置2は、プリント基板Pのはんだ付け
を自動的に行うための装置である。はんだ付け装置2
は、概略的にはプリヒート部10、リフロー部12(リ
フロー装置)、コンベア16及び冷却部14等を有す
る。
【0011】プリント基板Pには、図2と図6(C)の
ように予め所定の各種部品が以下のように搭載されてい
る。プリント基板Pの第1面(クリームはんだ付け面)
310には、耐熱性の電子部品であるICパッケージ2
01やトランジスタ202等を配置している。ICパッ
ケージ201は、SOP(Small Outline
Package)や、QFP(Quad Flap
Package)等である。これに対してプリント基板
Pの第2面320側に搭載される非耐熱性のリード部品
としては、半固定ボリュームや、フィルターあるいはケ
ミカルコンデンサやトランス等といった部品がある。
【0012】このプリント基板Pは、図1のようにコン
ベア16の導入部11からプリヒート部10、リフロー
部12及び冷却部14を経て矢印T方向に排出される。
つまり、はんだ付け装置2は、コンベア16の流れ方向
Tに沿って、プリヒート部10、リフロー部12及び冷
却部14が順次配置されている。
【0013】プリヒート部10は、プリント基板Pを予
備加熱する部分である。プリヒート部10は、第1プリ
ヒート部10A、第2プリヒート部10B、第3プリヒ
ート部10Cを有する。プリヒート部10の第1プリヒ
ート部10A〜10Cは、導入されてくるプリント基板
Pに対して順次3段階に渡って、室温から所定温度まで
徐々に上昇させながら予熱を与えることができる。すな
わち、このプリヒート部10は、プリント基板Pやプリ
ント基板Pに搭載されている電子部品に対してストレス
を与えることなく、クリームはんだの活性化を同時に行
う。
【0014】第1プリヒート部10Aは、ヒータH1、
H2及び循環ファンF1を有する。第2プリヒート部1
0Bは、ヒータH3、H4及び循環ファンF2を有す
る。第3プリヒート部10Cは、1つのヒータH5と循
環ファンF3を有する。ヒータH1、H3は、コンベア
16の上方に位置されており、ヒータH2、H4及びH
5は、コンベア16の下側に位置している。循環ファン
F1、F2、F3は、各ヒータに対して空気を供給して
予熱用の熱風を循環させるものである。ただし、ファン
F3に対応するヒータはヒータH5のみである。
【0015】プリント基板Pは、コンベア16によりプ
リント基板Pが導入部11からプリヒート部10の第1
プリヒート部10A〜第3プリヒート部10Cの中を通
って、室温から所定の温度まで徐々に予熱を与えられた
後にリフロー部12に達する。
【0016】リフロー部12は、概略的に図2のように
ケーシング30、循環部32及び加熱手段20を有す
る。ケーシング30は、図2のようにコンベア16の上
部に配置されたリフロー部12のケース部分である。ケ
ーシング30は、プリント基板Pが配置されたコンベア
16が貫通しておいる。プリント基板Pは、T方向に搬
送される。
【0017】循環部32は、図1及び図5のようにダク
ト19(回収手段)、循環通路32a及びシロッコファ
ン68等を有する。循環部32は、ケーシング30の内
部に残存する熱を帯びた空気である第2の熱風Vをダク
ト19及び循環通路32aを経由してシロッコファン6
8によって循環させて加熱手段20に戻す。
【0018】循環通路32aは、図5のように加熱手段
20の上部においてダクト19に接続されており、図1
及び図3のように加熱手段20の下部においてシロッコ
ファン68に接続されている。循環通路32aは、図5
のように加熱手段20の側面付近に沿って上下に配置さ
れている。循環通路32aは、加熱手段20が第1の熱
風HWを生成して供給した後の第2の熱風Vを、ダクト
19により回収してシロッコファン68に送るための通
路である。
【0019】シロッコファン68は、例えば室温の外気
を開口部36から吸引する機能を有するファン装置であ
る。つまり、開口部36からは、図2のようにプリント
基板Pの第2面320側の非耐熱部品であるリード部品
101、102、103、104を冷却するための冷却
用の空気をR1方向に吸い込んで冷却する。開口部36
は、このように外気をケーシング30内に吸引するため
の開口部であり、リフロー部12に設けられた空気量調
整機構部34がこの開口部36の開口面積を調整するこ
とができるようになっている。
【0020】シロッコファン68は、さらにダクト19
からケーシング30に充満した第2の熱風Vを取り込
み、そして図3のように下部ヒータ66の下側から供給
する。従って、第2の熱風Vは、下部ヒータ66を通り
さらに上部ヒータ67を通って、図2、4のリフローパ
ネル72のリフローパネル穴74を通って第2の熱風H
Wとして、プリント基板Pの第1面310、すなわちク
リームはんだ付け面側に均一にかつ全面的に再度吹き付
けることができる。
【0021】図1、2及び5に示すコンベア16は、コ
ンベアレールを有し、プリント基板PをT方向に搬送す
る機能を有する。リフロー部12は、開口部36の開口
面積を調整することにより、コンベア16により移動さ
れてくるプリント基板Pに搭載されているリード部品の
数等に応じて、それらのリード部品の冷却能力の調整を
行うことができる。開口部36の開口面積を大きく取れ
ば、加熱手段20側による第1の熱風HWの加熱状況や
リード部品の数に対応しながら、効率よくリード部品1
01〜104を冷却できる。ケーシング30内の温度状
況等を考慮して、開口部36の開口面積の大きさを調整
して、最適な状態でリード部品101〜104を冷却す
る。
【0022】加熱手段20は、図1のようにプリント基
板Pを搬送するコンベア16の下側に配置されている。
加熱手段20は、図3のようにその下部で循環部32の
シロッコファン68(ファン装置)の第2の熱風Vの排
出口が接続されている。図1の加熱手段20は、図3の
ように第1ヒータとしての下部ヒータ66と第2ヒータ
としての上部ヒータ67を有する。下部ヒータ66と上
部ヒータ67は、ヒータ69を構成している。
【0023】図2のように、上部ヒータ67の上には、
上述したリフローパネル72が配置されている。このリ
フローパネル72には、図2及び図4ようにリフローパ
ネル穴74がたとえば格子状に均一配列されている。こ
れらのリフローパネル穴74は、上部ヒータ67を抜け
た第1の熱風HWをシャワー状態にして、プリント基板
Pの図2の第1面(クリームはんだ付け面)310側に
全面的にかつ均一に吹き付けるものである。下部ヒータ
66と上部ヒータ67は、図3のようにそれぞれ穴66
A、67Aを有しており、シロッコファン68からの第
2の熱風Vは、これらの穴66A、67Aを順次通り抜
けることにより、所定の温度まで加熱して第1の熱風H
Wを生成する。
【0024】このように第1の熱風HWをシャワー状に
プリント基板Pの第1面310側に吹き付けることによ
り、図6(D)にも示すように、リード部品101〜1
04の各接続端子150の部分に位置されているクリー
ムはんだ300を均一に加熱して、クリームはんだを用
いて接続端子150をプリント基板Pの配線導体に電気
的に接続することができる。
【0025】冷却部14は、図1のように冷却ファン1
4A、14Bを有する。冷却ファン14Aはコンベア1
6に沿って設けられており、同様にして下側の冷却ファ
ン14Bは、やはりコンベア16の幅方向に沿って設け
られている。これらの冷却ファン14A、14Bが作動
することで、コンベア16に載ったリフロー処理後のプ
リント基板Pを冷却することができる。
【0026】この発明の好ましい実施形態としてのリフ
ロー装置を設けたはんだ付け装置の構成は以上のように
なっており、次にその動作について図1〜6を使用して
説明する。まず、はんだ付け装置2を立ち上げる動作か
ら説明する。作業者は、作業を開始するために電源スイ
ッチをONする。はんだ付け装置2は、外気を吸引しな
がら第1の熱風HWの温度を所定の温度となるように徐
々に上昇させる。はんだ付け装置2のリフロー部12が
供給する第1の熱風HWの温度が安定化するまでの立ち
上げ(以下、「リフロー部12の立ち上げ」という)の
際には、シロッコファン68が運転されることによっ
て、排気部32は、加熱手段20によって第1の熱風H
Wを供給した後に第2の熱風Vをダクト19が回収し
て、循環通路32aを経由して加熱手段20に戻してい
る。
【0027】つまり、循環部32は、加熱手段20が第
1の熱風HWを供給した後の第2の熱風Vを加熱手段2
0に戻して熱エネルギーを再利用させることができる。
このため、はんだ付け装置2のリフロー部12の立ち上
げを素速くすることができる。図1のリフロー部12の
立ち上げ時間の一例としては、例えば図7のように28
分である。これは、図11の従来の立ち上げ時間の45
分と比較すると、非常に短い時間でリフロー部12が立
ち上がることになる。
【0028】次に、はんだ付け装置2を使用して、はん
だ付けを行う動作について説明する。図1のコンベア1
6には、図6(C)のようなプリント基板Pをリード部
品101〜104が上になるように載せる。プリント基
板Pは、図1のコンベア16の導入部11からT方向に
移動することで、プリヒート部10の第1プリヒート部
10A、第2プリヒート部10B、第3プリヒート部1
0Cにより、室温から所定温度まで徐々に上昇される。
これにより、プリント基板Pや搭載されている各種電子
部品のストレスの緩和やクリームはんだであるクリーム
はんだ300の活性化が行われる。
【0029】コンベア16がプリント基板Pをプリヒー
ト部10からリフロー部12側に移動すると、リフロー
部12の加熱手段20は、図2、図3及び図6(D)の
ように第1の熱風HWを均一かつ全体的に供給してプリ
ント基板Pの第1面(クリームはんだ付け面)310を
加熱する。
【0030】シロッコファン68は、ダクト19によっ
て回収された加熱手段20の第2の熱風Vを取り入れ
て、下部ヒータ66に送り込む。加熱手段20は、この
第2の熱風Vに残存する熱エネルギーを再利用して所定
の温度の第1の熱風HWを再生成する。加熱手段20
は、下部ヒータ66及び上部ヒータ67により第2の熱
風Vを再度加熱して所定温度の第1の熱風HWとする。
加熱手段20は、リフローパネル72の穴74からプリ
ント基板Pの第1面310側のクリームはんだ300に
吹き付ける。これにより、クリームはんだ300は溶け
て、リード部品101の接続端子150をプリント基板
Pの配線導体に対して電気的に接続することができる。
【0031】これと同時に、シロッコファン68は、非
耐熱部品であるリード部品101、102、103、1
04に対して外気を取り込むことで冷却する。すなわち
開口部36からは外部の空気が図2のように矢印R1、
R2の方向に取り込まれる。これにより冷気である空気
は、開口部36からR1、R2の方向に流れるので、こ
の空気の流れが非耐熱部品であるリード部品101〜1
04を冷却する。
【0032】この際に開口部36の開口面積を適宜空気
量調整機構部34が調整することにより、ケーシング3
0内における冷却温度の調整を行うことができる。この
温度の調整は、例えば非耐熱部品であるリード部品10
1〜104の部品点数や予め定められた温度等の要因に
より調整する。このようにして、プリント基板Pの第1
面310側は第1の熱風HWにより加熱されるととも
に、第2面320側は開口部36から流入する空気によ
り冷却されることになる。
【0033】上述のようにしてリフロー部12でリフロ
ー処理されたプリント基板Pは、図1の冷却部14に移
り、冷却部14の冷却ファン14A、14Bは、このプ
リント基板Pを冷却することで作業が終了する。
【0034】この発明の実施形態によれば、リフロー部
12において、加熱手段20は第1の熱風HWを生成し
てプリント基板Pに対して供給して加工する。供給され
た第1の熱風HWは、図5のように使用後に第2の熱風
Vとして図3のシロッコファン68が動作することで、
ダクト19によって回収される。第1の熱風HWは、循
環通路32aを経由して加熱手段20に戻される。これ
により、加熱手段20は、第2の熱風Vに残存する熱エ
ネルギーを加熱手段20によって生成される第1の熱風
HWに再利用することができる。
【0035】はんだ付け装置2は、電源がONされた時
にも同様に第2の熱風Vの熱エネルギーを利用してリフ
ロー部12の立ち上げを行うので、リフロー部12の第
1の熱風HWの温度を所定の温度に素速く立ち上げるこ
とができる。
【0036】このはんだ付け装置2では、第2の熱風V
を外部に排気せずに再利用するため、従来のように外部
に排出するための排気ブロアー等の排気能力が高く大が
かりな設備を必要としない。このように、はんだ付け装
置2は、第2の熱風Vを外部に排気しないので排気装置
等の排気能力を考慮する必要がない。このため、リフロ
ー部12において従来行っていたような、使用していな
い加熱手段20の一部から供給される第1の熱風HWで
あって、従来排気として排気されていた余分な第2の熱
風Vの発生原因となっていた第1の熱風HWの供給を抑
制して排気量を減少させるために、カバー等をリフロー
パネル72に設ける必要がない。
【0037】ところでこの発明は上述した実施形態に限
定されるものではない。上述した説明では、加工装置の
一例としてはんだ付け装置を採用しているが、この発明
は、熱風を利用して加熱を行うタイプの加工装置であれ
ば同様に適用することができる。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、循環手段によって循環される第2の熱風に残存する
熱エネルギーを加熱手段が加熱する際に再利用すること
で、加熱手段の第1の熱風の温度が安定化するまでの立
ち上げ時間が速く、使用済みの第2の熱風を外部へ排気
する必要がないことから排気能力を考慮することなく、
加熱手段による第1の熱風の供給力を大幅に強化するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の好ましい実施形態としてのリフロー
装置を備えるはんだ付け装置の一例を示す断面図。
【図2】図1のリフロー部付近の詳細を示す拡大断面
図。
【図3】図2の加熱手段付近を示す拡大断面図。
【図4】図3のリフローパネルをG方向から見た場合の
様子を示す平面図。
【図5】図1のリフロー部の搬送方向から見た場合の断
面図。
【図6】図1のはんだ付け装置によって部品が加工され
る様子を示す断面図。
【図7】図1のリフロー装置における電源ON時の第1
の熱風の温度が安定化されるまでの立ち上がり時間を示
す図。
【図8】従来のリフロー装置を備えるはんだ付け装置の
一例を示す断面図。
【図9】図8のリフロー部の搬送方向から見た場合の断
面図。
【図10】図9の加工装置をG方向から見た場合の様子
を示す断面図。
【図11】図8のリフロー装置における電源ON時の第
1の熱風の温度が安定化されるまでの立ち上がり時間を
示す図。
【符号の説明】
12・・・リフロー部(リフロー装置)、19・・・ダ
クト(回収手段)、20・・・加熱部(加熱手段)、3
2・・・循環部(循環手段)、32a・・・循環通路、
68・・・シロッコファン(ファン装置)、HW・・・
第1の熱風、P・・・プリント基板(部品)、V・・・
第2の熱風

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱風を利用して部品を加工するためのリ
    フロー装置であって、 空気を加熱して所定温度の第1の熱風を生成して部品に
    供給するための加熱手段と、 加熱手段が第1の熱風を部品に供給した後の第2の熱風
    を加熱手段に戻すための循環手段とを有し、 加熱手段が、第2の熱風を所定温度に加熱して第1の熱
    風として利用することを特徴とするリフロー装置。
  2. 【請求項2】 循環手段は、 加熱手段の第2の熱風を回収するための回収手段と、 回収手段からの第2の熱風を通過させるための循環通路
    と、 循環通路からの第2の熱風を加熱手段に引き込むための
    ファン装置とを備える請求項1に記載のリフロー装置。
  3. 【請求項3】 部品としてのプリント基板にはんだ付け
    を行うためのはんだ付け装置に設けられている請求項1
    に記載のリフロー装置。
JP8623098A 1998-03-31 1998-03-31 リフロー装置 Pending JPH11279790A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8623098A JPH11279790A (ja) 1998-03-31 1998-03-31 リフロー装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8623098A JPH11279790A (ja) 1998-03-31 1998-03-31 リフロー装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11279790A true JPH11279790A (ja) 1999-10-12

Family

ID=13881001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8623098A Pending JPH11279790A (ja) 1998-03-31 1998-03-31 リフロー装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11279790A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075161A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Takamatsu Mekki:Kk 接続端子のリフロー処理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075161A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Takamatsu Mekki:Kk 接続端子のリフロー処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2000022898A1 (fr) Dispositif de chauffage et procede de chauffage
WO2005065876A1 (ja) リフロー炉および熱風吹き出し型ヒーター
JPH11279790A (ja) リフロー装置
JP3818713B2 (ja) 熱風加熱装置
JP2000077843A (ja) 熱風加熱装置
JP4092258B2 (ja) リフロー炉およびリフロー炉の温度制御方法
JP3114278B2 (ja) チッソリフロー装置
JP4041627B2 (ja) 加熱装置と加熱方法
JP3186215B2 (ja) チッソリフロー装置
JP3881572B2 (ja) 加熱炉およびその運転開始方法
JP2001320163A (ja) リフロー装置およびその基板加熱方法
JP3356445B2 (ja) チッソリフロー装置
JP3024365B2 (ja) チッソリフロー装置およびチッソリフロー方法
JP2000059020A (ja) 半田付け用片面リフロー炉の冷却装置
JPH04269895A (ja) プリント基板のリフロ−はんだ付け方法
JPH0846350A (ja) リフロー半田付け装置
JP3062699B2 (ja) プリント基板のリフロー方法及びリフロー炉
JP2018064052A (ja) 部品実装ライン
JP2000165032A (ja) はんだ付け装置とはんだ付け方法
JP2913299B2 (ja) リフロー半田付け装置
JP3070271B2 (ja) リフロー装置
JP4017388B2 (ja) リフローはんだ付け装置
JPH06188556A (ja) リフロー装置
JPH01278965A (ja) リフローはんだ付け装置
JPH1051133A (ja) リフロー方法及び装置