JPH11273841A - セラミックヒータ及びその製造方法 - Google Patents

セラミックヒータ及びその製造方法

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JPH11273841A
JPH11273841A JP7450398A JP7450398A JPH11273841A JP H11273841 A JPH11273841 A JP H11273841A JP 7450398 A JP7450398 A JP 7450398A JP 7450398 A JP7450398 A JP 7450398A JP H11273841 A JPH11273841 A JP H11273841A
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green sheet
heater
ceramic
hole
pattern
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Yoshiro Suematsu
義朗 末松
Yoshiro Noda
芳朗 野田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄いグリーンシートからシートを剥す際に脱
落や破損を生じることなく、且つ端子部にろう材を付着
させる場合に欠陥を生じることのないセラミックヒータ
及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】 第2グリーンシート24の表面のスルー
ホール9a,9bに対応する位置に、タングステンペー
ストを使用して、スクリーン印刷を行ない、補助パター
ン30a,30bを形成した。この補助パターン30
a,30bは、スルーホール9a,9bの開口部より大
きく、厚さ15μmである。次に、第1グリーンシート
23のヒータパターン25が印刷された一方の面23a
側に、ヒータパターン25を覆うように、第2グリーン
シート24を圧着し、積層体41を形成した。これによ
り、スルーホール9a,9bの開口部は、補助パターン
30a,30bにより覆われて塞がれる。その後、第2
グリーンシート24の裏面に貼り付いていた搬送シート
32を剥した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば自動車用酸
素センサ、グローシステム、半導体加熱用、石油ファン
ヒータ等に使用されるセラミックヒータの製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば酸素センサには、その
検出素子の加熱のために、平板状や円筒状のセラミック
ヒータが使用されている。例えば円筒状のセラミックヒ
ータは、例えばアルミナからなる円筒状のセラミック基
材(セラミック碍管)の表面に、ヒータパターンが形成
されたグリーンシートが巻きつけられて、一体焼成され
たものである。
【0003】この種のセラミックヒータは、通常、下記
〜の手順にて製造される(特開平1−225087
号公報及び特開平4−329291号公報参照)。 まず、ドクターブレード法により、例えばアルミナを
主成分とするスラリーを原料として、搬送シート上に帯
状のグリーンシートを連続して形成する。
【0004】次に、このグリーンシートを所定寸法に
カットした後に、グリーンシートの一方の面に、例えば
タングステン等の高融点金属を有する金属ペーストを用
いて、ペースト印刷法により、ヒータパターンを厚膜印
刷する。尚、カットの際に、スルーホールも形成する。
【0005】次に、グリーンシートの他方の面に、同
様に金属ペーストを用いて端子パターンを厚膜印刷す
る。尚、前記両厚膜印刷の際に、スルーホールの内周壁
にも、金属ペーストが付着する。 次に、前記グリーンシート(第1グリーンシート)の
ヒータパターンを覆って、他の薄いグリーンシート(第
2グリーンシート)を圧着して積層体とするとともに、
この積層体を、セラミック基材の表面に積層し、一体焼
成する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した方
法でセラミックヒータを製造する場合には、下記の問題
が生じることがあった。 a)例えば、円筒状のセラミック基材の表面に、グリー
ンシートの積層体を巻き付ける場合には、その厚みが薄
い方が、容易に且つしっかりと巻き付けることができ
る。しかし、両パターンやスルーホールが形成される第
1グリーンシートはそれほど薄くできないので、ヒータ
パターンを覆う第2グリーンシートをできる限り薄くす
ることが考えられるが、その厚みを100μm以下とす
る場合には、グリーンシート単体では破れ易いために、
搬送シートに貼り付けた状態で扱うことになる。
【0007】ところで、図6(a)に示す様に、第1,
第2グリーンシートP1,P2を圧着した後に、第2グ
リーンシートP2の搬送シートP3を剥すが、第2グリ
ーンシートP2が非常に薄い場合には、スルーホールP
4と向き合う位置の第2グリーンシートP2の一部P
2’が、搬送シートP3上に残ってしまい、第2グリー
ンシートP2に孔P5があく(脱落)という問題があっ
た。更に、第2グリーンシートP2が、スルーホールP
4の近傍から破れることがあった。
【0008】b)また、うまく搬送シートを剥せた場合
には、その後、グリーンシートの積層体をセラミック基
材に巻き付けて焼成することにより、図6(b)に示す
様に、(第1,第2グリーンシートから)第1,第2セ
ラミック層Q1,Q2、(端子パターンから)端子部Q
3、(スルーホールQ4の内周面に付着した金属ペース
トから)メタライズ部Q5等が形成されるが、端子部Q
3におけるろう付け性を向上させるために、端子部Q3
の表面及びスルーホールQ4の内部にニッケルメッキを
施す。
【0009】しかし、スルーホールQ4の底部Q6は、
第2セラミック層Q2が露出しているので、その底部Q
6には、うまくメッキ層Q7が形成されないために、そ
の後、端子部Q3にろう材Q8を付ける場合に、スルー
ホールQ4内に空洞(欠陥)Q9ができることがあっ
た。この欠陥Q9ができると、その後、ろう材Q8の表
面にニッケルメッキした後にアニール処理する際に、ク
ラック等の破損が発生することがあった。
【0010】本発明は、上記の問題点を鑑みてなされた
ものであり、薄いグリーンシートからシートを剥す際に
脱落や破損を生じることなく、且つ端子部にろう材を付
着させる場合に欠陥を生じることのないセラミックヒー
タ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】(1)前記目的を達成す
るための請求項1の発明は、第1グリーンシートの一方
の面に、ヒータパターンを形成するとともに、他方の面
に、スルーホールを介してヒータパターンに接続される
端子パターンを形成し、更にヒータパターン及びスルー
ホールを第2グリーンシートで覆い、その後焼成するセ
ラミックヒータの製造方法において、第2グリーンシー
トの表面のスルーホールと向き合う位置に、焼成後にメ
ッキ可能な補助パターンを、スルーホールの開口部を覆
うように形成することを特徴とするセラミックヒータの
製造方法を要旨とする。
【0012】本発明では、第2グリーンシートの表面の
スルーホールと向き合う位置に、補助パターンをペース
ト印刷等により形成する。この補助パターンは、第1及
び第2グリーンシートを圧着等により積層する場合に、
スルーホールの開口部を覆うものであるが、この補助パ
ターンは、焼成後にはメッキ可能な材料(例えばタング
ステン等の金属材料を含むペースト)から構成されるの
で、焼成後に、スルーホールの内部や(端子パターンが
焼成された)端子部をメッキする場合には、確実にメッ
キを行なうことができる。そのため、その後、スルーホ
ールの内部や端子部上にろう材を付着させる場合には、
スルーホール内に空洞(欠陥)が生じることなく、隙間
なく確実に充填することができる。
【0013】よって、その後、ろう材の表面にニッケル
メッキした後にアニール処理する際に、クラック等の破
損が発生することがない。 (2)請求項2の発明は、第1グリーンシートと、第1
グリーンシートより薄肉で裏面に剥離可能なシートを備
えた第2グリーンシートとを用い、第1グリーンシート
の一方の面にヒータパターンを形成するとともに、他方
の面にスルーホールを介してヒータパターンに接続され
る端子パターンを形成し、更にヒータパターン及びスル
ーホールを第2グリーンシートで覆い、その後焼成する
セラミックヒータの製造方法において、第2グリーンシ
ートの表面のスルーホールと向き合う位置に、スルーホ
ールの開口部より大きな補助パターンを形成し、その
後、第2グリーンシートの裏面のシートを剥すことを特
徴とするセラミックヒータの製造方法を要旨とする。
【0014】本発明では、第2グリーンシートの表面の
スルーホールと向き合う位置に、スルーホールの開口部
より大きな補助パターン、即ち開口部をだけでなく、そ
の周囲をも覆う補助パターンを形成している。そのた
め、第1グリーンシートと第2グリーンシートを圧着等
により積層した後に、第2グリーンシートの裏面のシー
トを剥す際には、スルーホールに向き合う部分が、第2
グリーンシート側に残って孔があいて脱落したり、スル
ーホール近傍が破れることがない。つまり、補助パター
ンがその破損し易い箇所の強化部材として機能して、脱
落や破れ等の破損の発生を防止する。
【0015】また、これにより、第2グリーンシートの
厚みを薄くできるので、第1及び第2グリーンシートか
らなる積層体を、容易に且つしっかりとセラミック基材
に巻き付けることができる。 (3)請求項3の発明は、第2グリーンシートの厚み
が、100μm以下であることを特徴とする請求項2に
記載のセラミックヒータの製造方法を要旨とする。
【0016】本発明では、第2グリーンシートの厚みが
100μm以下と極めて薄いものである。このように薄
肉であると、第2グリーンシートはシートに貼り付けた
状態で使用する必要があり、また、シートを剥す場合
に、上述した破損が生じる恐れがあるが、前記補助パタ
ーンにより、その様な問題の発生を防止できる。
【0017】(4)請求項4の発明は、ドクターブレー
ド法により、第2グリーンシートを搬送シート上に形成
し、搬送シートが密着した第2グリーンシートを第1グ
リーンシートに圧着し、その後搬送シートを剥すことを
特徴とする請求項2又は3に記載のセラミックヒータの
製造方法を要旨とする。
【0018】本発明は、使用するシートを例示したもの
であり、薄肉の第2グリーンシートの裏面に密着するシ
ートとして、ドクターブレード法の形成の際に使用する
搬送シートをそのまま用いることができる。 (5)請求項5の発明は、補助パターンを、金属ペース
トを用いて形成することを特徴とする請求項1〜4のい
ずれかに記載のセラミックヒータの製造方法を要旨とす
る。
【0019】本発明は、補助パターンの材料を例示した
ものであり、補助パターンの材料として、例えばヒータ
パターンや端子パターンと同様な材料(例えばタングス
テンペースト)を使用することができる。この金属ペー
ストを使用して補助パターンを形成することにより、焼
成後には、導電性を有する金属層(補助層)を形成する
ことができ、その後のメッキが容易になる。
【0020】(6)請求項6の発明は、補助パターンの
厚みが、5〜30μmであることを特徴とする請求項1
〜5のいずれかに記載のセラミックヒータの製造方法要
旨とする。本発明は、補助パターンの厚みを例示したも
のであり、5μm以上であると、第2グリーンシートの
破損防止のための十分な強度が得られ、30μm以下で
あると、第2グリーンシートの圧着時のブク(膨れ)の
発生を抑制できる。
【0021】(7)請求項7の発明は、請求項1に記載
のセラミックヒータの製造方法により製造されるセラミ
ックヒータであって、第1セラミック層と第2セラミッ
ク層との間にヒータ部を有するとともに、第2セラミッ
ク層の表面のスルーホールと向き合う位置に、スルーホ
ールの開口部を覆うメッキ可能な補助層を有することを
特徴とするセラミックヒータを要旨とする。
【0022】本発明のセラミックヒータは、第2セラミ
ック層の表面のスルーホールと向き合う位置に、スルー
ホールの開口部を覆うメッキ可能な補助層を有してい
る。よって、この補助層により、前記請求項1にも記載
した様に、スルーホールの内部や端子部をメッキする場
合には、確実にメッキを行なうことができる。そのた
め、その後、スルーホールの内部や端子部上にろう材を
付着させる場合に、スルーホール内に空洞(欠陥)が生
じることなく、隙間なく確実に充填することができる。
【0023】よって、その後、ろう材の表面にニッケル
メッキした後にアニール処理する際に、クラック等の破
損が発生することがない。 (8)請求項8の発明は、請求項2〜5のいずれかに記
載のセラミックヒータの製造方法により製造されるセラ
ミックヒータであって、第1セラミック層と第2セラミ
ック層との間にヒータ部を有するとともに、第2セラミ
ック層の表面のスルーホールと向き合う位置に、スルー
ホールの開口部より大きな補助層を有することを特徴と
するセラミックヒータを要旨とする。
【0024】本発明のセラミックヒータは、第2セラミ
ック層表面のスルーホールと対応する位置に、スルーホ
ールの開口部より大きな補助層を有している。よって、
この補助層により、前記請求項2にも記載した様に、製
造工程において、第2セラミック層となる第2グリーン
シートに脱落や破れが発生しないので、第2セラミック
層にも、それに起因する欠陥がない。
【0025】(9)請求項9の発明は、補助層が、金属
層であることを特徴とする請求項7又は8に記載のセラ
ミックヒータを要旨とする。本発明では、補助層が金属
層であるので、補助層の上に容易にメッキを施すことが
できる。それにより、後にスルーホールへのろう材の充
填を、空洞を生ずることなく確実に行なうことができ
る。
【0026】(10)請求項10の発明は、スルーホー
ル内に、ろう材が充填されていることを特徴とする請求
項7〜9のいずれかに記載のセラミックヒータを要旨と
する。本発明では、スルーホール内に確実にろう材が充
填されている。つまり、スルーホール内には、従来の様
に、大きな空洞を生ずることなく、十分にろう材が充填
されている。そのため、後にろう材の上にメッキを施
し、アニール処理を実施する際に、破損が発生すること
がない。
【0027】(11)請求項11の発明は、補助層の厚
みが、3〜30μmであることを特徴とする請求項7〜
10のいずれかに記載のセラミックヒータを要旨とす
る。本発明は、補助層の厚みを例示したものであり、こ
の範囲の厚みであれば、前記請求項6にも記載した様
に、製造工程における第2グリーンシートの破損が確実
に防止され、第2セラミック層に不良が発生することが
ない。
【0028】尚、圧着の圧力あるいは焼成収縮により、
補助パターンが補助層となるとき、その厚みが小さくな
ると考えられる。また、前記ヒータパターンとしては、
主として発熱を行う(例えば蛇行する)発熱パターン
と、発熱パターンから伸びて発熱パターンに通電するた
めのリードパターンと、リードパターンの端部に形成さ
れて端子パターンに接続される端部パターンとからなる
ものが挙げられる。尚、焼成後には、後述する様に、ヒ
ータパターンはヒータ部となり、発熱パターンはヒータ
発熱部となり、リードパターンはヒータリード部とな
り、端部パターンはヒータ端部となる。また、端子パタ
ーンは、焼成後に端子部となり、補助パターンは補助層
となる。
【0029】また、前記グリーンシートとしては、アル
ミナ(Al23)を主成分とする材料からなるものが挙
げられる。前記各パターンの材料として、高融点材料で
ある、白金(Pt)、白金−ロジウム(Rh)、モリブ
デン(Mn)、タングステン(W)等が挙げられる。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明のセラミックヒータ
及びその製造方法の例(実施例)を説明する。 (実施例) (1)まず、本実施例のセラミックヒータの構造につい
て説明する。
【0031】図1に示す様に、本実施例のセラミックヒ
ータ1は、丸棒状であり、円筒状のセラミック基材(ア
ルミナ碍管)2の周囲に、アルミナを主成分とする厚さ
300μmの第1セラミック層3及び厚さ50μmの第
2セラミック層4が積層されており、この第1セラミッ
ク層3及び第2セラミック層4の間に、タングステンを
主成分とするヒータ部5が配置されている。
【0032】このヒータ部5は、図2に分解して示す様
に、セラミックヒータ1の先端側で何度も蛇行するヒー
タ発熱部6と、セラミックヒータ1の後端側に配置され
て電源側と接続される陽極側のヒータ端部7a及び陰極
側のヒータ端部7bと、ヒータ発熱部6及び各ヒータ端
部7a,7bを接続する一対のヒータリード部8a,8
bとから構成されている。
【0033】前記第1セラミック層3には、各ヒータリ
ード部8a,8bと対応して、スルーホール9a,9b
に後述するメタライズ部18(図3参照)等が形成され
てなる導通部10a,10bが形成されている。尚、ス
ルーホール9a,9bからなる導通部10a,10b
は、第1セラミック層の長手方向に沿って、2個づつ直
接に配置されている。
【0034】また、第1セラミック層3のヒータ部5と
反対側(図の上方)には、各導通部10a,10bと接
続するように、リード線取付用端子11a,11b(図
1参照)が接続される陽極側の端子部12a及び陰極側
の端子部12bが形成されている。
【0035】つまり、第1セラミック層3の反対側の面
に設けられたヒータ部5の各ヒータ端部7a,7bと各
端子部12a,12bとは、各導通部10a,10bに
より各々電気的に接続されている。ここで、本実施例の
要部である導通部10a(10bも同様)近傍の構成に
ついて、図3に基づいて、更に詳細に説明する。尚、図
3は、端子部12aにリード線取付用端子11aの接続
のために、ろう材13を配置した状態を示している。
【0036】図3に示す様に、端子部12a及びヒータ
部5aは、スルーホール9aの内周面を覆うメタライズ
部18により電気的に接続されている。特に、本実施例
では、スルーホール9aの底部14a(直径0.4m
m)を覆う様に、前記端子部12a等と同様な金属材料
からなる導電性の補助層15aが形成されている。この
補助層15aは、直列に配置された一対のスルーホール
9aの底部14a及びその周囲を覆う様に、厚さ10μ
m、縦1.2mm×横3.2mmの長方形である(図2
参照)。
【0037】また、端子部12aの表面、スルーホール
9a内のメタライズ部18、及びスルーホール9aの底
部14aに対応する補助層15aの表面には、ニッケル
からなる第1メッキ層16aが形成されている。更に、
この第1メッキ層16a上には、端子部12aを覆うと
ともに、スルーホール9a内に隙間なく充填されるろう
材(例えば78%Ag−28%Cuの組成の共晶ろう)
13が配置され、このろう材13の表面には、ニッケル
からなる第2メッキ層17aが形成されている。
【0038】(2)次に、本実施例のセラミックヒータ
1の製造方法について説明する。尚、前記第1セラミッ
ク層3、第2セラミック層4、ヒータ部5、ヒータ発熱
部6、陽極側のヒータ端部7a、陰極側のヒータ端部7
b、ヒータリード部8a,8b、陽極側の端子部12
a、陰極側の端子部12b、補助層15a,15bは、
各々、第1グリーンシート23、第2グリーンシート2
4、ヒータパターン25、発熱パターン26、陽極側の
端部パターン27a、陰極側の端部パターン27b、リ
ードパターン28a,28b、陽極側の端子パターン2
9a、陰極側の端子パターン29b、補助パターン30
a,30bが焼成されて形成されたものであるので、以
下の説明では前記図2〜図5を用いて説明する。
【0039】a)グリーンシートの作製 まず、Al23粉末(純度99.9%、平均粒径1.8
μm)と、焼結助剤であるSiO2粉末(純度99.9
%、平均粒径1.4μm)と、CaOとなるCaCO3
粉末(純度99.9%、平均粒径3.2μm)と、Mg
OとなるMgCO3粉末(純度99.9%、平均粒径
3.2μm)と、必要に応じて添加されるY23等の微
量粉末とを、所定割合(例えばAl23粉末90重量
部、SiO2粉末5重量部、CaCO3粉末3重量部、M
gCO3粉末2重量部)で配合して、配合物を調製し
た。
【0040】そして、この配合物100重量部に対し、
ポリブチルビニラール8重量部、ジブチルフタレート4
重量部、メチルエチルケトン及びトルエン70重量部を
添加し、ボールミルで混合してスラリー状とした。その
後、減圧脱泡して、ドクターブレード法により、厚さ
0.3mmの第1グリーンシート23と、厚さ0.05
mmの第2グリーンシート24を作製した。
【0041】b)ドクターブレード法 ここで、ドクターブレード法について説明する。ドクタ
ーブレード法とは、図4(a)に示す様に、容器31か
ら合成樹脂製のフィルムである搬送テープ32上にスラ
リー33を流して供給する際に、円柱の一部が軸方向に
切り欠かれた形状のブレード34にて、スラリー33の
層の厚さを調節するものである。
【0042】この搬送テープ32上に配置されたスラリ
ー33は、搬送テープ32の移動とともに図示しない乾
燥装置によりメチルエチルケトン及びトルエンが適度に
蒸発させられ、帯状のグリーンシート35となる。この
グリーンシート35(特に第1グリーンシート23に対
応する場合)は、搬送テープ32から分離されてリブ3
6により巻取られる。
【0043】その後、帯状のグリーンシート35は、リ
ブ36から引き出され、所定形状にカットされる。具体
的には、図4(b)に示す様に、複数のヒータパターン
25を形成できる様に、略正方形にプレスにより切断さ
れる。同時に、各端部パターン27a,27bが形成さ
れる位置に、プレスの際の打ち抜きにより、各々スルー
ホール9a,9bが形成される。
【0044】その後、前記略正方形のグリーンシート上
に、一度の複数のヒータパターン25を形成し、更に、
各ヒータパターン25に対応した第1グリーンシート2
3にカットするのであるが、以下では、説明を明瞭にす
るために、第1グリーンシート23単体(ヒータ1本
分)にヒータパターン25を印刷する場合を例に挙げて
説明する。
【0045】一方、第2グリーンシート24も、厚さが
異なる点及びスルーホール9a,9bがない点などを除
き、同様なドクターブレード法により作製されるが、こ
の第2グリーンシート24は、極めて薄肉で破損し易い
ので、その作製に使用される搬送シート32は、剥さず
に、後述する様に、第2グリーンシート24に貼り付け
たままの状態で使用する。
【0046】c)タングステンペーストの作製 W粉末(平均粒径1.5μm)、また必要に応じてAl
23粉末(平均粒径1.5μm)、及びRe粉末(平均
粒径1.5μm)を、所定の割合(例えばW粉末90重
量部、Al23粉末10重量部)で配合された配合物1
00に対して、ポリビニルブチラール5重量部、ブチル
カルビドールアセテート20重量部、アセトン70重量
部を添加し、ボールミルで混合し、スラリー状とした。
その後。アセトンを乾燥して除去してタングステンペー
ストを得た。
【0047】d)ヒータパターンの印刷 前記図2に示す様に、第1グリーンシート23の一方の
面23a(図2では下面側)に、前記c)にて作製され
たタングステンペーストを用いて、ペースト印刷を行っ
た。それにより、発熱パターン26、リードパターン2
8a,28b、及び端部パターン27a,27bからな
る厚さ25μmのヒータパターン25を形成した。
【0048】即ち、第1グリーンシート23の一方の面
23aを上にして、その面23a上にヒータパターン2
5を形成した。具体的には、ヒータパターン25の形状
に透孔が設けられた金属製のマスク(図示せず)を使用
して、厚膜印刷(スクリーン印刷)し、その後乾燥し
た。
【0049】e)端子パターンの印刷 次に、第1グリーンシート23を裏返し、その他方の面
23b(図2では上方側)の所定位置、即ちスルーホー
ル9a,9bに対応する位置に、前記タングステンペー
ストを使用してスクリーン印刷を行い、陽極側の端子パ
ターン29a及び陰極側の端子パターン29bを厚膜印
刷した。
【0050】尚、前記ヒータパターン25及び端子パタ
ーン29a,29bの厚膜印刷の際に、同時に、スルー
ホール9a,9bの内周面にタングステンペーストを付
着させた。 f)補助パターンの形成 次に、図5(a)に示す様に、第2グリーンシート24
の表面のスルーホール9a,9bに対応する位置に、前
記タングステンペーストを使用して、スクリーン印刷を
行ない、補助パターン30a,30bを形成した。この
補助パターン30a,30bは、それぞれ直列に配置さ
れた一対のスルーホール9a,9bの開口部(底部)及
びその周囲を覆う様に、厚さ15μm、縦1.5mm×
横3.8mmの長方形である(図2参照)。
【0051】尚、第2グリーンシート24の裏面には、
搬送シート32が密着している。 g)グリーンシートの積層 次に、図5(b)に示す様に、第1グリーンシート23
のヒータパターン25が印刷された一方の面23a側
に、ヒータパターン25を覆うように、第2グリーンシ
ート24を圧着し、図5(c)に示す積層体41を形成
した。
【0052】これにより、スルーホール9a,9bの開
口部(図の下方)は、補助パターン30a,30bによ
り覆われて塞がれる。尚、圧着は、第2グリーンシート
24上に第1グリーンシート23を載置し、積層する様
にして行なった。その後、図5(d)に示す様に、第2
グリーンシート24の裏面(図5の下方の面)に貼り付
いていた搬送シート32を剥した。
【0053】h)セラミックヒータ成形体の作製 次いで、図2に示す様に、前記積層体41において第2
グリーンシート24の積層側とは反対の表面(図2の下
面側)に、アルミナペ−スト(共素地)を塗布し、この
塗布面をアルミナ製碍管2に向けて、積層体41をアル
ミナ碍管2に巻き付け、外周を押圧して、セラミックヒ
ータ成形体を得た。
【0054】i)セラミックヒータ成形体の焼成 上記の様にして得られたセラミックヒータ成形体を、2
50℃で樹脂抜きし、その後、水素炉中で、1550℃
で1時間30分間保持して焼成し、第1及び第2セラミ
ック層3,4、ヒータ部5、両端子部20a,20b、
アルミナ碍管2を一体化させた。
【0055】j)端子部の加工 その後、図5(e)に示す様に、スルーホール9a,9
b内(その内周面及び底部14a,14b)及び端子部
12a,12b表面に、無電解メッキ液を塗布し、通常
の無電解ニッケルメッキにより、第1メッキ層16a,
16bを形成した。
【0056】次に、図5(f)に示す様に、スルーホー
ル9a,9b及び端子部12a,12bの表面側に、即
ち第1メッキ層16aの表面に、ろう材13を溶融・凝
固させてリード線取付用端子11aをろう付けした。次
に、図5(g)に示す様に、ろう材13表面に、前記と
同様な無電解ニッケルメッキによって、第2メッキ層1
7aを形成し、リード線取付用端子11a,11bが接
続された図1に示すセラミックヒータ1を完成した。
【0057】この様に、本実施例のセラミックヒータ1
及びその製造方法では、第2グリーンシート24に補助
パターン30a,30bを形成し、第1グリーンシート
23と第2グリーンシート24を圧着する際に、この補
助パターン30a,30bにより、スルーホール9a,
9bの一方の開口部(底部14a,14b)を覆うの
で、第2グリーンシート24から搬送シート32を剥す
場合でも、スルーホール9a,9bに対応する第2グリ
ーンシート24の部分が抜け落ちたり(脱落)、その周
囲が破損することが無い。
【0058】それにより、第2グリーンシート24とし
て、100μm以下の非常に薄肉のものを採用できるの
で、積層体41を容易に且つしっかりとセラミック碍管
2に巻き付けることができる。また、補助パターン30
a,30bは、タングステンペーストから形成されるの
で、焼成後の補助層15a,15bには、容易にメッキ
を施すことができる。しかも、この補助層15a,15
bは、第2セラミック層4がスルーホール9a,9bの
底面14a,14bに露出しない様に、その底面14
a,14bを覆う構成である。
【0059】そのため、端子部12a,12bの表面、
スルーホール9a,9bの内周面、及び補助層15a,
15bの表面の全体にわたり、無電解メッキにより、容
易に第1メッキ層16a,16bを形成できる。よっ
て、後にろう材13を端子部12a,12bに付着させ
る場合には、第1メッキ層16a,16bはろう材13
との濡れ性に優れているので、スルーホール9a,9b
内にろう材13が確実に充填され、従来の様な空洞(欠
陥)が生じることがない。
【0060】更に、本実施例では、補助層15a,15
bが十分に薄いので、補助層15a,15bの外周部に
て、大きな段差が生じず、よって、その段差部分に空気
が封入されにくい。そのため、圧着時には、その段差部
分における膨らみ(ブク)が発生しにくく、不良品の発
生を抑制できる。 (実験例)次に、本実施例の効果を確認するために行っ
た実験例について説明する。
【0061】まず、上述した実施例の製造方法(但し比
較例は補助パターンなし)にて、セラミックヒータを作
製する際に、下記表1に示す様に、補助パターンの有無
及び補助パターンの厚みを変更し、各試料No.1〜6毎
に、各々50本づつのセラミックヒータを作製した。
【0062】そして、各試料毎に、圧着時のブク不良、
シート破れ不良、ろう不足不良を調べた。 ・圧着時のブク不良は、圧着時にブクが発生したセラミ
ックヒータの本数を計数し、その割合で示した。
【0063】・シート破れ不良は、搬送シートを剥す際
に破れた本数を計数し、その割合で示した。 ・ろう不足不良は、ろう材を充填したスルーホールに空
洞が発生した本数を計数し、その割合で示した。
【0064】
【表1】
【0065】この表1から明かなように、本発明の範囲
の実施例の場合(試料No.1〜5)は、補助パターンを
形成するので、シート破れ不良が8%以下で、しかも、
ろう不足不良が2%以下と少なく好適である。特に、補
助パターンの厚みが5〜30μmの場合は、圧着時のブ
ク不良が8%以下と少なく、一層好適であ。るそれに対
して、比較例の場合(試料No.6)は、補助パターンを
形成しないので、シートの破れ不良が60%で、しか
も、ろう不足不良が20%と多く好ましくない。
【0066】尚、本発明は前記実施例になんら限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲におい
て種々の態様で実施しうることはいうまでもない。 (1)例えば、前記実施例では、セラミックヒータの形
状として、円筒状のものを形成したが、板状のセラミッ
クヒータとしてもよい。
【0067】(2)また、セラミック基材としては、両
端に通じる孔の開いた筒状(例えば円筒状)のもの、一
端が閉塞された筒状(例えば円筒状)のもの、あるいは
孔の開いていない柱状(例えば円柱状)のもの等を採用
できる。 (3)前記実施例では、一対のスルーホールに対して長
方形の補助パターン(補助層)を設けたが、一つの端子
に1つのスルーホールしかない場合は、例えば円形や正
方形等各種の形状のものを使用することができる。
【0068】
【発明の効果】以上詳述した様に、請求項1のセラミッ
クヒータの製造方法では、補助パターンは、焼成後には
メッキ可能な材料から構成されるので、焼成後に、スル
ーホールの内部や端子部をメッキする場合には、確実に
メッキを行なうことができる。そのため、その後、スル
ーホールの内部や端子部上にろう材を付着させる場合に
は、スルーホール内に空洞(欠陥)が生じることなく、
隙間なく確実に充填することができる。よって、その
後、ろう材の表面にニッケルメッキした後にアニール処
理する際に、クラック等の破損が発生することがない。
【0069】請求項2のセラミックヒータの製造方法で
は、補助パターンは、スルーホールの開口部をだけでな
く、その周囲をも覆っているので、第2グリーンシート
の裏面のシートを剥す際には、第2グリーンシートの脱
落や破れ等の破損の発生を防止できる。また、これによ
り、第2グリーンシートの厚みを薄くできるので、第1
及び第2グリーンシートからなる積層体を、容易に且つ
しっかりとセラミック基材に巻き付けることができる。
【0070】請求項7のセラミックヒータは、第2セラ
ミック層の表面のスルーホールと向き合う位置に、スル
ーホールの開口部を覆うメッキ可能な補助層を有してい
るので、スルーホールの内部や端子部をメッキする場合
には、確実にメッキを行なうことができる。そのため、
その後、スルーホールの内部や端子部上にろう材を付着
させる場合に、スルーホール内に空洞(欠陥)が生じる
ことなく、隙間なく確実に充填することができる。よっ
て、その後、ろう材の表面にニッケルメッキした後にア
ニール処理する際に、クラック等の破損が発生すること
がない。
【0071】請求項8のセラミックヒータは、第2セラ
ミック層表面のスルーホールと対応する位置に、スルー
ホールの開口部より大きな補助層を有しているので、製
造工程において、第2セラミック層となる第2グリーン
シートに脱落や破れが発生しないので、第2セラミック
層にも、それに起因する欠陥がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 セラミックヒータの一部を破断して示す斜視
図である。
【図2】 セラミックヒータを分解して示す斜視図であ
る。
【図3】 セラミックヒータのスルーホール近傍を判断
して示す説明図である。
【図4】 ドクターブレード法によるグリーンシートの
形成方法を示す説明図である。
【図5】 セラミックヒータの製造手順を示す説明図で
ある。ドクターブレード法によるグリーンシートの形成
方法を示す説明図である。
【図6】 従来技術の説明図である。
【符号の説明】
1…セラミックヒータ 3…第1セラミック層 4…第2セラミック層 5…ヒータ部 9a,9b…スルーホール 12a,12b…端子部 13…ろう材 18…メタライズ部 23…第1グリーンシート 24…第2グリーンシート 25…ヒータパターン 29a,29b…端子パターン 41…積層体

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1グリーンシートの一方の面にヒータ
    パターンを形成するとともに、他方の面にスルーホール
    を介して前記ヒータパターンに接続される端子パターン
    を形成し、更に前記ヒータパターン及びスルーホールを
    第2グリーンシートで覆い、その後焼成するセラミック
    ヒータの製造方法において、 前記第2グリーンシートの表面の前記スルーホールと向
    き合う位置に、焼成後にメッキ可能な補助パターンを、
    前記スルーホールの開口部を覆うように形成することを
    特徴とするセラミックヒータの製造方法。
  2. 【請求項2】 第1グリーンシートと、該第1グリーン
    シートより薄肉で裏面に剥離可能なシートを備えた第2
    グリーンシートとを用い、 前記第1グリーンシートの一方の面にヒータパターンを
    形成するとともに、他方の面にスルーホールを介して前
    記ヒータパターンに接続される端子パターンを形成し、
    更に前記ヒータパターン及びスルーホールを前記第2グ
    リーンシートで覆い、その後焼成するセラミックヒータ
    の製造方法において、 前記第2グリーンシートの表面の前記スルーホールと向
    き合う位置に、該スルーホールの開口部より大きな補助
    パターンを形成し、その後、前記第2グリーンシートの
    裏面の前記シートを剥すことを特徴とするセラミックヒ
    ータの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第2グリーンシートの厚みが、10
    0μm以下であることを特徴とする前記請求項2に記載
    のセラミックヒータの製造方法。
  4. 【請求項4】 ドクターブレード法により、前記第2グ
    リーンシートを搬送シート上に形成し、該搬送シートが
    密着した前記第2グリーンシートを前記第1グリーンシ
    ートに圧着し、その後前記搬送シートを剥すことを特徴
    とする前記請求項2又は3に記載のセラミックヒータの
    製造方法。
  5. 【請求項5】 前記補助パターンを、金属ペーストを用
    いて形成することを特徴とする前記請求項1〜4のいず
    れかに記載のセラミックヒータの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記補助パターンの厚みが、5〜30μ
    mであることを特徴とする前記請求項1〜5のいずれか
    に記載のセラミックヒータの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記請求項1に記載のセラミックヒータ
    の製造方法により製造されるセラミックヒータであっ
    て、 第1セラミック層と第2セラミック層との間にヒータ部
    を有するとともに、前記第2セラミック層の表面の前記
    スルーホールと向き合う位置に、前記スルーホールの開
    口部を覆うメッキ可能な補助層を有することを特徴とす
    るセラミックヒータ。
  8. 【請求項8】 前記請求項2〜5のいずれかに記載のセ
    ラミックヒータの製造方法により製造されるセラミック
    ヒータであって、 第1セラミック層と第2セラミック層との間にヒータ部
    を有するとともに、前記第2セラミック層の表面の前記
    スルーホールと向き合う位置に、前記スルーホールの開
    口部より大きな補助層を有することを特徴とするセラミ
    ックヒータ。
  9. 【請求項9】 前記補助層が、金属層であることを特徴
    とする前記請求項7又は8に記載のセラミックヒータ。
  10. 【請求項10】 前記スルーホール内に、ろう材が充填
    されていることを特徴とする前記請求項7〜9のいずれ
    かに記載のセラミックヒータ。
  11. 【請求項11】 前記補助層の厚みが、3〜30μmで
    あることを特徴とする前記請求項7〜10のいずれかに
    記載のセラミックヒータの製造方法。
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