JPH11279165A - トリスベンゾアゾール化合物 - Google Patents
トリスベンゾアゾール化合物Info
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- JPH11279165A JPH11279165A JP8475898A JP8475898A JPH11279165A JP H11279165 A JPH11279165 A JP H11279165A JP 8475898 A JP8475898 A JP 8475898A JP 8475898 A JP8475898 A JP 8475898A JP H11279165 A JPH11279165 A JP H11279165A
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- compound
- benzenetriyl
- alkyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】強い蛍光を発する化合物を提供する。
【解決手段】例えば下記の化学式で表される化合物等を
含むトリスベンゾアゾール化合物。 【化１】
含むトリスベンゾアゾール化合物。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はトリスベンゾアゾー
ル化合物に関する。詳しくは有機エレクトロルミネッセ
ンス（ＥＬ）材料に有用な新しいトリスベンゾアゾール
化合物に関する。
ル化合物に関する。詳しくは有機エレクトロルミネッセ
ンス（ＥＬ）材料に有用な新しいトリスベンゾアゾール
化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】タンらは例えば特開昭５９−１９４，３
９３号、同６３−２６４，６９２号においてベンゾアゾ
ール骨格を有する化合物は内部接合有機ＥＬ素子の電子
注入、輸送帯域における電子伝達化合物及び発光化合物
として、または発光物質をドープしたホスト物質で有用
であることを開示している。しかしながら、これらの特
許に開示されているベンゾアゾール骨格を有する化合物
は強い蛍光を発する点では好ましい化合物であるが、真
空蒸着膜の安定性や、電子伝達性においては不十分であ
り、それ故に素子の安定性が実用にほど遠いものであっ
た。
９３号、同６３−２６４，６９２号においてベンゾアゾ
ール骨格を有する化合物は内部接合有機ＥＬ素子の電子
注入、輸送帯域における電子伝達化合物及び発光化合物
として、または発光物質をドープしたホスト物質で有用
であることを開示している。しかしながら、これらの特
許に開示されているベンゾアゾール骨格を有する化合物
は強い蛍光を発する点では好ましい化合物であるが、真
空蒸着膜の安定性や、電子伝達性においては不十分であ
り、それ故に素子の安定性が実用にほど遠いものであっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、強
い蛍光を発するという優れた特徴があるベンゾオキサゾ
ール骨格を有する化合物において、素子の安定性の向上
を可能とする分子構造を見出すことを目的として研究に
取り組んだ。
い蛍光を発するという優れた特徴があるベンゾオキサゾ
ール骨格を有する化合物において、素子の安定性の向上
を可能とする分子構造を見出すことを目的として研究に
取り組んだ。
【０００４】
【課題を解決するための手段】その結果、ある種の置換
基を有するトリスベンゾアゾール化合物が、この目的を
達成できる分子構造であることを見出した。本発明はそ
の知見に基づきなされたものである。すなわち本発明の
目的は新規化合物である、一般式（Ｉ）で表されるトリ
スベンゾアゾール化合物によって達成された。
基を有するトリスベンゾアゾール化合物が、この目的を
達成できる分子構造であることを見出した。本発明はそ
の知見に基づきなされたものである。すなわち本発明の
目的は新規化合物である、一般式（Ｉ）で表されるトリ
スベンゾアゾール化合物によって達成された。
【０００５】
【化２】
【０００６】式中、（Ｙ）は１，３，５−ベンゼントリ
イル基又は窒素原子を表わす。Ar1〜Ar3 はフェニレン
基又はチオフェンジイル基を表わす。Ｒ1 〜Ｒ12は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ジアルキルアミ
ノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、ジアリー
ルアミノ基、又はシリル基を表わす。ｌ、ｍ、およびｎ
は（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基の場合は０
以上の整数を、（Ｙ）が窒素原子の場合は１以上の整数
を表わす。（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基で
ｌ、ｍ、およびｎが０の時、また（Ｙ）が１，３，５−
ベンゼントリイル基で、Ar1 〜Ar3 がフェニレン基であ
り、かつｌ、ｍ、およびｎが１の時はＲ1 〜Ｒ12の少な
くとも１つはアルコキシ基、アリールオキシ基、ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基又
はジアリールアミノ基である。Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は
酸素原子、イオウ原子又は一置換窒素原子を表わす。
イル基又は窒素原子を表わす。Ar1〜Ar3 はフェニレン
基又はチオフェンジイル基を表わす。Ｒ1 〜Ｒ12は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ジアルキルアミ
ノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、ジアリー
ルアミノ基、又はシリル基を表わす。ｌ、ｍ、およびｎ
は（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基の場合は０
以上の整数を、（Ｙ）が窒素原子の場合は１以上の整数
を表わす。（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基で
ｌ、ｍ、およびｎが０の時、また（Ｙ）が１，３，５−
ベンゼントリイル基で、Ar1 〜Ar3 がフェニレン基であ
り、かつｌ、ｍ、およびｎが１の時はＲ1 〜Ｒ12の少な
くとも１つはアルコキシ基、アリールオキシ基、ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基又
はジアリールアミノ基である。Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は
酸素原子、イオウ原子又は一置換窒素原子を表わす。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一般式（Ｉ）で表
わされる化合物について詳しく説明する。一般式（Ｉ）
における（Ｙ）は１，３，５−ベンゼントリイル基又は
窒素原子を表わす。前者について詳しく説明すれば、置
換もしくは無置換の１，３，５−ベンゼントリイル基で
あり、好ましくはアルキル基置換もしくは無置換の１，
３，５−ベンゼントリイル基であり、特に好ましくは無
置換の１，３，５−ベンゼントリイル基である。
わされる化合物について詳しく説明する。一般式（Ｉ）
における（Ｙ）は１，３，５−ベンゼントリイル基又は
窒素原子を表わす。前者について詳しく説明すれば、置
換もしくは無置換の１，３，５−ベンゼントリイル基で
あり、好ましくはアルキル基置換もしくは無置換の１，
３，５−ベンゼントリイル基であり、特に好ましくは無
置換の１，３，５−ベンゼントリイル基である。
【０００８】Ar1 〜Ar3 はフェニレン基又はチオフェン
ジイル基を表わすが、詳しくは置換もしくは無置換のフ
ェニレン基、又は置換もしくは無置換のチオフェンジイ
ル基である。好ましくは置換もしくは無置換のｐ−もし
くはｍ−フェニレン基、置換もしくは無置換の２，５−
チオフェンジイル基である。これらが有してもよい置換
基はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、ジアルキルアミノ基などであり、好ましくは、ア
ルキル基もしくはアルコキシ基である。
ジイル基を表わすが、詳しくは置換もしくは無置換のフ
ェニレン基、又は置換もしくは無置換のチオフェンジイ
ル基である。好ましくは置換もしくは無置換のｐ−もし
くはｍ−フェニレン基、置換もしくは無置換の２，５−
チオフェンジイル基である。これらが有してもよい置換
基はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、ジアルキルアミノ基などであり、好ましくは、ア
ルキル基もしくはアルコキシ基である。
【０００９】Ｒ1 〜Ｒ12は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ジアルキルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、又はジアリールアミノ基であり、これらにつ
いて詳しくは水素原子、フッ素、塩素もしくは臭素等の
ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１２の
直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、置換もしくは無置換
の炭素数６〜２０のアリール基、置換もしくは無置換の
炭素数１〜６のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭
素数６〜２０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換
の炭素数２〜１６のジアルキルアミノ基、置換もしくは
無置換の炭素数７〜２１のＮ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、又は置換もしくは無置換の炭素数１２〜３６
のジアリールアミノ基である。これらの基は隣接する基
同志が結合して飽和の環もしくは不飽和の環（芳香族環
など）を形成してもよい。
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ジアルキルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、又はジアリールアミノ基であり、これらにつ
いて詳しくは水素原子、フッ素、塩素もしくは臭素等の
ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１２の
直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、置換もしくは無置換
の炭素数６〜２０のアリール基、置換もしくは無置換の
炭素数１〜６のアルコキシ基、置換もしくは無置換の炭
素数６〜２０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換
の炭素数２〜１６のジアルキルアミノ基、置換もしくは
無置換の炭素数７〜２１のＮ−アルキル−Ｎ−アリール
アミノ基、又は置換もしくは無置換の炭素数１２〜３６
のジアリールアミノ基である。これらの基は隣接する基
同志が結合して飽和の環もしくは不飽和の環（芳香族環
など）を形成してもよい。
【００１０】水素原子、ハロゲン原子以外について更に
詳しく説明すると、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ
−オクチル、ｎ−ドデシル、２−メトキシエチル、２−
フェニルメチル、ベンジル、イソプロピル、イソブチ
ル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、もしくはシクロ
ヘプチルなどのアルキル基、フェニル、２−，３−もく
しは４−メチルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、４
−メトキシフェニル、４−ジメチルアミノフェニル、１
−もしくは２−ナフチル、アンスリル、もくしはフェナ
ンスリルなどのアリール基、メトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ヘキシル、イソプロポ
キシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、シクロペンチルオ
キシ、もしくはシクロヘキシルオキシなどのアルコキシ
基、フェノキシ、２−，３−もしくは４−メチルフェノ
キシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、４−フェニルフェノ
キシ、４−メトキシフェノキシ、２−シクロヘキシルフ
ェノキシ、３−エチルフェノキシ、１−もしくは２−ナ
フトキシ、アンスリルオキシ、もしくはフェナンスリル
オキシなどのアリールオキシ基、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジブチルアミノ、ジオクチルアミノ、Ｎ−
メチルブチルアミノ、ビス（２−メトキシエチル）アミ
ノ、もしくはビス（２−クロロエチル）アミノなどのジ
アルキルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ、Ｎ−ブチルア
ニリノ、もしくはＮ−メチル−１−ナフチルアミノなど
のＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、又はジフェニ
ルアミノ、Ｎ−（３−メチルフェニル）アニリノ、Ｎ−
（４−メチルフェニル）アニリノ、ビス（４−メチルフ
ェニル）アミノ、Ｎ−ナフチルアニリノ、もしくはジナ
フチルアミノなどのジアリールアミノ基である。
詳しく説明すると、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ
−オクチル、ｎ−ドデシル、２−メトキシエチル、２−
フェニルメチル、ベンジル、イソプロピル、イソブチ
ル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、もしくはシクロ
ヘプチルなどのアルキル基、フェニル、２−，３−もく
しは４−メチルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、４
−メトキシフェニル、４−ジメチルアミノフェニル、１
−もしくは２−ナフチル、アンスリル、もくしはフェナ
ンスリルなどのアリール基、メトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ヘキシル、イソプロポ
キシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、シクロペンチルオ
キシ、もしくはシクロヘキシルオキシなどのアルコキシ
基、フェノキシ、２−，３−もしくは４−メチルフェノ
キシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、４−フェニルフェノ
キシ、４−メトキシフェノキシ、２−シクロヘキシルフ
ェノキシ、３−エチルフェノキシ、１−もしくは２−ナ
フトキシ、アンスリルオキシ、もしくはフェナンスリル
オキシなどのアリールオキシ基、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジブチルアミノ、ジオクチルアミノ、Ｎ−
メチルブチルアミノ、ビス（２−メトキシエチル）アミ
ノ、もしくはビス（２−クロロエチル）アミノなどのジ
アルキルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ、Ｎ−ブチルア
ニリノ、もしくはＮ−メチル−１−ナフチルアミノなど
のＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、又はジフェニ
ルアミノ、Ｎ−（３−メチルフェニル）アニリノ、Ｎ−
（４−メチルフェニル）アニリノ、ビス（４−メチルフ
ェニル）アミノ、Ｎ−ナフチルアニリノ、もしくはジナ
フチルアミノなどのジアリールアミノ基である。
【００１１】Ｒ1 〜Ｒ12が置換基を有する場合の、置換
可能な基について詳しく述べると、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキ
シ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ
基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ウレイド基、スル
ファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル
基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド
基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、シリル基また
はアゾリル基などである。
可能な基について詳しく述べると、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキ
シ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ
基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ウレイド基、スル
ファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル
基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド
基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、シリル基また
はアゾリル基などである。
【００１２】好ましいＲ1 〜Ｒ12は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、又はジアリー
ルアミノ基である。
基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、又はジアリー
ルアミノ基である。
【００１３】（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基
でｌ、ｍおよびｎが０の時、また（Ｙ）が１，３，５−
ベンゼントリイル基でAr1 〜Ar3 がフェニレン基であり
かつｌ、ｍおよびｎが１の時はＲ1 〜Ｒ12の少なくとも
１つはアルコキシ基、アリールオキシ基、ジアルキルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基又はジア
リールアミノ基である。
でｌ、ｍおよびｎが０の時、また（Ｙ）が１，３，５−
ベンゼントリイル基でAr1 〜Ar3 がフェニレン基であり
かつｌ、ｍおよびｎが１の時はＲ1 〜Ｒ12の少なくとも
１つはアルコキシ基、アリールオキシ基、ジアルキルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基又はジア
リールアミノ基である。
【００１４】ｌ、ｍ、およびｎは（Ｙ）が１，３，５−
ベンゼントリイル基の場合は０以上の整数を表わすが、
好ましくは０ないし３の整数であり、特に好ましくは０
又は１である。（Ｙ）が窒素原子の場合は１以上の整数
を表わすが、好ましくは１ないし４の整数であり、特に
好ましくは２又は３である。
ベンゼントリイル基の場合は０以上の整数を表わすが、
好ましくは０ないし３の整数であり、特に好ましくは０
又は１である。（Ｙ）が窒素原子の場合は１以上の整数
を表わすが、好ましくは１ないし４の整数であり、特に
好ましくは２又は３である。
【００１５】Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は酸素原子、イオウ
原子又は一置換窒素原子を表わすが、一置換窒素原子に
ついて説明すれば、アルキル基又はアリール基が置換し
た窒素原子である。窒素原子上のアルキル基およびアリ
ール基の定義は前記Ｒ1 〜Ｒ 12にて説明したものと同義
である。Ｚ1 〜Ｚ3 の好ましい原子は酸素原子である。
原子又は一置換窒素原子を表わすが、一置換窒素原子に
ついて説明すれば、アルキル基又はアリール基が置換し
た窒素原子である。窒素原子上のアルキル基およびアリ
ール基の定義は前記Ｒ1 〜Ｒ 12にて説明したものと同義
である。Ｚ1 〜Ｚ3 の好ましい原子は酸素原子である。
【００１６】次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【００１７】
【化３】
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】
【００２０】
【化６】
【００２１】
【化７】
【００２２】
【化８】
【００２３】
【化９】
【００２４】
【化１０】
【００２５】
【化１１】
【００２６】次に本発明の化合物の合成法について以下
説明する。代表的合成法として＜スキーム１＞および＜
スキーム２＞の方法があげられる。どちらの方法を用い
るかはAr1 〜Ar3 の種類により適宜選択される。
説明する。代表的合成法として＜スキーム１＞および＜
スキーム２＞の方法があげられる。どちらの方法を用い
るかはAr1 〜Ar3 の種類により適宜選択される。
【００２７】
【化１２】
【００２８】
【化１３】
【００２９】本発明の化合物の精製はシリカゲルカラム
クロマトグラフィと再結晶法、更に必要なら昇華法によ
り行なわれる。
クロマトグラフィと再結晶法、更に必要なら昇華法によ
り行なわれる。
【００３０】
【実施例】以上に実施例に基づき本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものでは
ない。
本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものでは
ない。
【００３１】実施例１（例示化合物(1) の合成） ２−アミノ−５−メトキシフェノール塩酸塩１３．６ｇ
（７６．９mmol) をＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）１
００mlに溶かし、その中に１，３，５−ベンゼントリカ
ルボン酸クロリド６．８ｇ（２５．６mmol）を室温下加
え、約１時間攪拌後一晩放置した。ｐ−トルエンスルホ
ン酸−水和物１４．６（７６．９mmol）とトルエン１０
０mlを加え、Dean-Stark装置を使って水を除きながら約
１５時間加熱還流した。一晩室温下放置すると結晶が析
出し、メタノールを加え濾過・乾燥すると、無色の粉末
結晶としてほぼ純粋な例示化合物(1) を得た。それをテ
トラヒドロフラン／メタノール系溶媒で再結晶すると、
純粋な例示化合物(1) を８．０ｇ（６０％）得ることが
できた。融点３００℃以上。
（７６．９mmol) をＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）１
００mlに溶かし、その中に１，３，５−ベンゼントリカ
ルボン酸クロリド６．８ｇ（２５．６mmol）を室温下加
え、約１時間攪拌後一晩放置した。ｐ−トルエンスルホ
ン酸−水和物１４．６（７６．９mmol）とトルエン１０
０mlを加え、Dean-Stark装置を使って水を除きながら約
１５時間加熱還流した。一晩室温下放置すると結晶が析
出し、メタノールを加え濾過・乾燥すると、無色の粉末
結晶としてほぼ純粋な例示化合物(1) を得た。それをテ
トラヒドロフラン／メタノール系溶媒で再結晶すると、
純粋な例示化合物(1) を８．０ｇ（６０％）得ることが
できた。融点３００℃以上。
【００３２】実施例２（例示化合物(9) の合成） １，３，５−トリス（４−カルボキシフェニル）ベンゼ
ン、２．３ｇ（５．２mmol）のＮＭＰ溶液を約１０℃に
氷水にて冷却攪拌した。その中に塩化チオニル２．２ｇ
（１８．７mmol）を滴下し、滴下後約２時間攪拌した。
次に、反応液中に２−アミノ−４−シクロヘキシル−５
−メトキシフェノール塩酸塩４．８ｇ（１８．７mmol）
加え、７０〜９０℃に約１０時間加熱した。その後室温
下一晩放置した後、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物を
０．７ｇ（３．８mmol）とクロロベンゼン１００mlを加
え、約１３時間加熱還流した。減圧下クロロベンゼンと
ＮＭＰをできる限り除去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィで精製した後テトラヒドロフラン／エタノール
溶媒系で再結晶することにより、例示化合物(9) を無色
結晶として２．７ｇ（５２％）得ることができた。融点
２３０〜２３３℃。
ン、２．３ｇ（５．２mmol）のＮＭＰ溶液を約１０℃に
氷水にて冷却攪拌した。その中に塩化チオニル２．２ｇ
（１８．７mmol）を滴下し、滴下後約２時間攪拌した。
次に、反応液中に２−アミノ−４−シクロヘキシル−５
−メトキシフェノール塩酸塩４．８ｇ（１８．７mmol）
加え、７０〜９０℃に約１０時間加熱した。その後室温
下一晩放置した後、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物を
０．７ｇ（３．８mmol）とクロロベンゼン１００mlを加
え、約１３時間加熱還流した。減圧下クロロベンゼンと
ＮＭＰをできる限り除去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィで精製した後テトラヒドロフラン／エタノール
溶媒系で再結晶することにより、例示化合物(9) を無色
結晶として２．７ｇ（５２％）得ることができた。融点
２３０〜２３３℃。
【００３３】実施例３（例示化合物(12)の合成） ２−アミノ−４，６−ジシクロヘキシルフェノール塩酸
塩を用いる以外は実施例２と同様にして例示化合物(12)
を収率５０％で得ることができた。融点２２５〜２２８
℃。
塩を用いる以外は実施例２と同様にして例示化合物(12)
を収率５０％で得ることができた。融点２２５〜２２８
℃。
【００３４】実施例４（例示化合物(15)の合成） ４−ヨード安息香酸１７．３ｇ（７０mmol）をＮＭＰ
（Ｎ−メチルピロリドン）１００mlに溶かし、約１０℃
に氷水にて冷却攪拌した。その中に塩化チオニル５．９
ml（８１mmol）を滴下し、滴下後約２時間攪拌した。次
に反応液中に２−アミノ−５−メトキシフェノール塩酸
塩を１０．２ｇ（５８mmol）加え、約２時間攪拌した。
反応液に水を加え、クロロホルム抽出を２回行い、合わ
せた抽出液を水酸化ナトリウムの水溶液（〜ｐＨ８）と
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
濾過濃縮を行なった。ＮＭＰを含む濃縮液にトルエン１
００mlとｐ−トルエンスルホン酸−水和物２．２ｇ（１
２mmol）を加え、Dean-Stark装置を用いてトルエンを除
きながら脱水した。トルエンの大部分が除かれたら、ク
ロロベンゼンを１００ml加え約１５時間加熱還流した。
反応液に水とクロロホルムを加え、抽出操作を行い、得
られた結晶性化合物にメタノールを加えて濾過すると淡
黄色の２−（４−ヨードフェニル）−６−メトキシベン
ゾオキサゾール＜１＞が１７．３ｇ（８５％）得られ
た。トリフェニルアミン−４，４′，４″−ボロン酸
（４，４′，４″−トリブロモトリフェニルアミンをブ
チルリチウムでリチオ化しボロン酸トリイソプロピルを
反応させるさとにより合成）２．３ｇ（６．０mmol）と
＜１＞、７．０ｇ（２０．０mmol）をフラスコに取り、
その中にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
０．１ｇ（０．０８７mmol）を入れ、更に２Ｍの炭酸ナ
トリウム水溶液１１．５ml（２３mmol）、トルエン８０
mlとＤＭＦ３０mlを加え窒素気流下加熱還流した。約２
０時間後反応液を室温に戻し、水を加えると結晶が析出
したので濾過し、メタノールで洗浄した。得られた粗結
晶物をシリカゲルクロマトグラフィで精製すると例示化
合物(15)を３．３ｇ（６１％）得ることができた。融点
２７０〜２７３℃。
（Ｎ−メチルピロリドン）１００mlに溶かし、約１０℃
に氷水にて冷却攪拌した。その中に塩化チオニル５．９
ml（８１mmol）を滴下し、滴下後約２時間攪拌した。次
に反応液中に２−アミノ−５−メトキシフェノール塩酸
塩を１０．２ｇ（５８mmol）加え、約２時間攪拌した。
反応液に水を加え、クロロホルム抽出を２回行い、合わ
せた抽出液を水酸化ナトリウムの水溶液（〜ｐＨ８）と
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
濾過濃縮を行なった。ＮＭＰを含む濃縮液にトルエン１
００mlとｐ−トルエンスルホン酸−水和物２．２ｇ（１
２mmol）を加え、Dean-Stark装置を用いてトルエンを除
きながら脱水した。トルエンの大部分が除かれたら、ク
ロロベンゼンを１００ml加え約１５時間加熱還流した。
反応液に水とクロロホルムを加え、抽出操作を行い、得
られた結晶性化合物にメタノールを加えて濾過すると淡
黄色の２−（４−ヨードフェニル）−６−メトキシベン
ゾオキサゾール＜１＞が１７．３ｇ（８５％）得られ
た。トリフェニルアミン−４，４′，４″−ボロン酸
（４，４′，４″−トリブロモトリフェニルアミンをブ
チルリチウムでリチオ化しボロン酸トリイソプロピルを
反応させるさとにより合成）２．３ｇ（６．０mmol）と
＜１＞、７．０ｇ（２０．０mmol）をフラスコに取り、
その中にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
０．１ｇ（０．０８７mmol）を入れ、更に２Ｍの炭酸ナ
トリウム水溶液１１．５ml（２３mmol）、トルエン８０
mlとＤＭＦ３０mlを加え窒素気流下加熱還流した。約２
０時間後反応液を室温に戻し、水を加えると結晶が析出
したので濾過し、メタノールで洗浄した。得られた粗結
晶物をシリカゲルクロマトグラフィで精製すると例示化
合物(15)を３．３ｇ（６１％）得ることができた。融点
２７０〜２７３℃。
【００３５】実施例５（例示化合物(18)の合成 実施例４と同様にして５−ブロモチオフェン−２−カル
ボン酸と２−アミノ−４−メチル−５−メトキシフェノ
ール塩酸塩から２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−５−メチル−６−メトキシベンゾオキサゾールを
合成し、それとトリフェニルアミン−４，４′，４″−
ボロン酸をパラジウム触媒を用いてカップリングするこ
とにより、例示化合物(18)を収率５５％で合成すること
ができた。融点２５１〜２５４℃。
ボン酸と２−アミノ−４−メチル−５−メトキシフェノ
ール塩酸塩から２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−５−メチル−６−メトキシベンゾオキサゾールを
合成し、それとトリフェニルアミン−４，４′，４″−
ボロン酸をパラジウム触媒を用いてカップリングするこ
とにより、例示化合物(18)を収率５５％で合成すること
ができた。融点２５１〜２５４℃。
【００３６】
【発明の効果】本発明のトリスベンゾアゾール化合物は
真空蒸着性に優れ、有機エレクトロミネッセンス素子に
おいて素子安定性と輝度特性に優れた電子輸送剤として
機能した。本発明のトリスベンゾアゾール化合物が見出
されたことにより有機エレクトロルミネッセンス素子の
設計が容易になった。
真空蒸着性に優れ、有機エレクトロミネッセンス素子に
おいて素子安定性と輝度特性に優れた電子輸送剤として
機能した。本発明のトリスベンゾアゾール化合物が見出
されたことにより有機エレクトロルミネッセンス素子の
設計が容易になった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年１０月１６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１９】
【化５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 417/14 ３３３ Ｃ０７Ｄ 417/14 ３３３
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表わされるトリスベンゾ
アゾール化合物。 【化１】 式中、（Ｙ）は１，３，５−ベンゼントリイル基又は窒
素原子を表わす。Ar1〜Ar3 はフェニレン基又はチオフ
ェンジイル基を表わす。Ｒ1 〜Ｒ12は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基、ジアルキルアミノ基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、
又はシリル基を表わす。ｌ、ｍ、およびｎは（Ｙ）が
１，３，５−ベンゼントリイル基の場合は０以上の整数
を、（Ｙ）が窒素原子の場合は１以上の整数を表わす。
（Ｙ）が１，３，５−ベンゼントリイル基でｌ、ｍ、お
よびｎが０の時、また（Ｙ）が１，３，５−ベンゼント
リイル基で、Ar1 〜Ar3 がフェニレン基であり、かつ
ｌ、ｍ、およびｎが１の時はＲ1 〜Ｒ12の少なくとも１
つはアルコキシ基、アリールオキシ基、ジアルキルアミ
ノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基又はジアリ
ールアミノ基である。Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 は酸素原
子、イオウ原子又は一置換窒素原子を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8475898A JPH11279165A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | トリスベンゾアゾール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8475898A JPH11279165A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | トリスベンゾアゾール化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11279165A true JPH11279165A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=13839595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8475898A Pending JPH11279165A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | トリスベンゾアゾール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11279165A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004149514A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-05-27 | Hc Starck Gmbh | コアシェル構造を有する有機化合物、その製造方法、その使用およびその化合物を含む電子部品 |
| WO2006016724A2 (en) * | 2004-08-12 | 2006-02-16 | Fujifilm Corporation | Liquid-crystalline compounds, compositions and thin films |
| JP2006273781A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化合物、液晶組成物、薄膜、位相差板および光学補償シート |
| JP2009019207A (ja) * | 2001-06-22 | 2009-01-29 | Cambridge Display Technol Ltd | 置換されたトリフェニルアミン繰返し単位を含有するポリマー |
| US7763181B2 (en) | 2005-09-07 | 2010-07-27 | Fujifilm Corporation | Optical compensation film, method of producing the same, and polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
| US7989037B2 (en) | 2006-10-06 | 2011-08-02 | Fujifilm Corporation | Composition, retardation plate, and liquid-crystal display device |
| US8025933B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-09-27 | Fujifilm Corporation | Retardation plate, elliptically polarizing plate and liquid crystal display |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP8475898A patent/JPH11279165A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009019207A (ja) * | 2001-06-22 | 2009-01-29 | Cambridge Display Technol Ltd | 置換されたトリフェニルアミン繰返し単位を含有するポリマー |
| JP2004149514A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-05-27 | Hc Starck Gmbh | コアシェル構造を有する有機化合物、その製造方法、その使用およびその化合物を含む電子部品 |
| WO2006016724A2 (en) * | 2004-08-12 | 2006-02-16 | Fujifilm Corporation | Liquid-crystalline compounds, compositions and thin films |
| WO2006016724A3 (en) * | 2004-08-12 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid-crystalline compounds, compositions and thin films |
| US7696353B2 (en) | 2004-08-12 | 2010-04-13 | Fujifilm Corporation | Compound, composition and thin film |
| US8304554B2 (en) | 2004-08-12 | 2012-11-06 | Fujifilm Corporation | Compound, composition and thin film |
| US8025933B2 (en) | 2004-09-27 | 2011-09-27 | Fujifilm Corporation | Retardation plate, elliptically polarizing plate and liquid crystal display |
| JP2006273781A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化合物、液晶組成物、薄膜、位相差板および光学補償シート |
| JP4628158B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、液晶組成物、薄膜、位相差板および光学補償シート |
| US7763181B2 (en) | 2005-09-07 | 2010-07-27 | Fujifilm Corporation | Optical compensation film, method of producing the same, and polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
| US7989037B2 (en) | 2006-10-06 | 2011-08-02 | Fujifilm Corporation | Composition, retardation plate, and liquid-crystal display device |
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