JPH11276962A - ぺースト塗布装置 - Google Patents
ぺースト塗布装置Info
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- JPH11276962A JPH11276962A JP8137298A JP8137298A JPH11276962A JP H11276962 A JPH11276962 A JP H11276962A JP 8137298 A JP8137298 A JP 8137298A JP 8137298 A JP8137298 A JP 8137298A JP H11276962 A JPH11276962 A JP H11276962A
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- laser
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザ変位計の測定精度と分解能を向上させる
ために、測長距離を短くすることができるペースト塗布
装置を提供すること。 【解決手段】レーザ変位計２１は、本体２１ａと、この
本体２１ａに設けられ、その出射角がワークＷ平面に対
して所定の角度θを有して出射する出射部２１ｃと、本
体２１ａに設けられるとともに、出射部２１ｃに対して
ノズル２２ａを挟んだ位置に配置され、ワークＷの平面
からの反射レーザ光Ｋを入射する入射部２１ｄと、出射
部２１ｃから出射したレーザ光ＫをワークＷ側へ反射さ
せるとともに、ワークＷで反射した反射レーザ光Ｋを入
射部２１ｄへ反射させる反射鏡２１ｅとを備えるように
した。
ために、測長距離を短くすることができるペースト塗布
装置を提供すること。 【解決手段】レーザ変位計２１は、本体２１ａと、この
本体２１ａに設けられ、その出射角がワークＷ平面に対
して所定の角度θを有して出射する出射部２１ｃと、本
体２１ａに設けられるとともに、出射部２１ｃに対して
ノズル２２ａを挟んだ位置に配置され、ワークＷの平面
からの反射レーザ光Ｋを入射する入射部２１ｄと、出射
部２１ｃから出射したレーザ光ＫをワークＷ側へ反射さ
せるとともに、ワークＷで反射した反射レーザ光Ｋを入
射部２１ｄへ反射させる反射鏡２１ｅとを備えるように
した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスペンサを用
いてペースト状の液体をワークに塗布するペースト塗布
装置に関するものである。
いてペースト状の液体をワークに塗布するペースト塗布
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は、一般的なペースト塗布装置１０
を示す図である。すなわち、ペースト塗布装置１０は、
ワークＷを載置するＸＹテーブル１１と、架台１２と、
この架台１２にＺ軸アクチュエータ１３を介して取り付
けられ、ペーストＰを吐出するディスペンサ１４と、こ
のディスペンサ１４の近傍に取り付けられたレーザ変位
計１５と、制御器（不図示）等から構成される。
を示す図である。すなわち、ペースト塗布装置１０は、
ワークＷを載置するＸＹテーブル１１と、架台１２と、
この架台１２にＺ軸アクチュエータ１３を介して取り付
けられ、ペーストＰを吐出するディスペンサ１４と、こ
のディスペンサ１４の近傍に取り付けられたレーザ変位
計１５と、制御器（不図示）等から構成される。
【０００３】このようなペースト塗布装置１０では、Ｘ
Ｙテーブル１１上に被加工物であるワークＷを載せて、
ＸＹテーブル１１を所定方向に動かす。これと同時にデ
ィスペンサ１４からペースト材Ｐを吐出することで、ワ
ークＷにペースト材Ｐを線引き塗布する。
Ｙテーブル１１上に被加工物であるワークＷを載せて、
ＸＹテーブル１１を所定方向に動かす。これと同時にデ
ィスペンサ１４からペースト材Ｐを吐出することで、ワ
ークＷにペースト材Ｐを線引き塗布する。
【０００４】一方、ワークＷやＸＹテーブル１１は多少
反っていたり、凹凸を持っていたりするため、単純にＸ
Ｙステージ１１を動かしただけでは、ディスペンサ１４
のノズル先端とワークＷのギャップが一定値にならず、
線引後の塗布幅や塗布高さが増減したり、塗布かすれが
発生したりする。
反っていたり、凹凸を持っていたりするため、単純にＸ
Ｙステージ１１を動かしただけでは、ディスペンサ１４
のノズル先端とワークＷのギャップが一定値にならず、
線引後の塗布幅や塗布高さが増減したり、塗布かすれが
発生したりする。
【０００５】このため、ペースト材Ｐの塗布精度が要求
される場合には、ディスペンサ１４のノズル先端とワー
クＷの間のギャップを一定値に保持しなければならな
い。この手段として、レーザ変位計１５を用い、ディス
ペンサ１４のノズル先端とワークＷとの距離をリアルタ
イムで計測しながら、この距離に基づいてＺ軸アクチュ
エータ１３を動作させ、ディスペンサ１４のノズル先端
とワークＷとのギャップを一定に保つようにしている。
される場合には、ディスペンサ１４のノズル先端とワー
クＷの間のギャップを一定値に保持しなければならな
い。この手段として、レーザ変位計１５を用い、ディス
ペンサ１４のノズル先端とワークＷとの距離をリアルタ
イムで計測しながら、この距離に基づいてＺ軸アクチュ
エータ１３を動作させ、ディスペンサ１４のノズル先端
とワークＷとのギャップを一定に保つようにしている。
【０００６】レーザ変位計１５の一般的な原理を図４に
示す。レーザ変位計１５は、発光素子１５ａ、受光素子
１５ｂ、光学系１５ｃ等から構成される。発光素子１５
ａから発光されるレーザ光ＫはワークＷ表面で反射す
る。この反射光を光学系１５ｃで集光し受光素子１５ｂ
で検出する。受光素子１５ｂは光量と集光されたレーザ
光Ｋの位置（図中Ｍ）を測定する。距離Ｌが変化すると
受光素子１５ｃ上の寸法Ｍが変化するため、寸法Ｍを測
定することにより、距離Ｌが算出される。
示す。レーザ変位計１５は、発光素子１５ａ、受光素子
１５ｂ、光学系１５ｃ等から構成される。発光素子１５
ａから発光されるレーザ光ＫはワークＷ表面で反射す
る。この反射光を光学系１５ｃで集光し受光素子１５ｂ
で検出する。受光素子１５ｂは光量と集光されたレーザ
光Ｋの位置（図中Ｍ）を測定する。距離Ｌが変化すると
受光素子１５ｃ上の寸法Ｍが変化するため、寸法Ｍを測
定することにより、距離Ｌが算出される。
【０００７】一方、レーザ変位計１５の測定ポイントと
ノズル先端の位置はできる限り、近づける必要がある。
このため、図５及び図６に示すような装置が考えられて
いる。
ノズル先端の位置はできる限り、近づける必要がある。
このため、図５及び図６に示すような装置が考えられて
いる。
【０００８】図５の装置の特徴は、鉤形状のノズル１６
を用いていることである。鉤形状のノズル１６を用いる
ことでレーザ変位計１５の下にノズル１６をもぐりこま
せることができ、レーザ変位計１５の測定ポイントとノ
ズル１６の位置を近づけることができる。なお、図５の
（ｂ）中矢印ＶはワークＷの移動方向を示している。
を用いていることである。鉤形状のノズル１６を用いる
ことでレーザ変位計１５の下にノズル１６をもぐりこま
せることができ、レーザ変位計１５の測定ポイントとノ
ズル１６の位置を近づけることができる。なお、図５の
（ｂ）中矢印ＶはワークＷの移動方向を示している。
【０００９】一方、図６の装置の特徴は、切り欠きを持
った反射鏡１７を使用することである。反射鏡１７によ
って、レーザ光Ｋを直角に曲げ、測長距離であるＬ２＋
Ｌ３寸法を測定する。反射鏡１７には切り欠き１７ａが
設けられているので、直線状に形成されたノズル１８と
の干渉を避けることができる。反射鏡１７を用いること
で、レーザ変位計の測定ポイントとノズル１８の先端の
位置とを近づけている。なお、図６の（ｂ）中矢印Ｖは
ワークＷの移動方向を示している。
った反射鏡１７を使用することである。反射鏡１７によ
って、レーザ光Ｋを直角に曲げ、測長距離であるＬ２＋
Ｌ３寸法を測定する。反射鏡１７には切り欠き１７ａが
設けられているので、直線状に形成されたノズル１８と
の干渉を避けることができる。反射鏡１７を用いること
で、レーザ変位計の測定ポイントとノズル１８の先端の
位置とを近づけている。なお、図６の（ｂ）中矢印Ｖは
ワークＷの移動方向を示している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たペースト塗布装置にあっては、次のような問題があっ
た。すなわち、図５に示す装置では、ノズル１６内の流
路長が長くなることと、ノズル１６内の清掃が困難なこ
とである。ペースト材Ｐは一般に粘度が非常に高いた
め、ノズル１６内を流動するとき圧力損失が発生する。
この圧力損失は、ノズル１６内の流路長が長いほど、大
きくなる。
たペースト塗布装置にあっては、次のような問題があっ
た。すなわち、図５に示す装置では、ノズル１６内の流
路長が長くなることと、ノズル１６内の清掃が困難なこ
とである。ペースト材Ｐは一般に粘度が非常に高いた
め、ノズル１６内を流動するとき圧力損失が発生する。
この圧力損失は、ノズル１６内の流路長が長いほど、大
きくなる。
【００１１】この装置の場合、ノズル１６が鉤形である
ため流路長が長くなり、圧力損失が大きくなる。この結
果、ペースト材Ｐの吐出に過大な圧力が必要となる。ま
た、ペースト材Ｐの粘度が高い場合、吐出できなくな
る。
ため流路長が長くなり、圧力損失が大きくなる。この結
果、ペースト材Ｐの吐出に過大な圧力が必要となる。ま
た、ペースト材Ｐの粘度が高い場合、吐出できなくな
る。
【００１２】また、ペースト材Ｐは一般的に接着剤であ
ることが多く、装置の使用後接着剤が硬化して、ノズル
１６が詰ってしまう。これを避けるために、使用後、早
急にノズル１６内の接着剤を除去しなければならない
が、ノズル１６が鉤形であるため、直角に曲っていると
ころの接着剤を除去することは容易ではない。
ることが多く、装置の使用後接着剤が硬化して、ノズル
１６が詰ってしまう。これを避けるために、使用後、早
急にノズル１６内の接着剤を除去しなければならない
が、ノズル１６が鉤形であるため、直角に曲っていると
ころの接着剤を除去することは容易ではない。
【００１３】一方、図６に示す装置では、この方法は、
ノズル１８がまっすぐになるため、ノズル１８内の洗浄
が容易になる利点を持っている。しかし、反射鏡１７を
用いているため、測長距離Ｌ２＋Ｌ３が長くなる欠点を
持っている。この方法で測長距離を縮めようとしても、
レーザ光Ｋを直角に曲げているため、Ｌ３はＢ／２（Ｂ
はレーザ変位計の幅）より短くできない。
ノズル１８がまっすぐになるため、ノズル１８内の洗浄
が容易になる利点を持っている。しかし、反射鏡１７を
用いているため、測長距離Ｌ２＋Ｌ３が長くなる欠点を
持っている。この方法で測長距離を縮めようとしても、
レーザ光Ｋを直角に曲げているため、Ｌ３はＢ／２（Ｂ
はレーザ変位計の幅）より短くできない。
【００１４】そして、Ｌ２は部品の取付けなどの制約に
より零にはできず、この結果、測長距離Ｌ２＋Ｌ４はＢ
／２よりはるかに大きな寸法になる。一方、レーザ変位
計１５の測定精度や分解能は、一般に、測長距離が長く
なると、測定精度と分解能が低下する傾向がある。よっ
て、この方式では、測長距離が長いため、レーザ変位計
の測定精度と分解能が低下し、この結果、ギャッブが一
定値に保持できない欠点がある。
より零にはできず、この結果、測長距離Ｌ２＋Ｌ４はＢ
／２よりはるかに大きな寸法になる。一方、レーザ変位
計１５の測定精度や分解能は、一般に、測長距離が長く
なると、測定精度と分解能が低下する傾向がある。よっ
て、この方式では、測長距離が長いため、レーザ変位計
の測定精度と分解能が低下し、この結果、ギャッブが一
定値に保持できない欠点がある。
【００１５】そこで本発明は、ノズル先端とレーザ変位
計の測定ボイントを近づけた状態で、ノズル清掃を容易
にするために、まっすぐなノズルを備え、かつ、レーザ
変位計の測定精度と分解能を向上させるために、測長距
離を短くすることができるペースト塗布装置を提供する
ことを目的としている。
計の測定ボイントを近づけた状態で、ノズル清掃を容易
にするために、まっすぐなノズルを備え、かつ、レーザ
変位計の測定精度と分解能を向上させるために、測長距
離を短くすることができるペースト塗布装置を提供する
ことを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決し目的を
達成するために、請求項１に記載された発明は、平面を
有するワークにペースト材を塗布するペースト塗布装置
において、前記ペースト材を吐出するディスペンサと、
このディスペンサ近傍に設けられ前記ディスペンサと前
記ワークとの距離を測定するレーザ変位計と、このレー
ザ変位計により測定された前記距離に基づいて前記ディ
スペンサの高さ位置を制御する制御部とを備え、前記レ
ーザ変位計は、本体と、この本体に設けられ、前記平面
に対して所定の角度でレーザ光が照射されるようにレー
ザ光を出射する出射部と、前記本体に設けられるととも
に、前記出射部に対して前記ディスペンサを挟んだ位置
に配置され、前記ワークの平面からの反射レーザ光を入
射する入射部と、前記出射部から出射した前記レーザ光
を前記ワーク側へ反射させるとともに、前記ワークで反
射した前記反射レーザ光を前記入射部へ反射させる反射
鏡とを備えるようにした。
達成するために、請求項１に記載された発明は、平面を
有するワークにペースト材を塗布するペースト塗布装置
において、前記ペースト材を吐出するディスペンサと、
このディスペンサ近傍に設けられ前記ディスペンサと前
記ワークとの距離を測定するレーザ変位計と、このレー
ザ変位計により測定された前記距離に基づいて前記ディ
スペンサの高さ位置を制御する制御部とを備え、前記レ
ーザ変位計は、本体と、この本体に設けられ、前記平面
に対して所定の角度でレーザ光が照射されるようにレー
ザ光を出射する出射部と、前記本体に設けられるととも
に、前記出射部に対して前記ディスペンサを挟んだ位置
に配置され、前記ワークの平面からの反射レーザ光を入
射する入射部と、前記出射部から出射した前記レーザ光
を前記ワーク側へ反射させるとともに、前記ワークで反
射した前記反射レーザ光を前記入射部へ反射させる反射
鏡とを備えるようにした。
【００１７】請求項２に記載された発明は、請求項１に
記載された発明において、前記所定の角度は、所定の角
度をθ、レーザ変位計の測長距離をＬ、レーザ変位計の
幅をＢ、ノズル径をｄ、レーザ変位計のレーザ出射側端
部に形成された切欠部の切欠深さをＣとしたときに、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） を共に満足するようにした。
記載された発明において、前記所定の角度は、所定の角
度をθ、レーザ変位計の測長距離をＬ、レーザ変位計の
幅をＢ、ノズル径をｄ、レーザ変位計のレーザ出射側端
部に形成された切欠部の切欠深さをＣとしたときに、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） を共に満足するようにした。
【００１８】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。すなわち、請求項１に記載された発明では、レ
ーザ変位計の測長距離を短くすることができ、レーザ変
位計の測定精度と分解能を向上できる。そして、清掃が
容易な、まっすぐなノズルを用いることができ、かつ、
レーザ変位計の測定ポイントとノズルの先端をほぼ同じ
位置にすることができ、塗布幅や塗布高さのばらつきが
ない精度の高いペースト材塗布を実現することができ
る。
生じる。すなわち、請求項１に記載された発明では、レ
ーザ変位計の測長距離を短くすることができ、レーザ変
位計の測定精度と分解能を向上できる。そして、清掃が
容易な、まっすぐなノズルを用いることができ、かつ、
レーザ変位計の測定ポイントとノズルの先端をほぼ同じ
位置にすることができ、塗布幅や塗布高さのばらつきが
ない精度の高いペースト材塗布を実現することができ
る。
【００１９】請求項２に記載された発明では、所定の角
度は、所定の角度をθ、レーザ変位計の測長距離をＬ、
レーザ変位計の幅をＢ、ノズル径をｄ、レーザ変位計の
レーザ出射側端部に形成された切欠部の切欠深さをＣと
したときに、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） を共に満足することで、測長距離をＢ／２より短くする
ことができる。
度は、所定の角度をθ、レーザ変位計の測長距離をＬ、
レーザ変位計の幅をＢ、ノズル径をｄ、レーザ変位計の
レーザ出射側端部に形成された切欠部の切欠深さをＣと
したときに、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） を共に満足することで、測長距離をＢ／２より短くする
ことができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施の形態に係
るペースト塗布装置２０の要部を示す図であり、（ａ）
は正面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は（ａ）における矢
印α方向に見た矢視図。なお、この図において図４〜図
６と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明
は省略する。
るペースト塗布装置２０の要部を示す図であり、（ａ）
は正面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は（ａ）における矢
印α方向に見た矢視図。なお、この図において図４〜図
６と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明
は省略する。
【００２１】図１中２１はレーザ変位計を示している。
レーザ変位計２１は、水平面に対して所定の角度θで設
置され幅Ｂの本体２１ａと、この本体２１ａに設けられ
た深さＣの切欠部２１ｂと、切欠部２１ｂの内面側に設
けられた出射部２１ｃ及び入射部２１ｄと、本体２１ａ
からＬ２だけ離れ、かつ、ワークＷからＬ３だけ離れた
位置に設けられ水平面に対して所定の角度傾けて取り付
けられた反射鏡２１ｅとを備えている。また、図１中２
２は、ペースト材Ｐを吐出するディスペンサを示してい
る。ディスペンサ２２はノズル２２ａを備えており、そ
の外径はｄである。なお、図１の（ｂ）中矢印Ｖはワー
クＷの移動方向を示している。
レーザ変位計２１は、水平面に対して所定の角度θで設
置され幅Ｂの本体２１ａと、この本体２１ａに設けられ
た深さＣの切欠部２１ｂと、切欠部２１ｂの内面側に設
けられた出射部２１ｃ及び入射部２１ｄと、本体２１ａ
からＬ２だけ離れ、かつ、ワークＷからＬ３だけ離れた
位置に設けられ水平面に対して所定の角度傾けて取り付
けられた反射鏡２１ｅとを備えている。また、図１中２
２は、ペースト材Ｐを吐出するディスペンサを示してい
る。ディスペンサ２２はノズル２２ａを備えており、そ
の外径はｄである。なお、図１の（ｂ）中矢印Ｖはワー
クＷの移動方向を示している。
【００２２】測長距離Ｌは上述したことから、Ｌ２＋Ｌ
３となる。また、レーザ変位計２１の本体２１ａとワー
クＷとの距離をＬ４とする。ノズル２２ａはレーザ変位
計２１の深さＣの切欠部２１ｂに入るような状態で設置
される。これにより、レーザ変位計２１の本体２１ａと
ノズル２２ａとの機械的な干渉問題は解決する。一方、
角度θは測長距離ＬがＢ／２よりも短くなるという条件
を満たすために、次の（１）式及び（２）式を共に満足
するように決定される。すなわち、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） ここで、具体例を示す。レーザ変位計２１の測長距離Ｌ
を１０ｍｍ、レーザ変位計２１の本体２１ａの幅Ｂを２
５．５ｍｍ、ノズル径ｄを５．５ｍｍ、切欠寸法Ｃを１
７．５ｍｍとすると、式（１）及び（２）より角度θの
条件は、 ４６．６３°＜θ＜５９．９３° …（３） この例では、測長距離Ｌ＝Ｌ２＋Ｌ３が１０ｍｍとな
り、Ｂ／２＝１２．２５ｍｍより短い距離を実現してい
る。角度θとＬ２、Ｌ３、Ｌ４の関係を図２に示す。
３となる。また、レーザ変位計２１の本体２１ａとワー
クＷとの距離をＬ４とする。ノズル２２ａはレーザ変位
計２１の深さＣの切欠部２１ｂに入るような状態で設置
される。これにより、レーザ変位計２１の本体２１ａと
ノズル２２ａとの機械的な干渉問題は解決する。一方、
角度θは測長距離ＬがＢ／２よりも短くなるという条件
を満たすために、次の（１）式及び（２）式を共に満足
するように決定される。すなわち、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） ここで、具体例を示す。レーザ変位計２１の測長距離Ｌ
を１０ｍｍ、レーザ変位計２１の本体２１ａの幅Ｂを２
５．５ｍｍ、ノズル径ｄを５．５ｍｍ、切欠寸法Ｃを１
７．５ｍｍとすると、式（１）及び（２）より角度θの
条件は、 ４６．６３°＜θ＜５９．９３° …（３） この例では、測長距離Ｌ＝Ｌ２＋Ｌ３が１０ｍｍとな
り、Ｂ／２＝１２．２５ｍｍより短い距離を実現してい
る。角度θとＬ２、Ｌ３、Ｌ４の関係を図２に示す。
【００２３】このように構成されたペースト塗布装置２
０では、レーザ変位計２１により求められた測定結果に
基づいてＺ軸アクチュエータ１３を駆動することで、デ
ィスペンサ２２を上下方向に動かし、ノズル２２ａとワ
ークＷとの距離を一定に保つようにしている。
０では、レーザ変位計２１により求められた測定結果に
基づいてＺ軸アクチュエータ１３を駆動することで、デ
ィスペンサ２２を上下方向に動かし、ノズル２２ａとワ
ークＷとの距離を一定に保つようにしている。
【００２４】このとき、レーザ変位計２１の測長距離Ｌ
＝Ｌ２＋Ｌ３をＢ／２より短くすることができ、レーザ
変位計２１の測定精度と分解能を向上できる。また、レ
ーザ変位計２１の本体２１ａには切欠部２１ｂが設けら
れているため、本体２１ａとノズル２２ａが近接してい
てもノズル２２ａを曲げる必要がなく、清掃が容易とな
る。また、レーザ変位計２１の測定ポイントとノズル２
２ａの先端をほぽ同じ位置にすることができる。この結
果、高い精度でノズル２２ａとワークＷのギャッブを保
持することができ、精度の高いペースト材Ｐの塗布を実
現することができる。
＝Ｌ２＋Ｌ３をＢ／２より短くすることができ、レーザ
変位計２１の測定精度と分解能を向上できる。また、レ
ーザ変位計２１の本体２１ａには切欠部２１ｂが設けら
れているため、本体２１ａとノズル２２ａが近接してい
てもノズル２２ａを曲げる必要がなく、清掃が容易とな
る。また、レーザ変位計２１の測定ポイントとノズル２
２ａの先端をほぽ同じ位置にすることができる。この結
果、高い精度でノズル２２ａとワークＷのギャッブを保
持することができ、精度の高いペースト材Ｐの塗布を実
現することができる。
【００２５】上述したように本実施の形態に係るペース
ト塗布装置２０によれば、レーザ変位計２１の測長距離
Ｌ＝Ｌ２＋Ｌ３をＢ／２より短くすることができ、レー
ザ変位計２１の測定精度と分解能を向上できる。そし
て、清掃が容易な、まっすぐなノズル２２ａを用いるこ
とができ、かつ、レーザ変位計２１の測定ポイントとノ
ズル２２ａの先端をほぼ同じ位置にすることができ、塗
布幅や塗布高さのばらつきがない精度の高いペースト材
塗布を実現することができる。なお、本発明は実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形実施可能であるのは勿論である。
ト塗布装置２０によれば、レーザ変位計２１の測長距離
Ｌ＝Ｌ２＋Ｌ３をＢ／２より短くすることができ、レー
ザ変位計２１の測定精度と分解能を向上できる。そし
て、清掃が容易な、まっすぐなノズル２２ａを用いるこ
とができ、かつ、レーザ変位計２１の測定ポイントとノ
ズル２２ａの先端をほぼ同じ位置にすることができ、塗
布幅や塗布高さのばらつきがない精度の高いペースト材
塗布を実現することができる。なお、本発明は実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々変形実施可能であるのは勿論である。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、レーザ変位計の測長距
離を短くすることができ、レーザ変位計の測定精度と分
解能を向上できる。そして、清掃が容易な、まっすぐな
ノズルを用いることができ、かつ、レーザ変位計の測定
ポイントとノズルの先端をほぼ同じ位置にすることがで
き、塗布幅や塗布高さのばらつきがない精度の高いペー
スト材塗布を実現することができる。
離を短くすることができ、レーザ変位計の測定精度と分
解能を向上できる。そして、清掃が容易な、まっすぐな
ノズルを用いることができ、かつ、レーザ変位計の測定
ポイントとノズルの先端をほぼ同じ位置にすることがで
き、塗布幅や塗布高さのばらつきがない精度の高いペー
スト材塗布を実現することができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示すペースト塗布装置
の要部を示す図。
の要部を示す図。
【図２】同ペースト塗布装置における各寸法の関係を示
す図。
す図。
【図３】一般的なペースト塗布装置の概要を示す斜視
図。
図。
【図４】レーザ変位計の原理を示す説明図。
【図５】従来のペースト塗布装置の要部の一例を示す
図。
図。
【図６】従来のペースト塗布装置の要部の別の例を示す
図。
図。
２０…ペースト塗布装置 ２１ａ…本体 ２１ｂ…切欠部 ２１ｃ…出射部 ２１ｄ…入射部 ２１ｅ…反射鏡 ２２…ディスペンサ ２２ａ…ノズル
Claims (2)
- 【請求項１】平面を有するワークにペースト材を塗布す
るペースト塗布装置において、 前記ペースト材を吐出するディスペンサと、 このディスペンサ近傍に設けられ前記ディスペンサと前
記ワークとの距離を測定するレーザ変位計と、 このレーザ変位計により測定された前記距離に基づいて
前記ディスペンサの高さ位置を制御する制御部とを備
え、 前記レーザ変位計は、本体と、 この本体に設けられ、前記平面に対して所定の角度でレ
ーザ光が出射されるようにレーザ光を出射する出射部
と、 前記本体に設けられるとともに、前記出射部に対して前
記ディスペンサを挟んだ位置に配置され、前記ワークの
平面からの反射レーザ光を入射する入射部と、 前記出射部から出射した前記レーザ光を前記ワーク側へ
反射させるとともに、前記ワークで反射した前記反射レ
ーザ光を前記入射部へ反射させる反射鏡とを備えている
ことを特徴とするペースト塗布装置。 - 【請求項２】前記所定の角度は、所定の角度をθ、レー
ザ変位計の測長距離をＬ、レーザ変位計の幅をＢ、ノズ
ル径をｄ、レーザ変位計のレーザ出射側端部に形成され
た切欠部の切欠深さをＣとしたときに、 （Ｂ／２ｄ）ｔａｎθ−Ｃ＋ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（１） Ｌ−Ｂ／２ｔａｎθ＋Ｃ−ｄ／（２ｃｏｓθ）＞０ …（２） を共に満足することを特徴とする請求項１に記載のペー
スト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8137298A JPH11276962A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ぺースト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8137298A JPH11276962A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ぺースト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11276962A true JPH11276962A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=13744485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8137298A Pending JPH11276962A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ぺースト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11276962A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006170724A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Omron Corp | 光学式変位センサのセンサヘッド |
| JP2008122398A (ja) * | 2004-05-12 | 2008-05-29 | Top Engineering Co Ltd | ディスペンサ用レーザー変位センサー |
| JP2009085971A (ja) * | 2009-01-26 | 2009-04-23 | Omron Corp | 光学式変位センサのセンサヘッド |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP8137298A patent/JPH11276962A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008122398A (ja) * | 2004-05-12 | 2008-05-29 | Top Engineering Co Ltd | ディスペンサ用レーザー変位センサー |
| JP2006170724A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Omron Corp | 光学式変位センサのセンサヘッド |
| JP2009085971A (ja) * | 2009-01-26 | 2009-04-23 | Omron Corp | 光学式変位センサのセンサヘッド |
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