JPH11270699A - 流量制御弁 - Google Patents
流量制御弁Info
- Publication number
- JPH11270699A JPH11270699A JP9389398A JP9389398A JPH11270699A JP H11270699 A JPH11270699 A JP H11270699A JP 9389398 A JP9389398 A JP 9389398A JP 9389398 A JP9389398 A JP 9389398A JP H11270699 A JPH11270699 A JP H11270699A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- flow control
- valve head
- valve seat
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Valve Housings (AREA)
- Lift Valve (AREA)
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 弁座に対する弁頭の変位量が小さい場合で
も、装置を大型化することなく流体の流量を増加させる
ことができる流量制御弁を提供すること。 【解決手段】 弁頭20と弁座30には、径方向の位置
がずれていて軸方向に延びる貫通溝がそれぞれ形成され
ている。アクチュエータ302が作動しない状態で、弁
頭20はスプリングSによって上方向に付勢され弁座3
0との間に隙間が形成され、流体は弁座30及び弁頭2
0に形成された貫通溝を介して流出路206に流過し、
アクチュエータ302が動作すると弁頭20が下方向に
移動して、弁座30と隙間なく接触するので、流体の流
れが阻止される。
も、装置を大型化することなく流体の流量を増加させる
ことができる流量制御弁を提供すること。 【解決手段】 弁頭20と弁座30には、径方向の位置
がずれていて軸方向に延びる貫通溝がそれぞれ形成され
ている。アクチュエータ302が作動しない状態で、弁
頭20はスプリングSによって上方向に付勢され弁座3
0との間に隙間が形成され、流体は弁座30及び弁頭2
0に形成された貫通溝を介して流出路206に流過し、
アクチュエータ302が動作すると弁頭20が下方向に
移動して、弁座30と隙間なく接触するので、流体の流
れが阻止される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流体の流量制御弁
の技術分野に属する。
の技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】従来の典型的な流量制御弁90の縦断面
図を図9に示す。この流量制御弁90は、流体の流入路
204と流出路206が形成されたベース200と、ベ
ース200の上部に立設されたケース300を具え、ケ
ース300内部に保持された(ピエゾ)アクチュエータ
302の下端部に固定された弁頭92によって、弁座9
4を介して流出路206を開閉するようになっている。
この流量制御弁90は、通常状態において流入路204
から供給された流体は流出路206へと流過するが、ア
クチュエータ302に電圧が印加されるとアクチュエー
タ302が下方向に変位し、弁頭92が流出路206を
閉塞して流体の流出を停止する。なお、弁頭92とアク
チュエータ302との間にはダイアフラム96が介在し
ていて、弁90が開閉動作する部分からアクチュエータ
302の作動部への流体の流出が阻止されているが、こ
のダイアフラム96は、その弾性力により、弁頭92を
開く方向に常時付勢しており、いわゆる「ノーマリーオ
ープン」タイプの流量制御弁となっている。
図を図9に示す。この流量制御弁90は、流体の流入路
204と流出路206が形成されたベース200と、ベ
ース200の上部に立設されたケース300を具え、ケ
ース300内部に保持された(ピエゾ)アクチュエータ
302の下端部に固定された弁頭92によって、弁座9
4を介して流出路206を開閉するようになっている。
この流量制御弁90は、通常状態において流入路204
から供給された流体は流出路206へと流過するが、ア
クチュエータ302に電圧が印加されるとアクチュエー
タ302が下方向に変位し、弁頭92が流出路206を
閉塞して流体の流出を停止する。なお、弁頭92とアク
チュエータ302との間にはダイアフラム96が介在し
ていて、弁90が開閉動作する部分からアクチュエータ
302の作動部への流体の流出が阻止されているが、こ
のダイアフラム96は、その弾性力により、弁頭92を
開く方向に常時付勢しており、いわゆる「ノーマリーオ
ープン」タイプの流量制御弁となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の構成から、従来
の流量制御弁90は、弁頭92と弁座94との隙間の大
きさによって流体の流量が決定される。しかし、弁頭9
2はピエゾアクチュエータ302によって変位させてい
るので変位量は比較的小さい。そのため、流体流量を増
加させるためには、アクチュエータの作動部を長大化さ
せなければならず、装置の小型化が困難であるという問
題を有していた。
の流量制御弁90は、弁頭92と弁座94との隙間の大
きさによって流体の流量が決定される。しかし、弁頭9
2はピエゾアクチュエータ302によって変位させてい
るので変位量は比較的小さい。そのため、流体流量を増
加させるためには、アクチュエータの作動部を長大化さ
せなければならず、装置の小型化が困難であるという問
題を有していた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、弁頭と該弁頭
に対向する弁座が平面同士で接離し、前記弁頭とそのア
クチュエータの間にダイアフラムが介在して流体の流出
が阻止されている流量制御弁において、前記弁頭と弁座
に、互いに径方向の位置がずれた径方向断面が円弧状で
軸方向に延びる貫通溝が形成されていて、前記対向する
平面同士が接したとき前記貫通溝が閉じられる流量制御
弁によって、前記の課題を解決した。
に対向する弁座が平面同士で接離し、前記弁頭とそのア
クチュエータの間にダイアフラムが介在して流体の流出
が阻止されている流量制御弁において、前記弁頭と弁座
に、互いに径方向の位置がずれた径方向断面が円弧状で
軸方向に延びる貫通溝が形成されていて、前記対向する
平面同士が接したとき前記貫通溝が閉じられる流量制御
弁によって、前記の課題を解決した。
【0005】
【発明の実施の形態】図1に、本発明のノーマリーオー
プンタイプの第1実施形態の流量制御弁10の縦断面図
を示す。この流量制御弁10は、弁頭20及び弁座30
を配置するための開口部202を具え、且つ、内部に流
体の流入路204、及び流出路206が形成されたベー
ス200と、ベース200に形成された開口部202を
覆い、且つ、内部にアクチュエータ302を保持するケ
ース300からなる。アクチュエータは、電磁式、圧電
(ピエゾ)式等が代表的なものである。
プンタイプの第1実施形態の流量制御弁10の縦断面図
を示す。この流量制御弁10は、弁頭20及び弁座30
を配置するための開口部202を具え、且つ、内部に流
体の流入路204、及び流出路206が形成されたベー
ス200と、ベース200に形成された開口部202を
覆い、且つ、内部にアクチュエータ302を保持するケ
ース300からなる。アクチュエータは、電磁式、圧電
(ピエゾ)式等が代表的なものである。
【0006】ベース200及びケース300はねじ等
(図示せず。)によって一体となっていて、制御される
流体が外部に流出することがないように、ベース200
とケース300の間にはOリング304が配置されてい
る。一体となったベース200及びケース300の内部
は、ケース300に一体的に形成されたダイアフラム3
06によって上方空間と下方空間に区切られ、上方空間
内にアクチュエータ302が保持され、下方空間内に弁
頭20及び弁座30が配置され、アクチュエータ302
の下端部はダイアフラム306の上面と接し、ダイアフ
ラム306の下面は弁頭20の上面に形成された突部2
2と接している。上記の構成において、流入路204か
ら供給される流体は下方空間内を通過して流出路206
へ流出するが、ダイアフラム306により、上方空間内
に流体が流出することはない。
(図示せず。)によって一体となっていて、制御される
流体が外部に流出することがないように、ベース200
とケース300の間にはOリング304が配置されてい
る。一体となったベース200及びケース300の内部
は、ケース300に一体的に形成されたダイアフラム3
06によって上方空間と下方空間に区切られ、上方空間
内にアクチュエータ302が保持され、下方空間内に弁
頭20及び弁座30が配置され、アクチュエータ302
の下端部はダイアフラム306の上面と接し、ダイアフ
ラム306の下面は弁頭20の上面に形成された突部2
2と接している。上記の構成において、流入路204か
ら供給される流体は下方空間内を通過して流出路206
へ流出するが、ダイアフラム306により、上方空間内
に流体が流出することはない。
【0007】ベース200の開口部202底部には、O
リング208を介して弁座30が固定されている。ケー
ス200と弁座30の間には、側面に複数の流通路G’
を具えた円筒形状のガイドGが固定され、このガイドG
の内部には、スプリングSによって常に図1の上方向に
付勢された弁頭20が、軸方向に移動可能に保持されて
いる。
リング208を介して弁座30が固定されている。ケー
ス200と弁座30の間には、側面に複数の流通路G’
を具えた円筒形状のガイドGが固定され、このガイドG
の内部には、スプリングSによって常に図1の上方向に
付勢された弁頭20が、軸方向に移動可能に保持されて
いる。
【0008】図2は、図1の流量制御弁10に使用され
る弁頭20を示し、図2(a)は斜視図、図2(b)は
図2(a)のb−b線縦断面図、図2(c)は図2
(b)のc−c線横断面図である。弁頭20は全体とし
て薄い円柱形状で、上面の中央部にダイアフラム306
と接する突部22を具え、下面の中央部にスプリングS
を受け入れる凹部26が形成されている。この弁頭20
には、周に沿って、1本がほぼ半円周の長さを有する軸
方向に延びる貫通溝24が同じ径について2本ずつ形成
され、さらにこれと同心で径の異なる貫通溝24’が同
じように2本ずつ形成されており、これらの径が異なり
且つ隣合う周方向の貫通溝24,24’は、互いにほぼ
90°ずつずれている。
る弁頭20を示し、図2(a)は斜視図、図2(b)は
図2(a)のb−b線縦断面図、図2(c)は図2
(b)のc−c線横断面図である。弁頭20は全体とし
て薄い円柱形状で、上面の中央部にダイアフラム306
と接する突部22を具え、下面の中央部にスプリングS
を受け入れる凹部26が形成されている。この弁頭20
には、周に沿って、1本がほぼ半円周の長さを有する軸
方向に延びる貫通溝24が同じ径について2本ずつ形成
され、さらにこれと同心で径の異なる貫通溝24’が同
じように2本ずつ形成されており、これらの径が異なり
且つ隣合う周方向の貫通溝24,24’は、互いにほぼ
90°ずつずれている。
【0009】また、図3は、図1の流量制御弁10に使
用される弁座30を示し、図3(a)は斜視図、図3
(b)は図3(a)のb−b線断面図、図3(c)は図
3(b)のc−c線横断面図である。上記の弁頭20と
同様に、弁座30も全体として薄い円柱形状であるがそ
の径は弁頭20よりも大きく、下部の外周側には円筒状
の脚部36が形成されている。この弁座30には、図2
に示す弁頭20と同様の軸方向に延びる貫通溝34,3
4’が形成されている。
用される弁座30を示し、図3(a)は斜視図、図3
(b)は図3(a)のb−b線断面図、図3(c)は図
3(b)のc−c線横断面図である。上記の弁頭20と
同様に、弁座30も全体として薄い円柱形状であるがそ
の径は弁頭20よりも大きく、下部の外周側には円筒状
の脚部36が形成されている。この弁座30には、図2
に示す弁頭20と同様の軸方向に延びる貫通溝34,3
4’が形成されている。
【0010】さらに、弁頭20に形成された貫通溝2
4,24’と弁座30に形成された貫通溝34,34’
は、互いに径が異なる場所に形成されているので、弁頭
20と弁座30が接すると、弁頭20の貫通溝24,2
4’と弁座30の貫通溝34,34’とが互いに軸方向
に連通することはない(図1参照)。
4,24’と弁座30に形成された貫通溝34,34’
は、互いに径が異なる場所に形成されているので、弁頭
20と弁座30が接すると、弁頭20の貫通溝24,2
4’と弁座30の貫通溝34,34’とが互いに軸方向
に連通することはない(図1参照)。
【0011】次に、この流量制御弁10の動作を説明す
る。流量制御弁10が開状態のときこの流量制御弁10
において、アクチュエータ302が作動せず、弁頭20
がスプリングSによって図1の上方向に付勢されて弁座
30と弁頭20の間に隙間が形成された状態で、ベース
200の流入路204から流入した流体は、弁座30の
貫通溝34,34’、弁座30と弁頭20との隙間、弁
頭20の外周面とガイドG内周面との隙間、及びガイド
Gに形成された流通路G’を経て、流出路206へ流過
するとともに、弁座30の貫通溝34、34’、弁座3
0と弁頭20との隙間、弁頭20の溝貫通24、2
4’、弁頭20の外周面とガイドGの内周面の隙間、及
びガイドGに形成された流通路G’を経て流出路206
へ流過する。
る。流量制御弁10が開状態のときこの流量制御弁10
において、アクチュエータ302が作動せず、弁頭20
がスプリングSによって図1の上方向に付勢されて弁座
30と弁頭20の間に隙間が形成された状態で、ベース
200の流入路204から流入した流体は、弁座30の
貫通溝34,34’、弁座30と弁頭20との隙間、弁
頭20の外周面とガイドG内周面との隙間、及びガイド
Gに形成された流通路G’を経て、流出路206へ流過
するとともに、弁座30の貫通溝34、34’、弁座3
0と弁頭20との隙間、弁頭20の溝貫通24、2
4’、弁頭20の外周面とガイドGの内周面の隙間、及
びガイドGに形成された流通路G’を経て流出路206
へ流過する。
【0012】流量制御弁10が閉状態のときピエゾアク
チュエータ302が作動して、弁頭20が図1の下方向
へ変位すると、弁頭20の下端面と弁座30の上端面は
隙間なく接する。すなわち、弁頭20と弁座30は平面
同士で接離する。弁頭20と弁座30に形成された貫通
溝24,24’34,34’は、それぞれ径が異なるの
で、弁頭20と弁座30が接した状態において径方向の
位置が重なることがない。従って、弁頭20と弁座30
の貫通溝24,24’34,34’が互いに連通するこ
となく、且つ、弁頭20と弁座30の端面は隙間なく接
しているので、流出路206への流体の供給が停止され
る。
チュエータ302が作動して、弁頭20が図1の下方向
へ変位すると、弁頭20の下端面と弁座30の上端面は
隙間なく接する。すなわち、弁頭20と弁座30は平面
同士で接離する。弁頭20と弁座30に形成された貫通
溝24,24’34,34’は、それぞれ径が異なるの
で、弁頭20と弁座30が接した状態において径方向の
位置が重なることがない。従って、弁頭20と弁座30
の貫通溝24,24’34,34’が互いに連通するこ
となく、且つ、弁頭20と弁座30の端面は隙間なく接
しているので、流出路206への流体の供給が停止され
る。
【0013】次に、図4は本発明のノーマリークローズ
ドタイプの第2実施形態の流量制御弁12の縦断面図を
示す。この流量制御弁12において、第1実施形態のも
のと同様の構成については説明を省略する。
ドタイプの第2実施形態の流量制御弁12の縦断面図を
示す。この流量制御弁12において、第1実施形態のも
のと同様の構成については説明を省略する。
【0014】ベース200の開口部202底部にはOリ
ング208を介して円筒状のガイドGが固定され、ガイ
ドGとケース300の下端面の間に弁座60が固定され
ている。円筒状のガイドG内部には、スプリングSによ
って常に図の上方向に付勢された弁頭40が、軸方向に
変位可能に保持されている。弁頭40の中心部に伝達ピ
ン50が連結され、この伝達ピン50は弁座60の中心
を貫通してダイアフラム306の下面に接している。
ング208を介して円筒状のガイドGが固定され、ガイ
ドGとケース300の下端面の間に弁座60が固定され
ている。円筒状のガイドG内部には、スプリングSによ
って常に図の上方向に付勢された弁頭40が、軸方向に
変位可能に保持されている。弁頭40の中心部に伝達ピ
ン50が連結され、この伝達ピン50は弁座60の中心
を貫通してダイアフラム306の下面に接している。
【0015】図5は、図4の流量制御弁12に使用され
る弁頭40を示し、図5(a)は斜視図、図5(b)は
図5(a)のb−b線縦断面図、図5(c)は図5
(b)のc−c線横断面図である。この弁頭40は、図
から理解されるように、図3に示した本発明の第1実施
形態で使用した弁座30と同一の形状である。また、形
成された貫通溝44,44’も図3の弁座30のものと
同一であるので、説明を省略する。
る弁頭40を示し、図5(a)は斜視図、図5(b)は
図5(a)のb−b線縦断面図、図5(c)は図5
(b)のc−c線横断面図である。この弁頭40は、図
から理解されるように、図3に示した本発明の第1実施
形態で使用した弁座30と同一の形状である。また、形
成された貫通溝44,44’も図3の弁座30のものと
同一であるので、説明を省略する。
【0016】図6は、図4の流量制御弁12に使用され
る弁座60を示し、図6(a)は斜視図、図6(b)は
図6(a)のb−b線縦断面図、図6(c)は図6
(b)のc−c線横断面図である。弁座60の中心に
は、伝達ピン50が貫通する孔62が形成されている。
この弁座60にも図5の弁頭40と同様に、軸方向に貫
通する複数の溝64,64’が形成されているが、弁座
60の最外周側には断面がL字状となるように厚みのほ
ぼ中心部分よりも上面側では軸方向に、下面側では周方
向に延びる連通孔66が2箇所に形成されている(図6
(b)参照)。なお、図6は弁座60の2箇所に連通孔
66を形成したものを示したが、連通孔66の数はこれ
に限定されるものではない。また、連通孔66の径の大
きさも、適宜選択することができる。
る弁座60を示し、図6(a)は斜視図、図6(b)は
図6(a)のb−b線縦断面図、図6(c)は図6
(b)のc−c線横断面図である。弁座60の中心に
は、伝達ピン50が貫通する孔62が形成されている。
この弁座60にも図5の弁頭40と同様に、軸方向に貫
通する複数の溝64,64’が形成されているが、弁座
60の最外周側には断面がL字状となるように厚みのほ
ぼ中心部分よりも上面側では軸方向に、下面側では周方
向に延びる連通孔66が2箇所に形成されている(図6
(b)参照)。なお、図6は弁座60の2箇所に連通孔
66を形成したものを示したが、連通孔66の数はこれ
に限定されるものではない。また、連通孔66の径の大
きさも、適宜選択することができる。
【0017】この実施形態においても第1実施形態のも
のと同様に、弁頭40に形成された貫通溝44,44’
と弁座60に形成された貫通溝64,64’は、互いに
径が異なる場所に形成されており、弁頭40と弁座60
が当接すると、弁頭44の貫通溝44,44’と弁座6
0の貫通溝64,64’が互いに軸方向に連通すること
はない(図4参照)。
のと同様に、弁頭40に形成された貫通溝44,44’
と弁座60に形成された貫通溝64,64’は、互いに
径が異なる場所に形成されており、弁頭40と弁座60
が当接すると、弁頭44の貫通溝44,44’と弁座6
0の貫通溝64,64’が互いに軸方向に連通すること
はない(図4参照)。
【0018】次に、この流量制御弁12の動作を説明す
る。流量制御弁12が閉状態のときこの流量制御弁12
において、アクチュエータ302が作動せず、弁頭40
が図4の上方向に付勢されて弁座60と弁頭40が隙間
なく接触した状態では、上述のとおり、弁頭40の溝と
弁座60の溝が互いに連通することがなく、流出路20
6への流体の供給が停止される。
る。流量制御弁12が閉状態のときこの流量制御弁12
において、アクチュエータ302が作動せず、弁頭40
が図4の上方向に付勢されて弁座60と弁頭40が隙間
なく接触した状態では、上述のとおり、弁頭40の溝と
弁座60の溝が互いに連通することがなく、流出路20
6への流体の供給が停止される。
【0019】流量制御弁12が開状態のときアクチュエ
ータ302が作動して、ダイアフラム306及び伝達ピ
ン50を介して弁頭40が図4の下方向に押し下げられ
ると、弁頭40と弁座60の間には隙間が形成される。
この状態で、ベース200の流入路204から流入した
流体は、弁頭40の貫通溝44,44’、弁頭40と弁
座60との隙間、弁座60の軸方向貫通溝64,6
4’、及び弁座60の最外周側に形成された連通孔66
を経て、流出路206へ流過する。なお、ガイドGと弁
頭40の間の隙間から同様の経路で流過する流体も僅か
はある。
ータ302が作動して、ダイアフラム306及び伝達ピ
ン50を介して弁頭40が図4の下方向に押し下げられ
ると、弁頭40と弁座60の間には隙間が形成される。
この状態で、ベース200の流入路204から流入した
流体は、弁頭40の貫通溝44,44’、弁頭40と弁
座60との隙間、弁座60の軸方向貫通溝64,6
4’、及び弁座60の最外周側に形成された連通孔66
を経て、流出路206へ流過する。なお、ガイドGと弁
頭40の間の隙間から同様の経路で流過する流体も僅か
はある。
【0020】上記の流量制御弁12は、弁座60に形成
した断面L字状の連通孔66を介して、流体が流出路2
06へ流過するようになっているが、連通孔66以外の
手段によって弁座60上面の空間と流出路206を連通
させれば、弁座60に連通孔66を設ける必要はない。
図7は、上記の連通孔66以外の連通手段の一例であっ
て、図4の流量制御弁12において、弁座上面の空間と
流出路を後述する連通溝によって連通させたものであ
り、図7(a)はケース300に凹溝312を形成した
ものの縦断面要部拡大図、図7(b)は弁座600の表
面に凹溝602を形成したものの縦断面要部拡大図であ
る。この流量制御弁に使用される弁座600には連通孔
66が形成されていないが、孔62、及び溝64,6
4’は図6の弁座60と同様に形成されている。また、
図7の流量制御弁において、ケース300及び弁座60
0に形成した凹溝312,602以外の構成は、図4の
ものと同様であるので説明を省略する。
した断面L字状の連通孔66を介して、流体が流出路2
06へ流過するようになっているが、連通孔66以外の
手段によって弁座60上面の空間と流出路206を連通
させれば、弁座60に連通孔66を設ける必要はない。
図7は、上記の連通孔66以外の連通手段の一例であっ
て、図4の流量制御弁12において、弁座上面の空間と
流出路を後述する連通溝によって連通させたものであ
り、図7(a)はケース300に凹溝312を形成した
ものの縦断面要部拡大図、図7(b)は弁座600の表
面に凹溝602を形成したものの縦断面要部拡大図であ
る。この流量制御弁に使用される弁座600には連通孔
66が形成されていないが、孔62、及び溝64,6
4’は図6の弁座60と同様に形成されている。また、
図7の流量制御弁において、ケース300及び弁座60
0に形成した凹溝312,602以外の構成は、図4の
ものと同様であるので説明を省略する。
【0021】この流量制御弁は、弁座600と当接する
ケース300の端面、またはケース300と当接する弁
座600の上面に形成した凹溝312,602によっ
て、ケース300と弁座600の間に連通溝660が形
成され、この連通溝660を通って流体が流出路206
へ流過する。図7には、ケース300または弁座600
の一方に、それぞれ凹溝312,602を形成したもの
を示したが、ケース300及び弁座600の両方に凹溝
312,602を形成してもよい。
ケース300の端面、またはケース300と当接する弁
座600の上面に形成した凹溝312,602によっ
て、ケース300と弁座600の間に連通溝660が形
成され、この連通溝660を通って流体が流出路206
へ流過する。図7には、ケース300または弁座600
の一方に、それぞれ凹溝312,602を形成したもの
を示したが、ケース300及び弁座600の両方に凹溝
312,602を形成してもよい。
【0022】上記の凹溝312,602は、ケース30
0の端面または弁座600の表面に形成されるので加工
が容易であり、弁座600自体の厚みが小さく、断面L
字状の連通孔66(図6参照)を形成することが困難な
場合にも好適である。
0の端面または弁座600の表面に形成されるので加工
が容易であり、弁座600自体の厚みが小さく、断面L
字状の連通孔66(図6参照)を形成することが困難な
場合にも好適である。
【0023】本発明の流量制御弁10,12に使用され
る弁頭20,40及び弁座30,60に形成する溝は、
上記の図2、図3、図5及び図6に示す形状以外のもの
であってもよい。図8はその一例として、周方向の溝の
本数を増加させた場合の横断面図であり、これは、図1
に示す流量制御弁10の弁頭20及び弁座30、図4に
示す流量制御弁12の弁頭40に適用される。
る弁頭20,40及び弁座30,60に形成する溝は、
上記の図2、図3、図5及び図6に示す形状以外のもの
であってもよい。図8はその一例として、周方向の溝の
本数を増加させた場合の横断面図であり、これは、図1
に示す流量制御弁10の弁頭20及び弁座30、図4に
示す流量制御弁12の弁頭40に適用される。
【0024】以上のように、本発明の流量制御弁10,
12は、弁頭20,40及び弁座30,60,600の
それぞれに、軸方向に貫通する溝を形成したので、弁頭
20,40と弁座30,60,600の間のギャップが
微小であっても流体流量を大きくすることができる。
12は、弁頭20,40及び弁座30,60,600の
それぞれに、軸方向に貫通する溝を形成したので、弁頭
20,40と弁座30,60,600の間のギャップが
微小であっても流体流量を大きくすることができる。
【0025】また、本発明の流量制御弁10,12にお
いて、弁頭20,40及び弁座30,60,600の断
面積に対する溝の面積の割合を大きくすれば、流体流量
をより大きくすることができる。そのためには、例え
ば、それぞれの溝幅を大きくしたり、溝の本数を多くす
ればよい。
いて、弁頭20,40及び弁座30,60,600の断
面積に対する溝の面積の割合を大きくすれば、流体流量
をより大きくすることができる。そのためには、例え
ば、それぞれの溝幅を大きくしたり、溝の本数を多くす
ればよい。
【0026】
【発明の効果】本発明の流量制御弁は、弁頭及び弁座に
軸方向に貫通する溝を形成したので、弁頭と弁座の間の
隙間が小さい場合でも、従来より流体流量を大きくする
ことができる。そのため、同じ面積の弁頭及び弁座と比
較して制御できる流体の流量を大きくすることができる
ので、装置を大型化することなく大きな流量を制御する
ことができるという効果を奏する。
軸方向に貫通する溝を形成したので、弁頭と弁座の間の
隙間が小さい場合でも、従来より流体流量を大きくする
ことができる。そのため、同じ面積の弁頭及び弁座と比
較して制御できる流体の流量を大きくすることができる
ので、装置を大型化することなく大きな流量を制御する
ことができるという効果を奏する。
【図1】 本発明の第1実施形態の流量制御弁の断面
図。
図。
【図2】 図1の流量制御弁に使用される弁頭を示し、
図2(a)は斜視図、図2(b)は図2(a)のb−b
線縦断面図、図2(c)は図2(b)のc−c線横断面
図。
図2(a)は斜視図、図2(b)は図2(a)のb−b
線縦断面図、図2(c)は図2(b)のc−c線横断面
図。
【図3】 図1の流量制御弁に使用される弁座を示し、
図3(a)は斜視図、図3(b)は図3(a)のb−b
線縦断面図、図3(c)は図3(b)のc−c線横断面
図。
図3(a)は斜視図、図3(b)は図3(a)のb−b
線縦断面図、図3(c)は図3(b)のc−c線横断面
図。
【図4】 本発明の第2実施形態の流量制御弁の断面
図。
図。
【図5】 図4の流量制御弁に使用される弁頭を示し、
図5(a)は斜視図、図5(b)は図5(a)のb−b
線縦断面図、図5(c)は図5(b)のc−c線横断面
図。
図5(a)は斜視図、図5(b)は図5(a)のb−b
線縦断面図、図5(c)は図5(b)のc−c線横断面
図。
【図6】 図4の流量制御弁に使用される弁座を示し、
図6(a)は斜視図、図6(b)は図6(a)のb−b
線縦断面図、図6(c)は図6(b)のc−c線横断面
図。
図6(a)は斜視図、図6(b)は図6(a)のb−b
線縦断面図、図6(c)は図6(b)のc−c線横断面
図。
【図7】 図4の流量制御弁において、連通溝によって
流体を流出路に流過させるものであり、図7(a)はケ
ースに凹溝を形成した流体制御弁の要部拡大縦断面図、
図7(b)は弁座に凹溝を形成した流体制御弁の要部拡
大縦断面図。
流体を流出路に流過させるものであり、図7(a)はケ
ースに凹溝を形成した流体制御弁の要部拡大縦断面図、
図7(b)は弁座に凹溝を形成した流体制御弁の要部拡
大縦断面図。
【図8】 本発明の流量制御弁に使用される弁頭及び弁
座に形成される溝の他の例を示す横断面図。
座に形成される溝の他の例を示す横断面図。
【図9】 従来の流量制御弁の縦断面図。
10,12:流量制御弁 302:アクチュエータ 20,40:弁頭 24,24’34,34’44,44’:貫通溝 30,60,600:弁座
Claims (3)
- 【請求項1】 弁頭と該弁頭に対向する弁座が平面同士
で接離し、前記弁頭とそのアクチュエータの間にダイア
フラムが介在して流体の流出が阻止されている流量制御
弁において、 前記弁頭と弁座に、互いに径方向の位置がずれた径方向
断面が円弧状で軸方向に延びる貫通溝が形成されてい
て、前記対向する平面同士が接したとき前記貫通溝が閉
じられることを特徴とする、 流量制御弁。 - 【請求項2】 前記弁頭にノーマリーオープン方向に付
勢力が作用している、請求項1の流量制御弁。 - 【請求項3】 前記弁頭にノーマリークローズド方向の
付勢力が作用している、請求項1の流量制御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9389398A JPH11270699A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9389398A JPH11270699A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 流量制御弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11270699A true JPH11270699A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=14095171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9389398A Pending JPH11270699A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 流量制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11270699A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011040330A1 (ja) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 株式会社堀場エステック | 流量調整弁及びマスフローコントローラ |
JP2016223509A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 三菱重工業株式会社 | 環状バルブ及び再生エネルギー型発電装置 |
WO2018226596A1 (en) * | 2017-06-05 | 2018-12-13 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductance valve |
US10458553B1 (en) | 2017-06-05 | 2019-10-29 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductive valve |
US11248708B2 (en) | 2017-06-05 | 2022-02-15 | Illinois Tool Works Inc. | Control plate for a high conductance valve |
-
1998
- 1998-03-24 JP JP9389398A patent/JPH11270699A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011040330A1 (ja) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 株式会社堀場エステック | 流量調整弁及びマスフローコントローラ |
JP2016223509A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 三菱重工業株式会社 | 環状バルブ及び再生エネルギー型発電装置 |
WO2018226596A1 (en) * | 2017-06-05 | 2018-12-13 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductance valve |
US10323754B2 (en) | 2017-06-05 | 2019-06-18 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductive valve |
US10458553B1 (en) | 2017-06-05 | 2019-10-29 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductive valve |
KR20200005577A (ko) * | 2017-06-05 | 2020-01-15 | 비스타델텍, 엘엘씨 | 큰 전도도 밸브를 위한 제어 플레이트 |
CN110709633A (zh) * | 2017-06-05 | 2020-01-17 | 威斯塔德尔特有限责任公司 | 用于高传导性阀的控制板 |
US10619745B2 (en) | 2017-06-05 | 2020-04-14 | Vistadeltek, Llc | Control plate for a high conductance valve |
JP2020522654A (ja) * | 2017-06-05 | 2020-07-30 | ビスタデルテク・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーVistadeltek, Llc | 高コンダクタンスバルブのための制御プレート |
US11248708B2 (en) | 2017-06-05 | 2022-02-15 | Illinois Tool Works Inc. | Control plate for a high conductance valve |
CN110709633B (zh) * | 2017-06-05 | 2022-04-22 | 威斯塔德尔特有限责任公司 | 用于高传导性阀的控制板 |
TWI766034B (zh) * | 2017-06-05 | 2022-06-01 | 美商伊利諾工具工程公司 | 用於高傳導性閥之控制板 |
JP2023001355A (ja) * | 2017-06-05 | 2023-01-04 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 高コンダクタンスバルブのための制御プレート |
US11885420B2 (en) | 2017-06-05 | 2024-01-30 | Illinois Tool Works Inc. | Control plate for a high conductance valve |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100396938C (zh) | 具有改进阀座的提升阀 | |
JP5947505B2 (ja) | 流体制御弁 | |
JPS5830568A (ja) | 定流量弁 | |
JP4067786B2 (ja) | 電磁弁 | |
JP5856917B2 (ja) | 減圧弁 | |
KR930003274Y1 (ko) | 유로접속장치 | |
JPH11270699A (ja) | 流量制御弁 | |
JP2009210071A (ja) | 逆止弁 | |
JP2002039429A (ja) | 二段パイロット式電磁弁 | |
JPH07238886A (ja) | ピストン式圧縮機の環状バルブ | |
JP2001208233A (ja) | 電磁弁 | |
JP4483828B2 (ja) | 燃料噴射弁 | |
JP2005265009A (ja) | チェックバルブ | |
JPS60125471A (ja) | スプ−ル弁 | |
JPS626374Y2 (ja) | ||
JP2001027335A (ja) | バルブ | |
JP2960390B1 (ja) | 流体圧機器 | |
KR20020043151A (ko) | 연료분사밸브 | |
JP2007218354A (ja) | 流体供給のための高速開閉複座弁装置 | |
JP2002372164A (ja) | 電磁弁 | |
JP2004019718A (ja) | 三方切換弁 | |
JP4569025B2 (ja) | ソレノイドバルブ | |
JP4025038B2 (ja) | 電磁弁 | |
JPH0534390Y2 (ja) | ||
JPH07224960A (ja) | 電磁弁 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050301 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070521 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070612 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071113 |