JPH11272039A

JPH11272039A - 半導電性ゴムロール及び画像形成装置

Info

Publication number: JPH11272039A
Application number: JP10090902A
Authority: JP
Inventors: Takashi Oishi; 剛史大石; Koichi Nishimura; 浩一西村
Original assignee: Nippon Zeon Co Ltd
Current assignee: Zeon Corp
Priority date: 1998-03-19
Filing date: 1998-03-19
Publication date: 1999-10-08
Anticipated expiration: 2018-03-19
Also published as: JP3867395B2

Abstract

(57)【要約】【課題】環境依存性が小さく、加工性に優れ、平滑な
表面を有することが可能で、抵抗調整層の層厚によって
ロール電気抵抗の調整が可能な半導電性ゴムロールを提
供することにある。【解決手段】中心から順に（Ａ）軸体、（Ｂ）高分子
導電層ならびに（Ｃ）（ａ）エピクロルヒドリン系ゴム
を必須成分とするゴム成分（エピクロルヒドリン系ゴム
含量５０重量％以上）、（ｂ）η_sp／Ｃが０．０１〜
０．５の低分子量エピクロルヒドリン系重合体（エピク
ロルヒドリン系ゴム１００重量部に対して１０〜１５０
重量部）および（ｃ）架橋剤（ゴム成分１００重量部に
対して０．１〜１０重量部）を含有するエピクロルヒド
リン系ゴム組成物を架橋して成る抵抗調整層の少なくと
も三層を設けて多層半導電性ゴムロールを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真複写機など
に用いられる半導電性ゴムロールおよびそれを有する画
像形成装置に関し、さらに詳しくはロール硬度が低く安
定であり、耐圧縮永久歪み性や耐久性などに優れる半導
電性ゴムロールおよびそれを有する画像形成装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】電子写真複写機または電子写真印刷機は
感光体外周面を一様に帯電させ、次いで感光体の外周面
に印刷パターンまたは複写パターンを露光することによ
り静電潜像を形成し、この静電潜像にトナーを付着させ
てトナー像を形成して、このトナー像を印刷用紙または
複写用紙に転写することにより印刷または複写する機構
を有するものである。

【０００３】従来、感光体の帯電工程では一般にコロナ
放電によって帯電が行われていた。しかし、コスト高や
オゾンなどの有害物質が発生するという問題がある。そ
こで、帯電ロールを用いた帯電方式が提案されている。
この帯電方式では、感光体と互いに接触させて配置され
る帯電ロールに電圧を印加し、感光体に直接電荷を与え
て感光体表面上を帯電させている。転写工程においても
コロナ放電を利用せずに、転写ロールを用い電圧を印加
して電界を発生させトナーを感光体から印刷用紙などに
移動させて転写を行う方式が提案されている。一方、非
磁性一成分トナーを使用する方式においては感光体と現
像ロールが互いに接触するように配置されており、現像
ロールによって搬送されたトナーが現像ロールと現像ブ
レードとの間で摩擦により帯電させられる。帯電したト
ナーが現像ロールと感光体との間に生じた電界によって
現像ロール上から感光体上に移動して、潜像が現像され
る。

【０００４】このような感光体とロールが互いに接触し
た構造を用いる画像形成装置ではロールとして軸体の表
面にゴム層が形成された構造のものが使用されている。
これらのゴムロールと感光体との間には電圧を印加さ
せ、電界を発生させなければならない。そこでこのゴム
ロールは半導電性であることが要求される。

【０００５】このような半導電性ゴムロールとしては一
般に樹脂またはゴムにカーボンブラック、カーボン繊
維、金属粉などの導電性付与剤を分散させて半導電性に
調整したものが挙げられる。しかし、このようなロール
では、導電性付与剤の分散が均一性に欠け、部位により
電気抵抗の大きさにばらつきが発生し、体積固有抵抗値
を１０⁶〜１０¹²Ω・ｃｍの半導電性領域に調整するこ
とが非常に困難である。そこで、それ自体の体積固有抵
抗値が１０⁷〜１０¹¹Ω・ｃｍであって、導電性付与剤
を配合する必要のないエピクロルヒドリンゴムを用いる
ことが提案されている。しかし、エピクロルヒドリンゴ
ムは表面の離型性が悪いため、トナーが付着し、汚れや
すいという問題がある。

【０００６】そこで、導電性カーボンを含有するゴムよ
りなる内層と、導電性カーボンを含有せず、液状ゴムを
含有する半導電性のアクリロニトリル−ブタジエン共重
合ゴムゴム組成物よりなる外層とを有するゴムロールが
提案され、ロール電気抵抗の均一化やトナー付着が改善
されている（特開昭５９−４６６６４公報など）。しか
し、低温低湿下ではロール電気抵抗が上昇し画像特性が
悪くなったり、ロール加工時の研磨性が悪く平滑な表面
を得ることが難しい。

【０００７】近時、内層に導電性高分子層を有し、その
外周に抵抗調整層としてゴム自体の体積固有抵抗値が１
０⁷〜１０¹¹Ω・ｃｍである半導電性エピクロルヒドリ
ンゴムを用いた導電性ロールが提案されている（特許第
２６４９１６３号公報など）。しかし、ロール電気抵抗
の均一化や環境依存性は改善されるものの、抵抗調整層
の硬度が高く、さらに加工性が悪いため、抵抗調整層の
層厚の調整や平滑な表面を得ることが難しいという問題
があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、環境
依存性が小さく、加工性に優れ、平滑な表面を得ること
ができ、抵抗調整層の層厚によってロール電気抵抗の調
整が可能な低硬度の半導電性ゴムロールを提供すること
にある。

【０００９】本発明者らは、鋭意研究した結果、（Ａ）
軸体、（Ｂ）導電性高分子層、（Ｃ）抵抗調整層の三層
構造を有する半導電性ゴムロールにおいて、（Ａ）抵抗
調整層の材質として、（ａ）エピクロルヒドリン系ゴ
ム、（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合体、およ
び（ｃ）架橋剤を含有する組成物の架橋物を用いること
により、導電性付与剤を配合しなくても適度なロール電
気抵抗を示し、低硬度でも加工性に優れ平滑な表面が得
られること、その結果、感光体を摩耗させることなく、
トナーを劣化させることもなく、耐久性に優れた半導電
性ゴムロールが得られることを見い出し、本発明を完成
させるに至った。

【００１０】

【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、中心軸から順に（Ａ）軸体、（Ｂ）導電性高分子
層、（Ｃ）（ａ）エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分
とするゴム成分、（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系
重合体、および（ｃ）架橋剤を含有するエピクロルヒド
リン系ゴム組成物を架橋して成る抵抗調整層の少なくと
も三層を有する多層半導電性ゴムロールを有する半導電
性ゴムロールが提供され、さらに、該半導電性ゴムロー
ルを有する画像形成装置が提供される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の半導電性ゴムロールは、
中心部が軸体である。本発明に用いられる軸体は、半導
電性ゴムロールの軸体として用いられるものであれば、
特に限定されないが、通常、導電性剛性体からなる。導
電性剛性体としては、ステンレス鋼、銅などの金属が挙
げられる。

【００１２】軸体は中実体からなるものであってもよい
し、中空体からなるものであってもよい。大きさや形状
も使用目的に応じて決めればよい。軸体は、図１、図２
に示す軸体のように真円柱状であることが好ましい。軸
体に積層される層、一般には中間弾性層と接触する軸体
外周面と積層される層との接着性やロールを感光体と接
触させた場合のニップ圧力が均一になるからである。し
かし、接着性やニップ圧力が許容範囲内であれば、軸体
形状は特に限定されない。例えば、軸方向中央部の外径
が最も大きく、両端部の外径が小さい円柱状の軸体を用
いることにより、軸体の撓みを小さくし、軸方向中央部
の押圧力が両端部に比べて小さくしたものなども用いる
ことができる。軸体の外周面は、外周面上に積層される
層との接着を良好にするために研磨などにより表面粗さ
を大きくしておくことが好ましい。

【００１３】（導電性高分子層の材料）本発明の半導電
性ゴムロールは、軸体より外側に導電性高分子層が形成
される。本発明の半導電性ゴムロールの導電性高分子層
の材料は、一般の半導電性ゴムロールにおける導電性高
分子層の材料と同一のものである。この材料、すなわち
導電性高分子材料は特に制限されず、その体積固有抵抗
値が好ましくは１０¹〜１０¹²Ω・ｃｍ、より好ましく
は１０²〜１０¹¹Ω・ｃｍ、特に好ましくは１０³〜１０
¹⁰Ω・ｃｍのものである。

【００１４】導電性高分子材料としては、必要に応じて
適切な体積固有抵抗値になるように導電性付与剤を添加
した樹脂組成物やゴム組成物が例示され、これらを架橋
したものでもよい。導電性高分子材料である樹脂組成物
の主成分の樹脂としてはビニル系樹脂、ポリスチレン系
樹脂、ポリエチレン系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素樹
脂、ナイロン樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられ
る。導電性高分子材料であるゴム組成物の主成分のゴム
としてはアクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、
スチレン−ブタジエン共重合体ゴムおよびこれらの水素
添加物、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、ク
ロロプレンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、ウレタン
ゴムなどの合成ゴムが挙げられる。導電性付与剤として
はアセチレンブラックなどのカーボンブラック、酸化
錫、酸化亜鉛などの導電性酸化物、グラファイト、金属
繊維、界面活性剤などが挙げられる。なお、ポリアミド
樹脂やエピクロルヒドリン系ゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体ゴム、ウレタンゴムなどのそれ自体
の体積固有抵抗値が半導電性領域であるものには必ずし
も導電性付与剤を添加する必要がない。架橋剤を添加し
て架橋する場合、架橋剤も特に限定されず、使用するゴ
ムや樹脂に適した架橋剤を適切な量用いればよい。

【００１５】導電性高分子層の厚さは使用目的に応じて
決めればよく、特に限定されないが、ロール電気抵抗の
調整の行ないやすさから0.１〜２０ｍｍ、好ましくは0.
５〜１０ｍｍ、特に好ましくは１〜５ｍｍである。

【００１６】導電性高分子層の形成方法も特に限定され
ない。例えば、導電性高分子材料組成物を有機溶剤や水
などに溶解または分散させ、この溶液または分散液を軸
体表面に塗布し、乾燥して形成される。必要に応じて、
架橋剤などを配合した架橋性樹脂、または架橋性ゴムを
調製し、その溶液または分散液を導電性高分子層形成面
に塗布し、乾燥し、架橋して形成してもよい。塗布方法
は、刷毛塗り、スプレー塗り、浸漬（ディップ）などの
方法が挙げられるが、生産効率の点からディップ方式が
好ましい。乾燥方法は、自然乾燥、加熱乾燥などの方法
が挙げられるが、中でも表面層の膜厚の均一性を高める
ために加熱乾燥が好ましい。架橋方法は、特に限定され
ず、用いる樹脂またはゴム、架橋剤などの特性に応じた
架橋方法を取ればよい。

【００１７】また、金型内に軸体を固定し、導電性高分
子層形成面の周囲に架橋性の導電性高分子材料を入れ
て、あるいは押出機で導電性高分子層形成面に導電性高
分子材料を押し出して、架橋剤などによって決まる適切
な架橋温度、架橋時間で架橋を行なってもよい。

【００１８】導電性高分子層の表面を、必要に応じて研
磨してもよい。

【００１９】（抵抗調整層の材料）本発明の半導電性ゴ
ムロールは、導電性高分子層の外側に抵抗調整層が形成
されており、この抵抗調整層は（ａ）エピクロルヒドリ
ン系ゴムを必須成分とするゴム成分、（ｂ）低分子量エ
ピクロルヒドリン系重合体および（ｃ）架橋剤を含有す
るエピクロルヒドリン系ゴム組成物の架橋物によって構
成されている。

【００２０】（エピクロルヒドリン系ゴム）本発明にお
いて用いられる（ａ）ゴム成分は、エピクロルヒドリン
系ゴムを必須成分とし、他のゴムと併用することも可能
である。

【００２１】エピクロルヒドリン系ゴムは、エピクロル
ヒドリンの単独重合体ゴム、あるいはエピクロルヒドリ
ンとアルキレンオキサイドおよび／または不飽和エポキ
シドを共重合して得られる共重合体ゴムである。

【００２２】アルキレンオキサイドとしては、例えば、
エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレン
オキサイド、イソブチレンオキサイドなどの飽和アルキ
レンオキサイド類；エピフロロヒドリン、エピブロモ
ヒドリン、トリフロロメチルエチレンオキサイドなどの
置換飽和アルキレンオキサイド類；が挙げられ、それ
ぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用する
ことができる。これらの中でも、入手の容易さなどから
みて、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドが好
ましい。エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドを
併用する場合、両者の比（エチレンオキサイド／プロピ
レンオキサイド）はモル比で、好ましくは１０／９０〜
９０／１０、より好ましくは１５／８５〜８５／１５、
特に好ましくは２０／８０〜８０／２０である。

【００２３】不飽和エポキシドとしては、例えば、ブタ
ジエンモノオキサイド、１，２−エポキシ−５−ヘキセ
ン、１，２−エポキシ−７−オクテンなどの不飽和アル
キレンオキサイド類；アリルグリシジルエーテルなど
のグリシジルエーテル類；グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレートなどのグリシジルエステル類；
などが挙げられる。これらのうちアリルグリシジルエ
ーテルが好適である。不飽和エポキシドを共重合するこ
とにより、硫黄系架橋剤（硫黄または硫黄供与体）また
は過酸化物による架橋が可能になり、耐汚染性や耐金属
腐食性が良好となる。

【００２４】エピクロルヒドリン系ゴム中のエピクロル
ヒドリン単位の量は、好ましくは３０〜１００モル％、
より好ましくは３５〜９０モル％、さらに好ましくは４
０〜８０モル％である。エピクロルヒドリン系ゴム中の
エピクロルヒドリン単位の量が多すぎると体積固有抵抗
値が高くなり、少なすぎると吸湿性が高くなる。

【００２５】エピクロルヒドリン系ゴム中のアルキレン
オキサイド単位の量は、好ましくは０〜７０モル％、よ
り好ましくは１０〜６５モル％、特に好ましくは２０〜
６０モル％である。エピクロルヒドリン系ゴム中のアル
キレンオキサイド単位の量が多すぎると吸湿性が高くな
ったり、あるいは体積固有抵抗値の環境依存性が大きく
なるため、環境によっては使用できない場合がある。

【００２６】エピクロルヒドリン系ゴム中の不飽和エポ
キシド単位の量は好ましくは０〜１５モル％、より好ま
しくは１〜１２モル％、特に好ましくは２〜１０モル％
である。エピクロルヒドリン系ゴム中の不飽和エポキシ
ド単位の量が多すぎると、低硬度の架橋物を得ることが
困難である。不飽和エポキシド単位の量が少なすぎると
硫黄系架橋剤または過酸化物による架橋を用いる場合
は、架橋しないことがある。

【００２７】エピクロルヒドリン系ゴムとしては、加工
における混練が容易であることから１００℃におけるム
ーニー粘度が好ましくは２０〜２００、より好ましくは
４０〜１５０、特に好ましくは５０〜１００のものが用
いられる。

【００２８】エピクロルヒドリン系ゴムの製造方法は、
特に限定されず、例えば特公昭５６−５１１７１号公報
に記載される有機アルミニウム化合物系触媒を用いて公
知の溶液重合法により製造できる。

【００２９】抵抗調製層の製造に用いられる（ａ）ゴム
成分に任意成分として、必須成分であるエピクロルヒド
リン系ゴムと併用できるゴムとしては、例えば、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリ
ル−イソプレン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−イソプレン共重合体ゴム、スチレン−ブタジエ
ン共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、エチレン−
プロピレン−ジエン共重合ゴム、クロロプレンゴム、ア
クリルゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムなどが挙げられ
る。

【００３０】エピクロルヒドリン系ゴムと他のゴムとの
ブレンド比率は、一般に、エピクロルヒドリン系ゴム５
０〜１００重量％、好ましくは６０〜９０重量％、特に
好ましくは７０〜８５重量％、任意成分のゴム０〜５０
重量％、好ましくは１０〜４０重量％、特に好ましくは
１５〜３０重量％の範囲である。任意成分のゴムが多す
ぎると低分子量エピクロルヒドリン系重合体との相溶性
が悪くなり、少なすぎると任意成分のゴムを加えた効果
が出にくい。

【００３１】エピクロルヒドリン系ゴムと任意成分であ
るゴムとのブレンドは、ロールやバンバリーミキサーな
どのような通常の混練機を用いて混合すればよい。

【００３２】（低分子量エピクロルヒドリン系重合体）
本発明に用いられる低分子量エピクロルヒドリン系重合
体は、エピクロルヒドリン単位を必須とする重合体であ
る。低分子量エピクロルヒドリン系重合体は、エピクロ
ルヒドリンと共重合可能な単量体単位を含有していても
よく、そのような単位となる単量体としては、アルキレ
ンオキサイドおよび不飽和エポキシドが例示される。ア
ルキレンオキサイドおよび不飽和エポキシドとしてはエ
ピクロルヒドリン系ゴムの単量体として説明したものが
用いられる。

【００３３】（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合
体中のエピクロルヒドリン単位の量は好ましくは３０〜
１００モル％、より好ましくは３５〜１００モル％、特
に好ましくは４０〜１００モル％である。エピクロルヒ
ドリン単位量が多くなるほど抵抗調整層の体積固有抵抗
値は大きくなり、少なくなるほど低分子量エピクロルヒ
ドリン系重合体の製造が困難になる。アルキレンオキサ
イド単位量は好ましくは０〜７０モル％、より好ましく
は０〜６５モル％、特に好ましくは０〜６０モル％であ
る。アルキレンオキサイド単位量は少なくなるほど体積
固有抵抗値は大きくなり、多くなるほど製造が困難にな
る。不飽和エポキシド単位の量は好ましくは０〜２０モ
ル％、より好ましくは０〜１５モル％、特に好ましくは
０〜１０モル％である。不飽和エポキシド単位量が少な
すぎると、架橋剤である硫黄系架橋剤または過酸化物を
用いた場合は、低分子量エピクロルヒドリン系重合体が
エピクロルヒドリン系ゴムから溶出しやすくなる。一
方、不飽和エポキシド単位が多すぎると低分子量エピク
ロルヒドリン系重合体の製造が困難である。

【００３４】低分子量エピクロルヒドリン系重合体は常
温（２０〜３０℃）において液体状態のものであり、そ
の分子量が好ましくは１０００〜１００００、より好ま
しくは１５００〜８０００、特に好ましくは２０００〜
６０００のものである。また、低分子量エピクロルヒド
リン系重合体のムーニー粘度は通常１以下であり、小さ
すぎるために測定不可の場合も多い。低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体のトルエン溶液での還元粘度（η_sp
／Ｃ）は好ましくは０．０１〜０．５、より好ましくは
０．０２〜０．４、特に好ましくは０．０３〜０．３で
ある。η_sp／Ｃが大きすぎるとゴムの硬度を低下させる
効果が小さく、η_sp／Ｃが小さすぎるとブリードを生じ
ることがある。

【００３５】低分子量エピクロルヒドリン系重合体の製
造方法は特に限定されず、例えば、塩化第二錫、有機ア
ルミニウム／水錯体、フッ化ホウ素・エーテル錯体など
の触媒を用いて公知の溶液重合法により製造できる。

【００３６】（架橋剤）（ｃ）架橋剤としては硫黄または硫黄供与体、有機過酸
化物、メルカプトトリアジン類、チオウレア類などを挙
げることができる。硫黄供与体としては、例えば、モル
ホリンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィ
ドなどのチウラム類を挙げることができる。有機過酸化
物としてはケトンパーオキシド類、パーオキシエステル
類、ジアシルパーオキシド類、アルキルパーオキシド類
が挙げられ、これらの有機過酸化物を使用したときは耐
圧縮永久歪みが良好な架橋物が得られる。チオウレア類
としては、チオウレア、ジブチルチオウレア、トリエチ
ルチオウレアなどを挙げることができる。

【００３７】（エピクロルヒドリン系ゴム組成物）本発
明で用いるエピクロルヒドリン系ゴム組成物は、（ａ）
エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分、
（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合体および
（ｃ）架橋剤を含有する。

【００３８】（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合
体の量は、エピクロルヒドリン系ゴム１００重量部に対
し、好ましくは１０〜１５０重量部、より好ましくは２
０〜１２０重量部、特に好ましくは３０〜１００重量部
である。（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合体が
少なすぎると、エピクロリン系ゴム組成物の架橋後の硬
度が高くなりすぎる。多すぎると（ｂ）低分子量エピク
ロルヒドリン系重合体がブリードしたり、粘度が高くな
り、混練などのゴム組成物の調製作業が困難になる。

【００３９】（ｃ）架橋剤の量は、（ａ）ゴム成分１０
０重量部に対して、好ましくは０．１〜１０重量部、よ
り好ましくは０．２〜７重量部、特に好ましくは０．３
〜５重量部である。

【００４０】エピクロルヒドリン系ゴム組成物には、必
要に応じて架橋促進剤、補強剤、充填剤、老化防止剤な
どの通常のゴム配合剤を適宜混合することができる。

【００４１】エピクロルヒドリン系ゴム組成物は、前記
各成分をロールやバンバリーミキサーなどのような通常
の混練機を用い混合することにより得ることができる。

【００４２】エピクロルヒドリン系ゴム組成物の架橋
は、プレス、蒸気釜、射出成型機などのような通常のゴ
ム加工成形機を用いて１００〜２５０℃に加熱すること
によって行なうことができる。

【００４３】このエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架
橋すると、低分子量エピクロルヒドリン系重合体がブリ
ードアウトしなくなり、硬度（Ｄｕｒｏ−Ａ）が好まし
くは４０以下、より好ましくは３５以下、特に好ましく
は３０以下の中間弾性層に用いる架橋物が容易に得られ
る。

【００４４】本発明で使用されるエピクロルヒドリン系
ゴム組成物は粘度が低く、寸法安定性があるので押出成
形や射出成形にも適している。

【００４５】本発明で抵抗調整層を形成するエピクロル
ヒドリン系ゴム組成物の架橋物は半導電性を持つ。通
常、架橋物の体積固有抵抗値が１０⁵〜１０¹²Ω・ｃ
ｍ、好ましくは１０⁶〜１０¹¹Ω・ｃｍ、より好ましく
は１０⁷〜１０¹⁰Ω・ｃｍである。

【００４６】このエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架
橋すると、低分子量エピクロルヒドリン系重合体がブリ
ードアウトしなくなり、硬度（Ｄｕｒｏ−Ａ）が好まし
くは４０以下、より好ましくは３５以下、特に好ましく
は３０以下の抵抗調整層に用いる架橋物が容易に得られ
る。低分子量エピクロルヒドリン系重合体の割合が少な
すぎると硬度の低下効果が小さい。逆に、この割合が多
すぎると粘着性が強くなり、混練工程が複雑になりやす
い。なお、本発明でこのゴム組成物は粘度が低く、寸法
安定性があるので押出成形や射出成形にも適している。
架橋後、抵抗調整層が所定の層厚になるように研磨を行
なうが、本発明で用いる抵抗調整層は研磨性が非常によ
く、平滑な表面が得られる。

【００４７】エピクロルヒドリン系ゴム組成物の架橋物
は半導電性を持つ。通常、架橋物の体積固有抵抗値は１
０⁵〜１０¹²Ω・ｃｍ、好ましくは１０⁶〜１０¹¹Ω・ｃ
ｍ、より好ましくは１０⁷〜１０¹⁰Ω・ｃｍである。抵
抗調整性層の層厚を変えることによってロール電気抵抗
の調節が可能である。

【００４８】抵抗調整層の層厚は特に限定されないが、
好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは１００μｍ以
上、特に好ましくは２００μｍ以上である。層厚が薄す
ぎるとロール電気抵抗が小さくなりすぎるほか、抵抗調
整層の耐久性が問題となる。また、層厚は、好ましくは
２０ｍｍ以下、より好ましくは１０ｍｍ以下、特に好ま
しくは５ｍｍ以下である。層厚が厚すぎると、ロール電
気抵抗が高くなりすぎる。

【００４９】（表面層の材料）なお、抵抗調整層の粘着
性による弊害を防止するために表面層を設けてもよい。
表面層としては、樹脂層またはゴム層を形成する。樹脂
層またはゴム層としては、半導電性を有する樹脂層また
はゴム層が好ましい。

【００５０】表面層を構成する樹脂としては、特に限定
されず、一般の半導電性ゴムロールにおいて表面層とし
て用いられる樹脂、例えば、ポリウレタン樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイ
ミド樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。

【００５１】表面層を構成する樹脂として用いられるポ
リウレタン樹脂は、多官能イソシアネート化合物とポリ
エーテルポリオールまたはポリエステルポリオールとの
反応物である。このポリウレタン樹脂は、分子鎖中に親
水性官能基を有していてもよい。ポリウレタン樹脂の被
覆は、環境汚染が小さく、ゴム層を膨潤させることな
く、ゴム層から配合剤が溶出しないことから、自己乳化
型または強制乳化型のポリウレタン樹脂水分散液を用い
て行うことが好ましい。

【００５２】樹脂層を構成する樹脂として用いることの
できるシリコーン樹脂としては、メチル基、フェニル基
を側鎖に有するもの、アクリル基、エポキシ基、エステ
ル基などで変性したものなどが例示できる。

【００５３】樹脂層を構成する樹脂として用いることの
できるナイロン樹脂の中ではＮ−メトキシメチル化ナイ
ロンが好ましい。Ｎ−メトキシメチル化ナイロンは、６
−ナイロンのアミド基をメトキシメチル化することによ
って得られるものであり、そのメトキシ化率を高くする
ことによりアルコールに対する溶解性が向上する。

【００５４】樹脂層を用いた場合の表面層の層厚は、好
ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは７〜２００μ
ｍ、さらに好ましくは１０〜１５０μｍの範囲である。
層厚が小さすぎると摩耗に対する耐久性が低下し、大き
すぎると被膜にクラックが入りやすくなる。

【００５５】表面層をゴム層とする場合、ゴム層を形成
するゴムは特に限定されるものではく、一般の半導電性
ゴムロールにおいて表面層を構成するのに用いられるゴ
ムが用いられ、例えば、アクリロニトリルブタジエン共
重合体ゴム、エチレンプロピレンジエン共重合体ゴム、
エピクロルヒドリン系ゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム
などの合成ゴムが単独で、またはブレンドして用いられ
る。

【００５６】表面層としてゴム層を用いた場合、表面層
の層厚は樹脂の場合と比べクラックが入る問題がないた
め特に限定されない。

【００５７】表面層の体積固有抵抗値は電気抵抗のバラ
ツキを小さくするために好ましくは１０⁵〜１０¹²Ω・
ｃｍ、より好ましくは１０^5.5〜１０¹¹Ω・ｃｍ、さら
に好ましくは１０⁶〜１０¹⁰Ω・ｃｍである。表面層を
構成する樹脂やゴムの種類によっては、アセチレンブラ
ックなどのカーボンブラック；酸化スズ、酸化亜鉛な
どの導電性酸化物；界面活性剤などの導電性付与剤；
などを添加して、体積固有抵抗値を調整する。

【００５８】なお、感光体汚染、ブリード性の点から表
面層を構成する樹脂やゴムには、可塑剤や軟化剤は使用
しないことが好ましい。

【００５９】表面層の成型方法も特に限定されない。通
常、表面層を構成する樹脂またはゴムを有機溶剤や水な
どに溶解または分散させ、この溶液または分散液を前記
中間弾性層の表面に塗布し、乾燥して形成される。必要
に応じて、架橋剤などを配合した架橋性樹脂、または架
橋性ゴムを調製し、その溶液または分散液を前記中間弾
性層の表面に塗布し、乾燥し、架橋して形成してもよ
い。塗布方法は、刷毛塗り、スプレー塗り、浸漬（ディ
ップ）などの方法が挙げられるが、生産効率の点からデ
ィップ方式が好ましい。乾燥方法は、自然乾燥、加熱乾
燥などの方法が挙げられるが、中でも表面層の膜厚の均
一性を高めるために加熱乾燥が好ましい。架橋方法は、
特に限定されず、用いる樹脂またはゴム、架橋剤などの
特性に応じた架橋方法を取ればよい。

【００６０】表面層をゴム層とした場合、表面層の摩擦
係数を低減するために表面処理を行なうことが好まし
い。表面処理を行なうには、先ず研磨材を用いて表面を
適度に研磨することが好ましい。表面処理方法としては
紫外線照射、オゾン暴露、反応性シリコーン化合物の塗
布、または反応性フッ素化合物の塗布などが挙げられ
る。このような表面処理を行なうことによりゴムロール
表面の粘着による弊害を防止できる。

【００６１】（半導電性ゴムロール）本発明の半導電性
ゴムロールは、中心軸から順に（Ａ）軸体、（Ｂ）導電
性高分子層および（Ｃ）（ａ）エピクロルヒドリン系ゴ
ムを必須成分とするゴム成分、（ｂ）低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体、および（ｃ）架橋剤を含有するエ
ピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して成る抵抗調整
層の少なくとも三層を有する多層のものである。

【００６２】具体例として、図１、図２に示す半導電性
ゴムロールについて説明する。図１は本発明の半導電性
ゴムロールの一例を示す軸に垂直な断面図、図２は同じ
く一例を示す軸方向の断面図である。この一例において
は、半導電性ゴムロールの中心部分に存在する軸体１４
は、真円柱状であり、その外周と接して導電性高分子層
１５が形成されている。さらにその導電性高分子層の外
周に抵抗調整層１６が形成されている。

【００６３】また前述のように、抵抗調整層の外周面上
に表面層を形成してもよい。

【００６４】本発明の半導電性ゴムロールを製造する方
法も特に限定されない。例として、図１、図２に示す半
導電性ゴムロールのように３層構造の場合について、一
例を説明する。

【００６５】軸体をロール金型内に固定し、軸体の外周
上の導電性高分子層形成面を覆うように導電性高分子材
料を入れてロール状に賦形し、次いで架橋する場合は加
熱して架橋させ、導電性高分子層を形成する。形成後、
寸法精度や密着性の向上などの必要に応じてこの導電性
高分子層の表面を研磨した後、その上に抵抗調整層を形
成する。

【００６６】抵抗調整層の形成は、エピクロルヒドリン
系ゴム組成物を押出機を用いて導電性高分子層の外周上
に積層し、加熱して架橋させればよい。その後、必要に
応じて表面を研磨するなどの処理を行う。

【００６７】本発明の半導電性ゴムロールは感光体上の
静電潜像をトナーにより可視像に現像する画像形成装置
において、感光体と接触して配置される現像ロール、帯
電ロールまたは転写ロールなどとしてとして好適であ
る。

【００６８】（画像形成装置）本発明の画像形成装置
は、帯電ロール、現像ロール、転写ロールなどのロール
の内、少なくとも一つとして本発明の半導電性ゴムロー
ルを有する。

【００６９】本発明の画像形成装置の構造、機能は、特
に限定されず、例えば、（１）帯電ロールが感光体に当
接して感光体表面を帯電させ、（２）露光手段により露
光することにより帯電した感光体表面に静電潜像を形成
させ、（３）トナーが塗布された現像ロールが感光体に
当接して、静電潜像がトナーにより可視像に現像され、
（４）転写ロールを用い電圧を印加してトナーを印刷用
紙に転写するように構成され、機能するものである。

【００７０】このような画像形成装置としては、例え
ば、図３に示されるものが挙げられる。図３に示す画像
形成装置では静電潜像を形成する感光体１と帯電ロール
１０とが接触するように配置され、電源から帯電ロール
の軸体を通じて電圧が印加されるようになっており、こ
れによって、感光体の表面を帯電させる。レーザー光源
などを用いた露光装置９により露光し、帯電した感光体
１の表面に静電潜像を形成させる。感光体１は、現像ロ
ール２とも接触するように配置されている。現像工程で
は、トナー４が供給ロール６により隣接する現像ロール
２の表面に塗布される。現像ブレード３により、現像ロ
ール表面に塗布されたトナーの厚みを均一に制御する。
現像ロールの表面に一様かつ均一に塗布されたトナー
は、感光体ドラム表面に形成された静電潜像を可視化す
る。

【００７１】感光体上のトナー像は、電源により転写ロ
ール１１に軸体を介してトナーと逆極性の電圧を印加し
て電界を発生させ、該電界の静電気力によって感光体ド
ラム上のトナーを転写材１３に転写する。

【００７２】転写工程の後、感光体表面に残留するトナ
ーは、クリーニングブレードなどのクリーニング装置に
よって除去してもよいが、図３には、このようなクリー
ニング装置のない、いわゆるクリーナーレス方式の画像
形成装置が示されている。したがって、感光体ドラム表
面に残留するトナーは、帯電ロールと接触することにな
る。クリーナーレス方式では、帯電工程を通過した後、
帯電された感光体の表面電位と現像バイアスの差異によ
って、トナーを静電気力で現像装置に吸引して回収す
る。すなわち、帯電工程終了後であって、転写工程が開
始される前の、例えば、現像工程において発生した静電
気力によって残留トナーを回収する。なお、現像ロール
２の軸体は、通常、バイアス電圧が印加できるように構
成されている。転写材は、例えば、紙やＯＨＰシートな
どである。

【００７３】

【実施例】以下に実施例、比較例を挙げて本発明をより
具体的に説明する。使用した溶媒、単量体などは、全て
脱気脱水処理を行って用いた。なお、本実施例で採用し
た中間弾性層ゴム特性評価方法およびロール特性評価方
法を下記に示す。

【００７４】［還元粘度（η_sp／Ｃ）］還元粘度は、重
合体１ｇをトルエン１００ｍｌに溶解したものを３０℃
の恒温水槽において、オストワルド粘度計タイプ０Ａを
用いて測定した。

【００７５】［硬度］硬度はＪＩＳＫ６２５３に従
って測定した。

【００７６】［体積固有抵抗値］体積固有抵抗値（Ω・
ｃｍ）は、それぞれの材料で厚さ２ｍｍのシートを作製
し、それをガイドリング付き電極に挟んで、直流５００
Ｖの電圧で２３℃、５０％ＲＨにて測定した。

【００７７】［ロール電気抵抗］ロール電気抵抗（Ω）
は、ステンレス鋼製の軸体を用いてゴム面長２００ｍ
ｍ、ゴム厚さ３ｍｍ、ロール外径１８ｍｍの半導電性ゴ
ムロールを作製し、ゴム面長と同じ長さで１０００ｇの
黄銅製の電極を乗せて、半導電性ゴムロールの軸体と電
極間に５００Ｖの直流電圧をかけて測定した。

【００７８】［ロール表面粗さ］表面粗さとしては、得
られたゴムロールの表面を研磨材で研磨し、ＪＩＳＢ
０６０１に記載されている１０点平均粗さＲｚ（μｍ）
を測定した。

【００７９】［耐久性、Ｌ／Ｌ印字濃度］作製した半伝
導性ゴムロールを現像ロールとして、電子写真プリンタ
ー（画像形成装置）に取り付けて２３℃、５０％ＲＨの
環境下にて５％印字のパターンで連続印字を行ない、印
字濃度や印字のムラなどの印字品質について評価した。
印字品質が悪化した場合には使用した感光体やトナーを
正常品と交換して実験を行い、原因を確認した。印字品
質の悪化の原因としては感光体の削れやトナー劣化など
が挙げられる。さらに、感光体削れについては顕微鏡に
よる表面観察によっても確認を行った。印字品質、感光
体削れは共に３段階評価であり、表１中で印字品質は、
○は３万字印字しても印字品質が安定であることを表
し、△は３万枚印字では印字品質に悪化が認められた
が、２万枚印字しても印字品質が安定であることを表
し、×は２万枚印字して２万枚目には印字品質に悪化が
認められることを表す。表１中で感光体削れは、○は３
万枚印字しても感光体の削れによる影響がないことを表
し、△は３万枚印字すると感光体の削れによる影響が認
められるが、２万枚印字しても２万枚目に感光体の削れ
による影響がないことを表し、×は２万枚印字して２万
枚目に感光体削れが原因の印字品質の悪化が見られるこ
とを示す。

【００８０】また、低温低湿度のＬ／Ｌ環境下（１０
℃、２０％ＲＨ）についての印字濃度についても評価し
た。Ｌ／Ｌ印字濃度の評価はマクベス反射濃度計を用
い、「黒ベタ部」を測定することにより行った。○は印
字濃度が１．３以上であることを、×は印字濃度が１．
３未満であることを示す。

【００８１】参考例１密栓した内容積８００ミリリットルの耐圧ガラスボトル
を窒素置換して、トルエン１８０ｇ及びトリイソブチル
アルミニウム６０ｇを仕込んだ。ガラスボトルを氷水に
浸漬して冷却後、ジエチルエーテル２２４．２ｇを添
加し撹拌した。次に氷水で冷却しながら正リン酸８．８
９ｇを添加し、さらに撹拌した。この時、有機アルミニ
ウムと正リン酸の反応によりボトル内圧が上昇するので
適時脱圧を実施した。次に１，８−ジアザ−ビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−７のギ酸塩８．９８ｇを添
加した。得られた反応混合物を６０℃の温水浴内で１時
間熟成反応して、触媒溶液を得た。

【００８２】参考例２５リットルのオートクレーブにエピクロルヒドリン２５
１．４ｇ、アリルグリシジルエーテル３１ｇ、エチレン
オキサイド２２．１１ｇ、トルエン２９０７．１２ｇを
入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら内溶液を７０℃に昇
温し、参考例１で得た触媒溶液を１３ミリリットルを添
加して反応を開始した。

【００８３】次に、触媒添加から５時間かけて等速度
で、エチレンオキサイド１４５．４９ｇをトルエン３３
９．４８ｇに溶解した溶液を連続添加した。同時に、５
時間に渡り、３０分毎に触媒溶液を７ミリリットルづつ
添加した。触媒添加から５時間で反応を完結させた。

【００８４】反応終了後、水を１５ｇ添加して撹拌し、
さらに４，４’−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−
３−メチルフェノール）５重量％トルエン溶液を４５ｇ
添加し撹拌した。溶媒を除去する為に、スチームストリ
ッピングを実施し上澄み水を除去後６０℃にて真空乾燥
し、ムーニー粘度８５のエピクロルヒドリンゴムＡを４
３６．５ｇを得た。エピクロルヒドリンゴムＡが、エピ
クロルヒドリン単位／アリルグリシジルエーテル単位／
エチレンオキサイド単位がモル比で４０／４／５６であ
る３元共重合体であることをＮＭＲ分析で確認した。

【００８５】参考例３エピクロルヒドリン量を３３９．７ｇに、アリルグリシ
ジルエーテル量を４９．９５ｇに、エチレンオキサイド
量を８．５３ｇに、トルエン量を３１２５．６９ｇに、
窒素雰囲気下での昇温を６０℃に、参考例１で得た触媒
溶液量を１０ミリリットルに、エチレンオキサイドのト
ルエン溶液をエチレンオキサイド５１．８２ｇをトルエ
ン１２０．９１ｇに溶解した溶液に変える以外は参考例
１と同様に処理して、ムーニー粘度８０、エピクロルヒ
ドリン単位／アリルグリシジルエーテル単位／エチレン
オキサイド単位がモル比で６７／８／２５であるエピク
ロルヒドリンゴムＢを４３４．２ｇ得た。

【００８６】参考例４エピクロルヒドリン量を３３９．７ｇに、アリルグリシ
ジルエーテル量を４９．９５ｇに、エチレンオキサイド
量を８．５３ｇに、トルエン量を３１２５．６９ｇに、
窒素雰囲気下での昇温を６０℃に、参考例１で得た触媒
溶液量を１０ミリリットルに、エチレンオキサイドのト
ルエン溶液をエチレンオキサイド５１．８２ｇをトルエ
ン１２０．９１ｇに溶解した溶液に変える以外は参考例
１と同様に処理して、ムーニー粘度８０、エピクロルヒ
ドリン単位／アリルグリシジルエーテル単位／エチレン
オキサイド単位がモル比で６７／８／２５であるエピク
ロルヒドリンゴムＢを４３４．２ｇ得た。

【００８７】参考例５ 5リットルのオートクレーブにエピクロルヒドリン２０
００ｇおよびトルエン８５７ｇを入れ、窒素雰囲気下に
て撹拌しながら内溶液を５０℃に昇温し、四塩化スズ３
０重量％トルエン溶液を３ミリリットル添加して重合を
開始した。さらに３０分毎に同じ四塩化スズ溶液を３ミ
リリットルづつ１０時間にわたり添加し、重合反応を行
った。ガスクロマトグラフ分析による未反応エピクロル
ヒドリンの定量分析によれば重合反応率は８１％であっ
た。得られた反応物混合液に水酸化ナトリウム２０重量
％水溶液６１．５ｇを添加し、さらに４，４’−チオビ
ス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）
５重量％トルエン溶液を１６２ｇ添加し撹拌した。溶媒
および未反応単量体を除去するために、スチームストリ
ッピングを実施し、上澄み水を除去後、６０℃にて真空
乾燥して、還元粘度が０．０９を示す粘重な低分子量エ
ピクロルヒドリン重合体ａ１６００ｇを得た。

【００８８】参考例６エピクロルヒドリン量を１９３０ｇに変え、さらにエピ
クロルヒドリンとトルエンと同時にエチレンオキサイド
７０ｇをオートクレー部に入れる以外は、参考例４と同
様に処理し、低分子量エピクロルヒドリン重合体ｂ６６
０ｇを得た。ガスクロマトグラフィーによる未反応エピ
クロルヒドリンと未反応エチレンオキサイドの定量分析
によれば重合反応率は３４％、還元粘度が０．０６、Ｎ
ＭＲ分析によれば、エピクロルヒドリン単位／エチレン
オキサイド単位のモル比が８０／２０の共重合体であっ
た。

【００８９】実施例１〜６、比較例１〜３表１、２に示す配合で、ロールで混練し、抵抗調整層材
料および導電性高分子層材料間弾性層材料の各ゴム組成
物を調製した。なお、配合材料で、上記で説明されてい
ないものは以下のようなものである。アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム：日本ゼオ
ン製、Ｎｉｐｏｌ１０５２Ｊ、日本ゼオン製液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム：日本
ゼオン製、Ｎｉｐｏｌ１３１２、カーボンブラック：ケッチェンブラック製、ケッチェ
ンブラックＥＣ、導電性酸化亜鉛：白水化学製、２３−Ｋ

【００９０】これらのゴム組成物をシート状に成形して
１５５℃で３０分間架橋し、厚さ２ｍｍの架橋ゴムシー
トを得た。得られた各架橋ゴムシートを用いて導電性高
分子材料特性、抵抗調整層ゴム特性として、硬度、体積
固有抵抗値を測定した結果を表１に示す。

【００９１】半導電性ゴムロールの成形は、次のように
して、軸体に導電性高分子層を積層し、さらにその外周
上に抵抗調整層を積層して製造した。

【００９２】ステンレス鋼製で全体の長さが２６３ｍ
ｍ、導電性高分子層被覆部の長さ２２７ｍｍ、外径１０
ｍｍの円柱状中実体を軸体としてロール金型内に入れ、
そこに導電性高分子材料を入れて、軸体の周囲にロール
状に賦形し、次いで加熱して架橋する方法によって行っ
た。架橋成形後、その表面を研磨材で研磨して、導電性
高分子層の厚さ２．０〜２．７ｍｍの導電性高分子層を
形成した。

【００９３】次いで、抵抗調整層材料のゴム組成物を前
記導電性高分子層の表面にクロスヘッド押出機を用いて
被覆した。その後、蒸気釜中で１５０℃、６０分間、ス
チーム架橋を行い、表面を研磨材で研磨し、厚さ０．３
〜１．０ｍｍの抵抗調整層を形成した。

【００９４】製造した半導電性ロールについて、ロール
特性として、中間弾性層厚、表面層厚、ロール硬度、ロ
ール電気抵抗、ロール表面粗さＬ／Ｌ印字濃度、感光体
汚染、耐久性（感光体削れ）、耐久性（印字品質）を測
定または評価した結果を表１、表２に示す。

【００９５】

【表１】

【００９６】

【表２】

【００９７】表１に示されるように、実施例１〜６では
いずれも抵抗調整層ゴム特性は硬度で３０以下であり、
ロール硬度でも４０以下と低硬度である。抵抗調整層ゴ
ム特性の体積固有抵抗値も適度な半導電性を示してお
り、抵抗調整層の層厚を変えることでロール電気抵抗の
調整が可能であることがわかる。

【００９８】研磨後のロール表面粗さはいずれも小さ
く、現像ロールとして、連続印字試験における耐久性も
優れ、感光体削れもなく、印字品質も良好に保たれ、低
温低湿（Ｌ／Ｌ）下での印字試験においても十分な印字
濃度が得られた。

【００９９】表２に示されるように比較例１では抵抗調
整層にエピクロルヒドリンゴムを用いているのでＬ／Ｌ
印字濃度は十分であるが、低分子量エピクロルヒドリン
系重合体を用いていないのでロール硬度が高く、連続印
字試験における耐久性が劣る。

【０１００】比較例２では液状アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体ゴムを用いているため硬度が低く、感光
体削れはないがエピクロルヒドリンゴムと液状アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合体ゴムの相溶性が悪く、研
磨してもロール表面粗さが非常に大きくなる。そのた
め、Ｌ／Ｌ印字濃度に問題を生じ、トナー劣化も生じて
いた。

【０１０１】比較例３ではアクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体ゴムと液状アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体ゴムの相溶性が良好なため、感光体削れや初期の
印字品質は良好であった。しかし、抵抗調整層にアクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムを用いているた
め、Ｌ／Ｌ印字濃度が低く、調べたところ、低温低湿度
環境下では、ロール電気抵抗が大きく上昇していた。ま
た、連続印字試験においても印字品質がやや悪化する。

【０１０２】

【発明の効果】本発明の半導電性ロールは、硬度が低く
安定であり、耐圧縮永久歪み性や耐久性などに優れ、環
境依存性が小さく、加工性に優れ、平滑な表面を得るこ
とができ、抵抗調整層の層厚によってロール電気抵抗の
調整が可能である。

【０１０３】また、本発明の半導電性ロールを部品とし
て有する画像形成装置は、半導電性ロールに起因するト
ラブルや故障が少なく、品質も一定であり、長期間に渡
って、安定して使用可能である。

【０１０４】（態様）本発明の態様としては、（１）
中心軸から順に（Ａ）軸体、（Ｂ）導電性高分子層、お
よび（Ｃ）（ａ）エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分
とするゴム成分、（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系
重合体、および（ｃ）架橋剤を含有するエピクロルヒド
リン系ゴム組成物を架橋して成る抵抗調整層の少なくと
も三層を有する多層半導電性ゴムロールを有する半導電
性ゴムロール、（２）エピクロルヒドリン系ゴムが、
アルキレンオキサイド、エピクロルヒドリン、および不
飽和エポキシドを共重合して得られる共重合ゴムである
（１）記載のロール、（３）アルキレンオキサイド
が、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドをモル
比で１０／９０〜９０／１０、好ましくは１５／８５〜
８５／１５、より好ましくは２０／８０〜８０／２０で
併用したものである（２）記載のロール、（４）エピ
クロルヒドリン系ゴム中のエピクロルヒドリン単位の量
が、３０〜１００モル％、好ましくは３５〜９０モル
％、より好ましくは４０〜８０モル％である（１）〜
（３）のいずれかに記載のロール、（５）エピクロル
ヒドリン系ゴム中の不飽和エポキシド単位の量が、１〜
１５モル％、好ましくは２〜１２モル％、より好ましく
は２．５〜１０モル％である（１）〜（４）のいずれか
に記載のロール、（６）エピクロルヒドリン系ゴム
が、１００℃におけるムーニー粘度が２０〜２００、好
ましくは４０〜１５０、より好ましくは５０〜１００の
ものである（１）〜（５）のいずれかに記載のロール、
（７）（ａ）ゴム成分が、エピクロルヒドリン系ゴム
５０〜１００重量％、好ましくは６０〜９０重量％、よ
り好ましくは７０〜８５重量％、他のゴム０〜５０重量
％、好ましくは１０〜４０重量％、より好ましくは１５
〜３０重量％からなるものである（１）〜（６）のいず
れかに記載のロール、（８）（ｂ）低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体が、アルキレンオキサイド、エピク
ロルヒドリン、および不飽和エポキシドを共重合して得
られる共重合体である（１）〜（７）のいずれかに記載
のロール、（９）（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン
系重合体が、アルキレンオキサイド単位量が０〜７０モ
ル％、好ましくは５〜６５モル％、より好ましくは１０
〜６０モル％、エピクロルヒドリン単位量が３０〜１０
０モル％、好ましくは３５〜９５モル％、より好ましく
は４０〜９０モル％、不飽和エポキシド単位量が、０〜
２０モル％、好ましくは１〜１５モル％、より好ましく
は２．５〜１０モル％である（８）記載のロール、（１
０）（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系重合体が常
温（２０〜３０℃）において液体状態のものである
（８）または（９）記載のロール、（１１）（ｂ）低分
子量エピクロルヒドリン系重合体が、分子量１０００〜
１００００、好ましくは１５００〜８０００、より好ま
しくは２０００〜６０００のものである（８）〜（１
０）のいずれかに記載のロール、（１２）（ｂ）低分
子量エピクロルヒドリン系重合体が、ムーニー粘度１以
下のものである（８）〜（１１）のいずれかに記載のロ
ール、（１３）（ｂ）低分子量エピクロルヒドリン系
重合体のトルエン溶液での還元粘度（η_sp／Ｃ）が０．
０１〜０．５、好ましくは０．０２〜０．４、より好ま
しくは０．０３〜０．３のものである（８）〜（１２）
のいずれかに記載のロール（１４）エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、エピク
ロルヒドリン系ゴム１００重量部に対し、（ｂ）低分子
量エピクロルヒドリン系重合体を１０〜１５０重量部、
好ましくは２０〜１２０重量部、より好ましくは３０〜
１００重量部、（ａ）ゴム成分１００重量部に対して
（ｃ）架橋剤を０．１〜１０重量部、好ましくは０．２
〜７重量部、より好ましくは０．３〜５重量部を配合し
たものである（１）〜（１３）のいずれかに記載のロー
ル、（１５）（Ｃ）抵抗調整層の硬度（Ｄｕｒｏ−
Ａ）が４０以下、好ましくは３５以下、より好ましくは
３０以下である（１）〜（１４）のいずれかに記載のロ
ール、（１６）（Ｃ）抵抗調整層の厚さが５０μｍ以
上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは２００
μｍ以上、３０ｍｍ以下、好ましくは２０ｍｍ以下、よ
り好ましくは１５ｍｍ以下である（１）〜（１５）のい
ずれかに記載のロール、（１７）（Ｃ）抵抗調整層の
体積固有抵抗値が１０⁵〜１０¹²Ω・ｃｍ、好ましくは
１０⁶〜１０¹¹Ω・ｃｍ、より好ましくは１０⁷〜１０¹⁰
Ω・ｃｍである（１）〜（１６）のいずれかに記載のロ
ール、（１８）（１）〜（１７）のいずれかに記載の
ロールを部品として含有している画像形成装置、などが
例示される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の半導電性ロールの一例を示す断面図で
ある。

【図２】本発明の半導電性ロールの一例を示す軸方向の
断面図である。

【図３】本発明の画像形成装置の一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１感光体２現像ロール３現像ブレード４トナー５現像容器６供給ロール７定着ロール８加圧ロール９露光装置１０帯電ロール１１転写ロール１２撹拌棒１３転写材１４軸体１５導電性高分子層１６抵抗調整層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】中心軸から順に（Ａ）軸体、（Ｂ）導電
性高分子層ならびに（Ｃ）（ａ）エピクロルヒドリン系
ゴムを必須成分とするゴム成分、（ｂ）低分子量エピク
ロルヒドリン系重合体および（ｃ）架橋剤を含有するエ
ピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して成る抵抗調整
層の少なくとも三層を有する多層半導電性ゴムロールを
有する半導電性ゴムロール。
【請求項２】請求項１記載の半導電性ゴムロールを有
する画像形成装置。