JPH1126199A - シンクロトロン放射光の集光方法および集光装置 - Google Patents
シンクロトロン放射光の集光方法および集光装置Info
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- JPH1126199A JPH1126199A JP17698597A JP17698597A JPH1126199A JP H1126199 A JPH1126199 A JP H1126199A JP 17698597 A JP17698597 A JP 17698597A JP 17698597 A JP17698597 A JP 17698597A JP H1126199 A JPH1126199 A JP H1126199A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シンクロトロン放射光の利用効率を向上させ
る。 【解決手段】 シンクロトロンリング１の発光点２から
放射されるシンクロトロン放射光を、発光点と利用位置
との間に設けられる放射線遮蔽壁３を貫通して利用位置
９まで導くシンクロトロン放射光の集光装置において、
発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つの集光ミ
ラー5a,5bを配置し、発光点からの放射光を放射線遮蔽
壁の利用位置側の面４に、発光点と同じ面積かつ同じ発
散角で集光するかまたは、両方向について平行となるよ
うに集光するように構成した。また、前記ミラーがトロ
イダル形状または楕円面形状を有するものである。ま
た、前記放射線遮蔽壁と利用位置との間に少なくとも１
つの集光ミラー６、８を配置し、前記放射線遮蔽壁の利
用位置側の面に集光された放射光を利用位置に集光する
ように構成した。
る。 【解決手段】 シンクロトロンリング１の発光点２から
放射されるシンクロトロン放射光を、発光点と利用位置
との間に設けられる放射線遮蔽壁３を貫通して利用位置
９まで導くシンクロトロン放射光の集光装置において、
発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つの集光ミ
ラー5a,5bを配置し、発光点からの放射光を放射線遮蔽
壁の利用位置側の面４に、発光点と同じ面積かつ同じ発
散角で集光するかまたは、両方向について平行となるよ
うに集光するように構成した。また、前記ミラーがトロ
イダル形状または楕円面形状を有するものである。ま
た、前記放射線遮蔽壁と利用位置との間に少なくとも１
つの集光ミラー６、８を配置し、前記放射線遮蔽壁の利
用位置側の面に集光された放射光を利用位置に集光する
ように構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シンクロトロンリ
ング（荷電粒子蓄積リング）により発生されるシンクロ
トロン放射光を光源とし、それを放射線遮蔽壁の外側で
使用するビームライン光学系に関するものであり、特に
材料解析用に用いられるものである。
ング（荷電粒子蓄積リング）により発生されるシンクロ
トロン放射光を光源とし、それを放射線遮蔽壁の外側で
使用するビームライン光学系に関するものであり、特に
材料解析用に用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、前記シンクロトロン放射光を光源
とし、放射線遮蔽壁の外側でＸ線吸収スペクトル測定や
Ｘ線回折に使用されるビームラインには、次に説明する
ようなものがある。その一つは、図４に示すように、シ
ンクロトロンリング１の発光点２から放射されたシンク
ロトロン放射光を、遮蔽壁３外側に設置される分光器７
による単色化の後、試料９に照射し、Ｘ線吸収スペクト
ルを得るものである（第１の従来例という）。これは例
えば、刊行物（‘PHOTON FACTORY ACTIVITY REPORT’19
82/83，p.ｖ-7）に記載されている。この第１の従来例
は、例えば、発光点２から分光器７までの距離が25 mの
場合、シンクロトロンリング１の軌道面に平行な方向
（以下ｘ方向という）の、発光点２での取り込み角が1
mradとしても、分光器７の位置での放射光の広がりは25
mmとなる。同様に、軌道面に垂直な方向（以下ｙ方向と
いう）にも放射光はわずかながら広がりを持つので、分
光器７の中にある光学素子の上でビームは大きく広が
り、エネルギー分解能を低下させる。通常は、この広が
りを避けるために、分光器７の直前にスリット10を置
き、分光器７に入射する光の大きさを制限する。このた
めに、実際に試料９の位置で得られる光量は大幅に制限
される、という問題点がある。
とし、放射線遮蔽壁の外側でＸ線吸収スペクトル測定や
Ｘ線回折に使用されるビームラインには、次に説明する
ようなものがある。その一つは、図４に示すように、シ
ンクロトロンリング１の発光点２から放射されたシンク
ロトロン放射光を、遮蔽壁３外側に設置される分光器７
による単色化の後、試料９に照射し、Ｘ線吸収スペクト
ルを得るものである（第１の従来例という）。これは例
えば、刊行物（‘PHOTON FACTORY ACTIVITY REPORT’19
82/83，p.ｖ-7）に記載されている。この第１の従来例
は、例えば、発光点２から分光器７までの距離が25 mの
場合、シンクロトロンリング１の軌道面に平行な方向
（以下ｘ方向という）の、発光点２での取り込み角が1
mradとしても、分光器７の位置での放射光の広がりは25
mmとなる。同様に、軌道面に垂直な方向（以下ｙ方向と
いう）にも放射光はわずかながら広がりを持つので、分
光器７の中にある光学素子の上でビームは大きく広が
り、エネルギー分解能を低下させる。通常は、この広が
りを避けるために、分光器７の直前にスリット10を置
き、分光器７に入射する光の大きさを制限する。このた
めに、実際に試料９の位置で得られる光量は大幅に制限
される、という問題点がある。
【０００３】上述のような光量の制限を解決するビーム
ラインとして、図５に示す光学系がある（第２の従来例
という）。これは例えば、文献（Rev. Sci. Instrum. 6
6(2),February 1995, p.1745）に記載されている。図５
に示す光学系は、シンクロトロンリング１の発光点２よ
り放射されたビームを、発光点から約11 mの位置に設置
した第１ミラー６でｘ方向、ｙ方向共に平行化し、分光
器７に導入して単色化の後、第１ミラー６と同じ表面形
状を持つ第２ミラー８で発光点から約26 mに設置する試
料９にビームを集光するものである。
ラインとして、図５に示す光学系がある（第２の従来例
という）。これは例えば、文献（Rev. Sci. Instrum. 6
6(2),February 1995, p.1745）に記載されている。図５
に示す光学系は、シンクロトロンリング１の発光点２よ
り放射されたビームを、発光点から約11 mの位置に設置
した第１ミラー６でｘ方向、ｙ方向共に平行化し、分光
器７に導入して単色化の後、第１ミラー６と同じ表面形
状を持つ第２ミラー８で発光点から約26 mに設置する試
料９にビームを集光するものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図５に示すも
のでは、発光点２から第１ミラー６までの距離が長くそ
れまでのビームの広がりを抑えることはできず、効率的
にビームを平行化するためには、大型ミラーが必要とな
る。また、ここでは示されていないが、シンクロトロン
リング１の周囲に放射線遮蔽壁を設けるのが一般的であ
り、シンクロトロンリング１の大型化に伴い、発光点２
から遮蔽壁外側までの距離も伸びる傾向にあり、遮蔽壁
外側にあるミラーや分光器の光学素子上で実用的なビー
ムサイズを得るためには、これらの光学機器の手前でス
リットを用いて入射する光の大きさを制限せざるを得
ず、シンクロトロン放射光の利用効率が低い。そのため
に、材料評価に長時間必要とする、という問題点があ
る。また、利用効率を上げるためには非常に大きいミラ
ーを必要とし、建設に多額の費用を必要とする、という
問題点がある。
のでは、発光点２から第１ミラー６までの距離が長くそ
れまでのビームの広がりを抑えることはできず、効率的
にビームを平行化するためには、大型ミラーが必要とな
る。また、ここでは示されていないが、シンクロトロン
リング１の周囲に放射線遮蔽壁を設けるのが一般的であ
り、シンクロトロンリング１の大型化に伴い、発光点２
から遮蔽壁外側までの距離も伸びる傾向にあり、遮蔽壁
外側にあるミラーや分光器の光学素子上で実用的なビー
ムサイズを得るためには、これらの光学機器の手前でス
リットを用いて入射する光の大きさを制限せざるを得
ず、シンクロトロン放射光の利用効率が低い。そのため
に、材料評価に長時間必要とする、という問題点があ
る。また、利用効率を上げるためには非常に大きいミラ
ーを必要とし、建設に多額の費用を必要とする、という
問題点がある。
【０００５】本発明は、前記問題点を解決するためにな
されたものであり、大型ミラーを用いなくてもシンクロ
トロン放射光をＸ方向、ｙ方向の両方に大きな角度で取
り込むことができ、シンクロトロン放射光の利用効率の
高い集光方法および集光装置を提供することを目的とし
ている。
されたものであり、大型ミラーを用いなくてもシンクロ
トロン放射光をＸ方向、ｙ方向の両方に大きな角度で取
り込むことができ、シンクロトロン放射光の利用効率の
高い集光方法および集光装置を提供することを目的とし
ている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の方法に係
るシンクロトロン放射光の集光方法は、シンクロトロン
リングの発光点から放射されるシンクロトロン放射光
を、前記発光点と利用位置との間に設けられる放射線遮
蔽壁を貫通して利用位置まで導くシンクロトロン放射光
の集光方法において、前記発光点からの放射光を前記放
射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記発光点と同じ面積
かつ同じ発散角で集光するものである。
るシンクロトロン放射光の集光方法は、シンクロトロン
リングの発光点から放射されるシンクロトロン放射光
を、前記発光点と利用位置との間に設けられる放射線遮
蔽壁を貫通して利用位置まで導くシンクロトロン放射光
の集光方法において、前記発光点からの放射光を前記放
射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記発光点と同じ面積
かつ同じ発散角で集光するものである。
【０００７】本発明の第１の構成に係るシンクロトロン
放射光の集光装置は、シンクロトロンリングの発光点か
ら放射されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利
用位置との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用
位置まで導くシンクロトロン放射光の集光装置におい
て、前記発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つ
の集光ミラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記
放射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記発光点と同じ面
積かつ同じ発散角で集光するように構成したものであ
る。
放射光の集光装置は、シンクロトロンリングの発光点か
ら放射されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利
用位置との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用
位置まで導くシンクロトロン放射光の集光装置におい
て、前記発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つ
の集光ミラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記
放射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記発光点と同じ面
積かつ同じ発散角で集光するように構成したものであ
る。
【０００８】本発明の第２の構成に係るシンクロトロン
放射光の集光装置は、シンクロトロンリングの発光点か
ら放射されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利
用位置との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用
位置まで導くシンクロトロン放射光の集光装置におい
て、前記発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つ
の集光ミラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記
放射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記シンクロトロン
リングの軌道面に平行な方向と垂直な方向の両方向につ
いて平行となるように集光するように構成したものであ
る。
放射光の集光装置は、シンクロトロンリングの発光点か
ら放射されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利
用位置との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用
位置まで導くシンクロトロン放射光の集光装置におい
て、前記発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つ
の集光ミラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記
放射線遮蔽壁の利用位置側の面に、前記シンクロトロン
リングの軌道面に平行な方向と垂直な方向の両方向につ
いて平行となるように集光するように構成したものであ
る。
【０００９】本発明の第３の構成に係るシンクロトロン
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におけ
る集光ミラーがトロイダル形状を有するものである。
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におけ
る集光ミラーがトロイダル形状を有するものである。
【００１０】本発明の第４の構成に係るシンクロトロン
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におけ
る集光ミラーが楕円面形状を有するものである。
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におけ
る集光ミラーが楕円面形状を有するものである。
【００１１】本発明の第５の構成に係るシンクロトロン
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におい
て、前記放射線遮蔽壁と利用位置との間に少なくとも１
つの集光ミラーを配置し、前記放射線遮蔽壁の利用位置
側の面に集光された放射光を利用位置に集光するように
構成したものである。
放射光の集光装置は、前記第１または第２の構成におい
て、前記放射線遮蔽壁と利用位置との間に少なくとも１
つの集光ミラーを配置し、前記放射線遮蔽壁の利用位置
側の面に集光された放射光を利用位置に集光するように
構成したものである。
【００１２】
実施の形態１．以下、本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図１は本発明の実施の形態１を示す。図
において、１はシンクロトロンリング、２はその発光
点、３は放射線遮蔽壁、４は放射線遮蔽壁の利用位置側
の面すなわち外側面、5aは発光点２と遮蔽壁３との間に
配置された遮蔽壁内集光ミラーである。本実施の形態で
は、シンクロトロンリング１で発生したシンクロトロン
放射光は、発光点２から放射され、発光点２と遮蔽壁３
の外側面４の中間点に設置されるミラー5aにて集光され
て、外側面４に焦点を結ぶ。ここで、ミラー5aの反射面
は、Ni、Pt、Auなどの単層膜或いは多層膜が形成されて
おり、且つｘ方向、ビームの入射方向（ｚ方向）共に凹
の曲率を持ったトロイダル形状を有する。トロイダル形
状の曲率は、発光点２とミラー5aとの距離をｄ1、放射
光のミラー5aへの入射角をθ1としたとき、 1 / ｄ1 = 1 /(Ｒ1sin θ1) , 1 / ｄ1 = sin θ1 /
ρ1 で表される。ここで、 Ｒ1とρ1はそれぞれｚ方向とｘ
方向の曲率半径である。例として距離ｄ1を3.6 m、入射
角θ1を14 mradとすれば、Ｒ1 = 257 m、 ρ1 =0.067 m
となる。
いて説明する。図１は本発明の実施の形態１を示す。図
において、１はシンクロトロンリング、２はその発光
点、３は放射線遮蔽壁、４は放射線遮蔽壁の利用位置側
の面すなわち外側面、5aは発光点２と遮蔽壁３との間に
配置された遮蔽壁内集光ミラーである。本実施の形態で
は、シンクロトロンリング１で発生したシンクロトロン
放射光は、発光点２から放射され、発光点２と遮蔽壁３
の外側面４の中間点に設置されるミラー5aにて集光され
て、外側面４に焦点を結ぶ。ここで、ミラー5aの反射面
は、Ni、Pt、Auなどの単層膜或いは多層膜が形成されて
おり、且つｘ方向、ビームの入射方向（ｚ方向）共に凹
の曲率を持ったトロイダル形状を有する。トロイダル形
状の曲率は、発光点２とミラー5aとの距離をｄ1、放射
光のミラー5aへの入射角をθ1としたとき、 1 / ｄ1 = 1 /(Ｒ1sin θ1) , 1 / ｄ1 = sin θ1 /
ρ1 で表される。ここで、 Ｒ1とρ1はそれぞれｚ方向とｘ
方向の曲率半径である。例として距離ｄ1を3.6 m、入射
角θ1を14 mradとすれば、Ｒ1 = 257 m、 ρ1 =0.067 m
となる。
【００１３】このような構成において、発光点２から発
散したビームは、ミラー5aによって集光され、遮蔽壁外
側面４に集光される。発光点２の大きさが0.5 mm × 0.
5 mm、ビーム取り込みの発散角が4 mrad（ｘ方向）× 1
mrad（ｙ方向）のとき、ミラー5aの大きさを40 cm（ｚ
方向）× 6 cm（ｘ方向）とすれば全てのビームを集光
することが可能である。ミラーは有限の反射率を持つ
が、例えば表面層がNiで入射角が14 mradの場合、2000
eVの光の反射率は約80 %であり、発光点からの光の80 %
の光量を発光点と同じ面積に同じ発散角で得ることがで
きる。このような系では、シンクロトロン放射光の利用
効率が高くなると共に、放射線遮蔽壁３の外側面４を起
点として光学系の設計を行うことが可能となり、自由度
が増大する。
散したビームは、ミラー5aによって集光され、遮蔽壁外
側面４に集光される。発光点２の大きさが0.5 mm × 0.
5 mm、ビーム取り込みの発散角が4 mrad（ｘ方向）× 1
mrad（ｙ方向）のとき、ミラー5aの大きさを40 cm（ｚ
方向）× 6 cm（ｘ方向）とすれば全てのビームを集光
することが可能である。ミラーは有限の反射率を持つ
が、例えば表面層がNiで入射角が14 mradの場合、2000
eVの光の反射率は約80 %であり、発光点からの光の80 %
の光量を発光点と同じ面積に同じ発散角で得ることがで
きる。このような系では、シンクロトロン放射光の利用
効率が高くなると共に、放射線遮蔽壁３の外側面４を起
点として光学系の設計を行うことが可能となり、自由度
が増大する。
【００１４】図２に、上述のようにして放射線遮蔽壁３
の外側面４にｘ，ｙ両方向について１：１の割合で集光
された放射光を利用位置に集光する一例を示す。図にお
いて、６、８はそれぞれ遮蔽壁外第１、第２ミラーであ
り、放射線遮蔽壁３と試料９との間に配置されている。
７は分光器である。このように構成されたものにおい
て、放射線遮蔽壁３の外側面４に焦点を結んだビーム
は、更に遮蔽壁外第１ミラー６で集光、平行化され、分
光器７でそのエネルギーを単色化の後、遮蔽壁外第２ミ
ラー８により試料９位置に集光、結像する。ここで遮蔽
壁外第１ミラー６と遮蔽壁外第２ミラー８は同一の表面
形状と集光特性を有し、且つ放射線遮蔽壁３の外側面４
と遮蔽壁外第１ミラー６、遮蔽壁外第２ミラー８と試料
９の位置との距離を等しくとれば、放射線遮蔽壁３の外
側面４に結像された発光点２の像を再び試料９の位置に
結像することができる。このような系では、シンクロト
ロン放射光の利用効率が高い。また分光器７の分光素子
の上でのビームの大きさを小さくすることができるの
で、エネルギー幅の狭い単色光を取り出すことができ
る。
の外側面４にｘ，ｙ両方向について１：１の割合で集光
された放射光を利用位置に集光する一例を示す。図にお
いて、６、８はそれぞれ遮蔽壁外第１、第２ミラーであ
り、放射線遮蔽壁３と試料９との間に配置されている。
７は分光器である。このように構成されたものにおい
て、放射線遮蔽壁３の外側面４に焦点を結んだビーム
は、更に遮蔽壁外第１ミラー６で集光、平行化され、分
光器７でそのエネルギーを単色化の後、遮蔽壁外第２ミ
ラー８により試料９位置に集光、結像する。ここで遮蔽
壁外第１ミラー６と遮蔽壁外第２ミラー８は同一の表面
形状と集光特性を有し、且つ放射線遮蔽壁３の外側面４
と遮蔽壁外第１ミラー６、遮蔽壁外第２ミラー８と試料
９の位置との距離を等しくとれば、放射線遮蔽壁３の外
側面４に結像された発光点２の像を再び試料９の位置に
結像することができる。このような系では、シンクロト
ロン放射光の利用効率が高い。また分光器７の分光素子
の上でのビームの大きさを小さくすることができるの
で、エネルギー幅の狭い単色光を取り出すことができ
る。
【００１５】実施の形態２．図３は本発明の実施の形態
２を示す。図において、5bは発光点２と遮蔽壁３との間
に配置された遮蔽壁内集光ミラーである。本実施の形態
では、シンクロトロンリング１で発生したシンクロトロ
ン放射光は、発光点２から放射され、遮蔽壁３の内側
（リング１側）に設置されるミラー5bにて集光、平行化
されて、外側面４に平行ビームとして取り出される。こ
こで、ミラー5bの反射面は、実施の形態１と同様のもの
である。トロイダル形状の曲率は、発光点２とミラー5b
との距離をｄ2、放射光のミラーへの入射角をθ2とした
とき、 1 / ｄ2 = 2 /( Ｒ2sin θ2) , 1 / ｄ2 = 2sin θ2
/ ρ2 で表される。ここで、Ｒ2とρ2はそれぞれｚ方向とｘ方
向の曲率半径である。例として距離ｄ2を3.6 m、入射角
θ2を14 mradとすれば、Ｒ2 = 514 m、ρ2 = 0.034 mと
なる。このような構成において、発光点２から発散した
ビームは、ミラー5bによって集光、平行化され、放射線
遮蔽壁３の外側面４に平行ビームとして取り出される。
発光点２の大きさとビーム取り込みの発散角が実施の形
態１と同じとき、ミラー5bの大きさも実施の形態１と同
じである場合に全てのビームを集光することが可能で、
約20 mm × 5 mmの平行ビームを放射線遮蔽壁３の外側
面４にて得ることができる。本実施の形態では図５で示
した第２の従来例に比べて、発光点２からミラー5bまで
の距離を短くできるので、ミラー5bを大型化することな
く、シンクロトロン放射光の高い利用効率が得られる。
また、放射線遮蔽壁３の外側面４に平行光を取り出せる
ので、その後の光学系の設計自由度が増大する。例え
ば、放射線遮蔽壁３の外側面４に取り出された平行光を
いきなり試料に照射することも可能である。
２を示す。図において、5bは発光点２と遮蔽壁３との間
に配置された遮蔽壁内集光ミラーである。本実施の形態
では、シンクロトロンリング１で発生したシンクロトロ
ン放射光は、発光点２から放射され、遮蔽壁３の内側
（リング１側）に設置されるミラー5bにて集光、平行化
されて、外側面４に平行ビームとして取り出される。こ
こで、ミラー5bの反射面は、実施の形態１と同様のもの
である。トロイダル形状の曲率は、発光点２とミラー5b
との距離をｄ2、放射光のミラーへの入射角をθ2とした
とき、 1 / ｄ2 = 2 /( Ｒ2sin θ2) , 1 / ｄ2 = 2sin θ2
/ ρ2 で表される。ここで、Ｒ2とρ2はそれぞれｚ方向とｘ方
向の曲率半径である。例として距離ｄ2を3.6 m、入射角
θ2を14 mradとすれば、Ｒ2 = 514 m、ρ2 = 0.034 mと
なる。このような構成において、発光点２から発散した
ビームは、ミラー5bによって集光、平行化され、放射線
遮蔽壁３の外側面４に平行ビームとして取り出される。
発光点２の大きさとビーム取り込みの発散角が実施の形
態１と同じとき、ミラー5bの大きさも実施の形態１と同
じである場合に全てのビームを集光することが可能で、
約20 mm × 5 mmの平行ビームを放射線遮蔽壁３の外側
面４にて得ることができる。本実施の形態では図５で示
した第２の従来例に比べて、発光点２からミラー5bまで
の距離を短くできるので、ミラー5bを大型化することな
く、シンクロトロン放射光の高い利用効率が得られる。
また、放射線遮蔽壁３の外側面４に平行光を取り出せる
ので、その後の光学系の設計自由度が増大する。例え
ば、放射線遮蔽壁３の外側面４に取り出された平行光を
いきなり試料に照射することも可能である。
【００１６】なお、上記各実施の形態において、遮蔽壁
内に設置するミラー5a、5bの表面形状が楕円面形状であ
っても、同様の作用が期待される。また、２つ以上のミ
ラーを組み合わせることで同様の作用をもたらすことも
可能である。
内に設置するミラー5a、5bの表面形状が楕円面形状であ
っても、同様の作用が期待される。また、２つ以上のミ
ラーを組み合わせることで同様の作用をもたらすことも
可能である。
【００１７】また、上記各実施の形態において、特に説
明しなかったが、シンクロトロン放射光は発光点２から
試料９の直前まで真空パイプを通って導かれるのが一般
的である。
明しなかったが、シンクロトロン放射光は発光点２から
試料９の直前まで真空パイプを通って導かれるのが一般
的である。
【００１８】さらに、上記各実施の形態では、シンクロ
トロン放射光を試料の分析に用いる場合について説明し
たが、これに限るものではなく、例えば血管造影等の医
療診断に用いることもできる。
トロン放射光を試料の分析に用いる場合について説明し
たが、これに限るものではなく、例えば血管造影等の医
療診断に用いることもできる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、放射線
遮蔽壁を有するシンクロトロンリングから放射されるシ
ンクロトロン放射光の利用効率が大幅に向上し、材料解
析時間の短縮と微小、微量試料の解析が可能になる。ま
た、放射線遮蔽壁の利用位置側における光学系の設計自
由度が増大し、利用を行うためのビームライン建設費の
削減が可能になる。
遮蔽壁を有するシンクロトロンリングから放射されるシ
ンクロトロン放射光の利用効率が大幅に向上し、材料解
析時間の短縮と微小、微量試料の解析が可能になる。ま
た、放射線遮蔽壁の利用位置側における光学系の設計自
由度が増大し、利用を行うためのビームライン建設費の
削減が可能になる。
【図１】 本発明の実施の形態１によるシンクロトロン
放射光の集光方法及びその装置を説明する構成図であ
る。
放射光の集光方法及びその装置を説明する構成図であ
る。
【図２】 本発明の実施の形態１に係わり放射線遮蔽壁
外側面に集光された放射光を試料に照射する一構成例を
示す構成図である。
外側面に集光された放射光を試料に照射する一構成例を
示す構成図である。
【図３】 本発明の実施の形態２によるシンクロトロン
放射光の集光装置を説明する構成図である。
放射光の集光装置を説明する構成図である。
【図４】 第１の従来例を示す構成図である。
【図５】 第２の従来例を示す構成図である。
１ シンクロトロンリング、 ２ 発光点、 ３ 放射
線遮蔽壁、 ４ 遮蔽壁外側面、 5a，5b 遮蔽壁内ミ
ラー、 ６ 遮蔽壁外第１ミラー、 ７ 分光器、 ８
遮蔽壁外第２ミラー、 ９ 試料、 10 スリット。
線遮蔽壁、 ４ 遮蔽壁外側面、 5a，5b 遮蔽壁内ミ
ラー、 ６ 遮蔽壁外第１ミラー、 ７ 分光器、 ８
遮蔽壁外第２ミラー、 ９ 試料、 10 スリット。
Claims (6)
- 【請求項１】 シンクロトロンリングの発光点から放射
されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利用位置
との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用位置ま
で導くシンクロトロン放射光の集光方法において、前記
発光点からの放射光を前記放射線遮蔽壁の利用位置側の
面に、前記発光点と同じ面積かつ同じ発散角で集光する
ことを特徴とするシンクロトロン放射光の集光方法。 - 【請求項２】 シンクロトロンリングの発光点から放射
されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利用位置
との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用位置ま
で導くシンクロトロン放射光の集光装置において、前記
発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つの集光ミ
ラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記放射線遮
蔽壁の利用位置側の面に、前記発光点と同じ面積かつ同
じ発散角で集光するように構成したことを特徴とするシ
ンクロトロン放射光の集光装置。 - 【請求項３】 シンクロトロンリングの発光点から放射
されるシンクロトロン放射光を、前記発光点と利用位置
との間に設けられる放射線遮蔽壁を貫通して利用位置ま
で導くシンクロトロン放射光の集光装置において、前記
発光点と放射線遮蔽壁との間に少なくとも１つの集光ミ
ラーを配置し、前記発光点からの放射光を前記放射線遮
蔽壁の利用位置側の面に、前記シンクロトロンリングの
軌道面に平行な方向と垂直な方向の両方向について平行
となるように集光するように構成したことを特徴とする
シンクロトロン放射光の集光装置。 - 【請求項４】 前記集光ミラーがトロイダル形状を有す
るものである請求項２または３に記載のシンクロトロン
放射光の集光装置。 - 【請求項５】 前記集光ミラーが楕円面形状を有するも
のである請求項２または３に記載のシンクロトロン放射
光の集光装置。 - 【請求項６】 前記放射線遮蔽壁と利用位置との間に少
なくとも１つの集光ミラーを配置し、前記放射線遮蔽壁
の利用位置側の面に集光された放射光を利用位置に集光
するように構成した請求項２または３に記載のシンクロ
トロン放射光の集光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17698597A JPH1126199A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | シンクロトロン放射光の集光方法および集光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17698597A JPH1126199A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | シンクロトロン放射光の集光方法および集光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1126199A true JPH1126199A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16023174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17698597A Pending JPH1126199A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | シンクロトロン放射光の集光方法および集光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1126199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005078738A1 (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Japan Science And Technology Agency | 軟ｘ線加工装置及び軟ｘ線加工方法 |
-
1997
- 1997-07-02 JP JP17698597A patent/JPH1126199A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005078738A1 (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Japan Science And Technology Agency | 軟ｘ線加工装置及び軟ｘ線加工方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20040625 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050614 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050621 |
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