JPH11264967A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH11264967A JPH11264967A JP10067084A JP6708498A JPH11264967A JP H11264967 A JPH11264967 A JP H11264967A JP 10067084 A JP10067084 A JP 10067084A JP 6708498 A JP6708498 A JP 6708498A JP H11264967 A JPH11264967 A JP H11264967A
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- substrates
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 ２枚の基板のうち少なくとも一方の基板の表
面を加工し、諸機能を付加した液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板１１，１２を主面が対向するよう配置して両基板
間に液晶組成物１７を狭持させ、少なくとも１枚の偏光
子１４を観察面側の基板に並設させてなる液晶表示装置
において、観察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設
するとともに、観察面側の基板の表面に微細な凹凸を形
成してなり観察面側の偏光子を２枚の基板間に配設する
とともに、観察面側の基板の表面に基板の屈折率よりも
小さい屈折率を有する透明物質の薄膜を少なくとも１層
形成する。観察面側の偏光子を２枚の基板間に配設する
とともに、観察面側の基板１１の表面に球径のほぼ等し
いほぼ半球形のレンズ状の突起を形成することを特徴と
する。
面を加工し、諸機能を付加した液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板１１，１２を主面が対向するよう配置して両基板
間に液晶組成物１７を狭持させ、少なくとも１枚の偏光
子１４を観察面側の基板に並設させてなる液晶表示装置
において、観察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設
するとともに、観察面側の基板の表面に微細な凹凸を形
成してなり観察面側の偏光子を２枚の基板間に配設する
とともに、観察面側の基板の表面に基板の屈折率よりも
小さい屈折率を有する透明物質の薄膜を少なくとも１層
形成する。観察面側の偏光子を２枚の基板間に配設する
とともに、観察面側の基板１１の表面に球径のほぼ等し
いほぼ半球形のレンズ状の突起を形成することを特徴と
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルを構成す
る２枚の基板のうち少なくとも一方の基板の表面を加工
することにより、種々の機能を付加してなる液晶表示装
置に関する。
る２枚の基板のうち少なくとも一方の基板の表面を加工
することにより、種々の機能を付加してなる液晶表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電
力という特徴から、ノートブック型パーソナルコンピュ
ータや携帯情報端末機器、ＯＡ機器の表示素子として積
極的に利用されている。
力という特徴から、ノートブック型パーソナルコンピュ
ータや携帯情報端末機器、ＯＡ機器の表示素子として積
極的に利用されている。
【０００３】液晶表示装置のほとんどがネマティック液
晶を用いており、その表示方式として、旋光モード方式
や電界制御複屈折モード（ＥＣＢ：ｅｌｅｃｔｒｉｃａ
ｌｌｙ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅ
ｎｃｅ ｍｏｄｅ）方式等が知られている。
晶を用いており、その表示方式として、旋光モード方式
や電界制御複屈折モード（ＥＣＢ：ｅｌｅｃｔｒｉｃａ
ｌｌｙ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅ
ｎｃｅ ｍｏｄｅ）方式等が知られている。
【０００４】旋光モード方式としては、例えば液晶が９
０゜ねじれた分子配列のツイステッドネマティック（Ｔ
Ｎ）型液晶があり、原理的に白黒表示で、高いコントラ
スト比を示すことから、ＴＦＴなどのスイッチング素子
を各画素ごとに備えたアクティブマトリクス駆動を用い
てカラー表示を行っている。
０゜ねじれた分子配列のツイステッドネマティック（Ｔ
Ｎ）型液晶があり、原理的に白黒表示で、高いコントラ
スト比を示すことから、ＴＦＴなどのスイッチング素子
を各画素ごとに備えたアクティブマトリクス駆動を用い
てカラー表示を行っている。
【０００５】ＥＣＢモードの例としては、９０゜以上ね
じれた分子配列を持つスーパーツイスト（ＳＴ）型や垂
直配向（ＶＡＮ）型があり、液晶層の複屈折を電圧によ
って制御することにより表示を行っている。
じれた分子配列を持つスーパーツイスト（ＳＴ）型や垂
直配向（ＶＡＮ）型があり、液晶層の複屈折を電圧によ
って制御することにより表示を行っている。
【０００６】しかしながら、これらの液晶表示装置で
は、基板の外側に偏光板が張り合わせてあるため、基板
は平板であり、例えば拡散板、導光板など固有の機能を
備えた部材が必要であり、コスト増、重量増が問題とな
る。
は、基板の外側に偏光板が張り合わせてあるため、基板
は平板であり、例えば拡散板、導光板など固有の機能を
備えた部材が必要であり、コスト増、重量増が問題とな
る。
【０００７】偏光板や位相差板を基板の内面に設置する
従来技術としては、例えば特開昭５８−１６８０３５号
公報に記載された発明等があるが、そこには基板を加工
して付加機能を備えさせることについては記載されてお
らず、基板の表面反射の利用についても考慮されていな
い。
従来技術としては、例えば特開昭５８−１６８０３５号
公報に記載された発明等があるが、そこには基板を加工
して付加機能を備えさせることについては記載されてお
らず、基板の表面反射の利用についても考慮されていな
い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の液晶表示装置では、基板の外側に偏光板が張り合わせ
てあるため、基板は平板であり、例えば拡散板、導光板
など固有の機能を備えた部材が必要となってコスト増、
重量増の原因となるという問題がある。
の液晶表示装置では、基板の外側に偏光板が張り合わせ
てあるため、基板は平板であり、例えば拡散板、導光板
など固有の機能を備えた部材が必要となってコスト増、
重量増の原因となるという問題がある。
【０００９】偏光板や位相差板を基板の内面に設置する
技術も知られているが、この場合にも、露出した基板を
加工して付加機能を備えさせる点については知られてい
ない。 本発明は、上記の点に対処してなされたもの
で、偏光子を基板内面に形成して基板表面を加工して種
々の付加機能を備えさせることにより、別途固有の機能
を備えた部材を不要化した、薄型、軽量で鮮明な表示の
液晶表示装置を提供することを目的とする。
技術も知られているが、この場合にも、露出した基板を
加工して付加機能を備えさせる点については知られてい
ない。 本発明は、上記の点に対処してなされたもの
で、偏光子を基板内面に形成して基板表面を加工して種
々の付加機能を備えさせることにより、別途固有の機能
を備えた部材を不要化した、薄型、軽量で鮮明な表示の
液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の液晶表示
装置は、一主面上に電極を有する少なくとも２枚の基板
を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液晶組成
物を狭持させ、少なくとも１枚の偏光子を観察面側の前
記基板に並設させてなる液晶表示装置において、前記観
察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設するととも
に、前記観察面側の基板の表面に微細な凹凸を形成して
なることを特徴とする。
装置は、一主面上に電極を有する少なくとも２枚の基板
を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液晶組成
物を狭持させ、少なくとも１枚の偏光子を観察面側の前
記基板に並設させてなる液晶表示装置において、前記観
察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設するととも
に、前記観察面側の基板の表面に微細な凹凸を形成して
なることを特徴とする。
【００１１】請求項２記載の液晶表示装置は、請求項１
記載の液晶表示装置にいて、微細な凹凸の大きさが１０
μｍ以下、好ましくは２〜１０μｍの突起からなること
を特徴とする。
記載の液晶表示装置にいて、微細な凹凸の大きさが１０
μｍ以下、好ましくは２〜１０μｍの突起からなること
を特徴とする。
【００１２】請求項３記載の液晶表示装置は、一主面上
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、少な
くとも１枚の偏光子を観察面側の前記基板に並設させて
なる液晶表示装置において、前記観察面側の偏光子を前
記２枚の基板間に配設するとともに、前記観察面側の基
板の表面に該基板の屈折率よりも小さい屈折率を有する
透明物質の薄膜を少なくとも１層形成したことを特徴と
する。
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、少な
くとも１枚の偏光子を観察面側の前記基板に並設させて
なる液晶表示装置において、前記観察面側の偏光子を前
記２枚の基板間に配設するとともに、前記観察面側の基
板の表面に該基板の屈折率よりも小さい屈折率を有する
透明物質の薄膜を少なくとも１層形成したことを特徴と
する。
【００１３】請求項４記載の液晶表示装置は、請求項３
記載の液晶表示装置にいて、基板表面に入射する波長λ
の外光に対して、前記薄膜の厚さｄがｄ＝λ／４ｎ´
（ただし、ｎ´は薄膜の屈折率を表す。）であることを
特徴とする。
記載の液晶表示装置にいて、基板表面に入射する波長λ
の外光に対して、前記薄膜の厚さｄがｄ＝λ／４ｎ´
（ただし、ｎ´は薄膜の屈折率を表す。）であることを
特徴とする。
【００１４】請求項５記載の液晶表示装置は、一主面上
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、少な
くとも１枚の偏光子を観察面側の前記基板に並設させて
なる液晶表示装置において、前記観察面側の偏光子を前
記２枚の基板間に配設するとともに、前記観察面側の基
板の表面に球径のほぼ等しいほぼ半球形のレンズ状の突
起を形成してなることを特徴とする。
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、少な
くとも１枚の偏光子を観察面側の前記基板に並設させて
なる液晶表示装置において、前記観察面側の偏光子を前
記２枚の基板間に配設するとともに、前記観察面側の基
板の表面に球径のほぼ等しいほぼ半球形のレンズ状の突
起を形成してなることを特徴とする。
【００１５】請求項６記載の液晶表示装置は、前記突起
の球径が、画素ピッチ以下であることを特徴とする。
の球径が、画素ピッチ以下であることを特徴とする。
【００１６】請求項７記載の液晶表示装置は、一主面上
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、一方
の基板の外側にバックライト光源を配置して、少なくと
も１枚の偏光子を前記バックライト側の基板に並設させ
てなる液晶表示装置において、前記バックライト側の偏
光子を前記２枚の基板間に配設するとともに、前記バッ
クライト側の基板の表面に微細な凹凸を形成してなるこ
とを特徴とする。
に電極を有する少なくとも２枚の基板を該主面が対向す
るよう配置して両基板間に液晶組成物を狭持させ、一方
の基板の外側にバックライト光源を配置して、少なくと
も１枚の偏光子を前記バックライト側の基板に並設させ
てなる液晶表示装置において、前記バックライト側の偏
光子を前記２枚の基板間に配設するとともに、前記バッ
クライト側の基板の表面に微細な凹凸を形成してなるこ
とを特徴とする。
【００１７】請求項８記載の液晶表示装置は、請求項７
記載の液晶表示装置において、微細な凹凸の大きさが１
０μｍ以下、好ましくは２〜１０μｍの突起からなるこ
とを特徴とする。
記載の液晶表示装置において、微細な凹凸の大きさが１
０μｍ以下、好ましくは２〜１０μｍの突起からなるこ
とを特徴とする。
【００１８】
【作用】請求項１記載の液晶表示装置によれば、透過型
や反射型の液晶表示装置において、液晶セルを構成する
２枚の基板間に偏光子を形成することにより、基板表面
を自由に加工できるようになる。このことを利用して基
板表面に、所定の凹凸加工を施すことにより、光拡散、
外光映り込み防止、反射防止、導光などの種々の機能を
備えさせることができる。
や反射型の液晶表示装置において、液晶セルを構成する
２枚の基板間に偏光子を形成することにより、基板表面
を自由に加工できるようになる。このことを利用して基
板表面に、所定の凹凸加工を施すことにより、光拡散、
外光映り込み防止、反射防止、導光などの種々の機能を
備えさせることができる。
【００１９】請求項２記載の液晶表示装置では、基板表
面に微細な１０μｍ以下、好ましくは平均粗さ２〜１０
μｍの凹凸を形成することにより、基板表面で外光に乱
反射を起こさせて外光の映り込みを押さえることができ
る。この場合、凹凸が１０μｍを越すと突起の形状が目
立つようになり、かえって表示性能が悪くなる。
面に微細な１０μｍ以下、好ましくは平均粗さ２〜１０
μｍの凹凸を形成することにより、基板表面で外光に乱
反射を起こさせて外光の映り込みを押さえることができ
る。この場合、凹凸が１０μｍを越すと突起の形状が目
立つようになり、かえって表示性能が悪くなる。
【００２０】請求項３記載の液晶表示装置では、基板表
面にその基板の屈折率よりも小さい透明な物質の薄膜を
形成するので、空気と薄膜、薄膜と基板間の２境界面で
の反射光が干渉して反射率が小さくなる。
面にその基板の屈折率よりも小さい透明な物質の薄膜を
形成するので、空気と薄膜、薄膜と基板間の２境界面で
の反射光が干渉して反射率が小さくなる。
【００２１】請求項４記載の液晶表示装置では、特に反
射率が理論上最小になる条件、つまり波長λの基板表面
に入射する外光に対し、薄膜の厚さｄを、ｄ＝λ／４ｎ
´（ｎ´：薄膜の屈折率）となるようにしたので、反射
をより一層防止することができる。
射率が理論上最小になる条件、つまり波長λの基板表面
に入射する外光に対し、薄膜の厚さｄを、ｄ＝λ／４ｎ
´（ｎ´：薄膜の屈折率）となるようにしたので、反射
をより一層防止することができる。
【００２２】請求項５記載の液晶表示装置では、基板表
面に球径がほぼ等しい、ほぼ半球形のレンズ状の突起を
形成したので、下面からの平行光バックライトの光が基
板表面で拡散し視野角を向上させることができる。
面に球径がほぼ等しい、ほぼ半球形のレンズ状の突起を
形成したので、下面からの平行光バックライトの光が基
板表面で拡散し視野角を向上させることができる。
【００２３】請求項６記載の液晶表示装置では、特に、
基板表面に形成するレンズ状の突起の球径を画素ピッチ
以下としている。レンズ状の突起の大きさが複数画素に
またがってしまう程度だと表示がみだれてしまうという
問題が生じるが、突起の球径が、画素ピッチ以下である
と表示の乱れの問題も解消する。
基板表面に形成するレンズ状の突起の球径を画素ピッチ
以下としている。レンズ状の突起の大きさが複数画素に
またがってしまう程度だと表示がみだれてしまうという
問題が生じるが、突起の球径が、画素ピッチ以下である
と表示の乱れの問題も解消する。
【００２４】請求項７記載の液晶表示装置では、バック
ライト側の基板の表面に微細な凹凸を形成したので、こ
れによって反射板が形成され、さらに、基板の凹凸から
バックライト光が導入されるので導光板を兼ねさせた
り、またはその一部を兼ねさせたりすることができる。
ライト側の基板の表面に微細な凹凸を形成したので、こ
れによって反射板が形成され、さらに、基板の凹凸から
バックライト光が導入されるので導光板を兼ねさせた
り、またはその一部を兼ねさせたりすることができる。
【００２５】本発明によれば、基板に他の補助部材の機
能を持たせたから、固有の機能を持つ部材が不必要にな
り、液晶セルの重量も厚みも大きくならない。
能を持たせたから、固有の機能を持つ部材が不必要にな
り、液晶セルの重量も厚みも大きくならない。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。なお、以下の図においては、各図共
通する部分には同一符号を付して重複する説明は省略す
る。
施形態を説明する。なお、以下の図においては、各図共
通する部分には同一符号を付して重複する説明は省略す
る。
【００２７】（実施形態１）図１は、発明の一実施例の
液晶表示装置の構成を概略的に示す断面図である。この
実施例の液晶表示装置は、片面に映り込み防止のための
微細な（１０μｍ以下、平均粗さ２〜１０μｍ）の凹凸
をフッ酸水溶液でエッチングして形成した対向基板（ガ
ラス基板）１１と、マトリクス状に走査線、信号線、ス
イッチング素子及びスイッチング素子に接続された画素
電極を有する矩形のスイッチング素子アレイ基板１２と
を有している。
液晶表示装置の構成を概略的に示す断面図である。この
実施例の液晶表示装置は、片面に映り込み防止のための
微細な（１０μｍ以下、平均粗さ２〜１０μｍ）の凹凸
をフッ酸水溶液でエッチングして形成した対向基板（ガ
ラス基板）１１と、マトリクス状に走査線、信号線、ス
イッチング素子及びスイッチング素子に接続された画素
電極を有する矩形のスイッチング素子アレイ基板１２と
を有している。
【００２８】対向基板１１の微細な凹凸を形成していな
い表面にはカラーフィルター１３を形成し、その上に一
定方向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）被膜
をヨウ素で染色した偏光子１４が形成される。
い表面にはカラーフィルター１３を形成し、その上に一
定方向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）被膜
をヨウ素で染色した偏光子１４が形成される。
【００２９】この偏光子１４上には、後のＩＴＯスパッ
タ工程で偏光子１４が破壊されないように、紫外線硬化
型の透明樹脂が塗布され光硬化され、この上にスパッタ
リング法でＩＴＯ透明電極１５が１００ｎｍの厚さに形
成される。
タ工程で偏光子１４が破壊されないように、紫外線硬化
型の透明樹脂が塗布され光硬化され、この上にスパッタ
リング法でＩＴＯ透明電極１５が１００ｎｍの厚さに形
成される。
【００３０】この対向基板１１とスイッチング素子アレ
イ基板１２上に、ポリイミド被膜（ＡＬ−１０５１；日
本合成ゴム製）を印刷し、１８０℃で１時間焼成するこ
とにより厚さ約８５０Ａの液晶配向膜１６をそれぞれ形
成した。
イ基板１２上に、ポリイミド被膜（ＡＬ−１０５１；日
本合成ゴム製）を印刷し、１８０℃で１時間焼成するこ
とにより厚さ約８５０Ａの液晶配向膜１６をそれぞれ形
成した。
【００３１】その後、これらの基板１１、１２の液晶配
向膜１６に、通常のＴＮ型液晶の場合と同様にラビング
処理を施した。
向膜１６に、通常のＴＮ型液晶の場合と同様にラビング
処理を施した。
【００３２】対向基板１１上に約５μｍ径のスペーサを
散布し、一方、スイッチング素子アレイ基板１２に印刷
された配向膜の周辺に沿って接着剤を注入口（図示せ
ず）を除いて印刷し、アレイ基板から対向電極に電圧を
印加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移材
電極上に形成した。
散布し、一方、スイッチング素子アレイ基板１２に印刷
された配向膜の周辺に沿って接着剤を注入口（図示せ
ず）を除いて印刷し、アレイ基板から対向電極に電圧を
印加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移材
電極上に形成した。
【００３３】しかる後、配向膜どうしが対向するよう対
向基板１１とスイッチング素子アレイ基板１２とを重ね
合わせ、１５０℃で１時間加熱して接着剤を硬化させ両
基板を貼り合わせて液晶セルを構成した。
向基板１１とスイッチング素子アレイ基板１２とを重ね
合わせ、１５０℃で１時間加熱して接着剤を硬化させ両
基板を貼り合わせて液晶セルを構成した。
【００３４】その後、この液晶セルに、真空注入法によ
り誘電率が正のフッ素系液晶組成物１７（ＺＬＩ−４７
９２メルク社製）を注入し、この後注入口を紫外線硬化
樹脂で塞ぎ約３Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ
封止した。
り誘電率が正のフッ素系液晶組成物１７（ＺＬＩ−４７
９２メルク社製）を注入し、この後注入口を紫外線硬化
樹脂で塞ぎ約３Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して硬化させ
封止した。
【００３５】この液晶セルの観察面と反対側のスイッチ
ング素子アレイ基板１２外側に偏光板１８を貼り付け、
液晶モジュールに組み立てた。
ング素子アレイ基板１２外側に偏光板１８を貼り付け、
液晶モジュールに組み立てた。
【００３６】こうして作製した液晶表示装置では、対向
基板１１の表面に形成した凹凸により外光による映り込
みが押さえられ、コントラストの高い鮮明な表示を得る
ことができた。
基板１１の表面に形成した凹凸により外光による映り込
みが押さえられ、コントラストの高い鮮明な表示を得る
ことができた。
【００３７】（実施形態２）この実施例の対向基板（ガ
ラス基板）１１は、反射防止膜としてフッ化マグネシウ
ムを真空蒸着し約１０００Ａの膜厚に形成している点を
除いて実施例１と同様の方法で構成されている。
ラス基板）１１は、反射防止膜としてフッ化マグネシウ
ムを真空蒸着し約１０００Ａの膜厚に形成している点を
除いて実施例１と同様の方法で構成されている。
【００３８】この対向基板１１を用いて、実施例１と同
様にしてＴＮ型液晶モジュールを組み立てた。
様にしてＴＮ型液晶モジュールを組み立てた。
【００３９】この液晶モジュールは周囲光の反射が少な
く、コントラストの高い鮮明な表示を得ることができ
た。
く、コントラストの高い鮮明な表示を得ることができ
た。
【００４０】（実施形態３）この実施例の対向基板（ガ
ラス基板）１１は、図２に示すように、片面に１画素の
１／４程度の大きさの半球状の突起１１´が規則正しく
配列するように加工されている。この対向基板１１を用
いて、実施例１と同様にしてＴＮ型液晶モジュールを組
み立てた。この液晶モジュールは、対向基板１１の表面
に、１画素の１／４程度の大きさの半球状の突起を規則
正しく配列するように加工した点と、バックライト１９
と導光板１９´をスイッチング素子アレイ基板１２の背
面に配置した点を除いて、図１に示した液晶表示装置と
同一の構成である。
ラス基板）１１は、図２に示すように、片面に１画素の
１／４程度の大きさの半球状の突起１１´が規則正しく
配列するように加工されている。この対向基板１１を用
いて、実施例１と同様にしてＴＮ型液晶モジュールを組
み立てた。この液晶モジュールは、対向基板１１の表面
に、１画素の１／４程度の大きさの半球状の突起を規則
正しく配列するように加工した点と、バックライト１９
と導光板１９´をスイッチング素子アレイ基板１２の背
面に配置した点を除いて、図１に示した液晶表示装置と
同一の構成である。
【００４１】この液晶表示装置では、対向基板（ガラス
基板）１１の表面に突起１１が形成されておりバックラ
イト１９からの平行光が液晶セルを通過して対向基板の
突起１１´により拡散されるので視野角の広い表示を得
ることができた。
基板）１１の表面に突起１１が形成されておりバックラ
イト１９からの平行光が液晶セルを通過して対向基板の
突起１１´により拡散されるので視野角の広い表示を得
ることができた。
【００４２】（実施形態４）この実施例では、図３に示
すように、対向基板１１には通常のガラス基板を、もう
一方のスイッチング素子アレイ基板１２には片面をフッ
酸水溶液でエッチングして光が乱反射する１０μｍ以下
の凹凸１２´を形成したガラス基板を用いた。 対向基
板１１上には、カラーフィルター１３を形成し、その上
に一定方向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）
被膜をヨウ素で染色した偏光子１４を形成させた。この
偏光子１４上には、後のＩＴＯスパッタ工程で偏光子１
４が破壊されないように、紫外線硬化型の透明樹脂を塗
布し光硬化させ、この上にスパッタリング法でＩＴＯス
トライプ電極２１を１００ｎｍの厚さに形成した。さら
に、ストライプ電極２１上には、ポリイミド被膜（ＡＬ
−１０５１；日本合成ゴム製）を印刷し、１８０℃で１
時間焼成して厚さ約８５０Ａの液晶配向膜１６を形成さ
せた。
すように、対向基板１１には通常のガラス基板を、もう
一方のスイッチング素子アレイ基板１２には片面をフッ
酸水溶液でエッチングして光が乱反射する１０μｍ以下
の凹凸１２´を形成したガラス基板を用いた。 対向基
板１１上には、カラーフィルター１３を形成し、その上
に一定方向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）
被膜をヨウ素で染色した偏光子１４を形成させた。この
偏光子１４上には、後のＩＴＯスパッタ工程で偏光子１
４が破壊されないように、紫外線硬化型の透明樹脂を塗
布し光硬化させ、この上にスパッタリング法でＩＴＯス
トライプ電極２１を１００ｎｍの厚さに形成した。さら
に、ストライプ電極２１上には、ポリイミド被膜（ＡＬ
−１０５１；日本合成ゴム製）を印刷し、１８０℃で１
時間焼成して厚さ約８５０Ａの液晶配向膜１６を形成さ
せた。
【００４３】一方、スイッチング素子アレイ基板１２の
凹凸１２´を形成した側には反射膜として約１０００Ａ
のアルミ薄膜２０を真空蒸着により形成し、反対の側に
は単純マトリクス駆動できる様スパッタリング法でＩＴ
Ｏ透明電極２１を１００ｎｍの厚さでストライプ状に形
成させた。さらに、ＩＴＯ透明電極２１上には、対向基
板１１の場合と同様に、偏光子１４を形成し、その上に
液晶配向膜１６を形成させた。
凹凸１２´を形成した側には反射膜として約１０００Ａ
のアルミ薄膜２０を真空蒸着により形成し、反対の側に
は単純マトリクス駆動できる様スパッタリング法でＩＴ
Ｏ透明電極２１を１００ｎｍの厚さでストライプ状に形
成させた。さらに、ＩＴＯ透明電極２１上には、対向基
板１１の場合と同様に、偏光子１４を形成し、その上に
液晶配向膜１６を形成させた。
【００４４】その後は、カラーフィルターと画素とが一
致するように、対向基板１１とスイッチング素子アレイ
基板とを組み立て、液晶組成物１７を封入して単純マト
リックス駆動の液晶モジュールを組み立てた。その際、
通常の液晶セルの下側に設置されるバックライトの導光
板は、取り外し、液晶セルを構成しているアルミを蒸着
した基板２０に導光板を兼ねさせた。
致するように、対向基板１１とスイッチング素子アレイ
基板とを組み立て、液晶組成物１７を封入して単純マト
リックス駆動の液晶モジュールを組み立てた。その際、
通常の液晶セルの下側に設置されるバックライトの導光
板は、取り外し、液晶セルを構成しているアルミを蒸着
した基板２０に導光板を兼ねさせた。
【００４５】このようして薄型で軽量の液晶表示装置を
作製できた。
作製できた。
【００４６】（他の実施形態） （１）前述の実施例に用いたスイッチング素子は、アモ
ルファスシリコンタイプのものでもポリシリコンタイプ
のものでもよく、ポリシリコンタイプの場合にはスイッ
チング素子アレイ基板上に駆動回路を内蔵させるように
してもよい。
ルファスシリコンタイプのものでもポリシリコンタイプ
のものでもよく、ポリシリコンタイプの場合にはスイッ
チング素子アレイ基板上に駆動回路を内蔵させるように
してもよい。
【００４７】（２）前述の実施例では、透過型液晶表示
装置を用いた例について説明したが本発明は反射型液晶
表示装置に適用することもできる。
装置を用いた例について説明したが本発明は反射型液晶
表示装置に適用することもできる。
【００４８】（３）前述の実施例では、ＴＦＴからなる
半導体層を用いたが、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄ
ｉｏｄｅ）からなる半導体層を用いることもできる。ま
た、単純マトリクス型に適用することもできる。
半導体層を用いたが、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄ
ｉｏｄｅ）からなる半導体層を用いることもできる。ま
た、単純マトリクス型に適用することもできる。
【００４９】（４）実施形態１では偏光子を透明樹脂で
保護したが、この樹脂に顔料を分散させて赤、または
緑、または青に染色しバターニングすることにより、カ
ラーフィルター層を形成してもよい。
保護したが、この樹脂に顔料を分散させて赤、または
緑、または青に染色しバターニングすることにより、カ
ラーフィルター層を形成してもよい。
【００５０】（５）実施形態４では、反射膜を形成せず
に、基板１２の表面をフレネルミラー形状などに加工す
るようにしてもよい。
に、基板１２の表面をフレネルミラー形状などに加工す
るようにしてもよい。
【００５１】
【発明の効果】本発明によれば、偏光子を基板内面に形
成し、液晶セルを構成する基板表面を加工して様々な機
能を付加することにより、別途固有の機能を備えた部材
が不必要になり、薄型、軽量で鮮明な表示の液晶表示装
置を提供することができる。
成し、液晶セルを構成する基板表面を加工して様々な機
能を付加することにより、別途固有の機能を備えた部材
が不必要になり、薄型、軽量で鮮明な表示の液晶表示装
置を提供することができる。
【図１】本発明の液晶表示装置の一実施形態の模式的断
面図
面図
【図２】本発明の液晶表示装置の他の実施形態の模式的
断面図
断面図
【図３】本発明の液晶表示装置のさらに他の実施形態の
模式的断面図
模式的断面図
１１……対向基板、１２……スイッチング素子アレイ基
板、１３……カラーフィルター、１４……偏光子、１５
……ＩＴＯ電極、１６……配向膜、１７……液晶組成
物、１８……偏光板、１９……バックライト、１９´…
…導光板、２０……導光板を兼ねた基板、２１……ＩＴ
Ｏストライプ電極
板、１３……カラーフィルター、１４……偏光子、１５
……ＩＴＯ電極、１６……配向膜、１７……液晶組成
物、１８……偏光板、１９……バックライト、１９´…
…導光板、２０……導光板を兼ねた基板、２１……ＩＴ
Ｏストライプ電極
フロントページの続き (72)発明者 真鍋 ますみ 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内
Claims (8)
- 【請求項１】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液
晶組成物を狭持させ、少なくとも１枚の偏光子を観察面
側の前記基板に並設させてなる液晶表示装置において、 前記観察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設すると
ともに、前記観察面側の基板の表面に微細な凹凸を形成
してなることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 微細な凹凸の大きさが１０μｍ以下の突
起からなることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装
置。 - 【請求項３】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液
晶組成物を狭持させ、少なくとも１枚の偏光子を観察面
側の前記基板に並設させてなる液晶表示装置において、 前記観察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設すると
ともに、前記観察面側の基板の表面に該基板の屈折率よ
りも小さい屈折率を有する透明物質の薄膜を少なくとも
１層形成したことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項４】 基板表面に入射する波長λの外光に対し
て、前記薄膜の厚さｄがｄ＝λ／４ｎ´（ただし、ｎ´
は薄膜の屈折率を表す。）であることを特徴とする請求
項３記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液
晶組成物を狭持させ、少なくとも１枚の偏光子を観察面
側の前記基板に並設させてなる液晶表示装置において、 前記観察面側の偏光子を前記２枚の基板間に配設すると
ともに、前記観察面側の基板の表面に球径のほぼ等しい
ほぼ半球形のレンズ状の突起を形成してなることを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記突起の球径が、画素ピッチ以下であ
ることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】 一主面上に電極を有する少なくとも２枚
の基板を、該主面が対向するよう配置して両基板間に液
晶組成物を狭持させ、一方の基板の外側にバックライト
光源を配置して、少なくとも１枚の偏光子を前記バック
ライト側の基板に並設させてなる液晶表示装置におい
て、 前記バックライト側の偏光子を前記２枚の基板間に配設
するとともに、前記バックライト側の基板の表面に微細
な凹凸を形成してなることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項８】 微細な凹凸の大きさが１０μｍ以下の突
起からなることを特徴とする請求項７記載の液晶表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10067084A JPH11264967A (ja) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10067084A JPH11264967A (ja) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11264967A true JPH11264967A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=13334671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10067084A Pending JPH11264967A (ja) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11264967A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248634A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
| JP2008262202A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Boe Hydis Technology Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
| JP2013109376A (ja) * | 2006-06-02 | 2013-06-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
-
1998
- 1998-03-17 JP JP10067084A patent/JPH11264967A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248634A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
| US8274633B2 (en) | 2006-03-14 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Display device comprising a protective fixing member disposed only about a periphery of a semiconductor chip wherein a top side and a bottom side are co-planar with a respective top side and a bottom side of the semiconductor chip |
| US8804089B2 (en) | 2006-03-14 | 2014-08-12 | Japan Display West Inc. | Method of manufacturing a display device comprising a step of simultaneously polishing a second substrate and a semiconductor chip to have the same thickness as each other |
| US8917372B2 (en) | 2006-03-14 | 2014-12-23 | Japan Display West Inc. | Method of manufacturing a display device comprising first and second polarizing plate and phase difference plate combinations and a step of simultaneously polishing a second substrate and a semiconductor chip to have the same thickness as each other |
| US9091893B2 (en) | 2006-03-14 | 2015-07-28 | Japan Display Inc. | Method of manufacturing a display device comprising a step of simultaneously polishing a second substrate and a semiconductor chip to have the same thickness as each other |
| JP2013109376A (ja) * | 2006-06-02 | 2013-06-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2008262202A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Boe Hydis Technology Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050311 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070425 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070525 |
|
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|
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