JPH11279729A - 溶融めっき金属のドロス回収再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶融めっき金属のドロスを自動的に回収し、
回収したドロスから溶融めっき金属を効率的に再生す
る。 【解決手段】 ガス供給装置３３から窒素ガスを供給し
てガスリフトポンプ３１を作動させ、ドロス吸引移送管
３４内にドロス分離器３６に向かう流れを形成する。前
記流れは、所定位置に配設された吸引部材３５を介して
トップドロス１８とめっき浴２４との混合物をドロス吸
引移送管３４内に吸引して移送し、ガスリフトポンプ３
１を経てドロス分離器３６内に窒素ガスとともに送り込
む。ドロス分離器３６内に導入されたトップドロス１８
は、投入されたドロス還元用薬剤と反応し、還元されて
めっき金属に再生され、めっき浴２４中へ戻される。ト
ップドロス１８と薬剤とは撹拌部材７０によって撹拌さ
れるので、反応が促進される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶融めっき金属の
ドロスを回収し、回収したドロスから溶融めっき金属を
再生するドロス回収再生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から溶融めっき鋼帯、たとえば溶融
亜鉛めっき鋼帯は連続溶融亜鉛めっき装置において次の
ようにして製造されている。被めっき材料である熱間ま
たは冷間圧延鋼帯は、還元焼鈍炉において還元性雰囲気
ガス中で熱処理され、表面酸化物を還元された後、溶融
亜鉛めっき浴の上部に部分的に浸漬されているスナウト
を介してめっき浴中に導入され、めっき浴中に浸漬され
ているシンクロールに巻掛けられて上方に搬送され、溶
融亜鉛めっき浴から導出されて表面に亜鉛めっきされ
る。前記溶融亜鉛めっき中、大気と接する溶融亜鉛めっ
き浴の浴面上には、めっき浴と大気中の酸素との反応に
よってトップドロスが生成する。トップドロスは、ほと
んど酸化亜鉛ＺｎＯから成る。また還元性雰囲気ガスで
満たされているスナウト内においても、スナウトの内壁
面に付着した亜鉛蒸気がアッシュとなって堆積し、堆積
アッシュの落下によってスナウト内の溶融亜鉛めっき浴
の浴面上にトップドロスが生成する。

【０００３】前記トップドロスは、めっき浴中を通過す
る鋼帯表面に付着してめっき性を低下させ、亜鉛めっき
層の表面に付着して亜鉛めっき製品の表面品質を著しく
低下させる。したがって、前記トップドロスを浴面から
回収して排除することが必要である。またトップドロス
は亜鉛を多量に含んでいるので、回収を行うのみでは亜
鉛ロスが大きくなる。したがって、作業中に回収したト
ップドロスから亜鉛を再生して浴中に戻すことが好まし
い。従来から、トップドロスの回収または回収・再生
は、たとえば下記に示すような方法によって行われてい
る。

【０００４】（ａ）作業者がめっき操業中スナウト外の
トップドロスを所定位置に掻集め、掻集めたトップドロ
スを汲上げてめっきポット外に回収する。 （ｂ）作業者が前記掻集めたトップドロスを汲上げてド
ロス分離器内に投入し、回収したトップドロスと薬剤と
を反応させてトップドロスから亜鉛を再生する。 （ｃ）スナウト内のトップドロスをドロスポンプによ
ってスナウト外に排出し、前記（ａ）または（ｂ）の方
法によってトップドロスを回収または回収・再生する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記従来のトップドロ
スの回収または回収・再生方法は、いずれも人力による
汲上げ作業を伴う。したがって、作業者に対する負荷が
大きく、汲上げ時に腰痛を起こすことがある。また、前
記ドロスポンプはスナウトの側面に設置されるので、ス
ナウトの裏側からスナウトの表側に通じる浴面上の移送
経路が塞がれる。したがって、スナウトの裏側からスナ
ウトの表側にトップドロスを人力で移送することが困難
であり、裏側と表側とで個別にトップドロスを排除する
必要がある。一般にスナウトの裏側は、作業スペースの
狭い領域である。したがって、従来の方法ではスナウト
の裏側におけるトップドロスの回収が困難である。

【０００６】本発明の目的は、前記問題を解決し、溶融
めっき金属のドロスを存在位置にかかわらず自動的に回
収し、回収したドロスから溶融めっき金属を効率的に再
生することのできる溶融めっき金属のドロス回収再生装
置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、溶融めっき金
属のドロスを回収し、回収したドロスをドロス還元用薬
剤と反応させて還元し、ドロスから溶融めっき金属を再
生する溶融めっき金属のドロス回収再生装置において、
溶融めっき金属の浴中に配設され、上下方向に延び、周
壁にガス吹込孔が形成される内筒と、内筒が挿通される
外筒であって、内筒の外周面と外筒の内周面との間に空
間が形成され、内筒の外周面と外筒の上部とが気密に塞
がれており、外筒の周壁にはガス導入口が内筒のガス吹
込孔よりも上方に間隔をあけて形成され、外筒の下端部
が内筒のガス吹込孔よりも下方に延びる外筒と、前記ガ
ス導入口に接続されるガス供給装置と、溶融めっき金属
の浴面近傍に設けられ、溶融めっき金属、ドロスおよび
薬剤を収納し、ドロスを薬剤で還元するドロス分離器
と、内筒の下端部に一端部が接続され、他端部が溶融め
っき金属の浴面付近に開口するドロス吸引移送管とを含
むことを特徴とする溶融めっき金属のドロス回収再生装
置である。

【０００８】本発明に従えば、ガス供給装置からのガス
が前記空間を介して内筒のガス吹込孔から内筒の内部に
吹込まれるので、内筒内部に内筒の上端部に向かう流れ
が形成される。これによって、ドロス吸引移送管の浴面
付近に開口した他端部から、浴面上のトップドロスを溶
融めっき金属とともに吸引し、ドロス吸引移送管を経て
内筒の上端部からドロス分離器内に送り出すことができ
る。また、ドロス分離器内に導入されたトップドロスは
浴面上に浮上し、投入されたドロス還元用薬剤と反応し
て溶融めっき金属に還元される。したがって、作業者に
ドロス汲上げ作業などの負荷をかけることなく自動的に
トップドロスを回収し、回収したトップドロスから溶融
めっき金属を再生することができる。また、ドロス吸引
移送管の他端部は所望の位置に配設することができるの
で、トップドロスの存在位置にかかわらずトップドロス
を自動的に回収して溶融めっき金属に再生することがで
きる。

【０００９】また本発明は、溶融めっき金属のドロスを
回収し、回収したドロスをドロス還元用薬剤と反応させ
て還元し、ドロスから溶融めっき金属を再生する溶融め
っき金属のドロス回収再生装置において、溶融めっき金
属の浴面近傍に設けられ、溶融めっき金属、ドロスおよ
び薬剤を収納し、ドロスを薬剤で還元するドロス分離器
と、ドロス分離器の下部に一端部が接続され、他端部が
溶融めっき金属の浴面近傍に開口するドロス吸引移送管
と、先端部にガス吹込孔を有し、先端部がドロス吸引移
送管の一端部に挿通されるガス吹込管と、ガス吹込管の
基端部に接続されるガス供給装置とを含むことを特徴と
する溶融めっき金属のドロス回収再生装置である。

【００１０】本発明に従えば、ドロス分離器の下部にド
ロス吸引移送管の一端部が接続され、ドロス吸引移送管
の一端部にガス吹込管の先端部が挿通されるように構成
されているので、ガス供給装置からのガスをガス吹込管
の先端部のガス吹込孔からドロス吸引移送管内に吹込む
ことができ、ドロス吸引移送管内にドロス分離器に向か
う流れを形成することができる。したがって、簡単な構
成で確実にドロスをドロス分離器内に導入することがで
きる。

【００１１】また本発明の前記ドロス分離器は、溶融め
っき金属の浴面近傍の浴中に設けられ、上部が部分的に
浴面から上方に突出している有底筒状の反応容器と、反
応容器の下部に外方に突出して設けられ、鉛直面内で屈
曲経路を形成するドロス導入口と、反応容器内のドロス
導入口を臨む位置に、ドロス導入口と対向して設けら
れ、ドロス導入口の断面積よりも大きい表面積を有する
遮蔽部材と、反応容器の上部に、かつ溶融めっき金属の
浴面よりも上方に設けられる薬剤投入口と、反応容器内
に設けられ、溶融めっき金属を撹拌する撹拌部材と、反
応容器の下部に、かつドロス導入口よりも下方に形成さ
れる複数の通過孔とを含むことを特徴とする。

【００１２】本発明に従えば、ドロス導入口は鉛直面内
で屈曲経路を形成しているので、導入されるガスは方向
転換し、圧損が発生しやすい。また、反応容器内のドロ
ス導入口を臨む位置には、ドロス導入口と対向して遮蔽
部材が設けられ、遮蔽部材の表面積はドロス導入口の断
面積よりも大きいので、導入されるガスは遮蔽部材に衝
突して方向転換し、遮蔽部材に沿って拡散する。したが
って、ガスの圧損が発生しやすい。これによって、供給
されるガスの圧力が過大であるときでも、ガスの圧力を
低下させることができるので、浴面におけるドロスを含
む溶融めっき金属の飛散を防止することができる。ま
た、撹拌部材が反応容器内に設けられているので、トッ
プドロスと薬剤投入口から投入される薬剤との反応を促
進させることができる。

【００１３】また本発明の前記ドロス吸引移送管の他端
部には、上方になるにつれて水平断面が広がった形状を
有する吸引部材が設けられ、吸引部材の上端部は上方に
なるにつれて先細状に傾斜した形状を有することを特徴
とする。

【００１４】本発明に従えば、吸引部材は上方になるに
つれて水平断面が広がった形状を有するので、広範囲の
領域のトップドロスを吸引することができる。さらにま
た吸引部材の上端部は上方になるにつれて先細状に傾斜
した形状を有するので、溶融めっき金属の浴面が変動し
てもトップドロスを確実に吸引することができる。

【００１５】また本発明の前記ガス供給装置には、ガス
加熱器が設けられることを特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、ガス加熱器によって前記
内筒またはドロス吸引移送管に吹込まれるガスを加熱す
ることができるので、ガスによる溶融めっき金属の過剰
な冷却を防止することができる。したがって、前記内筒
またはドロス吸引移送管の詰まりを防止することができ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の一形態であ
る溶融めっき金属のドロス回収再生装置の構成を簡略化
して示す正面図であり、図２は図１に示すドロス回収再
生装置の平面図であり、図３は図１に示すドロス回収再
生装置の側面図であり、図４は図１に示すドロス回収再
生装置を備える連続溶融亜鉛めっき装置の構成を簡略化
して示す側面図である。

【００１８】連続溶融亜鉛めっき装置２０は、還元焼鈍
炉２１と、スナウト２３と、溶融めっき金属である溶融
亜鉛２４（以後、めっき浴と呼ぶ）が貯留されているめ
っきポット２５と、ドロス回収再生装置３０と、めっき
浴２４中に配設されているシンクロール２６と、めっき
浴２４の浴面直上に設けられ、めっき付着量を調整する
吹払ノズル２７とを備えて構成される。還元焼鈍炉２１
は、連続的に搬送される被めっき材料である冷間圧延鋼
帯２８（以後、鋼帯と呼ぶ）を還元性雰囲気中で加熱し
て焼きなましするとともに表面酸化物を還元するための
熱処理炉である。スナウト２３は、鋼帯２８を還元性雰
囲気で保護したままめっき浴２４中に導くための角筒状
導入通路であり、スナウト２３の上端部は還元焼鈍炉２
１に接続され、スナウト２３の下端部はめっき浴２４の
上部に部分的に浸漬されている。めっき浴２４の浴面上
には、ＺｎＯから成るトップドロス１８がスナウト２３
の内外に浮遊している。

【００１９】鋼帯２８は、還元焼鈍炉２１、ホットブラ
イドルロール２９およびスナウト２３を経てめっき浴２
４中に導入されて溶融亜鉛めっきされ、シンクロール２
６に巻掛けられて上方に搬送され、めっき浴２４から大
気中に導出されて吹払ノズル２７によってめっき付着量
を所定量に調整される。

【００２０】ドロス回収再生装置３０は、前記トップド
ロス１８を回収し、回収したトップドロス１８から亜鉛
を再生するための装置であり、図１〜図３に示すように
ガスリフトポンプ３１と、ガス供給装置３３と、ドロス
分離器３６と、ドロス吸引移送管３４と、吸引部材３５
と、排気装置３７とを含んで構成される。ドロス回収再
生装置３０は、めっき浴２４中にめっきポット２５の一
方の短辺側側壁に沿って配設されている。ドロス回収再
生装置３０の各構成要素は、いずれもたとえばステンレ
ス鋼ＳＵＳ３１６Ｌから成る。

【００２１】ガスリフトポンプ３１は、トップドロス１
８を吸引して移送するポンプであり、めっき浴２４中に
軸線を鉛直方向に向けて配設される。ガス供給装置３３
は、ガスリフトポンプ３１に接続され、ガスリフトポン
プ３１にガスを供給する。供給されるガスは、たとえば
窒素ガスである。ドロス分離器３６は、めっき浴２４の
浴面２４ａ付近の浴中に設けられ、上部が部分的に浴面
２４ａから上方に突出している。ドロス分離器３６は、
ガスリフトポンプ３１と接続されており、回収されたト
ップドロス１８をドロス還元用薬剤、たとえば塩化アン
モニウムと反応させ、トップドロス１８を還元してトッ
プドロス１８から亜鉛を再生する。

【００２２】ドロス吸引移送管３４は、めっき浴２４中
に配設される管路であり、一端部がガスリフトポンプ３
１の下端部に接続され、他端部がめっき浴２４の浴面２
４ａ付近に開口している。本実施の形態では、ドロス吸
引移送管３４の他端部は、図２に示すようにスナウト２
３の表側（図２の上側）に開口しており、ドロス吸引移
送管３４はめっきポット２５の一方の短辺側側壁に沿っ
て延びている。吸引部材３５は、ドロス吸引移送管３４
の他端部に取付けられ、トップドロス１８を吸引する。
排気装置３７は、ドロス分離器３６からの還元反応ガス
を吸引して排気する。以下、ドロス回収再生装置３０の
各構成要素の構成を詳細に説明する。

【００２３】図５は図１に示すガスリフトポンプ３１の
構成を簡略化して示す正面図であり、図６は図５の切断
面線Ｖ−Ｖから見た断面図であり、図７はガスリフトポ
ンプの作動時の状況を示す模式図である。ガスリフトポ
ンプ３１は、内筒４０と、外筒４３と、ガス導入口４４
とを含んで構成される。内筒４０は、上下方向に延びる
円筒体であり、その周壁には複数のガス吹込孔３９が形
成されている。内筒４０のガス吹込孔３９は、軸線に垂
直な一仮想面内において、周方向に等間隔をあけて形成
されている。ガス吹込孔３９の個数は、たとえば３個で
ある。内筒４０の上端部および下端部には、第１および
第２フランジ４７，４８が設けられている。

【００２４】外筒４３は、上下方向に延びる円筒体であ
り、内筒４０の半径方向外方に間隔をあけて同軸に設け
られている。外筒４３の下端部は、内筒４０のガス吹込
孔３９よりも下方に延びており、外筒４３の周壁にはガ
ス導入口４４が設けられている。ガス導入口４４は、内
筒４０のガス吹込孔３９よりも上方に間隔Ｌ１をあけて
形成されており、その間隔Ｌ１は、たとえば５００ｍｍ
である。外筒４３の上端部には、天板４５が設けられて
おり、天板４５は内筒４０の外周面と外筒４３の上部と
を気密に塞いでいる。ガス導入口４４は、内筒４０の外
周面と外筒４３の内周面との間に形成される空間４６に
窒素ガスを導く。

【００２５】前記空間４６に導入された窒素ガスは、図
７に示すように前記空間４６内のめっき浴２４の浴面２
４ｂを押下げ、内筒４０のガス吹込孔３９を通過して内
筒４０の内部に吹込まれ、内筒の内部を満たしているめ
っき浴２４中を気泡となって上昇する。これによって、
窒素ガスを吹込まれた領域のめっき浴２４の比重はそれ
以外の領域のめっき浴２４の比重よりも小さくなるの
で、内筒４０のガス吹込孔３９よりも上方の領域のめっ
き浴の比重がそれよりも下方の領域のめっき浴の比重よ
りも相対的に小さくなる。したがって、内筒４０の内部
にはめっき浴２４の上昇流が形成され、トップドロスを
含むめっき浴２４が下方から上方へ移送される。

【００２６】このように、本実施の形態のガスリフトポ
ンプ３１では、内筒４０の内部に上昇流が形成されるの
で、めっき浴２４とトップドロス１８と窒素ガスとの混
合流体を下方から上方に移送することができる。また外
筒４３のガス導入口４４が内筒４０のガス吹込孔３９よ
りも上方に間隔をあけて設けられているので、前記空間
４６に導入された窒素ガスの圧力が変動しても、めっき
浴２４のガス導入口４４への侵入を防止することができ
る。したがって、ガス導入口４４の配管詰まりを回避す
ることができる。また内筒４０の外周面と外筒４３の上
部とが気密に塞がれ、外筒４３の下端部が内筒４０のガ
ス吹込孔３９よりも下方に延びているので、前記空間４
６に導入された窒素ガスの漏れがなくなり、窒素ガスを
内筒４０のガス吹込孔３９から内筒４０の内部に確実に
吹込むことができる。したがって、吹込まれた窒素ガス
が効果的にめっき浴２４を上昇させ、ガスリフトポンプ
３１の移送効率を向上することができる。また内筒４０
は、外筒４３に同軸に挿通されるので、ガスリフトポン
プ３１をコンパクトに構成することができる。また、構
成が簡単で、回転部分を含まないので、故障が少なく耐
久性が優れている。

【００２７】再び図３を参照して、前記ガス供給装置３
３はガスタンク１２と、減圧弁１３と、流量調整弁１４
と、ガス供給管路１５とを含んで構成される。ガス供給
管路１５は、窒素ガスをガスリフトポンプ３１に導く管
路であり、その一端部がガスタンク１２に接続され、下
端部がガスリフトポンプ３１のガス導入口４４に接続さ
れている。ガスタンク１２から供給される窒素ガスは、
減圧弁１３で所定の設定圧力に調整され、さらに流量調
整弁１４で流量を調整されてガスリフトポンプ３１に導
入される。

【００２８】前記窒素ガスの供給圧力は、前記ガスリフ
トポンプ３１の空間４６内のめっき浴２４を内筒４０の
ガス吹込孔３９の位置まで押下げることのできる圧力に
設定される。したがって、前記供給圧力の設定値は、前
記ガス吹込孔３９とめっき浴２４の浴面２４ａとの距離
によって決定され、前記距離が大きくなるにつれて前記
供給圧力が高くなるように設定される。本実施の形態で
は、前記距離はたとえば浴面下１ｍであり、前記供給圧
力は、たとえば＋０．６ｋｇ／ｃｍ²である。前記窒素
ガスの供給流量は、たとえば２０リットル／分である。

【００２９】本実施の形態では、ガス供給装置３３にガ
ス加熱器が設けられていないけれども、ガス供給管路１
５の途中位置にガス加熱器を設けて窒素ガスを加熱する
ように構成してもよい。ガス加熱装置は、たとえば電熱
ヒータによって実現される。この場合には、窒素ガスが
加熱された状態でガスリフトポンプ３１の前記空間４６
に導入されるので、前記空間内に存在するめっき浴２４
の窒素ガスによる過剰な冷却が防止され、前記空間４６
の閉塞を防止することができる。したがって、内筒４０
のガス吹込孔３９を介して内筒内部に窒素ガスを安定し
て吹込むことができ、ガスリフトポンプ３１の作動不良
の発生を未然に防止することができる。また、窒素ガス
に代わって高温の排ガスを用いてもよい。この場合に
は、ガス供給管路１５にガス加熱器を設けなくてもよ
い。

【００３０】図８は図１に示すドロス分離器の構成を簡
略化して示す正面図であり、図９は図８に示すドロス分
離器の平面図であり、図１０は図８に示すドロス分離器
の側面図である。ドロス分離器３６は、反応容器６７
と、ドロス導入口６８と、遮蔽部材６９と、撹拌部材７
０とを含んで構成される。反応容器６７は、上部開放形
の有底容器であり、その水平断面形状は矩形である。反
応容器６７は、めっき浴２４の浴面近傍の浴中に設けら
れ、上部が部分的に浴面から上方に突出している。した
がって、反応容器６７の上部は浴面を外囲し、浴面上に
前記薬剤の投入空間を形成する。

【００３１】反応容器６７の側壁は、一対の長辺側側壁
と、一対の短辺側側壁とから成る。一対の長辺側側壁の
うちめっきポット２５側の一方の側壁７３（以後、第１
側壁と呼ぶ）と、他方の側壁７４（以後、第２側壁と呼
ぶ）との間隔は、上下方向位置において異なり、上部か
ら下部に向かうにつれて図１０に示すように変化する。
すなわち、前記間隔は、上部から下部に向かう途中位置
まで一定の間隔Ｌ２であり、それよりもさらに下方では
下方に向かうにつれて小さくなるように変化し、さらに
下方の底部付近では再び前記間隔Ｌ２よりも小さい一定
の間隔Ｌ３になる。

【００３２】第１側壁７３は、第１胴板７５と、傾斜板
７６と、第２胴板７７とから成り、これらは上部からこ
の順に配設されている。傾斜板７６は、斜め下方に延
び、前記間隔を下方に向かうにつれて小さくなるように
調整する。一対の短辺側側壁は、第１および第２側壁７
３，７４の幅方向（図８の左右方向）両端部にそれぞれ
溶接接合される。以後、説明の便宜上一方の短辺側側壁
（図８の左側）を第３側壁７８と呼び、他方の短辺側側
壁（図８の右側）を第４側壁７９と呼ぶ。したがって、
反応容器６７の水平断面積は、上部から下部に向かう途
中位置まで一定の最大断面積を示し、途中位置より下方
では次第に小さくなるように絞られ、底部付近から再び
一定の最小断面積を示す。前記反応容器６７の水平断面
積が最小となる部分は、再生亜鉛の回収領域であるの
で、以後、めっき浴回収室８０と呼ぶ。めっき浴回収室
８０の下端部には、底板８１が設けられている。

【００３３】前記第１側壁７３の第１胴板７５の上端部
には、薬剤投入口８３が形成されている。薬剤投入口８
３は、めっき浴２４の浴面２４ａよりも上方に形成され
ており、その形状は矩形である。これによって、排気装
置３７が反応容器６７の上方に設置されていても、作業
者は薬剤を反応容器６７内に投入することができる。前
記めっき浴回収室８０の第２側壁７４には、めっき浴を
通過させるための通過孔８４が複数、たとえば３個形成
されており、前記めっき浴回収室８０の第３側壁７８に
は、通過孔８４が、たとえば１個形成されている。した
がって、めっき浴２４中に新たに反応容器６７を配設す
るときには、通過孔８４を介してめっき浴２４が反応容
器６７内に流入する。めっき浴回収室８０の天井部に
は、第４側壁７９から幅方向に延びるバッフル板８６が
設けられている。バッフル板８６の長さＬ４は、図９に
示すように第４側壁７９と第３側壁７８との間隔Ｌ５よ
りも短い。したがって、めっき浴回収室８０の天井部は
バッフル板８６によって部分的に覆われる。

【００３４】前記バッフル板８６の上方には、バッフル
８７が複数個、たとえば５個設けられている。バッフル
８７は、たとえば等辺山形鋼から成り、水平方向に延び
る横辺８８と、鉛直方向に延びる縦辺８９とから成る。
バッフル８７は、第１側壁７３の第１胴板７５と第２側
壁７４との間に掛渡され、第１および第２側壁７３，７
４の幅方向に間隔をあけて設けられる。前記複数のバッ
フル８７のうち、最も第４側壁７９寄りのバッフル８７
の縦辺８９は、第４側壁７９と間隔Ｌ６をあけて対向し
て設けられる。前記間隔Ｌ６は、たとえば４５ｍｍであ
る。前記最も第４側壁７９寄りのバッフル８７の上方に
は、一対のガイド板９０が前記第１および第２側壁７
３，７４に対向してそれぞれ設けられる。前記ガイド板
９０の板面は、前記第４側壁７９の板面に対して平行で
あり、ガイド板９０と第４側壁７９との間隔は、前記間
隔Ｌ６に等しい。

【００３５】前記第１側壁７３の上端部には、一対の連
結部材９３と、第１吊り部材９４とが設けられており、
前記第２側壁７４の上端部には第２吊り部材９５が設け
られている。また、めっきポット２５の外方の床面上に
は固定台９６が設けられており、固定台９６には一対の
固定アーム９７が設けられている。一対の連結部材９３
は、一対の固定アーム９７に着脱自在に連結される。こ
れによって反応容器６７は、めっきポット２５内の予め
定める位置に固定される。なお、本実施の形態の反応容
器６７は薬剤を手動で投入するように構成されているけ
れども、ホッパを設けて薬剤を自動投入するように構成
してもよい。

【００３６】ドロス導入口６８は、反応容器６７の下部
に外方に突出して設けられる管路であり、一端部が反応
容器６７の第４側壁７９の下部に設けられ、他端部が前
記ガスリフトポンプ３１の内筒４０の上端部に接続され
る。ドロス導入口６８は、前記ガスリフトポンプ３１か
ら移送されるトップドロス１８と、めっき浴２４と、窒
素ガスとの混合流体を反応容器６７内に導く。ドロス導
入口６８の上下方向設置位置は、前記めっき浴回収室８
０の直上である。

【００３７】ドロス導入口６８は、第４側壁７９から水
平方向外方に延びる横筒９９と、横筒９９の先端部から
鉛直方向下方に延びる縦筒１００とから成る。横筒９９
は、第４側壁７９に対して垂直に取付けられており、横
筒９９の内部空間は第４側壁７９に形成されている連通
孔を介して反応容器６７の内部空間と連通している。横
筒９９および縦筒１００は、同一鉛直面内に存在する。
横筒９９の軸直角断面形状はほぼ正方形であり、縦筒１
００の軸直角断面形状は円形である。横筒９９の内部に
は仕切板１０１が設けられており、仕切板１０１は水平
方向に延びる横板１０２と、鉛直方向に延びる縦板１０
３とから成る。これによって、ドロス導入口６８には屈
曲経路が形成される。縦筒１００の下端部には、第３フ
ランジ１０４が設けられており、第３フランジ１０４は
前記第１フランジ４７に連結される。なお、ドロス導入
口６８の設置位置は前記位置に限定されるものではな
く、前記底板８１に設けるように構成してもよい。

【００３８】遮蔽部材６９は、図８に示すように反応容
器内のドロス導入口６８を臨む位置に立設される板状部
材であり、図１１（１），（２）に示すように平坦部１
０６と、上下方向に延びる曲げ部１０７とから成る。曲
げ部１０７は、遮蔽部材６７の幅方向両端部に一対形成
される。一対の曲げ部１０７の曲げ方向は、いずれも平
坦部１０６に対して同一方向であり、曲げ角度はほぼ直
角である。曲げ部１０７の曲げ長さ、換言すれば平坦部
１０６の一方表面からの突出高さＬ７は、前記ガイド板
９０と、第４側壁７９との間隔Ｌ６よりも若干短い。前
記突出高さＬ７は、たとえば３０ｍｍである。遮蔽部材
６９の下部における一方のコーナには、切欠部１０８が
形成されている。切欠部１０８は、遮蔽部材６９の幅が
下方になるにつれて小さくなるように斜め下方に傾斜し
て形成されている。切欠部１０８の水平面に対する傾斜
角は、前記傾斜板７６の水平面に対する傾斜角と同一で
ある。遮蔽部材６９の上部の幅Ｌ８は、前記第１側壁７
３の第１胴板７５と第２側壁７４との間隔Ｌ２よりも若
干短く形成される。遮蔽部材６９の平坦部１０６の表面
積は、前記ドロス導入口６８の横筒９９の断面積よりも
大きくなるように形成される。

【００３９】遮蔽部材６９は、第４側壁７９と前記ガイ
ド板９０およびバッフル８７の縦辺８９との間に、曲げ
部１０７を第４側壁７９側に向けて上方から挿入され
る。遮蔽部材６９の下端面は、前記傾斜板７６およびバ
ッフル板８６上に乗載される。遮蔽部材６９は固定され
ない。これによって、遮蔽部材６９は第４側壁７９の板
面とほぼ平行に、第４側壁７９の全幅にわたって着脱自
在に装着され、遮蔽部材６９と第４側壁７９との間には
上下方向に延びる経路が形成される。前述のように、ド
ロス導入口６８の横筒９９は第４側壁７９に対して垂直
に取付けられているので、ドロス導入口６８から反応容
器６７内に導入される前記混合流体は遮蔽部材６９に垂
直に衝突し、横筒９９の断面積より大きい遮蔽部材６９
の表面に沿って拡がりながら上方に移動する。

【００４０】撹拌部材７０は、図８および図１０に示す
ように撹拌板１１０と、撹拌板１１０に固定される支持
棒１１１とを含んで構成される。撹拌部材７０は、反応
容器内に配設され、撹拌板１１０は前記バッフル８７の
上方のめっき浴２４中に浸漬される。撹拌板１１０は、
支持棒１１１を介して図示しない駆動装置によって昇降
変位駆動される。これによって、めっき浴２４が撹拌さ
れるので、薬剤投入口８３から投入された薬剤と、ドロ
ス導入口６８から反応容器内に導入されたトップドロス
１８との反応が促進される。また、撹拌時におけるトッ
プドロス１８の下方への拡散は、前記バッフル８７およ
びバッフル板８６によって抑制される。したがって、通
過孔８４からのトップドロス１８のめっき浴２４中への
放散を防止することができる。

【００４１】前記混合流体は、ドロス導入口６８を介し
て反応容器内に導入され、遮蔽部材６９に衝突して方向
転換し、遮蔽部材６９に沿って拡がりながら上昇し、浴
面上に浮上する。めっき浴２４は、前記混合流体中の窒
素ガスおよび撹拌部材７０によって撹拌されるので、浮
上したトップドロス１８は、薬剤投入口８３から投入さ
れた薬剤と反応して還元され、亜鉛に再生される。再生
された亜鉛は、めっき浴回収室８０内に回収され、通過
孔８４を介してめっき浴２４中に戻される。

【００４２】前述のように、ドロス導入口６８には屈曲
経路が形成されているので、前記混合流体の流れ方向は
屈曲し、圧損が発生しやすい。またドロス導入口６８に
は仕切板１０１が設けられているので、前記混合流体の
流れが分岐され、圧損が発生しやすい。また遮蔽部材６
９は、混合流体の流入方向に対してほぼ垂直に設けられ
ているので、遮蔽部材６９に衝突した混合流体の流れ方
向は９０度方向転換し、圧損が発生しやすい。また遮蔽
部材６９の表面積がドロス導入口６８の断面積よりも大
きいので、遮蔽部材６９に衝突した混合流体は拡がりな
がら上昇し、圧損が発生しやすい。これによって、窒素
ガスが過大な圧力で供給されるときでも、ガスの圧力を
低下させることができるので、浴面２４ａからの混合流
体の上方への飛散を防止することができる。したがっ
て、安全性を向上することができ、めっき浴２４の飛散
ロスの発生を防止することができる。

【００４３】また、遮蔽部材６９が着脱自在に設けられ
ているので、窒素ガスが過小な圧力で供給されるときで
も、遮蔽部材６９を取外すことによって窒素ガスの撹拌
力の低下を回避することができる。したがって、薬剤と
トップドロス１８との反応を促進することができる。さ
らに前述のように、撹拌部材７０が設けられているの
で、撹拌によって薬剤とトップドロス１８との反応をさ
らに促進することができる。またバッフル８７およびバ
ッフル板８６が設けられているので、撹拌時におけるト
ップドロス１８の下方への拡散を抑制し、トップドロス
１８のめっき浴中への放散を防止することができる。ま
た、めっき浴回収室８０と通過孔８４とが反応容器６７
の最下部に設けられているので、再生亜鉛中へのトップ
ドロス１８の混入を防止することができ、高純度の再生
亜鉛をめっき浴２４中に戻すことができる。

【００４４】このようにドロス分離器３６は、混合流体
の飛散を防止することができ、かつトップドロス１８と
薬剤との反応を促進することができ、かつトップドロス
１８のめっき浴中への放散を防止することができるの
で、トップドロス１８から亜鉛を安全確実に、かつ効率
的に再生することができる。

【００４５】再び図１および図２を参照して、前記ドロ
ス吸引移送管３４は、めっき浴２４中に配設される管路
であり、第１直管５０と、第１エルボ５１と、第２直管
５３と、第２エルボ５４と、第３直管５５とから成る。
前記第１直管５０および第３直管５５は、軸線を鉛直方
向に向けて配設されており、前記第２直管５３は軸線を
水平方向に向けて配設されている。これらの直管および
エルボは、ガスリフトポンプ３１側からこの順序で接続
されている。前記第１直管５０の一端部、すなわちドロ
ス吸引移送管３４の一端部には、第４フランジ５６が設
けられており、第４フランジ５６はガスリフトポンプ３
１の内筒４０の下端部に設けられている第２フランジ４
８と連結されている。前記第３直管５５の上端部、すな
わちドロス吸引移送管３４の他端部は、前記スナウト２
３の表側（図２の上側）のめっき浴２４の浴面２４ａ付
近に開口している。

【００４６】図１２は図１に示す吸引部材の概略構成を
示す正面図であり、図１３は図１２に示す吸引部材の平
面図であり、図１４は図１２に示す吸引部材の側面図で
ある。図１２〜図１４には、吸引部材３５の上下方向位
置を調整するレベル調整装置５７の構成も併せて示して
いる。吸引部材３５は、鉛直軸線を有するホッパ状の部
材であり、複数の側板５８と底板５９とから成る。側板
５８は、相互に溶接接合され、上下端部が開口した形状
になるように形成される。側板５８の下部の形状は、上
方になるにつれて水平断面が拡がるように形成され、側
板５８の上部の形状は角筒状に形成される。また側板５
８の上端部、すなわち吸引部材３５の上端部は、浴面２
４ａに対して傾斜しており、上方になるにつれて先細状
に傾斜されている。前記傾斜した上端部は、ドロス吸引
口３５ａを形成する。なお側板５８間には、補強片５８
ａが掛け渡されている。前記底板５９は、側板５８の下
端部に溶接接合され、さらに前記第３直管５５の上端
部、すなわちドロス吸引移送管３４の他端部に溶接接合
される。また前記底板５９には、側板５８で外囲される
空間と、ドロス吸引移送管３４の内部とを連通する連通
孔が形成されている。

【００４７】このように、めっき浴２４の浴面付近に配
設されているドロス吸引移送管３４の他端部には、吸引
部材３５が設けられており、吸引部材３５は上方になる
につれて水平断面が拡がったホッパ状の形状を有するの
で、めっき浴２４の浴面上に浮遊するトップドロス１８
を広範囲にわたって吸引することができる。また吸引部
材３５の上端部は、浴面２４ａに対して傾斜しており、
上方になるにつれて先細状に形成されているので、めっ
き浴２４の浴面２４ａが亜鉛の投入などによって変動し
てもトップドロス１８を確実に吸引することができる。

【００４８】前記レベル調整装置５７は、連結アーム６
０と、調整ボルト６１と、支持台６４とを含んで構成さ
れる。連結アーム６０は、前記吸引部材３５と、調整ボ
ルト６１とを連結するアームであり、一端部は吸引部材
３５の側板５８の上端部に溶接接合されており、他端部
にはボルト挿通孔が形成されている。支持台６４は、床
面上に設けられている固定台であり、その上部にはねじ
穴が形成されている。調整ボルト６１は、連結アーム６
０のボルト挿通孔に挿通され、ナット６２で連結アーム
６０を挟んだ状態で支持台６４のねじ穴に螺合される。
吸引部材３５のレベル調整は、調整ボルト６１を回転す
ることによって行われる。レベル調整後、調整ボルト６
１はロックナット６３によって支持台６４に固定され
る。

【００４９】前記レベル調整にあたっては、前記吸引部
材３５のドロス吸引口３５ａの最下部をめっき浴２４の
浴面２４ａの下方約５ｍｍの位置に調整することが好ま
しい。これは、前記位置よりも上方に調整すれば吸引さ
れるトップドロス１８とめっき浴２４との混合物中のト
ップドロス１８の比率が高くなり、混合物の流動性が低
下して前記ドロス吸引移送管３４内の移送速度が低下す
るからであり、前記位置よりも下方に調整すれば前記混
合物中のトップドロス１８の比率が小さくなり、ドロス
排出効率が低下するからである。

【００５０】以上述べたように、前記ドロス回収再生装
置３０は、ガス供給装置３３から窒素ガスをガスリフト
ポンプ３１に供給して、ガスリフトポンプ３１を作動さ
せ、ドロス吸引移送管３４内にガスリフトポンプ３１を
経てドロス分離器３６に向かう流れを形成する。前記流
れは、吸引部材３５を介してトップドロス１８とめっき
浴２４との混合物をドロス吸引移送管３４内に吸引して
移送し、ガスリフトポンプ３１を経てドロス分離器３６
に窒素ガスとともに送り込む。ドロス分離器３６内に導
入されたトップドロス１８は、薬剤投入口８３から投入
された薬剤と反応し、還元されて亜鉛に再生され、めっ
き浴２４中に戻される。

【００５１】このように、前記ドロス回収再生装置３０
はトップドロス１８を自動的に回収し、回収したトップ
ドロス１８から効率的に亜鉛を再生することができる。
したがって、手作業によるトップドロス汲上げ作業を省
業することができ、作業者の負荷が大幅に低減される。
また、トップドロスの浮遊量を低減した状態で鋼帯２８
に溶融亜鉛めっきすることができるので、トップドロス
１８に起因する表面品質低下要因が排除され、表面品質
の優れた溶融亜鉛めっき製品を安定して製造することが
できる。また、本実施の形態の吸引部材３５はスナウト
２３の表側に配設されているけれども、配設位置はその
位置に限定されるものではなく、所望の位置、たとえば
スナウト２３の裏側または内側であってもよい。これに
よって、ドロス回収再生装置３０はトップドロス１８の
存在位置にかかわらずトップドロス１８を自動的に回収
して亜鉛に再生することができる。

【００５２】図１５は、本発明の実施の他の形態である
ドロス回収再生装置の構成を簡略化して示す平面図であ
る。本実施の形態のドロス回収再生装置１１３は、図１
〜図３に示すドロス回収再生装置３０と類似しているの
で、対応する部分には同一の参照符号を付し、重複する
説明は省略する。本実施の形態で注目すべきは、ドロス
吸引移送管１１４が分岐しており、その各先端部がスナ
ウト２３の表側、裏側および内側の３箇所においてめっ
き浴２４の浴面付近にそれぞれ開口している点である。

【００５３】ドロス吸引移送管１１４は、めっき浴２４
中にめっきポット２５の側壁に沿って配設される管路で
あり、前記第１直管５０と、前記第２直管５３と、前記
第３直管５５と、第１曲管１１９と、第４直管１２０
と、第２曲管１２１と、第５直管１２２とを含んで構成
される。第４直管１２０は軸線を水平方向に向けて配設
されており、第５直管１２２は軸線を鉛直方向に向けて
配設されている。第１直管５０の一端部は、前述のよう
にガスリフトポンプ３１に連結されており、他端部は前
記第１エルボ５１を介して第２直管５３の一端部と接合
されている。第２直管５３の他端部は、第１曲管１１９
の一端部と接合されており、第１曲管１１９の他端部は
第４直管１２０の一端部と接合されている。第４直管１
２０の他端部は、図示しないエルボを介して第５直管１
２２の一端部と接合されており、第５直管１２２の他端
部すなわち先端部はスナウト２３の裏側の浴面付近に設
けられている吸引部材３５に接合されている。

【００５４】第３直管５５は分岐管であり、一端部が第
２直管５３の途中位置に接合されており、先端部である
他端部がスナウト２３の表側の浴面付近に設けられてい
る吸引部材３５に接合されている。第２曲管１２１は分
岐管であり、一端部が第４直管１２０の途中位置に接合
されており、先端部である他端部がスナウト２３の内側
の浴面付近に開口している。これによって、本実施の形
態のドロス回収再生装置１１３は、スナウト２３の表
側、裏側および内側におけるトップドロス１８を同時に
吸引して回収し、回収したトップドロス１８から亜鉛を
再生することができる。この結果、トップドロス１８が
回収の困難な位置であるスナウト２３の裏側に存在して
も、トップドロス１８を自動的に回収して亜鉛に再生す
ることができる。また、ドロスポンプ１７の設置を省略
することができる。

【００５５】このように、本実施の形態では、スナウト
２３内外のトップドロス１８を大幅に低減した状態で、
鋼帯２８に溶融亜鉛めっきすることができるので、トッ
プドロス１８に起因する表面品質低下要因が排除され、
表面品質のさらに優れた溶融亜鉛めっき製品を安定して
製造することができる。なお本実施の形態は、ドロス吸
引移送管１１４の先端部をスナウト２３の裏側、表側お
よび内側の３箇所に配設するように構成されているけれ
ども、前記先端部を前記３箇所の中から選ばれた２箇所
に配設するように構成してもよい。

【００５６】図１６は、本発明の実施のさらに他の形態
であるドロス回収再生装置の構成を簡略化して示す正面
図である。本実施の形態のドロス回収再生装置１１６
は、図１〜図３に示すドロス回収再生装置３０と類似し
ているので、対応する部分には同一の参照符号を付し、
重複する説明は省略する。注目すべきは、本実施の形態
ではドロス分離器３６のドロス導入口６８とドロス吸引
移送管３４の第１直管５０とが直接連結されており、図
１に示すガスリフトポンプ３１に代わってガス吹込管１
１７の先端部がドロス吸引移送管３４の第１直管５０
に、めっき浴２４の浴面上方から挿通されている点であ
る。

【００５７】ガス吹込管１１７は、上下方向に延びるス
テンレス鋼管であり、先端部には複数のガス吹込孔１１
８が形成されており、基端部にはガス供給装置３３のガ
ス供給管路１５が接続されている。ガス吹込管１１７か
ら吹込まれる窒素ガスは、図１に示すガスリフトポンプ
３１の内筒４０に吹込まれる窒素ガスと同様にドロス吸
引移送管３４の内部にドロス分離器３６に向かう流れを
形成するので、トップドロス１８をドロス分離器３６に
送り込むことができる。したがってガス吹込管１１７
は、図１に示すガスリフトポンプ３１と同一の働きを示
す。この結果、本実施の形態のドロス回収再生装置１１
６は、簡単な構成で前記図１に示すドロス回収再生装置
３０と同様の効果を示す。また、構成を簡素化すること
ができるので、故障の発生を低減することができる。

【００５８】本実施の形態はスナウト２３の表側に存在
するトップドロス１８を吸引するように構成されている
けれども、スナウト２３の内側、裏側および表側のトッ
プドロス１８を各箇所ごとに、または複数箇所同時に吸
引するように構成してもよい。

【００５９】以上述べたように、本発明のドロス回収再
生装置は溶融亜鉛浴に対して好適に適用できるけれど
も、そればかりではなく他の溶融めっき金属浴、たとえ
ば亜鉛合金浴、アルミニウム浴、アルミニウム合金浴な
どに対しても適用できる。また、被めっき材料としては
鋼帯に適用できるばかりではなく、他の金属帯に対して
も適用できる。

【００６０】

【発明の効果】以上のように請求項１記載の本発明によ
れば、浴面上のトップドロスを吹込ガスによって自動的
にドロス分離器内に移送し、トップドロスとドロス還元
用薬剤とを反応させることができるので、ドロスの存在
位置にかかわらず、作業者にドロス汲上げ作業などの負
荷をかけることなく自動的にトップドロスを回収し、回
収したトップドロスから溶融めっき金属を再生すること
ができる。したがって、トップドロスに起因するめっき
表面異常の発生を防止することができる。

【００６１】また請求項２記載の本発明によれば、ガス
供給装置からのガスをガス吹込管を介して直接ドロス吸
引移送管内に吹込むことができるので、簡単な構成で確
実にドロスをドロス分離器内に導入することができる。
また、構成を簡素化することができるので、故障の発生
を低減することができる。

【００６２】また請求項３記載の本発明によれば、ドロ
ス分離器に導入されるガスは、圧損の大きい経路を通過
するように構成されているので、供給されるガスの圧力
が過大であるときでも、ガスの圧力を低下させることが
でき、浴面における溶融めっき金属の飛散を防止するこ
とができる。したがって、安全性を向上することがで
き、飛散ロスの発生を防止することができる。また撹拌
部材が反応容器内に設けられているので、トップドロス
と薬剤との反応を促進させることができ、トップドロス
から溶融めっき金属を効率的に再生することができる。

【００６３】また請求項４記載の本発明によれば、広範
囲の領域のトップドロスを吸引することができる。また
溶融めっき金属の浴面が変動してもトップドロスを確実
に吸引することができる。

【００６４】また請求項５記載の本発明によれば、吹込
まれるガスを加熱することができるので、ガスによる溶
融めっき金属の過剰な冷却を防止することができる。し
たがって、内筒またはドロス吸引移送管の詰まりを防止
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態である溶融めっき金属の
ドロス回収再生装置の構成を簡略化して示す正面図であ
る。

【図２】図１に示すドロス回収再生装置の平面図であ
る。

【図３】図１に示すドロス回収再生装置の側面図であ
る。

【図４】図１に示すドロス回収再生装置を備える連続溶
融亜鉛めっき装置の構成を簡略化して示す正面図であ
る。

【図５】図１に示すガスリフトポンプの構成を簡略化し
て示す正面図である。

【図６】図５の切断面線Ｖ−Ｖから見た断面図である。

【図７】ガスリフトポンプの作動時の状況を示す模式図
である。

【図８】図１に示すドロス分離器の構成を簡略化して示
す正面図である。

【図９】図８に示すドロス分離器の平面図である。

【図１０】図８に示すドロス分離器の側面図である。

【図１１】図８に示す遮蔽部材の構成を簡略化して示す
図であり、図１１（１）は図８に示す遮蔽部材の平面図
であり、図１１（２）は図８に示す遮蔽部材の正面図で
ある。

【図１２】図１に示す吸引部材の概略構成を示す正面図
である。

【図１３】図１２に示す吸引部材の平面図である。

【図１４】図１２に示す吸引部材の側面図である。

【図１５】本発明の実施の他の形態であるドロス回収再
生装置の構成を簡略化して示す平面図である。

【図１６】本発明の実施のさらに他の形態であるドロス
回収再生装置の構成を簡略化して示す正面図である。

【符号の説明】

３０，１１３，１１６ ドロス回収再生装置 ３１ ガスリフトポンプ ３３ ガス供給装置 ３４，１１４ ドロス吸引移送管 ３５ 吸引部材 ３６ ドロス分離器 ３７ 排気装置 ６７ 反応容器 ６８ ドロス導入口 ６９ 遮蔽部材 ７０ 撹拌部材 ８３ 薬剤投入口 ８６ バッフル板 ８７ バッフル ９０ ガイド板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶融めっき金属のドロスを回収し、回収
   したドロスをドロス還元用薬剤と反応させて還元し、ド
   ロスから溶融めっき金属を再生する溶融めっき金属のド
   ロス回収再生装置において、 溶融めっき金属の浴中に配設され、上下方向に延び、周
   壁にガス吹込孔が形成される内筒と、 内筒が挿通される外筒であって、内筒の外周面と外筒の
   内周面との間に空間が形成され、内筒の外周面と外筒の
   上部とが気密に塞がれており、外筒の周壁にはガス導入
   口が内筒のガス吹込孔よりも上方に間隔をあけて形成さ
   れ、外筒の下端部が内筒のガス吹込孔よりも下方に延び
   る外筒と、 前記ガス導入口に接続されるガス供給装置と、 溶融めっき金属の浴面近傍に設けられ、溶融めっき金
   属、ドロスおよび薬剤を収納し、ドロスを薬剤で還元す
   るドロス分離器と、 内筒の下端部に一端部が接続され、他端部が溶融めっき
   金属の浴面付近に開口するドロス吸引移送管とを含むこ
   とを特徴とする溶融めっき金属のドロス回収再生装置。
2. 【請求項２】 溶融めっき金属のドロスを回収し、回収
   したドロスをドロス還元用薬剤と反応させて還元し、ド
   ロスから溶融めっき金属を再生する溶融めっき金属のド
   ロス回収再生装置において、 溶融めっき金属の浴面近傍に設けられ、溶融めっき金
   属、ドロスおよび薬剤を収納し、ドロスを薬剤で還元す
   るドロス分離器と、 ドロス分離器の下部に一端部が接続され、他端部が溶融
   めっき金属の浴面近傍に開口するドロス吸引移送管と、 先端部にガス吹込孔を有し、先端部がドロス吸引移送管
   の一端部に挿通されるガス吹込管と、 ガス吹込管の基端部に接続されるガス供給装置とを含む
   ことを特徴とする溶融めっき金属のドロス回収再生装
   置。
3. 【請求項３】 前記ドロス分離器は、 溶融めっき金属の浴面近傍の浴中に設けられ、上部が部
   分的に浴面から上方に突出している有底筒状の反応容器
   と、 反応容器の下部に外方に突出して設けられ、鉛直面内で
   屈曲経路を形成するドロス導入口と、 反応容器内のドロス導入口を臨む位置に、ドロス導入口
   と対向して設けられ、ドロス導入口の断面積よりも大き
   い表面積を有する遮蔽部材と、 反応容器の上部に、かつ溶融めっき金属の浴面よりも上
   方に設けられる薬剤投入口と、 反応容器内に設けられ、溶融めっき金属を撹拌する撹拌
   部材と、 反応容器の下部に、かつドロス導入口よりも下方に形成
   される複数の通過孔とを含むことを特徴とする請求項１
   または２記載の溶融めっき金属のドロス回収再生装置。
4. 【請求項４】 前記ドロス吸引移送管の他端部には、上
   方になるにつれて水平断面が広がった形状を有する吸引
   部材が設けられ、吸引部材の上端部は上方になるにつれ
   て先細状に傾斜した形状を有することを特徴とする請求
   項１〜３のいずれかに記載の溶融めっき金属のドロス回
   収再生装置。
5. 【請求項５】 前記ガス供給装置には、ガス加熱器が設
   けられることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
   載の溶融めっき金属のドロス回収再生装置。