JPH11269135A - アミノカルボン酸誘導体およびそれを有効成分とする薬剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】例えば、下式 【化１】 で示されるアミノカルボン酸誘導体またはその薬学的に
許容される塩およびこれらを有効成分とする薬剤。 【効果】上記のアミノカルボン酸誘導体またはその薬学
的に許容される塩は、薬剤、特にセレクチン阻害剤とし
て有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，細胞接着分子であ
るセレクチンとシアリルルイスｘ（以下，シアリルＬｅ
ｘと略記する）糖鎖との結合を阻害する化合物として有
用な下式（Ｉ）

【０００２】

【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、フェニル基、ｐ―ヒドロキシ
フェニル基若しくは低級アルキル基を表わすか、または
カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、メチルチオ
基、アミノ基、グアニジノ基、イミダゾリル基、カルバ
モイル基、３―インドリル基、フェニル基若しくはｐ−
ヒドロキシフェニル基で置換された低級アルキル基を表
し；Ｘ、ＹおよびＺは、1）ＸおよびＹは同一であって
いずれも二価の原子団−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−
を表し、Ｚは酸素原子または二価の原子団−ＮＨＣＯ−
若しくは−ＣＯＮＨ−を表すか、2)ＸおよびＺは同一で
あっていずれも二価の原子団−ＮＨＣＯ−を表し、Ｙは
二価の原子団−ＮＨＳＯ₂−を表し；Ｗおよびｍは、1)
Ｙが−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を表す場合は、Ｗ
はアミノ基またはニトロ基が置換していてもよい１，３
−フェニレンを表すか、または−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、
ｍは０から２までの任意の整数を表し、2）Ｙが−ＮＨ
ＳＯ₂−を表す場合は、Ｗは１，３−フェニレンまたは
−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、ｍは０を表し、；ｎは１２から
２０までの任意の整数を表し；ｑは１から４までの任意
の整数を表す。）で示される新規な化合物またはその薬
学的に許容される塩、およびそれを有効成分とする薬剤
に関する。

【０００３】

【従来の技術】最近、各種の炎症性疾患において細胞接
着分子であるセレクチンの役割が注目されている。セレ
クチンには、Ｅ−セレクチン（ＥＬＡＭ−１と呼ばれる
こともある）、Ｐ−セレクチン（ＧＭＰ−１４０、ＰＡ
ＤＧＥＭ、ＣＤ６２等と呼ばれることもある）、あるい
はＬ−セレクチン（ＬＡＭ−１、ＬＥＣＡＭ−１、ｇｐ
９０Ｍｅｌ−１４等と呼ばれることもある）等の種類が
知られており、これらのセレクチンは、炎症の過程にお
いて種々の細胞に発現される。例えば、Ｅ−セレクチン
はＴＮＦ−α（Tumor Necrosis Factor-α）、ＩＬ−１
（Interleukin−１）等の刺激により、炎症部位近傍の
血管内皮細胞上に発現される。Ｐ−セレクチンは、トロ
ンビン、ヒスタミンなどの刺激により、主に血小板α顆
粒や血管内皮細胞のワイベルパラーデ小体に発現され
る。また、Ｌ−セレクチンは白血球細胞上に発現され
る。

【０００４】一般に、細胞浸潤は炎症の最も重要な所見
の一つである。この炎症時の細胞浸潤では、血液内の炎
症性細胞が血管内皮細胞と接着した後組織中に浸潤して
いくことが知られている。この細胞接着の前段階には、
炎症性細胞が血管壁に沿って転がる、ローリング（ｒｏ
ｌｌｉｎｇ）と呼ばれる現象が起きることが明らかにな
っている。このローリングは、上記の各種セレクチンと
炎症性細胞上に存在するシアリルＬｅｘ糖鎖（セレクチ
ンのリガンド）との相互作用によって媒介されるもので
あり、炎症性細胞の組織への浸潤の第一段階として極め
て重要な過程である。

【０００５】従って、これらのセレクチンとシアリルＬ
ｅｘ糖鎖との結合を阻害する化合物は、炎症性細胞と血
管内皮細胞との接着を阻止することにより各種の炎症性
疾患の予防または治療薬として有用である。即ち、セレ
クチン阻害剤は、各種の炎症、例えばアトピー性皮膚
炎、接触性過敏症、光線過敏症などの炎症性皮膚炎、慢
性腎炎、喘息等のほか、慢性関節リウマチ、慢性甲状腺
炎などの自己免疫性の慢性疾患の予防または治療に有用
である。

【０００６】また、虚血再灌流障害においても、好中球
の浸潤に伴う内皮細胞障害に各種のセレクチンが関与し
ていることが報告されている〔Stroke,25,202〜210(199
4)〕。実際、セレクチンのリガンドであるシアリルＬｅ
ｘ誘導体で再灌流動物モデルの障害が抑制できることが
報告されている〔J. Clin. Invest.,93,1140〜1148(199
4)〕。従って、セレクチン阻害剤は虚血再灌流障害にお
いても有効な抑制作用を有する（例えば，ＵＳ５，４４
４，０５０）。

【０００７】また、癌細胞の増殖時等に見られる血管新
生において、セレクチンのリガンドであるシアリルＬｅ
ｘ誘導体が、各種試験（in vitroおよびin vivo）で血
管新生を抑制できることが報告されている〔Biochem.Bi
ophys.Res.Commun,228,716-723(1996)〕。従って、セレ
クチン阻害剤は血管新生を伴うような疾患、例えば、癌
増殖等の抑制薬になり得る。

【０００８】さらに、癌の転移にセレクチンが重要な働
きをしていることが報告されている〔Science,246,1303
-1306(1989)〕。従って、セレクチン阻害剤は、癌転移
の抑制薬にもなり得る。既にセレクチンを阻害する種々
の化合物が公知であるが、アミノカルボン酸誘導体は、
それほど知られていない。ＰＣＴ国際公開公報ＷＯ９７
／１５５８５に開示されているセレクチン阻害化合物
は、フコースを含むジペプチド誘導体である。また、同
公報ＷＯ９４／２５０４３には糖を含まないセレクチン
阻害化合物が開示されているが、これらはアミノ酸が８
個以上結合したペプチド化合物である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、セレ
クチンとシアリルＬｅｘとの結合を強力に阻害する新規
な化合物およびそれを有効成分とする薬剤を提供するこ
とにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々検討
した結果、前記一般式（Ｉ）で表される、アミノカルボ
ン酸誘導体がセレクチンとリガンドとの結合に対して強
い阻害作用を有することを見出し、本発明を完成した。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明化合物は、下式（Ｉ）

【００１２】

【化３】 （式中、Ｒ¹は水素原子、フェニル基、ｐ―ヒドロキシ
フェニル基若しくは低級アルキル基を表わすか、または
カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、メチルチオ
基、アミノ基、グアニジノ基、イミダゾリル基、カルバ
モイル基、３―インドリル基、フェニル基若しくはｐ−
ヒドロキシフェニル基で置換された低級アルキル基を表
し；Ｘ、ＹおよびＺは、1）ＸおよびＹは同一であって
いずれも二価の原子団−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−
を表し、Ｚは酸素原子または二価の原子団−ＮＨＣＯ−
若しくは−ＣＯＮＨ−を表すか、2)ＸおよびＺは同一で
あっていずれも二価の原子団−ＮＨＣＯ−を表し、Ｙは
二価の原子団−ＮＨＳＯ₂−を表し；Ｗおよびｍは、1)
Ｙが−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を表す場合は、Ｗ
はアミノ基またはニトロ基が置換していてもよい１，３
−フェニレンを表すか、または−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、
ｍは０から２までの任意の整数を表し、2）Ｙが−ＮＨ
ＳＯ₂−を表す場合は、Ｗは１，３−フェニレンまたは
−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、ｍは０を表し、；ｎは１２から
２０までの任意の整数を表し；ｑは１から４までの任意
の整数を表す。）で示される化合物またはその薬学的に
許容される塩として表すことができる。

【００１３】本願明細書において、低級アルキル基とは
直鎖または分枝状の炭素数１〜４のアルキル基を表し、
具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓ
ｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基また
はｔｅｒｔ−ブチル基等を挙げることができる。また、
カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、メチルチオ
基、アミノ基、グアニジノ基、イミダゾリル基、カルバ
モイル基、３−インドリル基、フェニル基またはｐ−ヒ
ドロキシフェニル基で置換された低級アルキル基とは、
上記低級アルキル基の任意の位置にこれらの官能基が置
換したものを意味し、カルボキシメチル、カルボキシエ
チル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、メル
カプトメチル、２−メチルチオエチル基、４−アミノブ
チル基、３−グアニジノプロピル基、４−イミダゾリル
メチル、カルバモイルメチル、カルバモイルエチル、３
−インドリルメチル基、ベンジル、ｐ−ヒドロキシベン
ジル等の天然アミノ酸側鎖の他、例えば下式 −ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｘ¹、 −ＣＨ₂ＣＨ₂（Ｘ¹）ＣＨ₃ −ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｘ¹ −ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂（Ｘ¹）ＣＨ₃ （式中、Ｘ¹はカルボキシル基、水酸基、メルカプト
基、メチルチオ基、アミノ基、グアニジノ基、４−イミ
ダゾリル基、カルバモイル基、フェニル基、３−インド
リル基またはｐ−ヒドロキシフェニル基を示す。）で示
される置換低級アルキル基を例示することができる。

【００１４】アミノ基又はニトロ基が置換した１，３−
フェニレンとは、２、４、５又は６位のいずれかにアミ
ノ基又はニトロ基が置換した１，３−フェニレンを意味
する。

【００１５】前記式（Ｉ）で表される化合物の薬学的に
許容される塩基塩も本願発明に包含される。この場合の
塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシ
ウム塩等の無機塩基塩またはアルギニン塩、リジン塩等
の有機塩基塩を挙げることができる。

【００１６】また、前記式（Ｉ）で表される化合物の例
えば低級アルキルエステル等のプロドラッグも本願発明
に包含される。前記式（Ｉ）で表される化合物のうち、
塩基性基を持つものについては、その薬学的に許容され
る酸塩も本願発明に包含される。この場合の塩として
は、例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などの無機酸塩ま
たは酢酸塩、メタンスルホン酸塩、フマル酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩
を挙げることができる。さらに、本願発明は、式（Ｉ）
で示される化合物およびその薬学的に許容される塩の水
和物も包含する。

【００１７】前記式（Ｉ）で表される化合物の中には、
１個または複数個の不斉炭素原子を有するものがある。
この場合、これらの不斉炭素に基づくラセミ体、立体異
性体等はすべて本願発明に包含される。これらラセミ
体、立体異性体は後述する製造法でその中間体としてラ
セミ体あるいは光学異性体を使用することによって製造
することができる。

【００１８】本発明化合物（Ｉ）の具体例を以下に列挙
する。 ・３−［（２Ｓ）−４−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸 ・３−［２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾ
イルアミノ］アセチルアミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルア
ミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−２−［４−（オクタデカノイルアミ
ノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［２−［４−
（オクタデカノイルアミノ）フェニル］アセチルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−３−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オク
タデシルオキシ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミノ］
安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−３−メルカプト−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−６−アミノ−２−［４−（オクタデ
カノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ヘキサノイルアミ
ノ］安息香酸トリフルオロ酸塩 ・３−［（２Ｓ）−３−メルカプト−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−３−カルバモイル−２−［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルア
ミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｓ）−３−（イミダゾール−２−イル）−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸ナトリウム塩 ・３−［（２Ｒ）−３−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゼンスルホニルアミノ］ブチ
リルアミノ］安息香酸 ・（４Ｒ）−４−（３−カルボキシプロピルカルバモイ
ル）−４−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイ
ルアミノ］酪酸 ・３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（ヘプ
タデシルカルバモイル）ベンゾイルアミノ］ブチリルア
ミノ］安息香酸 ・Ｎ−［（１Ｓ）−３−カルボキシ−１−［４−（ヘプ
タデシルカルバモイル）フェニルカルバモイル］プロピ
ル］イソフタラミン酸 ３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−２−［４−（エイコ
サノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミ
ノ］安息香酸 ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］５−ニトロ安息香酸 ・３−アミノ−５−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］安息香酸 ・３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸ナトリウム

【００１９】本明細書中で用いられる略語、記号の意味
を以下に示す。 Ｂｎ：ベンジル基 Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基 Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメトキシカルボニル基 ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ＷＳＣ：１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩 ＨＯＢｔ：１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール
・１水和物 ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸 ＴＨＦ：テトラヒドロフラン Ｐｈ：フェニル基 ＴＥＡ：トリエチルアミン Ｐｄ／Ｃ：パラジウムカーボン Ｐｄ（ＯＨ）₂／Ｃ：水酸化パラジウムカーボン ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド Ｂｏｃ−Ｇｌｕ（ＯＢｎ）：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−グルタミン酸 γ-ベンジルエステル Ｂｏｃ−Ａｓｐ（ＯＢｎ）：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−アスパラギン酸 β-ベンジルエステル Ｂｏｃ−Ｄ−Ｇｌｕ（ＯＢｎ）：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｄ−グルタミン酸 γ-ベンジルエステ
ル Ｂｏｃ−Ｄ−Ａｓｐ（ＯＢｎ）：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｄ−アスパラギン酸 β-ベンジルエス
テル Ｂｏｃ−Ｈｉｓ（Ｂｏｍ）：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−１−ベンジルオキシメチル−Ｌ−ヒスチジン Ｆｍｏｃ−Ｌ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）：Ｎ^α−９−フルオレ
ニルメトキシカルボニル−Ｎ^ε−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−Ｌ−リジン ＣＤＩ：Ｎ，Ｎ´−カルボニルジイミダゾール ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン Ｍｂｓ：ｐ−メトキシベンゼンスルホニル Ｂｏｍ：ベンジルオキシメチル ｎ−Ｂｕ₃Ｐ：ｎ−トリブチルホスフィン

【００２０】以下に本発明化合物（Ｉ）の製造方法につ
いて述べる。本発明の化合物は、以下の１〜４のいずれ
かの方法で製造することができる。 １．一般式（Ｉ）において、ＸおよびＹがいずれも二価
の原子団−ＮＨＣＯ−であり、Ｗ、Ｚ，ｍ、ｎおよびＲ
¹ が前記の通り（但し、Ｒ¹ がメルカプト基の置換した低
級アルキル基である場合を除く）である化合物（Ｉａ）
の製造法化合物（Ｉａ）は、例えば、下式（スキーム
１）

【００２１】

【化５】 〔式中、Ｒ²はＢｏｃ基またはＦｍｏｃ基を表し；Ｒ³は
水素原子、フェニル基、ｐ−ベンジルオキシフェニル
基、低級アルキル基、ベンジルオキシカルボニル低級ア
ルキル基、ベンジルオキシ低級アルキル基、Ｂｏｃアミ
ノ低級アルキル基（但し、Ｒ²がＢｏｃ基の場合はＦｍ
ｏｃアミノ低級アルキル基）、メチルチオ低級アルキル
基、グアニジノ低級アルキル基、カルバモイル低級アル
キル基、フェニル低級アルキル基、ｐ−ベンジルオキシ
フェニル低級アルキル基、３−インドリル低級アルキル
基またはＢｏｍイミダゾリル低級アルキル基を表わし；
Ｒ⁴は低級アルキル基を表し；Ｗ¹はニトロ基が置換して
いてもよい１，３−フェニレンを表すか、または−（Ｃ
Ｈ₂)ｑ−を表し；Ｒ¹、Ｗ、Ｚ、ｍ、ｎは前記に同じ〕
を経由して製造することができる。まず、アミノカルボ
ン酸誘導体（Ｖ）と化合物（ＶＩ）を縮合して、化合物
（ＩＩＩ）を得る。反応は、ＴＨＦやＤＭＦ等の非プロ
トン性溶媒にアミノカルボン酸誘導体（Ｖ）を溶解し、
ＴＥＡやＮ−メチルモルホリン等の三級アミンを当量添
加した後、好ましくは−２０〜５℃でエチルクロロホル
メート等のクロロ炭酸エステルまたは塩化ピバロイル等
の酸クロリドを加えて混合酸無水物を調製する。次い
で、化合物（ＶＩ）を加えて好ましくは２〜２４時間、
０℃〜室温で反応させて目的の化合物（ＩＩＩ）を得
る。

【００２２】次いで、化合物（ＩＩＩ）のアミノ保護基
Ｒ²の脱保護を行う。Ｒ²が、Ｂｏｃ基の場合は、酸性条
件下で脱保護を行う。反応は、例えば、４規定塩酸／
１，４−ジオキサン中、通常、０℃〜室温で０．５〜３
時間行い、反応完結後、溶媒を減圧下に留去し、通常は
ＴＥＡ等の塩基で中和した後直ちに次の反応に供する。
また、Ｒ²がＦｍｏｃ基の場合は、塩基性条件下で脱保
護を行う。反応は、例えば２０％モルホリン−ＤＭＦ溶
液を３０当量〜溶媒量加え、室温で０．５〜５時間反応
させることにより行う。

【００２３】次いで、得られた脱保護体と化合物（Ｉ
Ｖ）とを縮合剤を用いる方法により縮合して化合物（Ｉ
Ｉ）を得る。縮合剤としては、ＤＣＣまたはＷＳＣを例
示することができ、要すればＨＯＢｔ等の縮合補助剤の
存在下、通常、０℃〜室温で２〜２４時間攪拌して縮合
反応を行う。反応に供する化合物のモル比は、化合物
（ＩＩＩ）の脱保護体１モルに対して化合物（ＩＶ）
０．８〜１．２モル、縮合剤０．８〜１．５モル、縮合
補助剤０．８〜１．５モルである。また、縮合剤を用い
て縮合する方法の他、上記で述べた混合酸無水物法でも
行うことができる。最後に、要すればＲ³における官能
基の保護基を脱保護した後、低級アルキルエステルＲ⁴
の切断除去を行い目的とする化合物（Ｉａ）を得る。Ｒ
³における官能基の保護基の脱保護はペプチド合成で用
いられる常法に従って行えばよく（例えば、Theodora
W.Greene, Protective Groups in organic synthesis
(1991)）、Ｒ⁴の切断除去は、メタノール、１，４−ジ
オキサンまたはＤＭＳＯ等の溶媒および水酸化ナトリウ
ム等の無機塩基水溶液中、好ましくは、室温〜６０℃で
１〜数時間反応させて行うことができる。

【００２４】Ｗがニトロ基の置換した１，３−フェニレ
ンである化合物（Ｉａ）の製造は、対応するニトロ基の
置換したアミノ安息香酸誘導体（ＶＩ）を出発原料とし
てスキーム１の反応を行えばよい。Ｒ³の保護基の脱ベ
ンジル化反応が必要な場合はヨウ化トリメチルシリル等
のベンジルカチオン補足剤の存在下、トリフルオロメタ
ンスルホン酸等の強酸で処理すればニトロ基に影響を与
えることなく脱ベンジル化が可能である。又、Ｒ³の保
護基がベンジルエステルの場合は、上記Ｒ⁴の切断除去
の条件下でニトロ基に影響を与えることなくＲ⁴と同時
にベンジルエステルを脱保護することも可能である。

【００２５】一方、Ｗがアミノ基の置換した１，３−フ
ェニレンである化合物（Ｉａ）の製造は、対応するニト
ロ基の置換したアミノ安息香酸誘導体（ＶＩ）を出発原
料としてスキーム１の反応を行い、最終工程でそのニト
ロ基を還元すればよい。Ｒ³の保護基の脱ベンジル化反
応が必要な場合はニトロ基の還元と脱ベンジル化反応を
最終工程で一挙に行うことが可能である。即ち、エタノ
ールまたは１，４−ジオキサン中、要すれば水、塩酸、
酢酸等を加え、１０％パラジウムカーボン、２０％水酸
化パラジウムカーボンまたは白金等の触媒下、水素気流
下常圧または加圧下に室温〜６０℃で接触還元を行えば
よい。

【００２６】２．一般式（Ｉ）において、ＸおよびＹが
いずれも二価の原子団−ＣＯＮＨ−であり、Ｗ、Ｚ，
ｍ、ｎおよびＲ¹ が前記の通り（但し、Ｒ¹ がメルカプト
低級アルキル基である場合を除く）である化合物（Ｉ
ｂ）の製造：化合物（Ｉｂ）は、例えば、下式（スキー
ム２）

【００２７】

【化６】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｗ、Ｗ¹、Ｚ、ｍおよび
ｎは前記スキーム１に同じ）を経由して製造することが
できる。

【００２８】最初に、アミノカルボン酸誘導体（Ｖ）と
化合物（Ｘ）を縮合して化合物（ＶＩＩＩ）を得る。反
応は、上述した縮合剤を用いて縮合する方法または混合
酸無水物法により縮合させることもできる。次いで、化
合物（ＶＩＩＩ）のアミノ保護基Ｒ²の脱保護を行う。
反応は、スキーム１で述べた方法と同様にして行うこと
ができ、得られた脱保護体は直ちに次の反応に供する。
すなわち、脱保護体と化合物（ＩＸ）とを縮合させて化
合物（ＶＩＩ）を得る。縮合は、すでに述べた縮合剤を
用いる方法または混合酸無水物法で行うことができる。

【００２９】最後に、要すればＲ³における官能基の保
護基を脱保護した後、低級アルキルエステルＲ⁴の切断
除去を行い目的とする化合物（Ｉｂ）を得る。Ｒ³にお
ける官能基の保護基の脱保護はペプチド合成で使用され
る常法に従って行えばよく、エステル基Ｒ⁴の切断除去
は、スキーム１で述べた方法と同様にして行うことがで
きる。Ｗがニトロ基又はアミノ基の置換した１，３−フ
ェニレンである化合物（Ｉｂ）の製造は、対応するニト
ロ基の置換したアミノイソフタル酸誘導体（ＩＸ）を用
いてスキーム２の反応を行い、化合物（Ｉａ）の場合と
同様の処理を行えば可能である。

【００３０】３．一般式（Ｉ）において、ＸおよびＺが
いずれも二価の原子団−ＮＨＣＯ−であり、Ｙが二価の
原子団−ＮＨＳＯ₂ −であり、Ｗが１，３−フェニレン
または−（ＣＨ₂ )ｑ−であり、ｍが０であり、Ｚ、ｎお
よびＲ¹ が前記の通り（但し、Ｒ¹ がメルカプト低級アル
キル基である場合を除く）である化合物（Ｉｃ）の製
造：化合物（Ｉｃ）は、例えば、下式（スキーム３）

【００３１】

【化７】 （式中、Ｒ³′は水素原子、フェニル基、ｐ−メトキシ
フェニル基、低級アルキル基、ベンジルオキシカルボニ
ル低級アルキル基、Ｃｌ₃ＣＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｏ低級アルキ
ル基、Ｂｏｃアミノ低級アルキル基（但し、Ｒ²がＢｏ
ｃ基の場合はＦｍｏｃアミノ低級アルキル基）、グアニ
ジノ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、フ
ェニル低級アルキル基、ｐ−メトキシフェニル低級アル
キル基、３−インドリル低級アルキル基またはＭｂｓイ
ミダゾリル低級アルキル基を表し；Ｒ¹′は水素原子、
フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、低級アルキル
基、カルボキシ低級アルキル基、Ｃｌ₃ＣＣＨ₂ＯＣＨ₂
Ｏ低級アルキル基、Ｂｏｃアミノ低級アルキル基（但
し、Ｒ²がＢｏｃ基の場合はＦｍｏｃアミノ低級アルキ
ル基）、グアニジノ低級アルキル基、カルバモイル低級
アルキル基、フェニル低級アルキル基、ｐ−メトキシフ
ェニル低級アルキル基、３−インドリル低級アルキル基
またはＭｂｓイミダゾリル低級アルキル基を表し；Ｗ²
は１，３−フェニレンまたは−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、；
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴およびｎは前記スキーム２に同じ）を経
由して製造することができる。

【００３２】まず、化合物（ＩＩＩ）のアミノ保護基Ｒ
²の脱保護（スキーム１参照）を行った後、スルホニル
クロリド（ＸＩＶ）と反応させて化合物（ＸＩＩ）を得
る。反応は、通常クロロホルム等の不活性溶媒中ＴＥＡ
等の塩基を添加し、好ましくは０℃〜室温で１〜数時間
攪拌して行う。次いで、例えば前記の接触還元により化
合物（ＸＩＩ）のニトロ基をアミノ基に還元する。
Ｒ³′がＢｎＯＣＯ−基の置換した低級アルキル基であ
る場合には、ＢｎＯＣＯ−基が同時に脱保護を受けてカ
ルボキシル基となるが以後の反応は可能である。

【００３３】次いで、得られたアミノ体と酸クロリド
（ＸＩＩＩ）とを反応させて化合物（ＸＩ）を得る。反
応は、通常クロロホルム等の不活性溶媒中ＴＥＡ等の塩
基を添加し、好ましくは０℃〜室温で１〜数時間攪拌し
て行う。最後に、要すればＲ¹′における官能基の保護
基を脱保護した後、低級アルキルエステルＲ⁴の切断除
去を行い目的とする化合物（Ｉｂ）を得る。Ｒ¹′にお
ける官能基の保護基の脱保護はペプチド合成に用いる常
法に従って行えばよく、エステル基Ｒ⁴の切断除去は、
スキーム１で述べた方法と同様にして行うことができ
る。

【００３４】４．一般式（Ｉ）において、Ｒ¹ がメルカ
プト低級アルキル基である化合物の製造法 Ｒ¹がメルカプト低級アルキル基の本発明化合物は、上
記スキーム１〜３においてＮ−保護アミノカルボン酸誘
導体のジスルフィド体を出発化合物に用いて有利に製造
できる。

【００３５】即ち、スキーム１または２ではアミノカル
ボン酸誘導体（Ｖ）に代えてＮ，Ｎ′−ビス−Ｂｏｃ−
シスチンを用い、スキーム３においてはＮ，Ｎ′−ビス
−Ｂｏｃ−シスチンから誘導される化合物（ＩＩＩ）を
用い、その他は全く同様にして反応を行う。

【００３６】最後に、通常メタノールまたはエタノール
等の低級アルコール中、要すれば水を加え、ｎ−Ｂｕ₃
Ｐの存在下、０℃〜室温で０．５〜２時間撹拌してジス
ルフィド結合を還元的に切断することによって目的物を
製造することができる。尚、出発化合物として用いるジ
スルフィド体は、相当するメルカプト誘導体を例えばヨ
ウ素等を用いて酸化的に二量化することにより容易に得
られる。かくして製造される本発明化合物（Ｉ）は、常
法によりその薬学的に許容される塩に変換することがで
きる。

【００３７】５．中間体（ＩＶ）の製造法：次に、本発
明化合物（Ｉ）の製造において用いられる中間体（Ｉ
Ｖ）の製造方法を説明する。中間体（IＶ）は、例え
ば、下式（スキーム４）に従い製造することができる。
スキーム４において、Ｚが−ＮＨＣＯ−基の中間体（Ｉ
Ｖ）をＩＶａ、Ｚが−ＣＯＮＨ−基の中間体（ＩＶ）を
ＩＶｂ、Ｚが−Ｏ−基の中間体をＩＶｃと表示する。

【００３８】

【化８】 （式中、Ｚ、Ｒ⁴、ｍおよびｎは前記に同じ）を経由し
て製造することができる。

【００３９】（５ａ）中間体（ＩＶａ）の製造法：最初
に、化合物（ＸＶＩａ）と化合物（ＸＶＩＩａ）を縮合
して化合物（ＸＶａ）を得る。反応は、既に述べた混合
酸無水物法の他、以下に説明する酸クロリド法でも製造
できる。すなわち、化合物（ＸＶＩＩａ）をクロロホル
ム等の不活性溶媒中または無溶媒で、例えば、塩化チオ
ニルを３当量〜溶媒量用い、室温〜還流下、１〜５時間
反応させて酸クロリドを調製する。次に、これにクロロ
ホルム等の不活性溶媒中、ＴＥＡ等の塩基の存在下に化
合物（ＸＶＩａ）を０℃〜室温で２〜２４時間反応させ
て化合物（ＸＶａ）を得る。次いで、化合物（ＸＶａ）
の低級アルキルエステル部分を加水分解により除去して
目的とする化合物（ＩＶａ）を得る。加水分解反応は、
スキーム１の化合物（Ｉａ）の製造で述べた加水分解の
方法と同様にして行うことができる。

【００４０】（５ｂ）化合物（ＩＶｂ）の製造法：最初
に、化合物（ＸＶＩｂ）と化合物（ＸＶＩＩｂ）を縮合
して化合物（ＸＶｂ）を得る。反応は、既に述べた縮合
剤を用いる方法、混合酸無水物法および酸クロリド法の
いずれかを用いて行うことができる。次いで、化合物
（ＸＶｂ）の低級アルキルエステル部分を上記と同様に
して切断除去して目的とする化合物（ＩＶｂ）を得る。

【００４１】（５ｃ）化合物（ＩＶｃ）の製造法：最初
に、化合物（ＸＶＩｃ）と化合物（ＸＶＩＩｃ）を反応
させ、化合物（ＸＶｃ）を得る。反応は、ＤＭＦ等の不
活性溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸
水素ナトリウム等の無機塩基あるいはＴＥＡ等の有機塩
基の存在下、好ましくは、室温〜還流下に２〜２４時間
反応させて行う。次いで、化合物（ＸＶｃ）の低級アル
キルエステル部分を上記と同様にして切断除去して目的
とする化合物（ＩＶｃ）を得る。

【００４２】６．出発化合物（Ｘ）の製造法：化合物
（Ｘ）は、例えば、下式（スキーム５）で製造すること
ができる。スキーム５においてＺが−ＮＨＣＯ−基の中
間体（Ｘ）を（Ｘａ）、Ｚが−ＣＯＮＨ−基の中間体
（Ｘ）を（Ｘｂ）、Ｚが−Ｏ−基の中間体（Ｘ）を（Ｘ
ｃ）とそれぞれ表示する。

【００４３】

【化９】 （式中、Ｚ、ｍおよびｎは前記に同じ） 即ち、化合物（ＸＶＩＩＩ）と化合物（ＸＶＩＩ）とを
スキーム４の場合と同様に反応し、化合物（ＸＩＸ）を
得る。次いで、化合物（ＸＩＸ）のニトロ基をスキーム
３の化合物（ＸＩＩ）と同様にして還元する（スキーム
３参照）ことにより化合物（Ｘ）を得る。

【００４４】本発明の化合物は、後述するようにセレク
チン阻害剤として有用であり、各種炎症性疾患、癌また
は虚血再灌流障害の予防または治療に用いることができ
る。本発明の化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容され
る塩を有効成分とする薬剤は経口または非経口で患者に
投与される。投与量は、投与方法、患者の年齢、体重ま
たは症状等により異なるが、一般には本発明化合物
（Ｉ）として１〜６００ｍｇ／日の範囲が適当であり、
これを１日１回、または１日２〜４回に分けて投与す
る。

【００４５】剤形としては、経口投与または非経口投与
の投与形態に応じて錠剤、顆粒剤、細粒剤、カプセル
剤、注射剤、リポソーム等が使用される。かかる製剤は
常法によって製造され、錠剤、顆粒剤、細粒剤は、本発
明の化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩と通
常の医薬添加物、例えば、乳糖、合成ケイ酸アルミニウ
ム、ブドウ糖、マンニトール、結晶セルロース、でんぷ
ん等の賦形剤、カルボキシメチルセルロース、アルギン
酸ナトリウム等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウム、
タルク等の滑沢剤、あるいはヒドロキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドン等の結合剤とを混合して製造され、カプセル
剤は上記の顆粒剤、散剤を適宜カプセルに充填して製造
される。

【００４６】注射剤は、本発明の化合物（Ｉ）またはそ
の薬学的に許容される塩を滅菌水に溶解または懸濁し、
これにマンニトール、塩化ナトリウム、グルコース、ソ
ルビット、グリセロール、キシリトール、フルクトー
ス、マルトース、マンノース等の等張化剤を加え、要す
れば更に亜硫酸ナトリウム、アルブミン等の安定化剤お
よびベンジルアルコール等の防腐剤を加えて無菌的にア
ンプルまたはバイヤルに封入することによつて製造され
る。

【００４７】リポソームは標準の小胞を形成する脂質か
ら形成される。リポソームを作るための主要な脂質とし
ては、ホスファチジルコリン、スフィンゴミエリン、ホ
スファチジルグリセロール、ホスファチジルセリン等の
リン脂質が挙げられる。これらのリン脂質を構成する脂
肪酸鎖には種々のものが存在するので、例えばホスファ
チジルコリンとしては、ステアリン酸から構成されるジ
ステアロイルホスファチジルコリン、パルミチン酸から
構成されるジパルミトイルホスファチジルコリン等があ
る。上記リン脂質類には、場合によってはコレステロー
ル等の膜安定化剤、界面活性剤、荷電物質等、従来から
リポソームの膜構成成分として用いられているものが添
加される。リポソームの調製法としてはボルテックスミ
キシング法、界面活性剤除去法、プレベシクル法、フレ
ンチプレス法、ｗ／ｏ／ｗエマルジョン法、アニーリン
グ法、凍結融解法、超音波法、エクストルージョン法、
エタノール注入法、逆相蒸発法などがある。

【００４８】

【発明の作用効果】本発明の一般式（Ｉ）の化合物また
はその塩は、Ｅ−セレクチン、Ｐ−セレクチンおよび／
またはＬ−セレクチンとリガンドとの結合を強く阻害
（試験例１参照）し、炎症動物モデルにおいて耳介浮腫
及び細胞浸潤を抑制（試験例２〜４）する。更に、本発
明の一般式（Ｉ）の化合物またはその塩の毒性は低い。
従って、本発明化合物はセレクチン阻害剤として有用で
あり、各種炎症、例えばアトピー性皮膚炎、接触性過敏
症、光線過敏症等の炎症性皮膚炎、慢性関節リウマチ、
慢性甲状腺炎等の自己免疫性の慢性疾患並びに虚血−再
灌流障害、癌等の治療又は予防に好適に使用される。

【００４９】（試験例１） Ｅ−、Ｐ−およびＬ−セレクチンとリガンドとの結合阻
害試験 （１）供試化合物 ・本発明化合物ａ ３−［（２Ｓ）−４−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例１の化合物) ・本発明化合物ｂ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例２の化合物) ・本発明化合物ｂ′ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ
−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルア
ミノ］ブチリルアミノ］安息香酸ナトリウム（実施例２
４の化合物) ・本発明化合物ｃ ３−［２−［４−（オクタデカノイ
ルアミノ）ベンゾイルアミノ］アセチルアミノ］安息香
酸（実施例３の化合物) ・本発明化合物ｄ ３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２
−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例４の化合
物) ・本発明化合物ｅ ３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例５の化合
物) ・本発明化合物ｆ ３−［（２Ｒ）−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニル
アミノ］安息香酸（実施例６の化合物) ・本発明化合物ｇ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［２−［４−（オクタデカノイルアミノ）フェニ
ル］アセチルアミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施
例７の化合物) ・本発明化合物ｈ ３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例８の化合
物) ・本発明化合物ｉ ３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例９の化合物) ・本発明化合物ｊ ３−［（２Ｒ）−３−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例１０の化合
物) ・本発明化合物ｋ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［４−（オクタデシルオキシ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］安息香酸（実施例１１の化合物) ・本発明化合物ｌ ３−［（２Ｒ）−３−メルカプト−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例１２の化合
物) ・本発明化合物ｍ ３−［（２Ｓ）−６−アミノ−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ヘキサノイルアミノ］安息香酸トリフルオロ酢酸塩（実
施例１３の化合物) ・本発明化合物ｎ ３−［（２Ｓ）−３−メルカプト−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例１４の化合
物) ・本発明化合物ｏ ３−［（２Ｒ）−３−カルバモイル
−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルア
ミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例１５の化合
物) ・本発明化合物ｐ ３−［（２Ｓ）−３−（イミダゾー
ル−２−イル）−２−［４−（オクタデカノイルアミ
ノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミノ］安息香酸
ナトリウム塩（実施例１６の化合物) ・本発明化合物ｑ ３−［（２Ｒ）−３−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゼンスルホ
ニルアミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例１７の
化合物) ・本発明化合物ｒ （４Ｒ）−４−（３−カルボキシプ
ロピルカルバモイル）−４−［４−（オクタデカノイル
アミノ）ベンゾイルアミノ］酪酸（実施例１８の化合
物) ・本発明化合物ｓ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［４−（ヘプタデシルカルバモイル）ベンゾイルア
ミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例１９の化合
物) ・本発明化合物ｔ Ｎ−［（１Ｓ）−３−カルボキシ−
１−［４−（ヘプタデシルカルバモイル）フェニルカル
バモイル］プロピル］イソフタラミン酸（実施例２０の
化合物) ・本発明化合物ｕ ３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−
２−［４−（エイコサノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸（実施例２１の化合
物) ・本発明化合物ｖ ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］−５−ニトロ安息香酸（実施例２
２の化合物） ・本発明化合物ｗ ３−アミノ−５−［（２Ｒ）−４−
カルボキシ−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベ
ンゾイルアミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例２
３の化合物） ・公知化合物Ｘ シアリルＬｅｘ（対照化合物）

【００５０】（２）試験方法 2-1)Ｅ−セレクチンとリガンドとの結合阻害試験 フォクサール（Foxall,C.）らが報告したセレクチンＩ
ｇＧキメラを用いた方法〔J.Cell Biol.,117,895-902頁
(1992)〕に準じて試験した。１−（３−トリデシル）ヘ
キサデシル シアリルＬｅｘ五糖（後記参考例４４参
照）を５０％メタノール／蒸留水に溶解させた後に、９
６穴プレートに１００ｐｍｏｌ／ウエルずつ入れ、室温
で終夜静置して、溶媒を蒸発させた。５％ＢＳＡ（Bovi
ne Serum Albumin）および１ｍＭ塩化カルシウムを含む
５０ｍＭイミダゾール緩衝液（ｐＨ７．２）で室温にて
１時間ブロッキングした。一方、ビオチン標識抗ヒトＩ
ｇＧ（Ｆｃ）およびストレプトアビジン標識アルカリフ
ォスファターゼを１％ＢＳＡおよび１ｍＭ塩化カルシウ
ムを含む５０ｍＭイミダゾール緩衝液（ｐＨ７．２）で
それぞれ５００倍希釈したものに、１０μｇ／ｍｌとな
るようにＥ−セレクチンＩｇＧキメラを加え、室温で３
０分間インキュベートして複合体溶液を調製した。供試
化合物をＤＭＳＯに溶解して１０ｍＭ溶液を調製し、こ
れを１％ＢＳＡおよび１ｍＭ塩化カルシウムを含む５０
ｍＭイミダゾ−ル緩衝液（ｐＨ７．２）で順次希釈して
８段階の濃度（１ｍＭから２倍段階希釈）の溶液を作製
した。供試化合物の各濃度溶液と上記の複合体溶液とを
等容量混合して、室温で３０分間インキュベートし、反
応液を調製した。

【００５１】ブロッキング終了後の前記プレートのブロ
ッキング液を捨て５０ｍＭイミダゾール緩衝液（ｐＨ
７．２）で洗浄後、上記の反応液（５０μｌ／ウエル）
を加え、３７℃で４５分間インキュベートした。次に、
プレートを５０ｍＭイミダゾール緩衝液（ｐＨ７．２）
と蒸留水で各３回洗い、０．０１％塩化マグネシウムお
よび１ｍｇ／ｍｌパラニトロフェニルフォスフェートを
含む１Ｍジエタノールアミン（ｐＨ９．８）を５０μｌ
／ウエル入れて１〜２時間発色させた。その後、４０５
ｎｍの吸光度を測定した。供試化合物を含まないウエル
の吸光度（Ａ）を対照とし、各濃度の供試化合物を含む
ウエルの吸光度（Ｘ）を測定して下式

【００５２】

【数１】結合率（％）＝（Ｘ／Ａ）×１００ により各濃度における結合率（％）を算出した後、プロ
ビット法によりＩＣ₅₀を算出した。 2-2)Ｐ−セレクチンとリガンドとの結合阻害試験 Ｅ−セレクチンＩｇＧキメラ（１０μｇ／ｍｌ）をＰ−
セレクチンＩｇＧキメラ（１０μｇ／ｍｌ）に代えたこ
と以外は2-1)と同様にして試験した。 2-3)Ｌ−セレクチンとリガンドとの結合阻害試験 Ｅ−セレクチンＩｇＧキメラ（１０μｇ／ｍｌ）をＬ−
セレクチンＩｇＧキメラ（１０μｇ／ｍｌ）に代えたこ
と以外は2-1)と同様にして試験した。 （３）試験結果 表１に示した。

【００５３】

【表１】

【００５４】（試験例２）耳介浮腫抑制効果 （１）供試化合物 本発明化合物b ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２
−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例２の化合物) （２）試験方法 ８週齢の雌性ＢＡＬＢ／ｃ系マウスに、卵白アルブミン
３μｇおよび水酸化アルミニウムゲル４ｍｇを含む生理
食塩液０．５ｍｌを腹腔内注射して感作した。その２週
間後、リン酸緩衝生理食塩液を用いて１ｍｇ／ｍｌに調
製した卵白アルブミン１０μｌを，マウスの両側耳介に
皮内注射することにより炎症反応を惹起した。炎症非惹
起群には同溶液を非感作動物の両側耳介に皮内注射し
た。

【００５５】供試化合物を１ｍｇ／ｍｌの濃度になるよ
うに０．００３１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に溶解した
後、蒸留水で希釈し、反応惹起の直前に尾静脈より０．
１ｍｌ／１０ｇ体重の容量で注射し、供試化合物投与群
とした。又、０．００３１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液の
みを注射した群を対照群とした。

【００５６】反応惹起後の２４時間目に、両側耳介を直
径６ｍｍに切り抜いて重量を測定し、単位面積当たりの
耳介重量を浮腫の指標として用いた。浮腫抑制率は下式
により求めた。

【００５７】

【数２】 Ｗｅｘｐ：供試化合物投与群の平均耳介重量 Ｗｎｅｇａ：炎症非惹起群の平均耳介重量 Ｗｃｏｎｔ：対照群の平均耳介重量 対照群に対する供試化合物投与群の有意差検定をダネッ
ト法により行った。 （３）試験結果 結果を表２に示した。

【００５８】

【表２】

【００５９】（試験例３） 細胞浸潤抑制効果 （１）供試化合物 本発明化合物b ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２
−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例２の化合物) （２）試験方法 ブラッドリー（Bradley,P.P.）等の報告〔Journal of I
nvestigative Dermatology,78,206〜209頁(1982)参照〕
に従って、組織中のミエロペルオキシダーゼ（以下ＭＰ
Ｏと言う）活性を細胞浸潤の指標として用いた。

【００６０】試験例２で重量を測定した耳介組織をホモ
ジナイズし遠心分離した後、上清のＭＰＯ活性を、ブラ
ッドリー等の方法（上記文献参照）に従い、ｏ−ジアニ
シジンの４５０ｎｍにおける吸光度（以下ＯＤと言う）
を指標として測定した。細胞浸潤抑制率は下式により求
めた。

【００６１】

【数３】 ＯＤｅｘｐ：供試化合物投与群の平均ＯＤ ＯＤｎｅｇａ：炎症非惹起群の平均ＯＤ ＯＤｃｏｎｔ：対照群の平均ＯＤ 対照群に対する供試化合物投与群の有意差検定をダネッ
ト法により行った。 （３）試験結果 結果を表３に示した。

【００６２】

【表３】

【００６３】（試験例４） チオグリコレート誘発腹腔内炎症反応抑制効果 （１）供試化合物 ・本発明化合物b ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−
２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸（実施例２の化合物) （２）試験方法 ８週齢の雄性ＢＡＬＢ／ｃ系マウスに３％チオグリコレ
ート培地を１ｍｌ腹腔内に注射して炎症を惹起した。炎
症非惹起群には生理食塩液を腹腔内注射した。２時間
後、マウスを放血致死させた後、０．１％ＢＳＡ、０．
５ｍＭ ＥＤＴＡ、１０Ｕ／ｍｌヘパリンを含むリン酸
緩衝生理食塩液で腹腔内を洗浄することにより、浸出細
胞を回収した。細胞は溶血処理を行い、０．５％ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウムブロマイドを含む５０ｍ
Ｍリン酸カリウム緩衝液中で溶解させた後、上清のＭＰ
Ｏ活性をブラッドリー等の方法（前記文献参照）にした
がって測定した。

【００６４】供試化合物を１ｍｇ／ｍｌになるように
０．００３１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液に溶解した後、
蒸留水で希釈し反応惹起の直前に尾静脈より０．１ｍｌ
／１０ｇ体重の容量で注射し、供試化合物投与群とし
た。又、０．００３１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液のみを
注射した群を対照群とした。

【００６５】細胞浸潤抑制率は試験例３と同様にして数
３より求めた。対照群に対する供試化合物投与群の有意
差検定をダネット法により行った。 （３）試験結果 結果を表４に示した。

【表４】

【００６６】以上の結果から、本発明化合物がＰ−セレ
クチン、Ｌ−セレクチンおよび／またはＥ−セレクチン
とシアリルＬｅｘとの結合を強く阻害し、炎症動物モデ
ルにおいても浮腫及び細胞浸潤を抑制することが明らか
である。

【００６７】

【実施例】以下に参考例および実施例を挙げて本発明を
更に具体的に説明する。 参考例１３−［（２Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチリルアミ
ノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹
が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、
Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基であり、Ｒ⁴ が
メチル基である化合物のＳ体］の製造： Ｂｏｃ−Ｇｌｕ
（ＯＢｎ）（１．０ｇ）をＴＨＦ（８ｍｌ）に溶解し、
ＴＥＡ（０．５５ｍｌ）を加え、氷冷攪拌下にクロロ炭
酸エチル（０．３４ｍｌ）を滴下した。３分間攪拌後、
３−アミノ安息香酸メチル［一般式（ＶＩ）においてＷ
が１，３−フェニレンであり、Ｒ⁴がメチル基である化
合物］（０．６７ｇ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を加
え、室温で３時間攪拌した。次いで、反応液に酢酸エチ
ル（１００ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶
媒を留去した。得られた残渣を調製用薄層クロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／３）にて精製
して標記化合物（１．２ｇ）を淡黄色シラップとして得
た。

【００６８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.43(s,9
H),1.90-2.10(m,1H),2.12-2.35(m,1H),2.40-2.75(m,2
H),3.90(s,3H),4.22-4.40(m,1H),5.12(d,1H),5.17(d,1
H),5.38(d,1H,J=7.9Hz),7.25-7.45(m,6H),7.70-7.85(m,
2H),8.08(t,1H),8.57(bs,1H). 参考例２３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチリルアミ
ノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹
が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、
Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基であり、Ｒ⁴ が
メチル基である化合物のＲ体］の製造： Ｂｏｃ−Ｄ−Ｇ
ｌｕ（ＯＢｎ）（１．０ｇ）を用い、参考例１と同様に
して標記化合物（１．２ｇ）をシラップとして得た。

【００６９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.45(s,9
H),1.90-2.10(m,1H),2.15-2.35(m,1H),2.40-2.75(m,2
H),3.90(s,3H),4.20-4.40(m,1H),5.13(d,1H),5.18(d,1
H),5.32(d,1H,J=7.7Hz),7.20-7.50(m,6H),7.70-7.85(m,
2H),8.08(t,1H),8.49(bs,1H). 参考例３３−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ア
セチルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）にお
いて、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基
であり、Ｒ³ が水素原子であり、Ｒ⁴ がメチル基である化
合物］の製造： Ｂｏｃ−グリシン （０．９ｇ）を用
い、参考例１と同様にして標記化合物（１．２ｇ）を無
色の結晶として得た。

【００７０】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.49(s,9
H),3.91(s,3H),5.10-5.30(m,1H),7.40(t,1H,J=7.9Hz),
7.80(d,1H,J=7.9Hz),7.87(d,1H,J=8.1Hz),8.03(s,1H),
8.21(bs,1H). 参考例４３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２−（９−フルオレニ
ルメトキシカルボニルアミノ）プロピオニルアミノ］安
息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，
３−フェニレンであり、Ｒ² がＦｍｏｃ基であり、Ｒ³ が
フェニルメチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基である化合物
のＳ体］の製造： Ｆｍｏｃ−Ｌ−フェニルアラニン
（１．５ｇ）を用い、参考例１と同様にして標記化合物
（２．１ｇ）を無色の結晶として得た。

【００７１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：3.00-3.30
(m,2H),3.90(s,3H),4.10-4.25(m,1H),4.31-4.58(m,3H),
5.38(bs,1H),7.10-7.80(m,17H). 参考例５３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシメチル−２−（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）プロピオニルアミ
ノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹
が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、
Ｒ³ がベンジルオキシメチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基で
ある化合物のＳ体］の製造： Ｏ−ベンジル−Ｂｏｃ−Ｌ
−セリン（１．７７ｇ）を用い、参考例１と同様にして
標記化合物（２．３６ｇ）をシラップとして得た。

【００７２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.47(s,9
H),3.66(dd,1HJ=7,9.2Hz),3.91(s,3H),4.00(dd,1H,J=4.
1,9.3Hz),4.35-4.50(m,1H),4.56(d,1H,J=11.6Hz),4.64
(d,1H,J=11.6Hz),5.48(d,1H,J=4.5Hz),7.25-7.45(m,6
H),7.75-7.90(m,2H),8.02(t,1H),8.52(bs,1H). 参考例６３−［（２Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
アミノ）プロピオニルアミノ］安息香酸メチル［一般式
（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであ
り、Ｒ² がＢｏｃ基であり、Ｒ³ がメチル基であり、Ｒ⁴
がメチル基である化合物のＲ体］の製造： Ｂｏｃ−Ｄ−
アラニン（１．２５ｇ）を用い、参考例１と同様にして
標記化合物（１．７ｇ）を無色の結晶として得た。

【００７３】融点：１３１−１３５℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.44(d,3H,J=7.1Hz),1.4
7(s,9H),3.90(s,3H),4.31-4.37(m,1H),5.08(d,1H,J=7.5
Hz),7.37(t,1H,J=7.9Hz),7.71-7.84(m,2H),8.08(t,1H),
8.63(bs,1H). 参考例７３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシカルボニル−２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）プロピオニル
アミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、
Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であ
り、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルメチル基であり、
Ｒ⁴ がメチル基である化合物のＳ体］の製造： Ｂｏｃ−
Ａｓｐ（ＯＢｎ）（１．６ｇ）を用い、参考例１と同様
にして標記化合物（２．３ｇ）を無色の結晶として得
た。

【００７４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.48(s,9
H),2.81(dd,1H,J=6.4,17.2Hz),3.10(dd,1H,J=4.4,17.2H
z),3.91(s,3H),4.68(bs,1H),5.11-5.21(m,2H),5.81(bs,
1H),7.39(t,1H,J=8.0Hz),7.78(dd,1H,J=1.7,8.0Hz),8.0
7(t,1H),8.20(bs,1H). 参考例８３−［（２Ｒ）−３−ベンジルオキシカルボニル−２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）プロピオニル
アミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩＩ）において、
Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であ
り、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルメチル基であり、
Ｒ⁴ がメチル基である化合物のＲ体］の製造： Ｂｏｃ−
Ｄ−Ａｓｐ（ＯＢｎ）（２．３ｇ）を用い、参考例１と
同様にして標記化合物（２．７ｇ）を無色の結晶として
得た。

【００７５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.48(s,9
H),2.80(dd,1H,J=6.4,17.2Hz),3.11(dd,1H,J=4.4,17.2H
z),3.92(s,3H),4.68(bs,1H),5.11-5.21(m,2H),5.80(bs,
1H),7.39(t,1H,J=8.0Hz),7.80(dd,2H,J=1.9,8.0Hz),8.0
7(t,1H),8.62(bs,1H). 参考例９Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−
Ｌ−シスチン ビス［（３−メトキシカルボニル）フェ
ニルアミド］［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，
３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、Ｒ³ がメ
ルカプトメチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基である化合物
のジスルフィド体］の製造： Ｎ，Ｎ′−ビス−Ｂｏｃ−
Ｌ−シスチン （４４１ｍｇ）を用い、参考例１と同様
にして標記化合物（３０９ｍｇ）を無色の結晶として得
た。

【００７６】融点：１５２−１５９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.49(s,18H),2.95-3.20
(m,4H),3.90(s,6H),5.00-5.10(m,2H),5.65(d,2H,J=9.8H
z),7.41(t,2H,J=7.9Hz),7.82(td,2H,J=1.3,7.8Hz),7.95
-8.00(m,2H),8.10-8.15(m,2H),9.47(s,2H). 参考例１０３−［（２Ｓ）−６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−２−（９−フルオレニルメトキシカルボニルアミ
ノ）ヘキサノイルアミノ］安息香酸メチル［一般式（Ｉ
ＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｒ²
がＦｍｏｃ基であり、Ｒ³ が４−（ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ）ブチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基で
ある化合物のＳ体］の製造： Ｆｍｏｃ−Ｌ−リジン（Ｂ
ｏｃ）（１．４１ｇ）を用い、参考例１と同様にして標
記化合物（１．３ｇ）を無色の結晶として得た。

【００７７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.42(s,9
H),1.30-1.65(m,4H),1.60-2.10(m,2H),2.95-3.30(m,2
H),3.88(s,3H),4.20(t,1H,J=6.7Hz),4.33(bs,1H),4.43
(d,2H,J=6.8Hz),4.68(t,1H,J=5.8Hz),7.56(d,2H,J=7.3H
z),7.65-7.85(m,3H),7.86(d,1H,J=8.1Hz),8.11(s,1H),
8.72(bs,1H). 参考例１１Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−
Ｄ−シスチン ビス［（３−メトキシカルボニル）フェ
ニルアミド］［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，
３−フェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、Ｒ³ がメ
ルカプトメチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基である化合物
のジスルフィド体］の製造： Ｎ，Ｎ′−ビス−Ｂｏｃ−
Ｄ−シスチン （４４１ｍｇ）を用い、参考例１と同様
にして標記化合物（１２３ｍｇ）を淡黄色の結晶として
得た。

【００７８】融点：１６７−１７０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.48(s,18H),2.95-3.20
(m,4H),3.90(s,6H),5.00-5.10(m,2H),5.65(d,2H,J=9.6H
z),7.41(t,2H,J=8.0Hz),7.80-7.85(m,2H),7.95-8.00(m,
2H),8.10-8.15(m,2H),9.47(s,2H). 参考例１２３−［（２Ｒ）−４−カルバモイル−２−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）ブチリルアミノ］安息香酸
メチル［一般式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フ
ェニレンであり、Ｒ² がＢｏｃ基であり、Ｒ³ がカルバモ
イルエチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基である化合物のＲ
体］の製造： Ｂｏｃ−Ｄ−Ｇｌｎ（８７０ｍｇ）を用
い、参考例１と同様にして標記化合物（７８３ｍｇ）を
無色の結晶として得た。

【００７９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.45(s,9
H),1.90-2.12(m,1H),2.12-2.32(m,1H),2.32-2.68(m,2
H),3.89(s,3H),4.25-4.50(m,1H),5.70-5.90(m,1H),5.95
(bs,1H),6.14(bs,1H),7.37(t,1H,J=8.0Hz),7.75(d,1H,J
=7.8Hz),7.86(d,1H,J=8.2Hz),8.16(t,1H),9.53(bs,1H). 参考例１３３−［３−（１−ベンジルオキシメチルイミダゾール−
４−イル）−（２Ｓ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）プロピオニルアミノ］安息香酸メチル［一般
式（ＩＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであ
り、Ｒ² がＢｏｃ基であり、Ｒ³ が（１−ベンジルオキシ
メチルイミダゾール−４−イル）メチル基であり、Ｒ⁴
がメチル基である化合物の立体異性体］の製造： Ｂｏｃ
−Ｈｉｓ（Ｂｏｍ）（３７５ｍｇ）にＴＨＦ（６ｍｌ）
を加え、氷冷下ＣＤＩ（１６２ｍｇ）を加え、室温まで
徐々に昇温しながら１時間攪拌した。次いで、氷冷下に
３−アミノ安息香酸メチル［一般式（ＶＩ）においてＷ
が１，３−フェニレンであり、Ｒ⁴がメチル基である化
合物］（１５１ｍｇ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を滴下
し、０℃で２時間、室温で１６時間攪拌した。反応混合
物に酢酸エチルを加え、１規定塩酸で洗浄し有機層を分
液した。水層を酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わ
せ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
後乾燥し減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をシリ
カゲル中圧カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ
−ヘキサン＝１／１→酢酸エチル→酢酸エチル／メタノ
ール＝２０／１）にて精製して標記化合物（２９１ｍ
ｇ）を得た。

【００８０】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.45(s,9
H),3.05-3.30(m,2H),3.91(s,3H),4.45-4.65(m,3H),5.25
-5.45(m,3H),6.94(s,1H),7.25-7.40(m,6H),7.50-7.55
(m,1H),7.60-7.70(m,1H),7.70-7.80(m,1H),7.90-7.95
(m,1H),8.29(bs,1H). 参考例１４（４Ｒ）−４−（３−メトキシカルボニルプロピルカル
バモイル）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）酪酸ベンジルエステル［一般式（ＩＩＩ）におい
て、Ｗ¹ が−（ＣＨ₂ ）₃ −であり、Ｒ² がＢｏｃ基であ
り、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基であり、
Ｒ⁴ がメチル基である化合物のＲ体］の製造： ４−アミ
ノ酪酸メチルエステル塩酸塩［一般式（ＶＩ）において
Ｗが−（ＣＨ₂）₃−であり、Ｒ⁴がメチル基である化合
物］（７６８ｍｇ）をＤＭＦ（２０ｍｌ）に溶解し、Ｔ
ＥＡ（０．７３ｍｌ）を加え、Ｂｏｃ−Ｄ−Ｇｌｕ（Ｏ
Ｂｎ）（７３８ｍｇ）、ＷＳＣ（７１９ｍｇ）、ＨＯＢ
ｔ（５７４ｍｇ）およびＤＭＦ（１０ｍｌ）を加えて、
室温で４日間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、１
規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食
塩水で順次洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去した。得
られた残渣をシリカゲル中圧カラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝２／３→１／１）にて精
製して標記化合物（７６０ｍｇ）をシラップとして得
た。

【００８１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.43(s,9
H),1.75-2.00(m,3H),2.05-2.20(m,1H),2.30-2.65(m,4
H),3.22-3.35(m,2H),3.67(s,3H),4.03-4.17(m,1H),5.13
(s,2H),5.22(d,1H,J=7.5Hz),6.36(t,1H,J=5.3Hz),7.29-
7.40(m,5H). 参考例１５［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−４−［４−（ヘプタデシルカルバモイル）フェニルカ
ルバモイル］］酪酸ベンジルエステル［一般式（ＶＩＩ
Ｉ）において、Ｚが−ＣＯＮＨ−であり、Ｒ² がＢｏｃ
基であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基で
あり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物のＳ体］の
製造： Ｂｏｃ−Ｇｌｕ（ＯＢｎ）（０．５９ｇ）をＴＨ
Ｆ（５ｍｌ）に溶解し、ＴＥＡ（０．３３ｍｌ）を加
え、氷冷攪拌下にクロロ炭酸エチル（０．２ｍｌ）を滴
下した。３分間攪拌後、４−アミノ安息香酸 Ｎ−ヘプ
タデシルアミド［一般式（Ｘ）においてＺが−ＣＯＮＨ
−であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物］
（０．５ｇ）のＤＭＦ（３ｍｌ）およびＴＨＦ（５ｍ
ｌ）溶液を加え、徐々に室温に戻しながら１９時間攪拌
した。次いで、反応液に酢酸エチルを加え、２規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄後乾燥し
減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をｎ−ヘキサン
から結晶化して標記化合物（０．７７ｇ）を得た。

【００８２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.26-1.61(m,30H),1.45(s,9H),1.90-2.15(m,1H),2.1
5-2.32(m,1H),2.40-2.75(m,2H),3.35-3.50(m,2H),4.20-
4.40(m,1H),5.05-5.25(m,2H),5.35(d,1H,J=7.9Hz),6.07
(t,1H),7.25-7.50(m,5H),7.55(d,2H,J=8.7Hz),7.70(d,2
H,J=8.7Hz),8.69(bs,1H). 参考例１６３−［（２Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）にお
いて、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣ
Ｏ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基
であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎが１
６である化合物のＳ体］の製造： 参考例１の化合物（４
７１ｍｇ）に４規定塩酸／１，４−ジオキサン溶液（１
５ｍｌ）を加え、室温で０．５時間攪拌した。次いで、
反応液をトルエンと共沸しながら減圧下に濃縮した。得
られた脱Ｂｏｃ体のシラップをＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶
解し、ＴＥＡ （０．１５ｍｌ）を加え、続いてＷＳＣ
（１４４ｍｇ）、ＨＯＢｔ（１１５ｍｇ）および４−オ
クタデカノイルアミノ安息香酸［一般式（ＩＶ）におい
てＺが−ＨＮＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６で
ある化合物］（２０２ｍｇ）を加え、更にＤＭＦ（１３
ｍｌ）を加えた後室温で２１時間攪拌した。反応液に酢
酸エチル（８０ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄後乾燥し減
圧下に溶媒を留去した。析出した固体を濾取し、酢酸エ
チルおよびｎ−ヘキサンで洗浄して標記化合物（３０６
ｍｇ）を無色の結晶として得た。

【００８３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.90(t,3
H),1.20-1.45(m,28H),1.65-1.85(m,2H),2.22-2.42(m,4
H),2.53-2.70(m,1H),2.80-2.97(m,1H),3.92(s,3H),4.70
-4.88(m,1H),5.18(s,2H),7.24(s,1H),7.31-7.45(m,7H),
7.63(d,2H,J=8.6Hz),7.79-7.86(m,4H),8.15(s,1H),9.02
(s,1H). 参考例１７３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）にお
いて、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣ
Ｏ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基
であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎが１
６である化合物のＲ体］の製造： 参考例２の化合物（７
００ｍｇ）を用い、参考例１６と同様にして得られた標
記化合物の粗結晶を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶して無色の結晶（６２２ｍｇ）を得た。

【００８４】融点：１６１℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3H),1.10-1.48
(m,28H),1.65-1.83(m,2H),2.15-2.42(m,4H),2.50-2.67
(m,1H),2.80-2.95(m,1H),3.90(s,3H),4.70-4.85(m,1H),
5.15(s,2H),7.20-7.50(m,8H),7.62(d,2H,J=8.6Hz),7.72
-7.86(m,4H),8.13(t,1H),9.05(s,1H). 参考例１８３−［２−（４−オクタデカノイルアミノ）ベンゾイル
アミノ］アセチルアミノ］安息香酸メチル［一般式（Ｉ
Ｉ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが
−ＮＨＣＯ−であり、Ｒ³ が水素原子であり、Ｒ⁴ がメチ
ル基であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物］の
製造： 参考例３の化合物（３００ｍｇ）を用い、参考例
１６と同様にして標記化合物（１５２ｍｇ）を得た。

【００８５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.85(t,3
H),1.10-1.40(m,28H),1.40-1.70(m,2H),2.32(t,2H,J=7.
4Hz),3.85(s,3H),4.06(d,2H,J=5.7Hz),7.46(t,1H,J=7.9
Hz),7.60-7.71(m,3H),7.80-7.89(m,3H),8.27(s,1H),8.6
2(t,1H),10.01(s,1H),10.18(s,1H). 参考例１９３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２−［４−（オクタデ
カノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミ
ノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）において、Ｗ¹ が
１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、
Ｒ³ がベンジル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０
であり、ｎが１６である化合物のＳ体］の製造： （１）３−［（（２Ｓ）−２−アミノ−３−フェニル）
プロピオニルアミノ］安息香酸メチル：参考例４の化合
物（２．０ｇ）をＤＭＦ（１６ｍｌ）に溶解し、モルホ
リン（４ｍｌ）を加え室温で０．５時間攪拌した。析出
物を濾去し、濾液に酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、
水、飽和食塩水で洗浄後乾燥し、溶媒を減圧下に留去し
た。得られた残渣をシリカゲル中圧カラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１）にて精
製して標記化合物（９８４ｍｇ）をシラップとして得
た。

【００８６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：2.80(dd,1
H,J=9.5,13.8Hz),3.37(dd,1H,J=3.9,13.8Hz),3.74(dd,1
H,J=3.8,9.3Hz),3.91(s,3H),7.20-7.40(m,6H),7.41(t,1
H,J=7.9Hz),7.78(d,1H,J=7.8Hz),7.98(d,1H,J=8.2Hz),
8.09(s,1H),9.58(bs,1H). （２）３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２−［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニ
ルアミノ］安息香酸メチル：上記（１）の化合物（５０
０ｍｇ）および４−オクタデカノイルアミノ安息香酸
（５００ｍｇ）をＤＭＦ（４５ｍｌ）に加熱溶解し、室
温攪拌下にＷＳＣ（３０９ｍｇ）およびＨＯＢｔ（２４
７ｍｇ）を加え、室温で１３時間攪拌した。析出物を濾
取してＤＭＦで洗浄して標記化合物（４５６ｍｇ）を無
色の結晶として得た。また、濾液および洗液を合わせ、
更に酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後
乾燥し溶媒を減圧下に留去した。析出した固体をエーテ
ルから濾取して標記化合物（１３２ｍｇ）を得た。

【００８７】融点：１８３−１８５℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.85(t,3H),1.10-1.40
(m,28H),1.45-1.65(m,2H),2.32(t,2H),3.05-3.20(m,2
H),3.86(s,3H),4.70-4.90(m,1H),7.15-7.25(m,1H),7.28
(t,1H,J=7.3Hz),7.35-7.50(m,3H),7.60-7.70(m,3H),7.7
5-7.95(m,3H),8.28(t,1H),8.62(d,1H,J=7.6Hz),10.09
(s,1H),10.46(s,1H). 参考例２０３−［（２Ｓ）−４−ベンジルオキシ−２−［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニ
ルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）において、
Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−で
あり、Ｒ³ がベンジルオキシメチル基であり、Ｒ⁴ がメチ
ル基であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物のＳ
体］の製造： 参考例５（７６７ｍｇ）の化合物を用い、
参考例１６と同様にして標記化合物（４４７ｍｇ）を得
た。

【００８８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.20-1.50(m,28H),1.65-1.80(m,2H),2.38(t,2H),3.7
1(dd,1H,J=8.2,9.2Hz),3.92(s,3H),4.16(dd,1H,J=4.1,
9.1Hz),4.62(d,1H,J=11.6Hz),4.74(d,1H,J=11.6Hz),4.8
0-4.95(m,1H),7.12(d,1H,J=6.4Hz),7.32-7.45(m,6H),7.
63(d,2H,J=8.7Hz),7.70-7.85(m,4H),8.04(t,1H),8.71
(s,1H). 参考例２１３−［（２Ｒ）−２−［４−（オクタデカノイルアミ
ノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミノ］安息香酸
メチル［一般式（ＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェ
ニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、Ｒ³ およびＲ⁴
がメチル基であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合
物のＲ体］の製造： 参考例６の化合物（６２０ｍｇ）を
用い、参考例１６と同様にして標記化合物（８７０ｍ
ｇ）を得た。

【００８９】融点：２２６−２２９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.16-1.
28(m,28H),1.44(d,3H,J=7.2Hz),1.50-1.65(m,2H),2.31-
2.36(m,2H),4.52-4.62(m,1H),7.46-7.51(m,1H),7.63-7.
69(m,3H),7.86-7.96(m,3H),8.32(t,1H),8.56(bs,1H),1
0.09(s,1H),10.33(s,1H). 参考例２２３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンジルカルボニル
アミノ］ブチリルアミノ］安息香酸メチル［一般式（Ｉ
Ｉ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが
−ＮＨＣＯ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニル
エチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが１であ
り、ｎが１６である化合物のＲ体］の製造： 参考例２の
化合物（３５０ｍｇ）を用い、４−オクタデカノイルア
ミノ安息香酸の代わりに（４−オクタデカノイルアミ
ノ）フェニル酢酸［一般式（ＩＶ）においてＺが−ＨＮ
ＣＯ−であり、ｍが１であり、ｎが１６である化合物
（２８０ｍｇ）］を用いること以外は参考例１６と同様
にして標記化合物（２９３ｍｇ）を得た。

【００９０】融点：１９１−１９３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3H),1.15-1.45
(m,28H),1.60-1.85(m,2H),1.90-2.10(m,1H),2.10-2.30
(m,1H),2.32-2.50(m,3H),2.50-2.73(m,1H),3.49(d,1H),
3.56(d,1H),4.50-4.65(m,1H),5.09(d,1H,J=12.3Hz),5.1
5(d,1H,J=12.3Hz),6.58(d,1H,J=7.0Hz),7.19(d,2H,J=8.
4Hz),7.30-7.45(m,7H),7.49(d,2H,J=8.3Hz),7.72-7.85
(m,2H),7.93(t,1H),8.67(s,1H). 参考例２３３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
プロピオニルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）
において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−Ｎ
ＨＣＯ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルメチ
ル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物のＳ体］の製造： 参考例７の化合物
（６００ｍｇ）を用い、参考例１６と同様にして標記化
合物（５８３ｍｇ）を得た。

【００９１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.50(m,28H),1.65-1.80(m,2H),2.38(t,2H),2.8
3(dd,1H,J=6.4,16.9Hz),3.19(dd,1H,J=4.0,16.9Hz),3.9
1(s,3H),5.05-5.20(m,1H),5.20-5.28(m,2H),7.20-7.45
(m,7H),7.62(d,2H,J=8.8Hz),7.70-7.90(m,5H),8.09(t,1
H),9.00(s,1H). 参考例２４３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルア
ミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）において、Ｗ¹
が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であ
り、Ｒ³ が２−ベンジルオキシエチル基であり、Ｒ⁴ がメ
チル基であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物の
Ｓ体］の製造： （１）３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチリルアミノ］
安息香酸メチル：Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
Ｏ−ベンジル−Ｌ−スレオニン（１．０ｇ）をＴＨＦ
（２０ｍｌ）に溶解し、ＴＥＡ （３７０ｍｇ）を加
え、氷冷攪拌下にクロロ炭酸エチル（３８０ｍｇ）を加
えた。３分間攪拌後、３−アミノ安息香酸メチル［一般
式（ＶＩ）においてＷが１，３−フェニレンであり、Ｒ
⁴がメチル基である化合物］（５００ｍｇ）のＴＨＦ
（５ｍｌ）溶液を加え、室温で３時間攪拌した。次い
で、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後
乾燥し溶媒を減圧下に留去して標記化合物（１．２ｇ）
をシラップとして得た。 （２）３−［（２Ｓ）−３−ベンジルオキシ−２−［４
−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチ
リルアミノ］安息香酸メチル：上記（１）の化合物
（１．１ｇ）を４規定塩酸／１，４−ジオキサンに溶解
し、室温で０．５時間攪拌した。次いで、トルエン共沸
下に溶媒を減圧濃縮した。得られたシラップをＤＭＦ
（２０ｍｌ）に溶解し、ＷＳＣ（３６８ｍｇ）、ＨＯＢ
ｔ（２９０ｍｇ）および４−オクタデカノイルアミノ安
息香酸［一般式（ＩＶ）においてＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６である化合物］（５００ｍ
ｇ）を加え、室温で１３時間攪拌した。反応液に酢酸エ
チル（１００ｍｌ）を加え、０．５Ｎ塩酸および飽和食
塩水で洗浄後乾燥し溶媒を減圧下に留去した。得られた
残渣を調製用薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ
−ヘキサン＝１／１）にて精製して標記化合物（１９４
ｍｇ）を得た。

【００９２】融点：１０６−１０９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.86(t,3H),1.09-1.
42(m,31H),1.50-1.74(m,2H),2.34(t,2H ),3.87(s,3H),
4.02-4.18(m,1H),4.53(d,1H,J=12.0Hz),4.63(d,1H,J=1
2.0Hz),4.70-4.80(m,1H),7.10-7.32(m,5H),7.45(t,1H,J
=7.8Hz),7.69(d,1H,J=7.6Hz),7.70(d,2H,J=8.7Hz),7.86
(d,1H,J=7.0Hz),7.88(d,2H,J=8.7Hz),8.21(d,1H,J=8.2H
z),8.28(t,1H),10.10(s,1H),10.33(s,1H). 参考例２５３−［（２Ｒ）−３−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
プロピオニルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）
において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−Ｎ
ＨＣＯ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルメチ
ル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物のＲ体］の製造： 参考例８の化合物
（７００ｍｇ）を用い、参考例１６と同様にして標記化
合物（６５４ｍｇ）を得た。

【００９３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.50(m,28H),1.65-1.85(m,2H),2.38(t,2H),2.8
4(dd,1H,J=6.4,16.9Hz),3.18(dd,1H,J=4.1,16.9Hz),3.9
1(s,3H),5.05-5.20(m,1H),5.20-5.27(m,2H),7.23-7.50
(m,7H),7.61(d,2H,J=8.7Hz),7.73-7.90(m,5H),8.09(t,1
H),9.02(s,1H). 参考例２６３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデシルオキシ）ベンゾイルアミノ］ブチ
リルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）におい
て、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが酸素原子で
あり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチル基であ
り、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎが１７で
ある化合物のＲ体］の製造： 参考例２の化合物（３００
ｍｇ）をクロロホルム（３ｍｌ）に溶解し、ＴＦＡ（３
ｍｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。次いで、減圧下
に濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル（５０ｍｌ）に溶
解し炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し乾燥後溶媒を減圧下
に留去した。得られたシラップおよび４−オクタデカニ
ルオキシ安息香酸［一般式（ＩＶ）においてＺが酸素原
子であり、ｍが０であり、ｎが１７である化合物］（２
５０ｍｇ）をＤＭＦ（８０ｍｌ）に溶解し、ＷＳＣ（１
５０ｍｇ）およびＨＯＢｔ（１２０ｍｇ）を加え、室温
で１６時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた残渣に
クロロホルム（５０ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後乾燥し溶
媒を減圧下に留去した。析出した固体を濾取し、これを
調製用薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノ
ール＝２０／１）で精製して標記化合物（２２１ｍｇ）
を無色の結晶として得た。

【００９４】融点：８７−９３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3H),1.15-1.50
(m,30H),1.70-1.90(m,2H),2.20-2.40(m,2H),2.48-2.67
(m,1H),2.75-2.95(m,1H),3.90(s,3H),3.95-4.10(m,2H),
4.75-4.90(m,1H),5.14(s,2H),6.92(d,2H,J=8.9Hz),7.30
-7.45(m,7H),7.70-7.90(m,4H),8.13(t,1H),9.13(s,1H). 参考例２７Ｎ，Ｎ′−ビス−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベ
ンゾイル］−Ｌ−シスチン ビス［（３−メトキシカル
ボニル）フェニルアミド］［一般式（ＩＩ）において、
Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−で
あり、Ｒ⁴ がメルカプトメチル基であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物のジスルフィド体］の製造：
参考例９の化合物（１００ｍｇ）を用い、参考例１６と
同様にして標記化合物（９２ｍｇ）を得た。

【００９５】融点：２３９−２４１℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.87(t,6H),1.10-1.40
(m,56H),1.65-1.80(m,4H),2.40(t,2H),3.10-3.50(m,4
H),3.92(s,6H),5.85-5.90(m,2H),7.43(t,2H,J=8.2Hz),
7.65-7.80(m,4H),7.82(d,2H,J=8.2Hz),7.90-8.00(m,4
H),8.05-8.15(m,2H),8.30-8.40(m,2H),10.53(s,2H). 参考例２８３−［（２Ｓ）−６−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイ
ルアミノ］ヘキサノイルアミノ］安息香酸メチル［一般
式（ＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであ
り、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、Ｒ³ が４−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）ブチル基であり、Ｒ⁴ がメ
チル基であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物の
Ｓ体］の製造： 参考例１０の化合物（５００ｍｇ）をＴ
ＨＦ（１５ｍｌ）に溶解し、ジエチルアミン（１ｍｌ）
を加えて室温で６時間攪拌した。次いで、反応液を減圧
下に濃縮し、得られた残渣をＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解
し、ＷＳＣ（１２０ｍｇ）、ＨＯＢｔ（１００ｍｇ）お
よび４−オクタデカノイルアミノ安息香酸［一般式（Ｉ
Ｖ）においてＺが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、
ｎが１６である化合物］（１７０ｍｇ）を加え、室温で
２０時間攪拌した。次いで、反応液に酢酸エチルを加
え、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
洗浄後乾燥し減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣を
シリカゲル中圧カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
／ｎ−ヘキサン＝１／５→１／３→１／２→１／１）に
て精製して標記化合物（７０ｍｇ）を淡黄色粉末として
得た。

【００９６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-2.20(m,36H),1.42(s,9H),2.38(t,2H,J=7.5Hz),
2.90-3.30(m,2H),3.89(s,3H),4.72(t,1H,J=6.1Hz),4.75
-4.90(m,1H),7.05(d,1H,J=7.7Hz),7.36(t,1H,J=8.0Hz),
7.49(bs,1H),7.59(d,2H,J=8.7Hz),7.70-7.90(m,4H),8.1
6(t,1H),9.10(s,1H). 参考例２９Ｎ，Ｎ′−ビス−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベ
ンゾイル］−Ｄ−シスチン ビス［（３−メトキシカル
ボニル）フェニルアミド］［一般式（ＩＩ）において、
Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−で
あり、Ｒ⁴ がメルカプトメチル基であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物のジスルフィド体］の製造：
参考例１１の化合物（１００ｍｇ）を用い、参考例１６
と同様にして標記化合物（５１ｍｇ）を得た。

【００９７】融点：２２５−２３０℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.83(t,6H),1.10-1.
40(m,56H),1.45-1.65(m,4H),2.30(t,2H),3.10-3.40(m,4
H),3.82(s,6H),4.80-4.95(m,2H),7.43(t,2H,J=8.0Hz),
7.55-7.70(m,4H),7.75-7.95(m,6H),8.25-8.30(m,2H),8.
65(d,2H,J=7.4Hz),10.02(s,2H),10.42(s,2H). 参考例３０３−［（２Ｒ）−４−カルバモイル−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）において、Ｗ¹ が
１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、
Ｒ³ がカルバモイルエチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であ
り、ｍが０であり、ｎが１６である化合物のＲ体］の製
造： 参考例１２の化合物（４００ｍｇ）を用い、参考例
１６と同様にして標記化合物（２２４ｍｇ）を得た。

【００９８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＣＯ−ｄ₆）δ：0.84
(t,3H),1.15-1.40(m,28H),1.50-1.70(m,2H),1.95-2.15
(m,2H),2.20-2.40(m,4H),3.84(s,3H),4.40-4.52(m,1H),
6.85(bs,1H),7.35(bs,1H),7.45(t,1H,J=7.9Hz),7.58-7.
75(m,3H),7.80-7.90(m,3H),8.30(t,1H),8.58(d,1H,J=7.
1Hz),10.06(s,1H),10.29(s,1H). 参考例３１３−［（２Ｓ）−３−（１−ベンジルオキシメチルイミ
ダゾール−４−イル）−２−［４−（オクタデカノイル
アミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミノ］安息
香酸メチル［一般式（ＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−
フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、Ｒ³ が
（１−ベンジルオキシメチルイミダゾール−４−イル）
メチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物のＳ体］の製造： 参考例１３
の化合物（１６７ｍｇ）を用い、参考例１６と同様にし
て標記化合物（１３５ｍｇ）を得た。

【００９９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.35(m,28H),2.38(t,2H),3.20-3.45(m,2H),3.9
0(s,3H),4.55(d,1H,J=11.5Hz),4.66(d,1H,J=11.5Hz),5.
08(q,1H,7.5Hz),5.42(d,1H,J=10.4Hz),5.49(d,1H,J=10.
5Hz),6.95-7.00(m,1H),7.20-7.40(m,7H),7.45-7.50(m,1
H),7.55-7.80(m,7H),7.95-8.05(m,1H),8.65(s,1H). 参考例３２３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゼンスルホニルアミノ］ブチリ
ルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＸＩ）において、
Ｗ² が１，３−フェニレンであり、Ｒ¹ ′がＲカルボキシ
エチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物のＲ体］の製造： （１）３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル
−２−（４−ニトロベンゼンスルホニルアミノ）ブチリ
ルアミノ］安息香酸メチル：参考例２の化合物（５００
ｍｇ）に４規定塩酸／１，４−ジオキサン溶液（１０ｍ
ｌ）を加え、室温で０．５時間攪拌した。次いで、反応
液をトルエンと共沸しながら減圧下に濃縮した。得られ
た脱Ｂｏｃ体のシラップをクロロホルム（１０ｍｌ）に
溶解し、ＴＥＡ （２３６ｍｇ）、４−ニトロベンゼン
スルホニルクロリド［一般式（ＸＩＶ）の化合物］（２
８７ｍｇ）および触媒量のＤＭＡＰを加え、室温で４時
間攪拌した。次いで、反応液にクロロホルム（５０ｍ
ｌ）を加え、１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄後乾燥し溶媒を減圧下に留去し
た。得られた残渣を調製用薄層クロマトグラフィー（ク
ロロホルム／メタノール＝２０／１）にて精製して標記
化合物（４０３ｍｇ）を無色の粉末として得た。

【０１００】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.90-2.20
(m,2H),2.35-2.50(m,1H),2.60-2.80(m,1H),3.92(s,3H),
3.90-4.03(m,1H),5.15(d,1H,J=12.1Hz),5.22(d,1H,J=1
2.1Hz),6.33(d,1H,J=7.9Hz),7.10-7.45(m,6H),7.63(dd
d,1H),7.79(dt,1H),7.88(t,1H),7.99(d,2H,J=9.0Hz),8.
23(d,2H,J=9.0Hz),8.41(bs,1H). （２）ステアリルクロリド：ステアリン酸（１８５ｍ
ｇ）を塩化チオニル（１５ｇ）に溶解し、室温で２時間
攪拌した。次いで、反応液をトルエン共沸下に減圧濃縮
し、標記化合物をシラップとして得た。 （３）３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−
（オクタデカノイルアミノ）ベンゼンスルホニルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸メチル：上記（１）の化
合物（３６０ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）
に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃのエタノール（５ｍｌ）懸験
液を加え、水素気流下室温で１時間攪拌した。次いで、
触媒を濾去し、濾液を濃縮後、得られたシラップおよび
上記（２）の化合物をクロロホルム（２０ｍｌ）および
ＤＭＦ（５ｍｌ）に溶解し、Ｅｔ₃Ｎを加え、室温で
６．５時間攪拌した。次いで、反応液にクロロホルム
（５０ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽和食塩水で洗浄後
乾燥し溶媒を減圧下に留去した。得られた残渣を調製用
薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝
５／１）にて精製して標記化合物（２２０ｍｇ）を無色
の粉末として得た。

【０１０１】融点：１９２−１９４℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
40(m,28H),1.41-1.65(m,2H),1.65-1.95(m,2H),2.00-2.3
8(m,4H),3.84(s,3H),3.75-3.90(m,1H),7.37(t,1H,J=7.9
Hz),7.52-7.72(m,6H),8.03(t,1H),10.02(s,1H),10.09
(s,1H). 参考例３３（４Ｒ）−４−（３−メトキシカルボニルプロピルカル
バモイル）−４−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベ
ンゾイルアミノ］酪酸ベンジルエステル［一般式（Ｉ
Ｉ）において、Ｗ¹ が−（ＣＨ₂ ）₃ −であり、Ｚが−Ｎ
ＨＣＯ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチ
ル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物のＲ体］の製造： 参考例１４の化合
物（５８０ｍｇ）を用い、参考例１６と同様にして標記
化合物（１４５ｍｇ）を得た。

【０１０２】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85
(t,3H),1.05-1.40(m,28H),1.50-1.75(m,4H),1.85-2.15
(m,2H),2.25-2.35(m,2H),2.43(t,2H),3.07(dt,1H,J=6.
3,6.7Hz),3.57(s,3H),4.30-4.45(m,1H),5.07(s,2H),7.2
0-7.40(m,5H),7.65(d,1H,J=8.7Hz),7.84(d,1H,J=8.7H
z),7.96(t,1H,J=6.3Hz),8.27(d,1H,J=8.2Hz),10.06(s,1
H). 参考例３４３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（ヘプタデシルカルバモイル）ベンゾイルアミ
ノ］ブチリルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）
において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−Ｃ
ＯＮＨ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニルエチ
ル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物のＲ体］の製造： 参考例２の化合物
（４００ｍｇ）を用い、４−オクタデカノイルアミノ安
息香酸の代わりに（４−ヘプタデシルアミノカルボニ
ル）安息香酸［一般式（ＩＶ）においてＺが−ＣＯＮＨ
−であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合物（３２
３ｍｇ）］を用いること以外は参考例１６と同様にして
標記化合物（４４０ｍｇ）を得た。

【０１０３】融点：１６１−１６２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3H),1.10-1.50
(m,28H),2.10-2.50(m,2H),2.50-2.70(m,1H),2.80-3.00
(m,1H),3.40-3.60(m,2H),3.90(s,3H),4.75-4.95(m,1H),
5.05-5.20(m,2H),6.23(t,1H,J=5.7Hz),7.20-7.45(m,7
H),7.66(d,1H,J=6.8Hz),7.70-7.95(m,6H),8.13(t,1H),
9.10(s,1H). 参考例３５Ｎ−［（１Ｓ）−３−ベンジルオキシカルボニル−１−
［４−（ヘプタデシルカルバモイル）フェニルカルバモ
イル］プロピル］イソフタラミン酸メチル［一般式（Ｖ
ＩＩ）において、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚ
が−ＣＯＮＨ−であり、Ｒ³ がベンジルオキシカルボニ
ルエチル基であり、Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物の立体異性体］の製造： 参考
例１５の化合物（３００ｍｇ）に４規定塩酸／１，４−
ジオキサン溶液（１４ｍｌ）を加え、室温で４時間攪拌
した。次いで、反応液を減圧下に濃縮し、得られたシラ
ップをＤＭＦ（１５ｍｌ）に溶解し、ＴＥＡ（０．０６
ｍｌ）、イソフタル酸モノメチルエステル［一般式（Ｉ
Ｘ）においてＷが１，３−フェニレンであり、Ｒ⁴がメ
チル基である化合物］、ＷＳＣ（１４０ｍｇ）およびＨ
ＯＢｔ（１１０ｍｇ）を順次加え、室温で１９時間攪拌
した。次いで、反応液に酢酸エチルを加え、２規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄後乾燥し
減圧下に溶媒を留去して標記化合物の粗結晶（１５０ｍ
ｇ）を得た。このうち１００ｍｇを調製用薄層クロマト
グラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／２→１／
１）にて精製して標記化合物（４０ｍｇ）を無色の結晶
として得た。

【０１０４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.13-1.50(m,28H),1.50-1.75(m,2H),2.25-2.40(m,2
H),2.50-2.72(m,1H),2.80-3.00(m,1H),3.32-3.50(m,2
H),3.95(s,3H),4.75-4.85(m,1H),5.15(d,1H,J=12.3Hz),
5.21(d,1H,J=12.2Hz),6.08(t,1H),7.25-7.35(m,5H),7.5
0-7.75(m,6H),8.07(d,1H,J=8.4Hz),,8.21(d,1H,J=7.9H
z),8.50(t,1H),9.14(s,1H). 参考例３６３−［（２Ｓ）−３−メトキシカルボニル−２−［４−
（エイコサノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオ
ニルアミノ］安息香酸メチル［一般式（ＩＩ）におい
て、Ｗ¹ が１，３−フェニレンであり、Ｚが−ＮＨＣＯ
−であり、Ｒ³ がメトキシカルボニルメチル基であり、
Ｒ⁴ がメチル基であり、ｍが０であり、ｎが１８である
化合物のＳ体］の製造： （１）３−（３−メトキシカルボニル−（２Ｓ）−アミ
ノプロピオニルアミノ）安息香酸メチル：参考例７の化
合物（５００ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）
に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（５０ｍｇ）を加え、水素気
流下室温で１３時間攪拌した。触媒を濾去し、濾液を濃
縮して得られた残渣をメタノール（１５ｍｌ）に溶解
し、アセチルクロリド（３ｍｌ）／メタノール（２０ｍ
ｌ）を加え、室温で１時間攪拌した後、減圧下に溶媒を
留去して標記化合物（４３４ｍｇ）を得た。

【０１０５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：3.50(s,3
H),3.84(s,3H),4.80-5.00(m,1H),7.23(t,1H,J=7.2Hz),
7.63(d,2H,J=7.8Hz),7.78(d,2H,J=8.8Hz). （２）３−［（２Ｓ）−３−メトキシカルボニル−２−
［４−（エイコサノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プ
ロピオニルアミノ］安息香酸メチル：上記（１）の化合
物（２８５ｍｇ）を用いて参考例１６と同様にして標記
化合物（４０８ｍｇ）を得た。

【０１０６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃：ＤＭＳＯ−ｄ₆
＝１：１）δ：0.87(t,3H),1.10-1.30(m,32H),1.50-1.7
0(m,2H),2.36(t,2H),2.70-2.90(m,2H),3.68(s,3H),3.89
(s,3H),5.00-5.10(m,1H),7.37(t,1H,J=8.0Hz),7.55-7.6
5(m,3H),7.70-7.85(m,3H),8.10-8.20(m,1H),8.35(d,1H,
J=7.7Hz),9.72(s,1H),9.99(s,1H). 参考例３７４−オクタデカノイルアミノ安息香酸［一般式（ＩＶ）
において、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物］の製造： （１）４−オクタデカノイルアミノ安息香酸メチル：ス
テアリン酸［一般式（ＸＶＩＩａ）においてｎが１６で
ある化合物］（２．８７ｇ）に塩化チオニル（３５ｍ
ｌ）を加え、４０℃で２時間攪拌した。次いで、反応液
をトルエン共沸下に濃縮し、得られた残渣をクロロホル
ム（５５ｍｌ）に溶解した。次いで、４−アミノ安息香
酸メチル［一般式（ＸＶＩａ）においてＲ⁴がメチル基
であり、ｍが０である化合物］（１．２１ｇ）およびＴ
ＥＡ（１．７ｍｌ）を加え、室温で４０分間攪拌した。
反応液にクロロホルムを加え、１規定塩酸、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄後乾燥
し減圧下に溶媒を留去した。析出した固体をｎ−ヘキサ
ンから濾取して標記化合物（２．９８ｇ）を得た。

【０１０７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.45(m,28H),1.65-1.80(m,2H),2.37(t,2H),3.8
9(s,3H),7.60(d,2H,J=8.7Hz),8.00(d,2H,J=8.7Hz). （２）４−オクタデカノイルアミノ安息香酸：上記
（１）の化合物の１，４−ジオキサン／メタノール／Ｔ
ＨＦ（混合比９／１／２）混合液（６００ｍｌ）に１規
定水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）を加え、６０℃
で８時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規
定塩酸で酸性（ｐＨ１）に調製した。析出した固体を濾
取し、水、酢酸エチルで洗浄して標記化合物（２．２６
ｇ）を無色の結晶として得た。

【０１０８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.86
(t,3H),1.15-1.40(m,28H),1.50-1.70(m,2H),2.33(t,2
H),7.69(d,2H,J=8.8Hz),7.87(d,2H,J=8.8Hz),10.10(s,1
H),12.60(bs,1H). 参考例３８Ｎ−ヘプタデシル−テレフタラミン酸［一般式（ＩＶ）
において、Ｚが−ＣＯＮＨ−であり、ｍが０であり、ｎ
が１６である化合物］の製造： （１）Ｎ−ヘプタデシル−テレフタラミン酸メチルエス
テル：テレフタル酸モノメチルエステル［一般式（ＸＶ
Ｉｂ）においてＲ⁴がメチル基であり、ｍが０である化
合物］（１．０ｇ）およびヘプタデシルアミン［一般式
（ＸＶＩＩｂ）においてｎが１６である化合物］（１．
４２ｇ）をＤＭＦ（１００ｍｌ）に溶解し、ＷＳＣ
（１．２８ｇ）およびＨＯＢｔ（１．０２ｇ）を加え、
６０℃で２時間、更に８０℃で２時間攪拌した。次い
で、減圧下に濃縮し、得られた残渣にクロロホルム（１
００ｍｌ）を加え、１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および飽和食塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶媒
を留去した。析出した固体をｎ−ヘキサンから濾取して
標記化合物（１．４８ｇ）を無色の結晶として得た。

【０１０９】融点：１２０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3H),1.10-1.50
(m,28H),1.50-1.70(m,2H),3.40-3.50(m,2H),3.94(s,3
H),6.12(bs,1H),7.81(d,2H,J=8.5Hz),8.09(d,2H,J=8.7H
z). （２）Ｎ−ヘプタデシル−テレフタラミン酸：上記
（１）の化合物（１．０ｇ）を用いて参考例３７（２）
と同様にして標記化合物（９５０ｍｇ）を得た。

【０１１０】融点：２０２−２０４℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.20-1.
38(m,28H),1.42-1.62(m,2H),7.91(d,2H,J=8.6Hz),7.99
(d,2H,J=8.6Hz). 参考例３９４−オクタデシルオキシ安息香酸［一般式（ＩＶ）にお
いて、Ｚが酸素原子であり、ｍが０であり、ｎが１７で
ある化合物］の製造： （１）４−オクタデシルオキシ安息香酸メチル：４−ヒ
ドロキシ安息香酸メチル［一般式（ＸＶＩｃ）において
Ｒ⁴がメチル基であり、ｍが０である化合物］（１．５
ｇ）をＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解し、１−ヨードオクタ
デカン［一般式（ＸＶＩＩｃ）においてＲ⁵がヨウ素原
子であり、ｎが１７である化合物］（４．５ｇ）および
炭酸カリウム（１．６４ｇ）を加え、更にＤＭＦ（７０
ｍｌ）を追加して室温で５．５時間攪拌した。次いで、
反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル（１００ｍｌ）を加
え、１規定塩酸、水および飽和食塩水で洗浄後乾燥し減
圧下に溶媒を留去した。析出した固体をｎ−ヘキサンか
ら濾取して標記化合物（３．２８ｇ）を得た。

【０１１１】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.55(m,30H),1.70-1.90(m,2H),3.88(s,3H),4.0
0(t,2H,J=6.5Hz),6.90(d,2H,J=8.5Hz),7.98(d,2H,J=8.3
Hz). （２）４−オクタデシルオキシ安息香酸：上記（１）の
化合物（３１０ｍｇ）を用いて参考例３７（２）と同様
にして標記化合物（２９６ｍｇ）を得た。

【０１１２】融点：２６０℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.15-1.
50(m,30H),1.65-1.85(m,2H),4.00(t,2H),6.90-7.00(m,2
H),7.84(d,2H,J=8.8Hz). 参考例４０４−アミノ−Ｎ−ヘプタデシルベンズアミド［一般式
（Ｘ）において、Ｚが−ＣＯＮＨ−であり、ｍが０であ
り、ｎが１６である化合物］の製造： （１）４−ニトロ−Ｎ−ヘプタデシルベンズアミド：４
−ニトロ安息香酸［一般式（ＸＶＩＩＩａ）においてｍ
が０である化合物］（２．０ｇ）をＴＨＦ（２０ｍｌ）
に溶解し、ＴＥＡ（２．２ｍｌ）を加え、氷冷攪拌下に
クロロ炭酸エチル（１．４ｍｌ）を加えた。３分間攪拌
後、ヘプタデシルアミン［一般式（ＸＶＩＩｂ）におい
てｎが１６である化合物］（２．３ｇ）のＴＨＦ（２３
ｍｌ）溶液を加え、徐々に室温に戻しながら３時間攪拌
した。次いで、反応液に酢酸エチルを加え、１規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄後乾
燥し減圧下に溶媒を留去して標記化合物（２．６２ｇ）
をシラップとして得た。

【０１１３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.18-1.48(m,28H),1.53-1.74(m,2H),2.37-2.52(m,2
H),6.12(bs,1H),7.91(d,2H,J=8.9Hz),8.29(d,2H,J=8.9H
z). （２）４−アミノ−Ｎ−ヘプタデシルベンズアミド：上
記（１）の化合物（２．６２ｇ）を１，４−ジオキサン
（１５０ｍｌ）およびメタノール（８０ｍｌ）の混合溶
媒に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（５３０ｍｇ）を加え、水
素気流下室温で１６時間攪拌した。次いで、触媒を濾去
し、濾液を減圧濃縮して標記化合物（２．１５ｇ）をシ
ラップとして得た。

【０１１４】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.15-1.45(m,28H),1.50-1.70(m,2H),3.30-3.50(m,2
H),3.92(bs,1H),5.93(bs,1H),6.66(d,2H,J=8.7Hz),7.59
(d,2H,J=8.6Hz). 参考例４１３−アミノ−５−ニトロ安息香酸メチルの製造： ３，５
−ジニトロ安息香酸メチル（１.0ｇ）を１，４−ジオキ
サン（７０ｍｌ）に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（０．３５
ｇ）を加えて水素気流下室温で３日間撹拌した。触媒を
濾去後、１，４−ジオキサンにて十分洗浄した。濾液と
洗液は合わせて減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣
をシリカゲル中圧クロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ
−ヘキサン＝１：３）にて精製して標記化合物（０．２
８ｇ）を結晶として得た。

【０１１５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：3.95(s,3
H),7.61(dd,1H,J=1.4Hz,J=2.4Hz),7.65(t,1H),8.20(dd,
1H,J=1.4Hz,J=2.0Hz). 参考例４２３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチリルアミ
ノ］−５−ニトロ安息香酸メチルの製造： Ｂｏｃ−D−
Ｇｌｕ（ＯＢｎ）（１．１４ｇ）をＴＨＦ（１３．５ｍ
ｌ）に溶解し、ＴＥＡ（０．６１ｍｌ）を加え、氷冷攪
拌下にクロロ炭酸エチル（０．３９ｍｌ）を滴下した。
３分間攪拌後、参考例４１の化合物（０．５１ｇ）のＴ
ＨＦ（１３．５ｍｌ）溶液を加え、室温で２４時間攪拌
した。次いで、反応液に酢酸エチル（１５０ｍｌ）を加
え、１規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶媒を留去した。得られ
た残渣をシリカゲル中圧クロマトグラフィー（酢酸エチ
ル／ｎ−ヘキサン＝１：３）にて精製して標記化合物
（０．６６ｇ）を淡黄色シラップとして得た。

【０１１６】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.47(s,9
H),1.90-2.35(m,2H),2.45-2.80(m,2H),3.98(s,3H),4.25
-4.40(m,1H),5.14(d,1H,J=12.2Hz),5.20(d,1H,J=12.2H
z),5.38(d,1H,J=7.7Hz),7.30-7.45(m,5H),8.40(dd,1H,J
=1.5Hz,J=2.1Hz),8.57(dd,1H,J=1.5Hz,J=2.1Hz),8.72
(t,1H,J=2.1Hz),9.17(bs,1H). 参考例４３３−［（２Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］−５−ニトロ安息香酸メチルの製造：
参考例４２の化合物（０．６６ｇ）に４規定塩酸／１，
４−ジオキサン溶液（１９．５ｍｌ）を加え、室温で２
時間攪拌した。次いで、反応液をトルエンと共沸しなが
ら減圧下に濃縮した。得られた脱Ｂｏｃ体のシラップを
ＤＭＦ（３２ｍｌ）に溶解し、ジイソプロピルエチルア
ミン（０．２２ｍｌ）を加え、続いてＷＳＣ（０．４１
ｇ）、ＨＯＢｔ（０．３３ｇ）および４−オクタデカノ
イルアミノ安息香酸［一般式（ＩＶ）においてＺが−Ｈ
ＮＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６である化合
物］（０．６７ｇ）を加え、室温で１７時間攪拌した。
次いで、反応液に酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、１
規定塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食
塩水で洗浄後乾燥し減圧下に溶媒を留去した。析出した
固体を濾取し、酢酸エチルおよびｎ−ヘキサンにて十分
洗浄して標記化合物（０．７６ｇ）を淡黄色の結晶とし
て得た。

【０１１７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：0.88(t,3
H),1.20-1.80(m,30H),2.25-2.45 (m,4H),2.55-2.65(m,1
H),2.85-3.05(m,1H),3.97(s,3H),4.70-4.85(m,1H),5.17
(s,2H),7.25(d,1H,J=5.0Hz),7.58(d,1H,J=6.7Hz),7.64
(d,2H,J=8.7Hz),7.85(d,2H,J=8.7Hz),8.42(t,1H),8.57
(dd,1H,J=1.5Hz,J=2.0Hz),8.76(t,1H,J=2.0Hz),9.75(s,
1H). 参考例４４３−トリデシルヘキサデシル Ｏ−（５−アセトアミド
−３，５−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−α−Ｄ−ガラク
ト−２−ノヌロピラノシロン酸）−（２→３）−Ｏ−
（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−
［（α−Ｌ−フコピラノシル）−（１→３）］−Ｏ−
（２−アセトアミド−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピ
ラノシル）−（１→３）−β−Ｄ−ガラクトピラノシド
の製造 （１）３- トリデシルヘキサデカノール ：３- トリデシ
ルヘキサデカン酸（４３９ｍｇ）のＴＨＦ（１０．０ｍ
ｌ）溶液に０℃にて１Ｍボラン- ＴＨＦ錯体／ＴＨＦ溶
液（２．０ｍｌ）を加え、室温で１５時間撹拌した。反
応混合物を水／ＴＨＦ（８０ｍｌ／４０ｍｌ）混合溶液
中に注ぎ、炭酸水素ナトリウムで中和した。反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせ飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒を減
圧留去した。得られた残渣をシリカゲル中圧液体クロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）
にて精製して標記化合物３９２ｍｇを得た。

【０１１８】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） δ：0.89(t,J
=7Hz,6H),1.20-1.40(m,48H),1.50-1.60(m,3H),3.67(t,J
=7Hz,2H).（２）３−トリデシルヘキサデシル Ｏ−（メチル ５
−アセトアミド−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチ
ル−３，５−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−α−Ｄ−ガラ
クト−２−ノヌロピラノシロネート）−（２→３）−Ｏ
−（２，４，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−ガラ
クトピラノシル）−（１→４）−Ｏ−［（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−（１
→３）］−Ｏ−（２−アセトアミド−６−Ｏ−アセチル
−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）−（１→
３）−２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラ
クトピラノシド： 文献既知の方法〔J.Carbohydr.Chem.,
11,645〜658(1992)〕で製造したＯ−（メチル ５−ア
セトアミド−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−
３，５−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−α−Ｄ−ガラクト
−２−ノヌロピラノシロネート）−（２→３）−Ｏ−
（２，４，６−トリ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−ガラク
トピラノシル）−（１→４）−Ｏ−［（２，３，４−ト
リ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−（１→
３）］−Ｏ−（２−アセトアミド−６−Ｏ−アセチル−
２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル）−（１→
３）−２，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−ガラ
クトピラノシル トリクロロアセトイミデート２５ｍｇ
および３−トリデシルヘキサデカノール〔上記（１）参
照〕２８ｍｇの塩化メチレン（０．３ｍｌ）溶液にモレ
キュラーシーブス４Ａ タイプＡＷ３００（５６ｍｇ）
を加え、室温にて４時間撹拌した後、０℃にて三ふっ化
ほう素ジエチルエーテル錯体（８ｍｇ）を加え、同温度
で１８時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、
不溶物を濾去し、有機層を飽和重曹水および水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧留去
し、得られた残渣をシリカゲル中圧液体クロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜酢酸エチ
ル）にて精製して標記化合物２１ｍｇを得た。

【０１１９】［α］_D−１０゜（ｃ＝０．５９，ＣＨＣ
ｌ₃）¹ Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)δ：0.89(t,J=7Hz,6H),1.15-1.
40(m,48H),1.21(d,J=7Hz,3H),1.78(s,3H),1.82(s,3H),
1.90(s,3H),1.93(s,3H),2.00(s,3H),2.03(s,3H),2.05
(s,3H),2.07(s,3H),2.08(s,3H),2.09(s,3H),2.12(s,3
H),2.41(dd,J=4,13Hz,1H),3.81(s,3H),5.60-5.70(m,1
H),7.40-8.20(m,15H).（３）３−トリデシルヘキサデシル Ｏ−（５−アセト
アミド−３，５−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−α−Ｄ−
ガラクト−２−ノヌロピラノシロン酸）−（２→３）−
Ｏ−（β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−（１→４）−Ｏ
−［（α−Ｌ−フコピラノシル）−（１→３）］−Ｏ−
（２−アセトアミド−２−デオキシ−β−Ｄ−グルコピ
ラノシル）−（１→３）−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ド： 上記（２）の化合物４６ｍｇのメタノール（１０ｍ
ｌ）溶液にナトリウムメトキシド８ｍｇを加え５０℃に
て１４時間撹拌した。反応混合物に水１ｍｌを加え、同
温度でさらに２４時間撹拌した。反応混合物を室温に戻
し、イオン交換樹脂〔ＤＯＷＥＸ^TM（５０Ｗ−Ｘ８，Ｈ
⁺ｆｏｒｍ）〕で中和し、カラムクロマトグラフィー
（Ｓｅｐｈａｄｅｘ^TM ＬＨ−２０、クロロホルム：メ
タノール＝５：４）にて精製して標記化合物２９ｍｇを
得た。

【０１２０】［α］_D−１５゜〔ｃ＝０．４９，ＣＨＣ
ｌ₃−ＭｅＯＨ（１：１）〕．¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：0.90(t,J=6Hz,6H),1.17
(d,J=7Hz,3H),1.20-1.40(m,48H),1.89(t,J=12Hz,1H),1.
98(s,3H),2.00(s,3H),2.78(dd,J=4,13Hz,1H),4.22(d,J=
7Hz,1H),4.52(d,J=8Hz,1H),5.06(d,J=4Hz,1H). マススペクトル（Ｍ＋Ｎａ）⁺：１４１３ 実施例１３−［（２Ｓ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシ
エチル基である化合物のＳ体］の製造： 参考例１６の化
合物（１５６ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１５ｍｌ）
およびメタノール（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１
０％Ｐｄ／Ｃ（３０ｍｇ）を加え、水素気流下室温で２
時間攪拌した。触媒を濾去後、濾液を濃縮し、得られた
残渣を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）およびメタノー
ル（５ｍｌ）混合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液（５ｍｌ）を加え、室温で２．５時間攪拌し
た。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸性
（ｐＨ１）に調製し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
乾燥後溶媒を減圧下に留去し、析出した固体を濾取して
標記化合物（８６ｍｇ）を無色の粉末として得た。

【０１２１】融点：２１６〜２１８℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.86(t,3H),1.15-1.
35(m,28H),1.50-1.70(m,2H),2.00-2.18(m,2H),2.25-2.4
5(m,4H),4.45-4.60(m,1H),7.42(t,1H,J=7.9Hz),7.58-7.
72(m,3H),7.80-7.92(m,3H),8.24(s,1H),8.45(bs,1H),1
0.03(s,1H),10.22(bs,1H). 元素分析（Ｃ₃₇Ｈ₅₃Ｎ₃Ｏ₇・１．５Ｈ₂Ｏとして）： 計算値（％）：Ｃ，６７．２５；Ｈ，８．２４；Ｎ，６．３６ 分析値（％）：Ｃ，６７．３１；Ｈ，８．２１；Ｎ，６．３２ 実施例２３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシ
エチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例１７の化
合物（４５０ｍｇ）を１，４−ジオキサン（６０ｍｌ）
およびメタノール（３０ｍｌ）混合溶媒に溶解し、１０
％Ｐｄ／Ｃ（５０ｍｇ）を加え、水素気流下室温で１８
時間攪拌した。触媒を濾去後、濾液を濃縮し、残渣（４
００ｍｇ）を得た。この残渣（１６０ｍｇ）を１，４−
ジオキサン（５ｍｌ）およびメタノール（２５ｍｌ）混
合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（６ｍ
ｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。次いで、反応液を
氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸性（ｐＨ２）に調製した。
析出した固体を濾取し、これを分取ＨＰＬＣ（０．１％
ＴＦＡ水／アセトニトリル＝１／９）にて精製して標記
化合物（７２ｍｇ）を無色の結晶として得た。

【０１２２】融点：２２７〜２２９℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.10-1.
40(m,28H),1.50-1.70(m,2H),1.90-2.20(m,2H),2.25-2.4
5(m,4H),4.45-4.60(m,1H),7.42(t,1H,J=8.0Hz),7.55-7.
75(m,3H),7.75-7.95(m,3H),8.24(t,1H),8.45(d,1H,J=7.
4Hz),10.06(s,1H),10.25(s,1H),12.44(bs,1H). 元素分析（Ｃ₃₇Ｈ₅₃Ｎ₃Ｏ₇として）： 計算値（％）：Ｃ，６８．１０；Ｈ，８．２１；Ｎ，６．４５ 分析値（％）：Ｃ，６７．９１；Ｈ，８．２８；Ｎ，６．４２ 実施例３３−［２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイ
ルアミノ］アセチルアミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）に
おいて、Ｗが１，３−フェニレンであり、Ｘ、Ｙおよび
Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６であ
り、Ｒ¹ が水素原子である化合物］の製造： 参考例１８
の化合物（１２４ｍｇ）をＤＭＳＯ（１８ｍｌ）に溶解
し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、
室温で１時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、
１規定塩酸で酸性（ｐＨ１）に調製した。析出した固体
を濾取し、再結晶（クロロホルム−メタノール−ＤＭ
Ｆ）により精製して標記化合物（６４ｍｇ）を無色の粉
末として得た。

【０１２３】融点：２５８〜２６５℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.10-1.
40(m,28H),1.50-1.67(m,2H),2.32(t,2H),4.04(d,2H,J=
5.8Hz),7.35-7.50(m,1H),7.55-7.75(m,3H),7.75-7.90
(m,3H),8.23(t,1H),8.69(t,1H,J=5.6Hz),10.06(s,1H),1
0.20(s,1H),12.87(bs,1H). 実施例４３−［（２Ｓ）−３−フェニル−２［４−（オクタデカ
ノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がベンジル基
である化合物のＳ体］の製造： 参考例１９の化合物（２
００ｍｇ）をＤＭＳＯ（２５ｍｌ）に溶解し、１規定水
酸化ナトリウム水溶液（７ｍｌ）を加え、室温で０．５
時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定塩
酸で酸性（ｐＨ２）に調製した。析出した固体を濾取
し、メタノールで洗浄して標記化合物（１６０ｍｇ）を
無色の粉末として得た。

【０１２４】融点：２２５〜２２９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
40(s,28H),1.55-1.70(m,2H),2.25-2.40(m,2H),3.00-3.3
0(m,2H),4.70-4.90(m,1H),7.10-7.25(m,1H),7.28(t,2H,
J=7.0Hz),7.35-7.50(m,3H),7.64(d,2H,J=8.9Hz),7.79
(d,2H,J=8.8Hz),8.24(t,1H),8.58(d,1H,J=8.2Hz),10.05
(s,1H),10.37(s,1H). 実施例５３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２［４−（オクタデ
カノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がヒドロキシ
メチル基である化合物のＳ体］の製造： （１）３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニ
ルアミノ］安息香酸メチル：参考例２０の化合物（９５
ｍｇ）を１，４−ジオキサン（３０ｍｌ）およびメタノ
ール（３０ｍｌ）の混合液に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ
（４５ｍｇ）および酢酸（３０ｍｌ）を加え、水素加圧
下室温で２時間攪拌した。析出物を加熱溶解後触媒を濾
去し、ＤＭＦで洗浄した。濾液と洗液に酢酸エチル（８
０ｍｌ）を加え、水、次いで飽和食塩水で洗浄後乾燥し
溶媒を減圧下に留去した。析出した固体をエーテルから
濾取して標記化合物（７６ｍｇ）を無色の粉末として得
た。 （２）３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−
（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピ
オニルアミノ］安息香酸：上記（１）の化合物（７６ｍ
ｇ）をＤＭＳＯ（８ｍｌ）に溶解し、１規定水酸化ナト
リウム水溶液（５ｍｌ）を加え、室温で１３．５時間攪
拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸
性（ｐＨ２）に調製した。析出した固体を濾取し、エー
テルおよび水で洗浄して標記化合物（２４ｍｇ）を無色
の粉末として得た。

【０１２５】融点：２４０℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
37(m,28H),1.50-1.70(m,2H),2.32(t,2H),3.80(d,2H,J=
5.8Hz),5.59-5.70(m,1H),7.42(t,1H,J=7.9Hz),7.60-7.7
5(m,3H),7.80-7.90(m,3H),8.22-8.31(m,2H),10.08(s,1
H),10.23(s,1H). マススペクトル：６１０（Ｍ＋Ｈ）⁺ 実施例６３−［（２Ｒ）−２［４−（オクタデカノイルアミノ）
ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミノ］安息香酸［一
般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フェニレンであり、
Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、
ｎが１６であり、Ｒ¹ がメチル基である化合物のＲ体］
の製造： 参考例２１の化合物（６２０ｍｇ）をＤＭＳＯ
（８０ｍｌ）に溶解し１規定水酸化ナトリウム水溶液
（２５ｍｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。次いで、
反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性（ｐＨ２〜３）に調
製した。析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄して
標記化合物（４４０ｍｇ）を無色の結晶として得た。

【０１２６】融点：２５８〜２６５℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.86(t,3H),1.18-1.
34(m,28H),1.44(d,3H,J=7.2Hz),1.51-1.67(m,2H),2.30-
2.36(m,2H),4.52-4.65(m,1H),7.30(t,1H,J=7.8Hz),7.52
(d,1H,J=7.6Hz),7.60(d,2H,J=8.7Hz),7.73(d,1H,J=7.0H
z),7.85(d,2H,J=8.7Hz),8.11(t,1H),8.63(d,1H,J=7.3H
z),10.03(s,1H),10.17(s,1H). 実施例７３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）フェニルアセチルアミノ］ブチリル
アミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３
−フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−で
あり、ｍが１であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキ
シエチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例２２の
化合物（２００ｍｇ）を１，４−ジオキサン／メタノー
ル混合溶媒（混合比１：１、５０ｍｌ）に溶解し、１０
％Ｐｄ／Ｃ（１００ｍｇ）を加え、水素気流下室温で３
時間攪拌した。触媒を濾去後、濾液に１規定水酸化ナト
リウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、室温で２．５時間攪
拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性
（ｐＨ２）に調製した。析出した固体を濾取し、水洗し
て標記化合物（１１５ｍｇ）を無色の粉末として得た。

【０１２７】融点：１９４〜１９５℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.15-1.
45(m,28H),1.45-1.70(m,2H),1.70-2.10(m,2H),2.10-2.4
0(m,4H),4.30-4.50(m,1H),7.17(d,2H,J=8.5Hz),7.42(t,
1H,J=7.9Hz),7.48(d,2H,J=8.5Hz),7.63(d,1H,J=7.8Hz),
7.81(d,1H,J=8.1Hz),8.34(d,1H,J=7.7Hz),9.77(s,1H),1
0.22(s,1H). 実施例８３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルア
ミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−
フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシ
メチル基である化合物のＳ体］の製造： 参考例２３の化
合物（６０ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）に
溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（２０ｍｇ）を加え、水素気流
下室温で１３時間攪拌した。反応終了後、析出した固体
を加熱溶解し、触媒をセライト濾過した。得られた濾液
を濃縮後残渣をＤＭＳＯ（２ｍｌ）に溶解し、１規定水
酸化ナトリウム水溶液（０．４ｍｌ）を加え、室温で２
０分間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸
で酸性（ｐＨ２〜３）に調製した。析出した固体を濾取
し、水洗して標記化合物（３３ｍｇ）を淡褐色の粉末と
して得た。

【０１２８】融点：２４５〜２４７℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.83(t,3H),1.10-1.
30(m,28H),1.50-1.60(m,2H),2.30(t,2H),2.70-2.90(m,2
H),4.85-4.95(m,1H),7.40(t,1H,J=7.9Hz),7.55-7.70(m,
3H),7.75-7.85(m,3H),8.25(t,1H),8.61(d,1H,J=7.6Hz),
10.05(s,1H),10.27(s,1H). 実施例９３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ が１−ヒドロ
キシエチル基である化合物のＳ体］の製造： （１）３−
［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−（オクタデカ
ノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミノ］安
息香酸メチル：参考例２４の化合物（６０ｍｇ）を１，
４−ジオキサン（１０ｍｌ）および酢酸（１ｍｌ）の混
合溶媒に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（４０ｍｇ）を加え、
水素下室温で１時間攪拌した。触媒を濾去し、エタノー
ルで洗浄した。濾液と洗液を合わせ減圧下に濃縮後、更
にトルエンと共沸させ得られた固体をエーテル、ヘキサ
ンで洗浄して標記化合物（３５ｍｇ）を無色の粉末とし
て得た。

【０１２９】融点：１８１〜１８３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.88(t,3H),1.20(d,
3H,J=6.2Hz),1.23-1.40(m,28H),1.55-1.70(m,2H),2.36
(t,2H),3.89(s,3H),4.12-4.28(m,1H),4.50-4.60(m,1H),
5.10-5.23(m,1H),7.50(t,1H,J=8.0Hz),7.68(d,1H,J=7.7
Hz),7.70(d,2H,J=8.6Hz),7.88(d,1H,J=7.0Hz),7.92(d,2
H,J=8.2Hz),8.15(d,1H,J=6.0Hz),8.33(t,1H),10.13(s,1
H),10.34(s,1H). （２）３−［（２Ｓ）−３−ヒドロキシ−２−［４−
（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリ
ルアミノ］安息香酸：上記（１）の化合物（３０ｍｇ）
を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）に溶解し、１規定水
酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加え、室温で３時間
攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性
（ｐＨ２〜３）に調製した。析出した固体を濾取し、エ
ーテルおよび水で洗浄して標記化合物（１５ｍｇ）を無
色の粉末として得た。

【０１３０】融点：１９３℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.86(t,3H),1.10-1.
40(m,31H),1.42-1.60(m,2H),2.34(t,2H),4.00-4.24(m,2
H),4.40-4.56(m,1H),7.40-7.50(m,1H),7.60-7.78(m,3
H),7.80-7.96(m,3H),8.25-8.33(m,2H),10.08(s,1H),10.
20(s,1H). 実施例１０３−［（２Ｒ）−３−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルア
ミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−
フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシ
メチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例２５の化
合物（５４ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１５ｍｌ）に
溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（１０ｍｇ）を加え、水素気流
下室温で３日間攪拌した。ＤＭＦを加えて析出物を溶解
後触媒をセライト濾去し、メタノールと１，４−ジオキ
サンの混合溶媒で十分に洗浄した。濾液と洗液を合わせ
濃縮後、得られた残渣を１，４−ジオキサン（５ｍ
ｌ）、メタノール（２．５ｍｌ）およびＴＨＦ（２．５
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水
溶液（２．５ｍｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。次
いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸性（ｐＨ２
〜３）に調製した。析出した固体を濾取し、水洗して標
記化合物（３４ｍｇ）を無色の粉末として得た。

【０１３１】融点：２０８〜２１０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
40(m,28H),1.50-1.70(m,2H),2.32(t,2H),2.69-2.83(m,2
H),4.80-5.00(m,1H),7.42(t,1H,J=7.9Hz),7.58-7.75(m,
3H),7.78-7.88(m,3H),8.26(t,1H),8.63(d,1H,J=7.5Hz),
10.07(s,1H),10.27(s,1H). 実施例１１３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デシルオキシ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミノ］安
息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フェニレ
ンであり、Ｘ、Ｙが−ＮＨＣＯ−であり、Ｚが酸素原子
であり、ｍが０であり、ｎが１７であり、Ｒ¹ がカルボ
キシエチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例２６
の化合物（２００ｍｇ）を１，４−ジオキサン（４ｍ
ｌ）およびメタノール（４ｍｌ）に溶解し、１０％Ｐｄ
／Ｃ（２０ｍｇ）を加え、水素気流下室温で４時間攪拌
した。触媒を濾去し、濾液を濃縮後、得られた残渣を
１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）およびメタノール（１
０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウム
水溶液（１１ｍｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。次
いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸性（ｐＨ１
〜２）に調製した後、酢酸エチルで３回抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄後乾燥し溶媒を減圧下に留去した。
析出した固体を濾取し、エーテルで洗浄して標記化合物
（１４３ｍｇ）を無色の粉末として得た。

【０１３２】融点：１８７〜１８８℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.05-1.
60(m,30H),1.60-1.80(m,2H),1.90-2.20(m,2H),2.30-2.4
5(m,2H),4.01(t,2H,J=6.4Hz),4.45-4.60(m,1H),6.98(d,
2H,J=8.9Hz),7.42(t,1H,J=8.0Hz),7.55-7.70(m,1H),7.7
4-7.95(m,3H),8.24(t,1H),8.43(d,1H,J=7.4Hz),9.19(s,
1H),10.24(s,1H),12.5(bs,1H). 実施例１２３−［（２Ｒ）−３−メルカプト−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルア
ミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−
フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がメルカプト
メチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例２７の化
合物（２２ｍｇ）をＤＭＳＯ（２ｍｌ）に溶解し、１規
定水酸化ナトリウム水溶液（０．４ｍｌ）を加え、室温
で１時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩
酸で酸性（ｐＨ２〜３）に調製した。析出した固体を濾
取し、水洗して淡黄色固体（１５ｍｇ）を得た。次い
で、このものをＤＭＦ（１ｍｌ）およびメタノール（１
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、水（１０μｌ）およびトリ
−ｎ−ブチルホスフィン（５μｌ）を加え、室温で１０
時間攪拌した。反応液を濃縮後得られた残渣を分取ＨＰ
ＬＣ（０．１％ＴＦＡ水／アセトニトリル＝１／９）に
て精製して標記化合物（２．４ｍｇ）を得た。

【０１３３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.83
(t,3H),1.10-1.40(m,28H),1.50-1.65(m,2H),2.31(t,2
H),2.90-3.00(m,2H),4.60-4.70(m,1H),7.35-7.45(m,1
H),7.60-7.70(m,3H),7.75-7.9(m,3H),8.25(d,1H,J=1.7H
z),8.52(d,1H,J=7.6Hz),10.04(d,1H,J=10.9Hz),10.34
(s,1H). 実施例１３３−［（２Ｓ）−６−アミノ−２−［４−（オクタデカ
ノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ヘキサノイルアミ
ノ］安息香酸・トリフルオロ酢酸塩［一般式（Ｉ）にお
いて、Ｗが１，３−フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺ
が−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６であ
り、Ｒ¹ が４−アミノブチル基である化合物（Ｓ体）の
トリフルオロ酢酸塩］の製造： 参考例２８の化合物（７
０ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）およびメタ
ノール（５ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、５規定水酸化ナ
トリウム水溶液（０．１ｍｌ）を加え、室温で１５時間
攪拌し、５規定水酸化ナトリウム水溶液（０．４ｍｌ）
を追加して更に２４時間攪拌した。次いで、反応液を濃
縮し、得られた残渣に希塩酸を加え析出した固体を濾取
した。これに１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）を加え、
４規定塩酸／１，４−ジオキサン（２ｍｌ）を加え一夜
攪拌した。次いで、反応液を減圧濃縮し、得られた残渣
を分取ＨＰＬＣ（０．１％ＴＦＡ／アセトニトリル＝１
／２）にて精製して標記化合物（６ｍｇ）を得た。

【０１３４】融点：１８４〜１９２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.00-1.
70(m,34H),1.70-2.00(m,2H),2.32(t,2H),2.80(t,2H,J=
7.0Hz),4.45-4.70(m,1H),7.41(t,1H,J=8.0Hz),7.50-7.8
0(m,3H),7.75-8.05(m,3H),8.25(t,1H),8.48(d,1H,J=6.6
Hz),10.08(s,1H),10.29(s,1H). 実施例１４３−［（２Ｓ）−３−メルカプト−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルア
ミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−
フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がメルカプト
メチル基である化合物のＳ体］の製造： 参考例２９の化
合物（４０ｍｇ）をＤＭＳＯ（２ｍｌ）に溶解し、１規
定水酸化ナトリウム水溶液（０．４ｍｌ）を加え、室温
で１時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩
酸で酸性（ｐＨ２〜３）に調製した。析出した固体を濾
取し、水洗して淡黄色固体を得た。次いで、このものを
ＤＭＦ（２ｍｌ）およびメタノール（２ｍｌ）に溶解
し、水（１０μｌ）およびトリ−ｎ−ブチルホスフィン
（１６μｌ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応液を
濃縮後得られた残渣を分取ＨＰＬＣ（０．１％ＴＦＡ水
／アセトニトリル＝１／９）にて精製して標記化合物
（６．６ｍｇ）を得た。

【０１３５】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.83
(t,3H),1.10-1.40(m,28H),1.50-1.65(m,2H),2.29(t,2
H),2.90-3.00(m,2H),4.60-4.70(m,1H),7.35-7.45(m,1
H),7.55-7.70(m,3H),7.75-7.90(m,3H),8.25(d,1H,J=1.9
Hz),8.65(d,1H,J=6.9Hz),10.02(s,1H),10.39(s,1H). 実施例１５３−［（２Ｒ）−４−カルバモイル−２−［４−（オク
タデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルバモイ
ルエチル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例３０の
化合物（２２４ｍｇ）を１，４−ジオキサン（４０ｍ
ｌ）およびメタノール（４０ｍｌ）に溶解し、１規定水
酸化ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）を加え、室温で５．
５時間攪拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規定
塩酸で酸性（ｐＨ１〜２）に調製した。析出した固体を
濾取して標記化合物（１８２ｍｇ）を無色の結晶として
得た。

【０１３６】融点：２２７℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.10-1.
40(m,28H),1.50-1.70(m,2H),1.90-2.15(m,2H),2.15-2.4
0(m,4H),4.40-4.55(m,1H),6.84(bs,1H),7.35(bs,1H),7.
42(t,1H,J=7.9Hz),7.55-7.70(m,3H),7.75-7.90(m,3H),
8.25(t,1H),8.57(d,1H,J=7.0Hz),10.06(s,1H),10.25(s,
1H). 実施例１６３−［（２Ｓ）−３−（イミダゾール−４−イル）−２
−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミ
ノ］プロピオニルアミノ］安息香酸・ナトリウム塩［一
般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フェニレンであり、
Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、
ｎが１６であり、Ｒ¹ が４−イミダゾイルメチル基であ
る化合物（Ｓ体）のナトリウム塩］の製造： 参考例３１
（４０ｍｇ）を酢酸（１６ｍｌ）および水（４ｍｌ）の
混合溶媒に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（２０ｍｇ）を加
え、水素加圧下室温で４時間攪拌した。触媒を濾去し、
濾液を濃縮後、得られた残渣をＤＭＳＯ（２ｍｌ）に溶
解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（０．４ｍｌ）を
加え、室温で１時間攪拌した。次いで、反応液を食塩水
に注ぎ、析出した固体を濾取し、水洗して標記化合物
（２４ｍｇ）を淡褐色の粉末として得た。

【０１３７】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84
(t,3H),1.20-1.40(m,28H),1.55-1.70(m,2H),2.20-2.50
(m,2H),3.05-3.30(m,2H),4.70-4.90(m,1H),6.85(bs,1
H),7.27(t,1H,J=7.3Hz),7.50-7.90(m,6H),8.25(bs,1H),
10.06(s,1H). 実施例１７３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゼンスルホニルアミノ］ブチリ
ルアミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，
３−フェニレンであり、Ｘが−ＮＨＣＯ−であり、Ｙが
−ＮＨＳＯ₂ −であり、Ｚが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが
０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシエチル基
である化合物のＲ体］の製造： 参考例３２の化合物（１
００ｍｇ）を１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）およびメ
タノール（１０ｍｌ）に溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム水溶液（１０ｍｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。
次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性（ｐＨ１）
に調製した。析出した固体を濾取し、水洗して標記化合
物（６３ｍｇ）を無色の結晶として得た。

【０１３８】融点：２０５〜２１０℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
39(m,28H),1.45-1.65(m,2H),1.65-1.94(m,2H),2.04-2.3
5(m,4H),3.78-3.93(m,1H),7.34(t,1H),7.53-7.74(m,6
H),7.95-8.07(m,2H),10.04(s,2H). 元素分析（Ｃ₃₆Ｈ₅₃Ｎ₃Ｏ₈として）： 計算値（％）：Ｃ，６２．８６；Ｈ，７．７７；Ｎ，６．１１ 分析値（％）：Ｃ，６２．６５；Ｈ，７．７７；Ｎ，６．０３ 実施例１８（４Ｒ）−４−（３−カルボキシプロピルカルバモイ
ル）−４−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイ
ルアミノ］酪酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが−（ＣＨ
₂ ）₃ −であり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であり、
ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカルボキシエチ
ル基である化合物のＲ体］の製造： 参考例３３の化合物
（１４４ｍｇ）を１，４−ジオキサン（１０ｍｌ）およ
びメタノール（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１０％
Ｐｄ／Ｃ（３０ｍｇ）を加え、水素気流下室温で４時間
攪拌した。触媒を濾去し、濾液を濃縮後、得られた残渣
をＴＨＦ（２０ｍｌ）およびメタノール（５ｍｌ）の混
合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（１５
ｍｌ）を加え、室温で３．５時間攪拌した。次いで、反
応液を氷水に注ぎ、１規定塩酸で酸性（ｐＨ２）に調製
した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗
浄後乾燥し減圧下に溶媒を留去した。残渣にエーテルを
加え析出した固体を濾取して標記化合物（９３ｍｇ）を
無色の粉末として得た。

【０１３９】融点：２０４〜２０７℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
35(m,28H),1.50-1.70(m,4H),1.80-2.09(m,2H),2.13-2.4
0(m,2H),4.28-4.47(m,1H),7.66(d,1H,J=8.8Hz),7.84(d,
2H,J=8.8Hz),7.94(t,1H),8.23(d,1H,J=6.8Hz),10.05(s,
1H). 実施例１９３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（ヘプタ
デシルカルバモイル）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、Ｙが−ＮＨＣＯ−であり、Ｚが−
ＣＯＮＨ−であり、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ
¹ がカルボキシエチル基である化合物のＲ体］の製造：
参考例３４の化合物（３５０ｍｇ）を１，４−ジオキサ
ン（１０ｍｌ）およびメタノール（１０ｍｌ）の混合溶
媒に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（８０ｍｇ）を加え、水素
気流下室温で１時間攪拌した。クロロホルムを加えて析
出物を溶解後、触媒を濾去し、濾液を濃縮した。得られ
た残渣を１，４−ジオキサン（２０ｍｌ）およびメタノ
ール（２０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナ
トリウム水溶液（１５ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌
した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性（ｐ
Ｈ１）に調製し、析出した固体を濾取した。これを、分
取ＨＰＬＣ（０．１％ＴＦＡ水／アセトニトリル＝１／
９）にて精製して標記化合物（１５０ｍｇ）を無色の粉
末として得た。

【０１４０】融点：２２０〜２２１℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
42(m,28H),1.40-1.60(m,2H),1.90-2.20(m,2H),2.25-2.5
0(m,2H),4.45-4.70(m,1H),7.44(t,1H,J=7.4Hz),7.64(d,
2H,J=7.8Hz),7.86(d,1H,J=8.0Hz),7.91(d,2H,J=8.5Hz),
7.98(d,2H,J=8.5Hz),8.26(t,1H),8.54(t,1H,J=5.7Hz),
8.73(d,1H,J=7.3Hz),10.30(s,1H). 実施例２０Ｎ−［（１Ｓ）−３−カルボキシ−１−［４−（ヘプタ
デシルカルバモイル）フェニルカルバモイル］プロピ
ル］イソフタラミン酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが
１，３−フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＣＯＮ
Ｈ−であり、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカ
ルボキシエチル基である化合物のＳ体］の製造： 参考例
３５の化合物（４０ｍｇ）を１，４−ジオキサン（２０
ｍｌ）に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ（１０ｍｇ）を加え、
水素気流下室温で１６時間攪拌した。触媒を濾去し、
１，４−ジオキサン／メタノールの混合溶媒で洗浄し
た。濾液と洗液を合わせ減圧濃縮した。得られた残渣を
１，４−ジオキサン（５ｍｌ）およびメタノール（５ｍ
ｌ）の混合溶媒に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶
液（２．５ｍｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。次い
で、反応液を水に注ぎ、２規定塩酸で酸性（ｐＨ１）に
調製し、析出した固体を濾取して標記化合物（１８ｍ
ｇ）を灰色の結晶として得た。

【０１４１】融点：２２４〜２２６℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
35(m,28H),1.40-1.63(m,2H),1.90-2.25(m,2H),2.25-2.5
0(m,2H),4.50-4.70(m,1H),7.62(t,1H,J=7.9Hz),7.68(d,
2H,J=8.8Hz),7.80(d,2H,J=8.8Hz),8.10(d,1H,J=7.9Hz),
8.15(d,1H,J=7.9Hz),8.29(t,1H),8.88(d,1H,J=7.2Hz),1
0.30(s,1H). 実施例２１３−［（２Ｓ）−３−カルボキシ−２−［４−（エイコ
サノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］プロピオニルアミ
ノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗが１，３−フ
ェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣＯ−であ
り、ｍが０であり、ｎが１８であり、Ｒ¹ がカルボキシ
メチル基である化合物のＳ体］の製造： 参考例３６の化
合物（１２６ｍｇ）をＤＭＳＯ（１０ｍｌ）に溶解し、
１規定水酸化ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加え、室温
で２時間攪拌した。次いで、反応液に１規定塩酸を加え
酸性（ｐＨ３）に調製し、水（６０ｍｌ）を加え、析出
した固体を濾取し水洗して標記化合物（５３ｍｇ）を淡
赤色の粉末として得た。

【０１４２】融点：２１７〜２１９℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.83(t,3H),1.20-1.
40(m,32H),1.50-1.65(m,2H),2.25-2.40(m,2H),2.70-3.0
5(m,2H),4.50-4.70(m,1H),7.30-7.45(m,1H),7.60-8.00
(m,6H),8.15-8.20(m,1H),10.04(s,1H),10.12(s,1H). 実施例２２３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］−５−ニトロ安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗ
が５−ニトロ−１，３−フェニレンであり、Ｘ、Ｙおよ
びＺが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６で
あり、Ｒ¹ がカルボキシエチル基である化合物のＲ体］
の製造： 参考例４３の化合物（８３ｍｇ）をメタノール
（５ｍｌ）、１，４−ジオキサン（７ｍｌ）に溶解し、
１規定水酸化ナトリウム水溶液（３ｍｌ）を加え、室温
で２時間撹拌した。次いで、反応液を氷水に注ぎ、１規
定塩酸で酸性（ｐＨ１）に調製した。析出した固体を濾
取し、水洗して標記化合物（６７ｍｇ）を淡黄色の結晶
として得た。

【０１４３】融点：２３８℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.10-1.
45(m,28H),1.50-1.70(m,2H),2.00-2.20(m,2H),2.30-2.4
5(m,4H),4.45-4.55(m,1H),7.68(d,2H,J=8.8Hz),7.88(d,
2H,J=8.8Hz),8.30(t,1H),8.50-8.60(m,2H),8.84(bs,1
H),10.08(s,1H),10.73(s,1H). 実施例２３３−アミノ−５−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−
［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］
ブチリルアミノ］安息香酸［一般式（Ｉ）において、Ｗ
が５−アミノ−１，３−フェニレンであり、Ｘ、Ｙおよ
びＺが−ＮＨＣＯ−であり、ｍが０であり、ｎが１６で
あり、Ｒ¹ がカルボキシエチル基である化合物のＲ体］
の製造：の製造： 実施例２２の化合物（６２ｍｇ）をメ
タノール（５ｍｌ）、１，４−ジオキサン（２０ｍ
ｌ）、ＴＨＦ（１０ｍｌ）に溶解し、１０％Ｐｄ／Ｃ
（５０ｍｇ）を加えて水素気流下室温で２４時間撹拌し
た。触媒を濾去後、濾液を濃縮し、得られた残渣をエー
テルより結晶化し、標記化合物（３３ｍｇ）を淡黄色の
結晶として得た。

【０１４４】融点：１３５〜１３７℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.85(t,3H),1.20-1.
40(m,28H),1.40-1.70(m,2H),1.90-2.10(m,2H),2.20-2.4
0(m,4H),4.35-4.60(m,1H),6.86(bs,1H),6.99(bs,1H),7.
14(bs,1H),7.66(d,2H,J=8.7Hz),7.88(d,2H,J=8.7Hz),1
0.07(s,2H). 実施例２４３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸ナトリウム［一般式（Ｉ）において、Ｗが
１，３−フェニレンであり、Ｘ、ＹおよびＺが−ＮＨＣ
Ｏ−であり、ｍが０であり、ｎが１６であり、Ｒ¹ がカ
ルボキシエチル基である化合物のＲ体のナトリウム塩］
の製造： 実施例２の化合物（４７ｍｇ）を水（５０ｍ
ｌ）に懸濁し、０．１規定水酸化ナトリウム水溶液
（１．４３ｍＬ）を加えた。超音波処理で溶液を均一に
した後、凍結乾燥を行い、標記化合物（５０ｍｇ）を粉
末として得た。

【０１４５】融点：２３２℃（分解）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ：0.84(t,3H),1.05-1.
40(m,28H),1.40-1.70(m,2H),1.85-2.10(m,2H),2.15-2.2
8(m,2H),2.31(t,2H,J=7.4Hz),4.28-4.58(m,1H),7.18(t,
1H,J=7.8Hz),7.54(d,1H,J=7.6Hz),7.65(d,2H,J=8.7Hz),
7.74(d,1H,J=8.4Hz),7.90(d,2H,J=8.7Hz),8.03(s,1H),1
0.09(s,1H),10.13(s,1H),10.35(s,1H). 実施例２５リポソーム剤の製造 ジステアロイルホスファチジルコリン、コレステロール
及び３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オ
クタデカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルア
ミノ］安息香酸をそれぞれクロロホルム及びメタノール
の２：１混合溶媒に溶解し、濃度が５ｍＭ、５ｍＭ及び
０．４５１ｍＭの各溶液を調製した。各溶液４ｍｌ、２
ｍｌ及び４．４３ｍｌを５０ｍｌ容のナス型フラスコ中
で混合し、次に約６０℃の水浴中で溶媒をエバポレート
して薄膜状にし、さらに一晩、室温で真空乾燥した。乾
燥後、これに２−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１
−ピペラジニル］エタンスルホン酸〔以下、ＨＥＰＥ
Ｓ〕緩衝液（ＨＥＰＥＳ１０ｍＭ、ＮａＣｌ１５０ｍ
Ｍ、ｐＨ７．４）５ｍｌを加え、６５℃に加温してボル
テックスミキサーで激しく攪拌した。液体窒素を用いた
凍結と融解を５回繰り返した後、６５℃に加温したエク
ストルーダを用いて孔径 ０．６μｍ、０．１μｍのフ
ィルターで逐次濾過することにより、リポソームを調製
した。 重量平均粒子径：１０４．９ ｎｍ ゼータ電位：−２８．２ ｍＶ 薬物内封率：１０４％ （セファロース^TM ＣＬ−４Ｂ（ファルマシア バイオ
テク株式会社）でゲル濾過した後、リポソーム画分の薬
物をＨＰＬＣ法により定量した。） 実施例２６錠剤の製造 以下の通り、１錠中に３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ
−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾイルア
ミノ］ブチリルアミノ］安息香酸１００ｍｇを含有する
錠剤を得る。 ［操作］主薬、コーンスターチ及び微結晶セルロースを
混合し、これに水５０重量部に溶解したヒドロキシプロ
ピルセルロースを加えて充分練合する。この練合物を篩
に通して顆粒上に造粒して乾燥した後、得られた顆粒に
ステアリン酸マグネシウムを混合し１錠２５０ｍｇに打
錠する。 実施例２７顆粒剤の製造 以下の通り、５００ｍｇ中に３−［（２Ｒ）−４−カル
ボキシ−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾ
イルアミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（化合物Ａ）２
００ｍｇを含有する顆粒剤を得る。 ［操作］主薬、乳糖及びコーンスターチを混合し、これ
に水１２０重量部に溶解したヒドロキシプロピルセルロ
ースを加えて充分練合する。この練合物を２０メッシュ
の篩に通して造粒し、乾燥して整粒を行い顆粒剤を得
る。 実施例２８カプセル剤の製造 以下の通り、１カプセル中に３−［（２Ｒ）−４−カル
ボキシ−２−［４−（オクタデカノイルアミノ）ベンゾ
イルアミノ］ブチリルアミノ］安息香酸（化合物Ａ）１
００ｍｇを含有するカプセル剤を得る。 ［操作］上記の各成分を充分混合して、この混合末の２
００ｍｇ宛をカプセルに充填してカプセル剤を得る。 実施例２９注射剤の製造 ３−［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタ
デカノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミ
ノ］安息香酸０．５重量部およびソルビット５重量部の
混合物に注射用蒸留水を加えて溶解し、１００重量部と
し、この水溶液をメンブランフィルターで濾過する。濾
液を窒素置換したアンプルに５ｇずつ充填し、溶閉後、
１２０℃で１５分間滅菌処理して１アンプル中に３−
［（２Ｒ）−４−カルボキシ−２−［４−（オクタデカ
ノイルアミノ）ベンゾイルアミノ］ブチリルアミノ］安
息香酸２５ｍｇを含有する注射剤を得る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 237/22 Ｃ０７Ｃ 237/22 311/46 311/46 323/59 323/59 Ｃ０７Ｄ 233/61 １０３ Ｃ０７Ｄ 233/61 １０３

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子、フェニル基、ｐ―ヒドロキシ
   フェニル基若しくは低級アルキル基を表わすか、または
   カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、メチルチオ
   基、アミノ基、グアニジノ基、イミダゾリル基、カルバ
   モイル基、３―インドリル基、フェニル基若しくはｐ−
   ヒドロキシフェニル基で置換された低級アルキル基を表
   し；Ｘ、ＹおよびＺは、1）ＸおよびＹは同一であって
   いずれも二価の原子団−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−
   を表し、Ｚは酸素原子または二価の原子団−ＮＨＣＯ−
   若しくは−ＣＯＮＨ−を表すか、2)ＸおよびＺは同一で
   あっていずれも二価の原子団−ＮＨＣＯ−を表し、Ｙは
   二価の原子団−ＮＨＳＯ₂−を表し；Ｗおよびｍは、1)
   Ｙが−ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＯ−を表す場合は、Ｗ
   はアミノ基またはニトロ基が置換していてもよい１，３
   −フェニレンを表すか、または−（ＣＨ₂)ｑ−を表し、
   ｍは０から２までの任意の整数を表し、2）Ｙが−ＮＨ
   ＳＯ₂−を表す場合は、Ｗは１，３−フェニレンまたは
   −（ＣＨ₂)ｑ−を表し、ｍは０を表し、；ｎは１２から
   ２０までの任意の整数を表し；ｑは１から４までの任意
   の整数を表す。）で示される化合物（Ｉ）またはその薬
   学的に許容される塩。
2. 【請求項２】請求項１に記載される化合物を有効成分と
   する薬剤。
3. 【請求項３】請求項１に記載される化合物を有効成分と
   するセレクチン阻害剤。
4. 【請求項４】請求項１に記載される化合物を有効成分と
   する、炎症性疾患、癌または虚血再灌流障害の予防また
   は治療用薬剤。